JP4584972B2 - プローブコンタクトの製造方法およびプローブコンタクト - Google Patents
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Description
そこで、プローブコンタクトの製造においては、プローブコンタクトの全ての接触子の接触圧が製品規格に入るようにしなければならない。上記接触子群における厚さバラツキはプローブコンタクト製品の不良率を増大させ、その製造歩留まりが劣化する。
(第1の実施形態)
本発明の第1の実施形態にかかるプローブコンタクトの製造方法およびプローブコンタクトについて図1ないし図7を参照して説明する。図1は本実施形態にかかるプローブコンタクトの一例を示し、(a)は平面図、(b)はそのX1−X1矢視断面図、(c)はそのX2−X2矢視断面図である。そして、図2は本実施形態にかかるプローブコンタクトの製造方法を説明するために、複数のプローブコンタクトが一括作製される一枚の基板を示した上面図である。図3および図4は、本実施形態にかかるプローブコンタクトの製造方法を説明するために、図1のA1−A1で切断したところの製造工程別断面図である。同様に、図5および図6は、図1のA2−A2で切断したところの製造工程別断面図である。図7は本実施形態の効果の説明に供するためにプローブコンタクトと検体の端子用電極の接触状態を模式的に示す断面図である。
しかしながら、基板11aに対する接着性を有し電解メッキ時に給電層となる金属材料であれば、単層で形成されてもかまわない。
本発明の第2の実施形態にかかるプローブコンタクトの製造方法およびプローブコンタクトについて図9ないし図11を参照して説明する。図9は本実施形態にかかるプローブコンタクトの製造方法を説明するために、複数のプローブコンタクトが一括作製される一枚の基板を示した上面図である。図10および図11は本実施形態にかかるプローブコンタクトの製造方法を説明するために製造工程別に示す模式図である。本実施形態の特徴は、第1の実施形態で説明した被覆層14がリード12の上面とその先端部12aの一部側面に形成されるところにある。
Claims (5)
- 基板の表面に配設された複数のリードおよびそれ等の先端部であって前記基板の縁端から突出する接触子を有し、検体の通電検査をするために前記接触子が前記検体の電極に弾性接触するプローブコンタクトの製造方法において、
前記基板表面に導電性の密着層を形成する工程と、
前記リードに対応した開口を有するレジストパターンを前記密着層上に形成する工程と、
前記開口の前記密着層上に、電解メッキにより弾性を有する第1の金属層を形成する工程と、
前記レジストパターンおよび前記第1の金属層を化学的機械研磨しそれ等の上面を平坦化する工程と、
前記化学的機械研磨による平坦化の工程後に、前記レジストパターンの上面を所定の深さまでエッチバックして前記第1の金属層の側面を露出させ、前記密着層を給電層とした電解メッキにより前記第1の金属層の上面および前記側面に第2の金属層を形成し、前記平坦化の工程後に残存する前記レジストパターンを除去する工程と、
を有し、前記上面の平坦化された前記第1の金属層を前記リードにすることを特徴とするプローブコンタクトの製造方法。 - 前記レジストパターン上面のエッチバックは、前記レジストパターンの選択的な化学的機械研磨により行うことを特徴とする請求項1に記載のプローブコンタクトの製造方法。
- 基板の表面に配設された複数のリードおよびそれ等の先端部であって前記基板の縁端から突出する接触子を有し、検体の通電検査をするために前記接触子が前記検体の電極に弾性接触するプローブコンタクトの製造方法において、
前記基板表面に導電性の密着層を形成する工程と、
前記リードに対応した開口を有するレジストパターンを前記密着層上に形成する工程と、
前記開口の前記密着層上に、電解メッキにより弾性を有する第1の金属層を形成する工程と、
前記レジストパターンおよび前記第1の金属層を化学的機械研磨しそれ等の上面を平坦化する工程と、前記化学的機械研磨による平坦化の工程後に、前記第1の金属層の先端部領域の前記レジストパターンを所定の深さまで除去して前記第1の金属層の先端部の側面を露出させ、前記密着層を給電層とした電解メッキにより前記第1の金属層の上面および前記側面に第2の金属層を形成し、その後に前記残存するレジストパターンの除去を行うことを特徴とするプローブコンタクトの製造方法。 - 前記第1の金属層をリードにした後に、前記リードおよび前記基板の一部を被覆する絶縁層を形成することを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一項に記載のプローブコンタクトの製造方法。
- 請求項1乃至4のいずれか一項に記載のプローブコンタクトの製造方法によって製造されたことを特徴とするプローブコンタクト。
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