JP4567589B2 - 液晶表示装置用アレイ基板及びその製造方法 - Google Patents
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Description
前記液晶は、構造が細く長いために、分子の配列において方向性を有しており、液晶に電圧を印加して、分子配列の方向が任意に制御できる。
従って、液晶の分子配列の方向を任意に調節すると、液晶の分子配列が変わり、光学的異方性により液晶の分子配列の方向に光が屈折して画像情報を表現する。
図1は、液晶表示装置を拡大して概略的に示した斜視図である。
図示したように、液晶パネル51は、液晶層(図示せず)を間に挟み、相互に離隔して構成された第1基板5と第2基板10とで構成される。第2基板10と向かい合う第1基板5の一面には、ブラックマトリックス6と、赤色R、緑色G、及び青色Bのカラーフィルター7a、7b、7cと、透明な共通電極9とが構成される。共通電極9は、透明であって、ブラックマトリックス6とカラーフィルター7a、7b、7cとを覆う。
図2は、4マスク工程により製作して液晶表示装置用アレイ基板の単一画素を拡大した平面図である。
図3A〜図3Cに示したように、基板60上にスイッチング領域Sを含む画素領域P、ゲート領域G、データ領域D、ストレージ領域Cを定義する。
この時、ストレージ領域Cは、ゲート領域Gの一部として定義される。
金属層74の上部にフォトレジストを塗布して感光層76を形成する。
この時、遮断部B2を、スイッチング領域Sに対応した一部と、データ領域Dと、ストレージ領域Cとに対応するように配置し、半透過部B3を、スイッチング領域Sの残りの領域に対応するように配置し、透過部B1を、スイッチング領域S、ストレージ領域C、及びデータ領域Dを除いた残りの領域に対応するように配置する。 マスクMの上部に光を照射して、下部の感光層76を露光する工程を行って、現像する工程を行う。
この時、金属層74の種類によっては、金属層とその下部層とが同時に除去され、金属層を先にエッチングした後、乾式エッチング工程により下部の不純物を含む非晶質シリコン層72と純粋非晶質シリコン層70とを除去する工程を行う。
前述した工程を行う従来の4マスク工程により液晶表示装置用アレイ基板が製造される。
従って、このようなマスク工程をさらに単純化して、工程時間及び工程費用の面で、より好ましい結果を得るために努力を尽している。
このために、半透過部が形成されたマスクを使用して、3マスク工程により製造する液晶表示装置用アレイ基板及びその製造方法を提供する。
また、第2マスク工程において、相互に異なるスリットの幅の半透過部を有するマスクを利用し、感光層の厚さを同一にすることによって、アッシング工程における表面に生じる欠陥の発生を防ぐことができる。
従って、信号不良のない高画質を表示する液晶表示装置を製造することができる。
122:ゲート配線
124:ゲート電極
126:ゲートパッド
128:リンク部
130:データパッド
132:ゲート絶縁膜
156:データ配線
162:画素電極
164:ゲートパッド端子
166:データパッド端子
168:ソース電極
170:ドレイン電極
172:オーミックコンタクト層
174:アクティブ層
Claims (16)
- 第1マスク工程において、基板上に、ゲート配線、ゲートパッド、ゲート電極、及びデータパッドを形成する段階と、
前記ゲート配線、ゲートパッド、ゲート電極、及びデータパッドを含む基板全面に対応する実質的な部分の上に、ゲート絶縁膜を形成する段階と、
第2マスク工程において、前記ゲート絶縁膜上に、データ配線、ソース/ドレインパターン、及びアクティブ層を形成して、前記ゲート絶縁膜内に、ゲートパッドコンタクトホールとデータパッドコンタクトホールとを形成する段階と、
第3マスク工程において、画素電極、ゲートパッド端子、データパッド端子、ソース電極、ドレイン電極、及びオーミックコンタクト層を形成する段階とを含み、
前記第2マスク工程は、
前記ゲート絶縁膜上に、純粋非晶質シリコン層、不純物非晶質シリコン層、及び金属層を順に形成する段階と、
前記金属層の上部に、感光層を形成する段階と、
前記感光層の上部に、遮断部、透過部、及び半透過部を含むマスクを配置する段階と、
前記マスクを通じて前記感光層を露光及び現像して、前記金属層を選択的に露出させ、前記マスクの透過部及び遮断部のいずれか一方と対応する第1部分と、前記第1部分より薄く、前記マスクの半透過部に対応する第2部分とを有する第1感光膜パターンを形成する段階と、
前記第1感光膜パターンの第1部分及び第2部分をエッチングマスクで、前記金属層、不純物非晶質シリコン層、純粋非晶質シリコン層、及びゲート絶縁膜を選択的に除去して、前記ゲートパッドコンタクトホールとデータパッドコンタクトホールを形成する段階と、
前記第1感光膜パターンの第2部分を除去する段階と、
前記第1感光膜パターンの第1部分をエッチングマスクで、前記金属層、不純物非晶質シリコン層、及び純粋非晶質シリコン層を選択的に除去して、前記データ配線、前記ソース/ドレインパターン、不純物非晶質シリコンパターン、及び前記アクティブ層を形成する段階と、
