JP4553992B2 - プラズマの発生及びスパッタのためのコイル - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマ発生器に関し、特には、半導体デバイスの製造において物質の層をスパッタ堆積するためにプラズマを発生するための方法及び装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
低電圧無線周波数(RF)で発生させたプラズマは、表面処理、堆積(depositions)及びエッチング工程を含む種々の半導体デバイスの製造工程において用いることができる高エネルギーイオン及び活性化された原子の慣用の供給源となっている。たとえば、スパッタ堆積方法を用いて半導体ウエハ上に物質を堆積させるために、陰性にバイアスされたスパッタ用標的物質の近くでプラズマが作られる。プラズマ内で作られたイオンは、標的の表面に衝突して、標的から物質を追い出す、すなわちスパッタする。次いで、スパッタされた物質は、半導体ウエハの表面上に移されそして堆積される。
【0003】
スパッタされた物質は、基板の表面に対して斜めの角度にて、堆積される基板に標的からまっすぐな経路で移動する傾向がある。結果として、縦の長さ対幅の縦横比の溝及び穴を有する半導体デバイスのエッチングされた溝及び穴内に堆積された物質が、ブリッジを形成し、そして堆積層中に望ましくない空洞を引き起こす。このような空洞を防ぐために、もしスパッタされた物質がプラズマにより十分にイオン化されているならば、基板を陰性に荷電しかつ基板に隣接してほぼ垂直方向に向かった電場を配置することにより、スパッタされた物質は標的及び基板間の実質的に垂直の進路へと再び方向づけられ得る。しかしながら、低密度のプラズマによってスパッタされた物質はしばしば1%未満の電離度を有し、その電離度は通常、過度の数の空洞の形成を避けるためには不十分である。従って、堆積層中の望まない空洞の形成を減少させるために、スパッタされた物質の電離化率を増加させるべくプラズマの密度を増加させることが望ましい。本明細書で用いている「密なプラズマ」なる語は、高い電子及びイオン密度を有するプラズマを意味することを意図している。
【0004】
静電結合、誘導結合及び波加熱等のRF場を用いたプラズマを励起するためのいくつかの公知の技術がある。標準の誘導的結合プラズマ(ICP)発生器において、プラズマの周りのコイルを通過するRF電流は、プラズマ中の電磁の流れを誘発する。これらの流れは、オーム加熱によって伝導性プラズマを加熱し、その結果それは安定な状態に維持される。例えば、米国特許第4,362,632号明細書中に示されているように、コイルを通る電流は、インピーダンス整合回路網を通じてコイルに連結されたRF発生器によって供給されて、そのコイルは変圧器の最初の巻きとして働く。プラズマは、変圧器の単巻きの第二の巻きとして働く。
【0005】
多くの高密度プラズマの用途においては、プラズマイオンと堆積物質原子間の衝突頻度が増加され、それによって高密度プラズマゾーン中のスパッタされる物質の滞留時間を増加するように、比較的高電圧で操作されることがチャンバにとって好ましい。しかしながら、堆積物原子の散乱も同様に増加する。この堆積物原子の散乱は典型的には、標的の中心と一直線上に並んだ基板の部分はより厚くそして中心を離れた領域ではより薄くなるという基板上の堆積層の厚みを引き起こす。標的と基板間の距離を減少すること(これは、プラズマ散乱の効果を減少させる)により、堆積層がより均一に作られうるということが判った。
【0006】
一方、スパッタされた原子のスパッタ速度率及び電離化を増加させるべくプラズマの電離化を増加させるために、標的と基板間の距離を増加させることが望ましいと判った。プラズマ中にエネルギーを結合させるために用いられるコイルは、典型的には、標的と基板間の空間を取り囲む。もし標的が基板に対してあまりに近くに配置されると、プラズマの電離化は不利に影響されうる。従って、プラズマ中にRFエネルギーを結合させるコイルを収容するために、標的を基板からある最少の距離にて空間を空けて配置することが(このような、最少の空間は、堆積物の均一性に不利に影響することがあり得るけれども)必要であるとしばしば理解されてきた。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、実用目的のために上記した限界を回避する、チャンバ内にプラズマを発生するための及び層をスパッタ堆積させるための改善された方法及び装置を提供することである。
【0008】
【課題を解決するための手段】
これらの及び他の目的及び利点が、本発明の一つの観点に従って、コイル(このコイルはまた、標的からワークピース上へスパッタされる物質を補うためにコイルからワークピース上へ物質をスパッタするのにも適している)から電磁気エネルギーを誘導的に結合させるプラズマ発生装置により達成される。コイルからスパッタされる原子が標的からスパッタされる原子と組合わさって所望の種類の物質の層を形成するように、コイルは好ましくは標的と同じ種類の物質から作られる。本発明の一つの実施態様に従ってコイルからスパッタされる物質の分布は、基板の端ではより厚くそして基板の中心に向かってより薄くなる傾向があると判った。このような分布は、標的からスパッタされる物質の分布プロファイル(そこでは標的からの物質が、端に比べて基板の中心においてより厚く堆積する傾向がある)を補償するのに非常に有利である。結果として、コイル及び標的の両者から堆積された物質は、組合わさって、基板の中心からその端へと、比較的均一な厚さの層を形成することができる。
【0009】
一つの実施態様において、標的及びコイルの両者から基板上にスパッタされる物質が実質的に同じ物質、すなわちチタンであるように、標的及びコイルが共に比較的純粋なチタンから形成される。他の実施態様においては、他の種類の物質、例えばアルミニウムが堆積されうる。この場合は、コイル並びに標的は、同じグレードのアルミニウム、すなわち、目標グレードのアルミニウムから作られる。もし物質の混合物又は組み合わせを堆積することが望まれる場合は、標的及びコイルは、物質の同じ混合物から、或いは物質が基板上に堆積された時に組み合わさる又は混合するような異なった物質から作られうる。
【0010】
また他の実施態様において、第一のコイルに加えて第二のコイル様構造物が、物質のスパッタについて追加の標的を提供する。この第二のコイルは好ましくは、RF発生器には連結されず、代わりにDC電流でバイアスされている。物質が第一のコイルから連続的にスパッタされてもされなくても、コイルからスパッタされる物質は、第二のコイルがDCバイアス化されているので主として第二のコイルから由来する。このような配置は、第二コイルのDCバイアスに対する第一の標的のDCバイアスの比を、第一の標的から堆積される物質の厚みの不均一性を最適に補償するために設定することを可能とする。さらに、第一のコイルに供給されたRF電流は、電離化のためのプラズマ密度の最適化のために、標的及び第二のコイルに供給されたバイアスとは別個に設定されることができる。
【0011】
【発明の実施の形態】
まず図1及び図2を参照すると、本発明の第一の実施態様に従ったプラズマ発生器は、減圧チャンバ102(図2中に概略的に示した)中に収容された実質上筒状のプラズマチャンバ100を含む。この実施態様のプラズマチャンバ100は、単巻きコイル104を有し、それはシールド106によって支持されている。シールド106は、減圧チャンバ102の内壁(図示せず)をプラズマチャンバ100の内部に堆積する物質から保護する。
【0012】
無線周波数(RF)発生器106からのRFエネルギーは、コイル104から堆積系100の内部に放射され、それは堆積系100内のプラズマを活発化する。活発化されたプラズマは、プラズマイオンの流束を発生させ、それは、チャンバ102の頂部に配置された陰性にバイアスされた標的110にぶつかる。標的110は、DC電源111によって陰性にバイアスされている。プラズマイオンは、標的110から基板112上へ物質を放出させる。基板は、台座114によって堆積系100の底に支持されたウエハ又は他のワークピースでありうる。標的110の上に準備された回転磁石組立体116は、磁界を提供し、磁界は、標的110の表面上を掃射して標的の均一な浸食を促進する。
【0013】
標的110から放出された物質の原子は、次いでプラズマに誘電的に結合されているコイル104によって活発化されているプラズマによって電離化される。
RF発生器106は、好ましくは増幅器及びインピーダンス整合回路網118を通じてコイル104に連結されている。コイル104の他の終端は、好ましくは、可変コンデンサであり得るコンデンサ120を通じて地面に連結されている。
電離化された堆積物質は、基板112に吸引されそしてその上に堆積層を形成する。台座114は、基板112を外部からバイアスするようにAC(又はDC又はRF)供給源121によって陰性にバイアスされうる。同時係属している特許出願、シリアル番号第 号明細書(1996年7月9日出願(代理人番号、1402/PVD/DV)、発明の名称:「全面の高密度プラズマ堆積を提供する方法(Method for Providing Full-Face High Density Plasma Deposition)」、これは、本出願の譲受人に譲渡されており、引用することにより本明細書の一部である)にかなり詳細に記載されているように、基板112の外部からのバイアスは場合により除くことができる。
【0014】
以下にかなり詳細に説明するように、本発明の一つの観点に従って、物質はまたコイル104から基板112上へスパッタされ、標的110からワークピース上へスパッタされる物質を補う。結果として、基板112上に堆積された層は、コイル104及び標的104の両者からの物質から形成され、そのことは得られる層の均一性を実質的に改善することができる。
【0015】
コイル104は、コイル104を支持シールド106から電気的に絶縁している複数のコイル隔離碍子(standoff)122(図1)によってシールド106上に支持されている。同時係属している特許出願、シリアル番号第08/647,182号明細書(1996年5月9日出願(代理人番号、1186/PVD/DV)、発明の名称:「プラズマを発生するための埋込式コイル」、これは、本出願の譲受人に譲渡されており、引用することにより本明細書の一部である)にかなり詳細に記載されているように、絶縁コイル隔離碍子122は、コイル104をシールド106(これは典型的には接地されている)に短絡させることができるコイル104からシールド106への堆積された物質の完全な導電経路の形成を防ぎながら、標的110からコイル隔離碍子122上へ誘電性物質を繰り返し堆積することを可能とする内部ラビリンス構造を有する。
【0016】
RF電力は、絶縁性のフィードスルー隔離碍子124によって支持されているフィードスルー(図示せず)によってコイル104に加えられる。フィードスルー隔離碍子124は、コイル支持隔離碍子122と同様に、コイル104からシールド106へ短絡する導電性通路を形成することなしに、標的からフィードスルー隔離碍子124上への伝導性物質の繰り返しの堆積を可能とする。従って、コイルフィードスルー隔離碍子124は、コイル104とシールドの壁140間の短絡の形成を防ぐために、コイル隔離碍子122と幾分似ている内部ラビリンス構造を有する。
【0017】
図1に最もよく示されているように、プラズマチャンバ100は、陰性にバイアスされる上部の標的110に関して接地面を提供する暗黒部シールドリング130を有する。さらに、上記した同時係属している特許出願、シリアル番号08/647,182号明細書にかなり詳しく説明されているように、シールドリング130は、標的の外側の端をプラズマからシールドし、標的の外側の端のスパッタリングを減少させる。暗黒部シールド130はまた、コイル104(及びコイル支持隔離碍子122及びフィードスルー隔離碍子124)を、標的からスパッタされる物質からシールドするために配置されるという他の機能をなしている。スパッタされる物質のあるものはプラズマチャンバ100の垂直軸に対して斜めの角度で移動するので、暗黒部シールド130は、コイル104及びそれに付随する支持体構造を、スパッタされる物質の全てからは完全にはシールドしない。しかしながら、スパッタされる物質のほとんどは、チャンバの垂直軸に平行に又は垂直軸に対して比較的小さい斜角にて移動するので、コイル104の上に覆い被さるようにして配置された暗黒部シールド130は、スパッタされる物質の実質的な量がコイル104上に堆積されるのを防ぐ。或いは、コイル104上に堆積される物質の量を減らすことにより、コイル104(及びその支持体構造)上に堆積される物質による粒子の形成を実質的に減少することができる。