前記第1感光膜パターンの第1部分を除去する段階とを含むことを特徴とする液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。 - 前記半透過部は、第1半透過部及び第2半透過部を含み、前記第1半透過部は、前記第2半透過部より広いスリットを有して、前記第2半透過部は、前記ゲート配線、ゲートパッド、及びデータパッドに対応することを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。
- 前記第1半透過部及び第2半透過部のスリットは、約0.5μm〜約2.5μmの範囲の幅を有することを特徴とする請求項2に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。
- 前記第1半透過部は、前記スリット間に、前記第2半透過部より狭いパターンを含み、前記第1半透過部及び第2半透過部のパターンは、約0.5μm〜約2.5μmの範囲の幅を有することを特徴とする請求項3に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。
- 前記第1半透過部のスリットは、約1.3μmの幅を有し、前記第2半透過部のスリットは、約1.2μmの幅を有することを特徴とする請求項4に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。
- 前記第1半透過部のパターンは、約1.4μmの幅を有し、前記第2半透過部のパターンは、約1.5μmの幅を有することを特徴とする請求項5に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。
- 前記第3マスク工程は、
前記データ配線及びソース/ドレインパターンを含む基板全面に対応する実質的な部分の上に、透明導電層を形成する段階と、
前記透明導電層の上部に、第2感光膜パターンを形成する段階と、
前記第2感光膜パターンをエッチングマスクで前記透明導電層を選択的に除去して、前記画素領域、ゲートパッド端子、及びデータパッド端子を形成する段階と、
前記ソース/ドレインパターンと不純物非晶質シリコンパターンとを選択的に除去して、前記ソース電極、ドレイン電極、及びオーミックコンタクト層を形成する段階と、
前記第2感光膜パターンを除去する段階とを含むことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。 - 前記画素電極は、前記ドレイン電極を覆って接触することを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。
- 前記データパッド端子は、前記データパッドと前記データ配線との一端を覆って接触することを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。
- 前記第1マスク工程は、前記データパッドから延長されたリンク部を形成する段階をさらに含み、前記第2マスク工程は、前記リンク部を露出させるリンクホールを形成する段階をさらに含み、前記リンク部は、前記データ配線と重なり、前記データパッド端子は、前記データ配線、データパッド、及びリンク部に接触することを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。
- 前記第3マスク工程は、前記データパッド端子から延長された透明導電パターンを形成する段階をさらに含み、前記透明導電パターンは、前記データ配線及びソース電極を覆って接触することを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。
- 前記アクティブ層が露出した表面に、酸化膜を形成する段階をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。
- 前記酸化膜は、酸素プラズマ処理方法により形成されることを特徴とする請求項12に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。
- 前記画素電極は、前記ゲート配線の一部と重なってストレージキャパシターを形成することを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。
- 前記画素電極、ゲートパッド端子、及びデータパッド端子は、インジウムースズーオキサイド及びインジウムー亜鉛ーオキサイドを含む透明導電性物質グループから選択された物質で形成されることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。
- 前記データ配線を形成する段階は、前記データ配線と同一形状の不純物非晶質シリコンパターン及び純粋非晶質シリコンパターンを形成する段階を含むことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。
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