【0018】
説明されている実施態様においては、暗黒部シールド130は、チタンの閉じた連続したリング(そこでは、チタンの堆積がチャンバ100内で起こる)又は一般に逆(frusto)円錐性を有するステンレススチールである。暗黒部シールドは、1/4インチの距離にてコイル104を部分的に覆うように、プラズマチャンバ100の中心に向かって内へと延びる。もちろん、重なり合う量は、コイル及び他の要素の相対的な大きさ及び配置に応じて変更されうることが認識される。例えば、重なり合いは、スパッタされる物質からのコイル104のシーリングを増加するために増加されうるが、重なり合いの増加はまた、プラズマから標的をさらにシールドしうることになり、このことはいくつかの用途において望ましくない可能性がある。代わりの実施態様において、コイル104は、コイルをさらに保護しそしてワークピース上への粒子の堆積を減少させるために、埋込式のコイルチャンバ(図示せず)内に配置されうる。
【0019】
チャンバシールド106は、一般にボウル形状であり、そして一般に、筒状形状である垂直に延びた壁104を含み、隔離碍子122及び124がコイル104を絶縁的に支持するためにそこに取り付けられている。シールドはさらに、一般的に環状形状の床壁(図示せず)を有しており、それは、説明している実施態様では直径8インチのワークピース112を支持するチャック又は台座114を取り囲んでいる。クランプリング(図示せず)は、ウエハをチャック114にクランプするために、そしてシールド116の床壁とチャック114間のギャップを覆うために用いられ得る。
【0020】
プラズマチャンバ100は、減圧チャンバに係合しているアダプターリング組立品152によって支持されている。チャンバシールド106は、アダプターリング組立品152を通じて系の地面(アース)に接地されている。暗黒部シールド130は、チャンバシールド106と同様に、アダプターリング組立品152を通じて接地されている。
【0021】
標的110は、一般に平円盤形状であり、またアダプターリング組立品152により支持されている。しかしながら、標的110は、陰性にバイアスされており、それ故、接地面(アース面)にあるアダプターリング組立品から絶縁されるべきである。従って、標的110の下側に形成された環状の導管内に、セラミック絶縁リング組立品172が収容され、それはまた、標的152の上側内の対応する導管174内に収容されている。セラミック等の種々の絶縁性物質から作られうる絶縁環状組立品172は、標的110が適当に陰性にバイアスされるように標的110をアダプターリング組立品152から離して間隔を開ける。標的、アダプター及びセラミックリング組立品は、O−リングシーリング表面(図示せず)を提供し、減圧チャンバから標的110までの減圧のしっかりとした組立体を提供する。
【0022】
図解された実施態様のコイル104は、1/2X1/8インチの特別丈夫なビードブラスティッドソリッド(bead blasted solid)高純度(好ましくは99.995%純度)チタンリボンから作られた直径10〜12インチの単巻きコイルである。しかしながら、他の誘電性の高い物質及び他の形状も、スパッタされる物質及び他の要因に応じて用いられ得る。例えば、リボンは1/16インチ程度の薄さであり、長さは2インチを超えることもできる。また、もしスパッタされるべき物質がアルミニウムであれば、標的及びコイルは共に高純度のアルミニウムから作られうる。図で説明したリボンの形状の他に、特にもし水での冷却が望まれる場合は、中空のチューブも用いられ得る。
【0023】
またさらに、図で説明したリボン形状の代わりに、コイルが複数の巻きを有する場合は、コイルの各単巻きは、平らな、端が開口した環状リング、例えば図3で200として示したものも満足に用いられる。このような形状は、特に複数巻きのコイルに対して有利である。複数巻きコイルの利点は、要求される電流レベルが所与のRF電力レベルに対して実質的に減少されうることである。しかしながら、複数巻きのコイルは、単巻きのコイルの比べてより複雑になり、従って、最もコストがかかり、洗浄が困難であるという傾向がある。例えば、チタンの3巻きの螺旋状コイル及びそれに付随する支持構造は、かなり高価であり得る。複数巻きコイルの製造コストは、図4に示されている複数巻きコイル104’を形成するためにいくつかのこのような平らなリング200a〜200cを用いることにより実質的に減少しうる。各リングは、一方の側において支持体隔離碍子204a〜204cにより、そして他方の側において一対のRFフィードスルー隔離碍子206a〜206c及び208a〜208c(図6)により支持されている。図5において最もよく示されているように、支持体隔離碍子204a〜204cは、好ましくは千鳥形の位置関係でシールド壁210上に配置されている。
各支持体隔離碍子204a〜204cは、適所にコイルリングを固定するため、対応するコイルリング200の下側に形成された対応する溝212(図3)によって収容される。
【0024】
コイルリング200a〜200cは、RFフィードスルー隔離碍子206a〜206c及び208a〜208cを通るRFフィードスルーによって、直列に互いに電気的に連結されている。支持体隔離碍子204a〜204cと同じ様式にて、フィードスルー隔離碍子206a〜206c及び208a〜208cは、コイルリングの各端に隣接する各々のコイルリングの下側に形成された対応する溝212(図3)にそれぞれ収容される。図6に概略的に示されているように、シールド壁の外側のRF導波管220aは、フィードスルー隔離碍子206a中のRFフォードスルーによって、最も低いコイルリング200aの一方の端に連結されている。コイルリング200aの他の端は、フィードスルー隔離碍子208a中のRFフィードスルーによって他の外部のRF導波管220bに連結されており、導波管220bは、フィードスルー隔離碍子206b中のRFフィードスルーによって中央のコイルリング200bの一方の端に連結されている。コイルリング200bの他の端は、フィードスルー隔離碍子208b中のRFフィードスルーによって他の外部のRF導波管220cに連結されており、導波管220cは、フィードスルー隔離碍子206c中のRFフィードスルーによって頂部のコイルリング200cの一つの端に連結されている。最後に、頂部コイルリング200cの他の端は、フィードスルー隔離碍子208c中のRFフィードスルーによって他の外部のRF導波管220dに連結されている。このようにして互いに連結されて、コイルリング200a〜200cを通る電流は、コイルリングによって作られる磁界が互いに構造的に強化し合うように、同じ方向に向けられている。コイル104’は複数巻きコイルであるので、フィードスルー隔離碍子206及び208の電流取り扱い要求は、所与のRF電流レベルのための単巻きコイル104のフィードスルー支持体124のそれに比べて実質的に減少しうる。
【0025】
上記したように、プラズマの電離化を容易とするためのコイル104の適合のために、標的110をワークピース112の表面から離すことが有益であると判った。しかしながら、標的及びワークピース間のこの増加された空間は、標的から堆積される物質の均一性には不都合に影響する。図7中の250に示されているように、このような不均一性は典型的には、ワークピースの中心に向かって堆積された物質が厚くなること、従って、ワークピースの端に向かって堆積された物質が薄くなることで示される。本発明の一つの特徴に従って、この不均一性は、ワークピースの上のスパッタ標的110からばかりでなく、ワークピースの端を取り囲むコイル104からの堆積物質をスパッタすることにより効果的に補償される。ワークピースの端はワークピースの中心よりコイル104に近いので、図3の252に示されるように、コイルからスパッタされた物質は、中心のよりワークピースの端に向かってより厚く堆積する傾向があることが判った。もちろん、このことは、標的110からの物質の堆積パターンの逆である。 図7の堆積プロファイル254によって示されるスパッタされた物質の両供給源からの層の全体の堆積プロファイルが、標的のみからしばしば得られるプロファイルより実質的により均一になるように、標的に与えられるバイアスのDC電流レベルに対するコイル104に与えられるRF電流レベルを適当に調節することにより、コイル104からスパッタされる物質の堆積レベルが、標的からの物質の堆積プロファイルの不均一性を実質的に補償するような方法にて選択されうるということが判った。物質が標的からスパッタされそしてウエハ上に堆積されることに加えて、コイルからスパッタされる物質が、ウエハの端で測定して少なくとも1分当たり50オングストロームの速度にて堆積されるように、コイルがスパッタされる物質を十分に供給することが好ましい。
【0026】
標的110から由来するスパッタリングに比べたコイル104から由来するスパッタリングの量は、標的110に与えられたDC電流に対するコイル104に与えられたRF電流の関数である。標的DC電流に対するコイルRF電流の比を調節することにより、コイル104及び標的110からスパッタされる物質の相対的な量が、所望の均一性を達成するように変更されうる。図8に示されるように、標的DC電流に対するコイルRF電流の特定の比が、コイル及び標的の両者から堆積される物質の層の最も小さい程度の不均一性を達成する(0%と表される)。コイルへのRF電流が、標的に与えられるDC電流に比べて増加すればするほど、図8に示される不均一性のだんだん負となるパーセントによって表されるように、堆積された層はより端が厚くなる傾向がある。図8の表示方式においては、端の厚さの不均一性は、不均一性の負のパーセントによって表されるように選択され、そして中心の厚さの不均一性は正の不均一性のパーセントによって表されるように選択される。パーセントの不均一性の絶対値が大きくなればなるほど、そのパーセントによって表される不均一性の程度(端の厚み又は中心の厚みのいずれか)は大きくなる。反対に、標的に与えられるDC電流に対するコイルの与えられるRF電流の比が減少すればするほど、堆積層の中心は、ますます増加する不均一性の正のパーセントによって表されるように端に比べてますます厚くなる傾向にある。従って、標的をバイアスするDC電流に対するコイルに与えられるRF電流の比を調節することによって、コイルからスパッタされる物質は、標的及びコイルの両者からの物質を含む堆積層をより均一にするように、標的から堆積された物質の不均一性を効果的に補償するように適当に増加又は減少されうる。単巻きコイル104にとっては、約1.5というコイルRF電流対標的DC電流比は、8インチ直径のウエハに対して満足な結果を提供すると判った。図8は、3巻きコイルに対しての、種々のコイルRF電流対標的DC電流の結果を示しており、そこでは、約0.7の比が、最適であることが示されている。
【0027】
さらに、コイル及び標的間のスパッタの相対量はまた、標的110のDCバイアス化に対するコイル104のDCバイアス化の関数であり得ると信じられる。
このコイル104のDCバイアス化は、種々の方法によって調節されうる。例えば、整合回路網302は、典型的には、誘電子及びコンデンサーを含む。整合回路網の1以上のコンデンサーのキャパシタンスを変化させることによって、コイル104のDCバイアス化は、所望のレベルの均一性を達成するために調節されうる。一つの実施態様において、コイルへのRF電流及びコイル104のDCバイアス化は、所望の結果を達成するために別個の調節入力を有し得る。代わりの電流配置は、わずかに異なる周波数で操作される2つのRF発生器を含みうる。
一つの発生器の出力は、慣用の方法にてコイルに連結されるが、わずかに異なる周波数の他の発生器は、第二の発生器の電流レベルの変化がコイルのDCバイアスを変更するようにコイルに容量的に連結される。このような配置は、コイルに与えられるRF電流及びDCバイアスの独立した制御を提供しうる。現時点では、所与のRF電流レベルのために、コイルへのDCバイアスの比較的大きな変化が、コイルからスパッタされる物質の量に実質的な効果を与えるには必要であると信じられている。
【0028】
上記で議論した実施態様の各々は、プラズマチャンバ中の単一のコイルを用いた。本発明は2以上のRF電流が与えられたコイルを有するプラズマチャンバにも適用可能であると理解されるべきである。例えば、本発明は、同時係属している特許出願、シリアル番号第08/559,345号明細書に記載されているタイプのヘリコン波を発射するための複数コイルチャンバにも適用可能である。
【0029】
適当なRF発生器及び整合回路は、本技術分野の当業者によく知られた構成部品である。例えば、ENI Genesisシリーズ(これは、整合回路及びアンテナを有しており、最良の周波数整合のための「周波数追跡」の能力を有する)等のRF発生器が適している。コイル104へとRF電流を発生させるために発生器の周波数は、好ましくは、2MHzであるが、その範囲は、例えば、1MHz〜100MHzまで変化しうると予期される。4.5kWでのRF電流の設定が好ましいが、1.5〜5kWの範囲も満足であると信じられている。いくつかの用途においては、エネルギーはまた、AC又はDC電流をコイルに与えることによりまたは他のエネルギー伝達方法を用いることによりプラズマに伝達されうる。標的110を3kWにバイアス化するためのDC電流設定が好ましいが、2〜5kWの範囲及び−30ボルトDCの台座のバイアスボルトも多くの用途に満足であると信じられている。
【0030】
図で説明した実施態様において、シールド106は13.5インチの直径を有するが、良好な結果が6インチ〜25インチの範囲の幅で得られうるということが予期される。シールドは、絶縁性物質、例えばセラミック又は石英等の種々の物質から作られうる。しかしながら、標的物質でコートされるべきであろうシールド及び全ての金属表面は、スパッタされる標的物質と同じ物質で作られることが好ましいが、例えばステンレススチール又は銅等の物質からも作られうる。コートされる構造物の物質は、シールド又はウエハ上の他の構造物からスパッタされた物質の剥離を減少させるために、スパッタされる物質の熱膨張率に非常近い熱膨張率を有するべきである。さらに、コートされるべき物質は、スパッタされる物質に対して良好な付着性を有するべきである。従って、例えば、もし堆積される物質がチタンなら、コートされるであろうシールド、ブラケット及び他の構造物における好ましい金属は、ビードブラステッドチタンである。例えば、コイル支持体のエンドキャップやフィードスルー隔離碍子等をより適当にスパッタするためには表面は、好ましくは、標的と同じタイプの物質、例えば高純度のチタン等から作られることが好ましい。もちろん、堆積されるべき金属がチタン以外の金属である場合は、好ましい金属は、堆積された物質、ステンレススチール又は銅である。付着性はまた、標的をスパッタするのに先だってモリブデンを用いて構造物をコートすることにより改善される。しかしながら、モリブデンはコイルからスパッタされた場合はワークピースを汚染することがあるので、コイル(又はスパッタするであろういずれかの他の表面)はモリブデン又は他の物質でコートされないことも好ましい。
【0031】
標的とウエハの間隔は、好ましくは、約140mmであるが、約1.5インチ〜8インチの範囲であり得る。この標的とウエハの間隔のために、満足のいく適用範囲、すなわちフィールドの堆積厚に対する開口部の底の堆積厚の比が、約2.9インチの距離を標的から空けた直径約11.5インチのコイルを用いて達成できた。コイルの直径を増加させてワークピースの端からコイルを離すように位置を変えると、底の適用範囲に対して不利に影響する。一方、コイルの直径を減少させてウエハの端にコイルを近づけると、層の均一性に対して不利に影響しうる。コイルの直径を減少させることは、コイルを標的に対してより一列に並べることをもたらし、そのことは標的からコイル上への物質の実質的な堆積を結果し、従ってコイルからスパッタされる物質の均一性に対して不利に影響しうる。
【0032】
堆積の均一性はまた、標的からのコイルの距離の関数とも思われる。先に議論したように、約2.9インチのコイルと標的間の空間は、140mmの標的とウエハの空間にとって満足行くものであると判った。コイルを垂直方向にて、標的(又はウエハ)に近づけるか又は遠ざけると、堆積層の均一性に不利に影響しうる。
【0033】
上記したように、標的110とコイル104からスパッタされる物質の相対的な量は、コイルの与えられるRF電流と標的に与えられるDC電流の比の関数である。しかしながら、いくつかの用途においては、コイル及び標的からの物質の堆積された層の均一性を改善する最適のRF電流レベルが、電離化のためにプラズマ密度を発生するには最適ではないことがあり得るということが認識されている。図9は、図3で示したタイプの単一の末端が開口しているコイルリング200dを形成するコイル104”を有するプラズマチャンバ100”である代わりの実施態様を説明している。図10に示す如く、コイル104”は、上記したコイル104と104’と同じ様式にて、フィードスルー隔離碍子206によりシールド308を通じて整合回路網118及びRF発生器106に連結されている。しかしながら、チャンバ100”は、第二の標的310を有し、この標的は、一般にコイル様の形状であるが、RF発生器には連結されない。代わりに、平らな閉じたリング400で形成された第二の標的310は、フィードスルー隔離碍子206を通じて、図10に示した可変の負のDCバイアス供給源312に連結されている。結果として、チャンバは3つの「標的」、すなわち、それぞれ第一及び第二の標的110及び310、並びにRFコイル104”を有する。しかしながら、コイル104”及び第二の標的310からスパッタされる物質のほとんどは、RF電流が与えられたコイル104”よりはDCバイアスされた標的310から由来する。
【0034】
このような配置は、多くの利点を有する。コイルからスパッタされる物質のほとんどは、コイル104”よりは第二の標的310から由来するので、コイル104”からと第一及び第二の標的110及び310からスパッタされる物質の相対的な量は、標的310及び標的110の相対的なDC電流バイアス化の一時的な関数である。従って、第一の標的110及び第二の標的310をそれぞれバイアス化する可変のDC電力供給源111及び312は、コイル104”に電力を与えるRF発生器106のためのRF電力の設定とは、かなり無関係に物質の堆積の均一性を最適にするために設定されうる。逆に、コイル104”へのRF電力は、電離化のためにプラズマ密度を最適化するために、標的110及び310へのDCバイアスとはかなり無関係に設定されうる。
【0035】
さらに、コイル104”のためのRF電流レベルはコイル104のためのそれと比べて低くてもよいと信じられている。例えば、コイル104”に適した電力範囲は1.5〜3.5kW RFである。主要な標的110及び第二のターゲット(すなわちコイル310)の電力範囲は、それぞれ、2〜5kW DC及び1−3kW DCである。もちろん、値は、特定の用途に応じて変更する。
【0036】
図11及び図12は、他の代わりの実施態様を示しており、それは、複数巻きのRFコイル及び複数リングの第二の標的を含み、そこでは標的のリングがRFコイルの巻きに挟み込まれている。図12のRFコイルは、図4〜6のコイル104’と同様に、RFフィードスルー隔離碍子206a〜206c及び208a〜208cを通って、RFフィードスルーによって直列に電気的に互いに連結されている平らなリング200a〜200c、及びRF供給源及びRF接地面への外部の導波管220a〜220dで形成されている。
第二の標的の閉じたリング400a〜400cは、RFコイルのコイルリング200a〜200cと互いに重なり合っている。図11及び図12で概略的に示されているように、シールド壁の外部の負のバイアスDC電力供給源312は、外部のストラップ330aによって、第二のスパッタ用標的の最も低い位置のリング400aに対するフィードスルー隔離碍子206d中のDCフィードスルーに連結されている。標的リング400aはまた、フィードスルー隔離碍子206d中のDCフィードスルーによって他の外部のDCストラップ330bに連結され、そのストラップは、フィードスルー隔離碍子206e中のDCフィードスルーによって中間の標的リング400bに連結されている。標的リング400bはまた、フィードスルー隔離碍子206e中のDCフィードスルーによって他の外部ストラップ330cに連結され、そのストラップは、フィードスルー隔離碍子206f中のDCフィードスルーによってスパッタ用の第二の標的の上部の標的リング400cに連結されている。
【0037】
この様式にて互いに連結されて、標的310’の標的リング400a〜400cは、負にDCバイアスされて、RFコイル及び第二の400a〜400c標的からスパッタされた物質の主要部分は第二の標的の標的リング400a〜400cから主として由来する。RFコイルは複数巻きコイルなのでフィードスルー隔離碍子206及び208の電流操作条件としては、上記の所与のRF電流レベルに対しての単巻きコイル104のフィードスルー隔離碍子124のそれと比べて実質的に減少させることができる。さらに、スパッタリングリングの寿命は複数のリングを用いた結果高めることができると信じられている。第二のスパッタリング標的310及び400a〜400cは平らなリング400から作製されると記載したが、スパッタリングの第二の標的は、リボン及び環状の物質から、並びに筒及び筒の断片を含む種々の他の形状及びサイズから作製されうると考えられるべきである。しかしながら、第二の標的は、基板の軸に対して対称であり、プラズマの円周部にてチャンバの内部を取り囲むことが好ましい。第二の標的物質は、固形の、伝導性の物質であるべきであり、第一の標的110のそれと比べて、同じタイプの又は異なったタイプの伝導物質であってもよい。第一の及び第二の標的のバイアス化はDCバイアス化として記載したが、いくつかの用途においては、第一の及び第二の標的の一つの又は両者のAC又はRFバイアス化が適していることもあると認識されるべきである。
【0038】
種々の前駆体ガス、例えば、Ar、H2又はNF3、CF4等の反応性ガス及びその他の多くのガスが、プラズマを発生させるために用いられうる。種々の前駆体ガスの圧力は0.1〜50mTorrの圧力が適している。電離化PVDのためには、10〜100mTorrの圧力が、スパッタされた物質を最も電離化するために好ましい。
【0039】
もちろん、本発明の改良が、本発明の種々の観点において、本技術分野の当業者に明らかであり、そしてあるものは研究の後でのみ明らかであり、そしてまたあるものは日常の機械的又は電気的設計の問題であると理解される。他の実施態様もまた可能であり、それらの特定の設計は特定の用途に応じる。そういうものとして、本発明の範囲は、本明細書に記載の特定の実施態様に限定されるべきではなく、特許請求の範囲又はそれと同等のものによってのみ限定されるべきものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本発明の一つの実施態様に従ったプラズマ発生チャンバの部分断面図である。
【図2】図2は、図1のプラズマ発生チャンバへの電気的な相互な連結の概略図である。
【図3】図3は、本発明の他の実施態様に従ったプラズマ発生装置のためのコイルリングの斜視図である。
【図4】図4は、図3に示したコイルリングを用いた本発明の他の実施態様に従ったプラズマ発生チャンバの概略的な部分断面図である。
【図5】図5は、図4のプラズマ発生チャンバのための複数のコイルリング支持体隔離碍子を示している。
【図6】図6は、図4のプラズマ発生チャンバのための複数のコイルリングフィードスルー隔離碍子を示している。
【図7】図7は、図1の装置のコイル及び標的から堆積された物質のそれぞれの堆積プロファイルを示したチャートである。
【図8】図8は、標的のDC電流バイアスに対するコイルに与えられたRF電流の比の、堆積均一性における影響を示したグラフである。
【図9】図9は、二重コイルを用いた、本発明の他の実施態様に従ったプラズマ発生チャンバの概略的な部分断面図である。二重コイルの一つはプラズマ発生のためにRF電流が与えられ、他のものは追加の標的を提供するためにDCバイアスされている。
【図10】図10は、図10のプラズマ発生チャンバの電気的な相互の連結の概略図である。
【図11】図11は、2つの複数のリングコイルを有するプラズマ発生チャンバのための複数のコイルリングフィードスルー隔離碍子を示している。そこでは、2つのコイルのリングは互いに重なり合っている。
【図12】図12は、図11のプラズマ発生チャンバの電気的な相互な重なり合いの概略図を示している。
Claims (26)
- 電源と共に使用され、基板上に薄層をスパッタ堆積するための装置であって、該装置が、
その中に維持され得る基板支持部材と、
その中にあるプラズマ発生領域と、
上記基板支持部材及び上記プラズマ発生領域の周りを実質的に取り囲む壁を有するシールドを有する減圧チャンバと、
上記チャンバ内に配置された第一のバイアス可能なターゲットと、
上記電源に取り付けられた第一端部及びアースされた第二端部を有するスパッタ可能なコイルであって、上記プラズマ発生領域を実質的に取り囲むと共に、上記壁によって絶縁された状態で支持され、上記プラズマ発生領域に対してエネルギーが誘導結合されるように配置され、上記コイルから上記基板上に物質をスパッタするために、上記基板支持部材に隣接して配置されたコイルと
を含む装置。 - 上記電源が、上記第一のターゲットに連結された第一の電源及び上記のコイルに連結された第二の電源を含む、請求項1に記載の装置。
- 上記第二の電源がAC電源である請求項2に記載の装置。
- さらに、上記第一のバイアス可能なスパッタターゲットと上記基板支持体の間の空間近傍に配置された第二のバイアス可能なスパッタターゲットを含む請求項1に記載の装置。
- 上記第二のスパッタターゲットがDCバイアスされている請求項4に記載の装置。
- 上記第二のターゲットが上記プラズマによるそのスパッタを提供するために陰性にバイアスされる請求項5に記載の装置。
- 上記ターゲットの各々が同じ物質からなる請求項6に記載の装置。
- 上記第二のターゲットが固形部材である請求項6に記載の装置。
- 上記コイルが、上記チャンバ中に維持され得るガスと誘導的に結合しそこからプラズマを発生する請求項1に記載の装置。
- 上記コイルが固形部材である請求項1に記載の装置。
- 上記コイルの第二端部とアースとの間をつなぐコンデンサをさらに備える請求項1に記載の装置。
- 上記コンデンサは、上記プラズマの存在下において上記コイルがスパッタされるのに十分なレベルに、上記コイルのバイアスを維持する、請求項1に記載の装置。
- 電源と共に使用され、半導体製造系内のプラズマを活発化してワークピース上に物質を堆積するための装置であって、その装置が、
そのチャンバ内にプラズマ発生領域を有する半導体製造チャンバと、
上記プラズマ発生領域の周りを実質的に取り囲む壁を有するシールドと、
上記電源に取り付けられた第一端部及びアースされた第二端部を有する金属物質コイルであって、上記プラズマ発生領域を実質的に取り囲むと共に、上記シールドの壁によって絶縁された状態で支持され、上記プラズマ発生領域に対してエネルギーが誘導結合されるように配置され、上記コイルから金属物質を上記ワークピース上にスパッタするように配置されているコイルと
を含む装置。 - さらにチタンから作られたターゲットを含む請求項13に記載の装置。
- さらに、Al、Cr、Te及びSiO2から選ばれる物質から作られたターゲットを含む請求項13に記載の装置。
- 電源と共に使用され、半導体製造系内のプラズマを活発化して、センター部及びエッジ部を有するワークピース上に物質を堆積するための装置であって、その装置が、
そのチャンバ内にプラズマ発生領域を有する半導体製造チャンバと、
該チャンバ内に置かれかつ第一の物質から作られたスパッタ用ターゲットであって、該ターゲット物質が、上記ワークピースの上記エッジ部に比べて上記センター部の方により高い堆積速度で堆積されるように配置されているターゲットと、
上記チャンバ内に配置されかつ該ターゲットと同じ種類の物質から作られているコイルであって、上記電源に取り付けられた第一端部及びアースされた第二端部を有し、上記プラズマ発生領域に対してエネルギーが誘導結合されるように配置され、上記コイル物質が上記ワークピースの上記センター部に比べて上記エッジ部の方により高い堆積速度で堆積されて、上記コイル物質及び上記ターゲット物質の両者を上記ワークピースの上に堆積させワークピースの上に層を形成するように上記コイル物質を上記ワークピース上にスパッタするように配置されているコイルと
を含む装置であって、
上記電源が、上記コイルにRF電流を供給する発生器であり、
上記装置が、上記ターゲットへDCバイアスを供給する供給源と、上記ワークピースへDCバイアスを供給する供給源とを備え、
上記ターゲットDCバイアスの電流と上記コイルRF電流とが、上記ワークピースに堆積される上記コイル物質が上記ワークピース上に堆積された上記ターゲット物質の厚さの不均一性を補うように所定の関係を有しており、
上記コイルRF電流対上記ターゲットDCバイアス電流の比が1.5である、装置。 - スパッタ堆積チャンバ内のセンター部及びエッジ部を有するワークピース上に物質を堆積する方法であって、該方法が、
上記ワークピースの上記エッジ部に比べて上記センター部の方により高い堆積速度でターゲット物質が堆積するように、上記チャンバ内に配置されたターゲットから上記ワークピース上にターゲット物質をスパッタするステップと、
電源に取り付けられた第一端部及びアースされた第二端部を有するコイルであって、コイル物質が上記ワークピースの上記センター部に比べて上記エッジ部の方により高い堆積速度で堆積するように、上記ワークピースに隣接して配置され、上記チャンバ内のガスに誘導的に連結されているコイルから、上記ワークピース上にコイル物質をスパッタするステップと
を含む方法であって、
上記ターゲット物質をスパッタするステップは、上記ターゲットへDC電流を供給するステップを備え、且つ、上記コイル物質をスパッタするステップは、
上記コイルへRF電流を供給するステップを備え、上記方法は、
上記ターゲットから上記ワークピース上にスパッタされる上記ターゲット物質の厚さの不均一性を補うために、上記ターゲットに供給されたDC電流に対する上記コイルに供給されたRF電流の比を調節するステップをさらに含み、
上記の比が1.5である、方法。 - スパッタ堆積チャンバ内のセンター部及びエッジ部を有するワークピース上に物質を堆積する方法であって、該方法が、
上記ワークピースの上記エッジ部に比べて上記センター部の方により高い堆積速度でターゲット物質が堆積するように、上記チャンバ内に配置されたターゲットから上記ワークピース上にターゲット物質をスパッタするステップと、
電源に取り付けられた第一端部及びアースされた第二端部を有するコイルであって、コイル物質が上記ワークピースの上記センター部に比べて上記エッジ部の方により高い堆積速度で堆積するように、上記ワークピースに隣接して配置され、上記チャンバ内のガスに誘導的に連結されているコイルから、上記ワークピース上にコイル物質をスパッタするステップと
を含む方法であって、
上記のターゲット物質及び上記のコイル物質が異なる種類の物質である、方法。 - 電源と共に使用され、半導体製造系内のプラズマを活発化して、センター部及びエッジ部を有するワークピース上に物質を堆積するための装置であって、該装置が、
そのチャンバ内にプラズマ発生領域を有する半導体製造チャンバと、
上記チャンバ内に置かれかつ第一の物質から作られた第一のターゲットであって、上記ターゲット物質が、上記ワークピースの上記エッジ部に比べて上記センター部の方により高い堆積速度で上記ワークピース上に堆積するように配置されている第一のターゲットと、
上記電源に取り付けられた第一端部及びアースされた第二端部を有するコイルであって、上記プラズマ発生領域に対してエネルギーが誘導結合されるように配置され、上記ワークピースの上記センター部に比べて上記エッジ部の方により高い堆積速度で上記コイル物質が堆積するように配置されているように、上記ワークピース上に上記コイル物質がスパッタされるのを許容するように配置されたコイルと、
上記チャンバ内に上記第一のターゲットから離間して置かれかつ上記第一のターゲットと同じ種類の物質から形成されている第二のターゲットであって、上記第二のターゲット物質が、上記ワークピース上にスパッタされるように配置され、第二のターゲット物質が上記ワークピースの上記センター部に比べて上記エッジ部の方により高い堆積速度で堆積されて、上記コイル物質及び上記第一及び第二ターゲット物質を上記ワークピースの上に堆積させてワークピースの上に層を形成する第二のターゲットと
を含む装置であって、
上記コイルが複数の巻きを有し、上記の第二のターゲットが上記コイルの巻きと交互に重なった複数のリングを有している、装置。 - RF電源に取り付けられた第一端部及びアースされた第二端部を有する第一のコイルからのRFエネルギーでプラズマを活発化するステップと、
上記のワークピースに対面するように配置された第一のターゲットから上記のワークピース上に第一のターゲット物質を、上記第一のターゲット物質が上記ワークピースのエッジ部に比べてセンター部により厚く堆積されるようにスパッタするステップと、
上記のワークピースの上に配置された第二のターゲットから上記のワークピース上に第二のターゲット物質を、上記第二のターゲット物質が上記ワークピースのセンター部に比べてエッジ部により厚く堆積されるようにスパッタするステップと、
上記のワークピースに隣接して配置された第一のコイルから上記のワークピース上にコイル物質を、上記コイル物質が上記ワークピースのセンター部に比べてエッジ部により厚く堆積されるようにスパッタするステップと、
を含む、ワークピース上へ物質を堆積する方法であって、
上記コイルが複数の巻きを有し、上記の第二のターゲットが上記コイルの巻きと交互に重なった複数のリングを有する、方法。 - 半導体製造系内のプラズマを活発化してワークピース上に堆積されるべき物質をイオン化するための、電源及びその内部にプラズマ発生領域を有する半導体製造チャンバに導入される装置であって、該装置が、
上記チャンバに導入された際に上記プラズマ発生領域の周りを実質的に取り囲む壁を有するシールドと、
上記電源に取り付けられた第一端部及びアースされた第二端部を有するスパッタ可能なコイルであって、上記チャンバに導入された際に、上記プラズマ発生領域を実質的に取り囲むと共に、上記壁によって絶縁された状態で支持され、上記プラズマ発生領域に対してエネルギーが誘導結合されるように配置され、上記コイルから上記ワークピース上に物質をスパッタするように配置されたコイルと
を備える装置。 - 上記シールドがほぼ筒状の形状である請求項21記載の装置。
- 上記コイルが単巻きのコイルである請求項21記載の装置。
- 上記コイルがリボン状である請求項21記載の装置。
- 電源及び第一の物質で形成されたスパッタ可能ターゲットを有する半導体製造チャンバと共に使用され、上記チャンバ内のプラズマ発生領域でプラズマを活発化してワークピース上に堆積されるべき物質をイオン化するための装置であって、
上記ターゲットは、センター部及びエッジ部を有する上記ワークピース上に、上記ターゲット物質が上記ワークピースのエッジ部に比べて上記センター部の方により高い堆積速度で堆積するようにスパッタするように配置されており、
上記チャンバに導入され、上記ターゲットを同じ種類の物質で形成されたコイルであって、上記電源に取り付けられた第一端部及びアースされた第二端部を有し、上記ワークピース上に薄層を形成するために上記コイル物質及び上記ターゲット物質の両方が上記ワークピース上に堆積されるように、上記コイル物質を上記ワークピースの上記センター部に比べて上記エッジ部の方により高い堆積速度で堆積するように、上記チャンバに導入された際、上記プラズマ発生領域に対してエネルギーが誘導結合されるように配置され、上記コイルから上記ワークピース上に物質をスパッタするように配置されたコイルを備える装置であって、
上記チャンバに導入された際に、上記プラズマ発生領域の周りを実質的に取り囲む壁を有するシールドさらに備える、装置。 - 上記シールドがほぼ筒状の形状である請求項25記載の装置。
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