DE1905058C3 - Vorrichtung für die Beschichtung von Werkstücken durch Hochfrequenz-Plasmazerstäubung von Werkstoffen im Vakuum - Google Patents
Vorrichtung für die Beschichtung von Werkstücken durch Hochfrequenz-Plasmazerstäubung von Werkstoffen im VakuumInfo
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- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3402—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering using supplementary magnetic fields
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung zum Beschichten von Werkstücken mit einem Metall,
einer Metallegierung oder einer Metallverbindung im Vakuum.
Aus der französischen Patentschrift 1 502 647 ist das Beschichten von Werkstücken mit einem Metall,
einer Metallegierung oder einer Metallverbindung in einer Kammer bekannt. In dieser Kammer wird während
der Beschichtung ein Druck von weniger als K)"1 mm Hg aufrechterhalten. Die Kammer enthält
eine Spule, die mit einem Hochfrequenzgenerator verbunden ist. Die Spule besteht wenigstens an ihrer
Oberfläche aus einem Werkstoff, der durch eine Hochfrequenz-Plasmaentladung zerstäubt wird. Der
zerstäubte Werkstoff wird dann auf dem Gut niedergeschlagen. In der Kammer wird eine Atmosphäre
aus inertem Gas aufrechterhalten, wenn der zers! iubte Werkstoff selbst auf dem Gut niedcrgeschla-"(M-.
werden soll, oder es wird eine Atmosphäre aus einem reaktiven Gas oder einem Gasgemisch aus
reaktivem unnd inertem Gas aufrechterhalten, wenn eine Verbindung des zerstäubten Werkstoffes auf
dem Gut niedergeschlagen werden soll. Zerstäubt werden durch Hochfrequenz-Plasmaentladung im
wesentlichen Metalle und Metallegierungen.
Es ist aus der vorgenannten Patentschrift Ixkannt.
die Menge an zerstäubtem Werkstoff pro Minute und damit auch die Beschichtungsgeschwindigkeit dadurch
zu erhöhen, daß man die Zahl der Windungen der Spule, deren Oberfläche zerstäubt wird, erhöht
oder daß man die Hochfiequenz-Plasmazerstäubung einem bekannten üblichen Kathodenzerstäubungsvorgang
überlagert. Im letzteren Fall wird zwischen der die Spule enthaltenden Beschiehtungskammer und
der Spule ein starkes Gleichspannungsfeld angelegt. Diese bekannten Lösungen erwiesen sich zwar als
brauchbar, jedoch lassen sich damit nicht sehr hohe Beschichtungsgeschwindigkeiten erzielen, wie sie in
vielen Fällen in der Praxis gewünscht werden.
Versuche haben folgendes ergeben:
Die Abscheidungsgeschwindigkeit bei einer Vorrichtung entsprechend der französischen Patentschrift 1 502 647 für Mo ut.d einen Abstand zwischen Endquerschnitt der Spule und Substrat \on 5 cm beträgt bei einer Hochfrequenzleistung von 2 kW und Argon als Zerstä'.'bungsgas (Druck 5-10 -Torr) 0,25 um Min.
Versuche haben folgendes ergeben:
Die Abscheidungsgeschwindigkeit bei einer Vorrichtung entsprechend der französischen Patentschrift 1 502 647 für Mo ut.d einen Abstand zwischen Endquerschnitt der Spule und Substrat \on 5 cm beträgt bei einer Hochfrequenzleistung von 2 kW und Argon als Zerstä'.'bungsgas (Druck 5-10 -Torr) 0,25 um Min.
Die Abscheidungsgeschwindigkeit bei einer Vorrichtung entsprechend der vorliegenden Erfindung,
bei gleicher Leistung, gleichem Abstand, wiederum Mo als Werkstoff und Argo.. als Zerstäubungsgas
(Druck im Zerstäubungsraum 5 · 10 -Torr), Magnetfeld 150 oe parallel zur Spulenachse, beträgt
0,4 um Min.
Außer der höheren Zerstäubung^rate ist bei einer Anordnung nach der vorliegenden Erfindung von
Vorteil, daß der Druck im Kondensationsraum auf 10~:iTorr und darunter herabgesetzt werden kann.
Dadurch wird die Zahl der Zusammenstöße zwischen Restgas und Metalldampfatomen und die Auftreffrate
von Restgasmolekülen auf das Substrat erheblich verringert. Das führt zu duktileren Schichten mit
besseren optischen und elektrischen Eigenschaften.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung zu schaffen, die es gestattet, die Beschichtungsgeschwindigkeit
mit möglichst einfachen Mitteln optimal dem jeweiligen Anwendungsfall anzupassen.
Gelöst wird diese Aufgabe durch eine Vorrichtung zum Beschichten von Werkstücken mit einem
Metall, einer Metallegierung oder einer Metallverbindung im Vakuum, in einer ein inertes und/oder
reaktives Gas enthaltenden Kammer durch Plasmazerstäubung der Oberfläche einer in der Kammer
angeordneten, mit einem Hochfrequenzgenerator verbundenen Spule und Niederschlagen der abgestäubten
Teilchen oder ihrer Reaktionsprodukte auf dem Werkstück, erfindungsgemäß dadurch, daß in
der Kammer Magnete zum Erzeugen eines Feldes mit zur Achse der Spule annähernd parallelen Feldlinien
angeordnet sind.
Besonders bewährt hat sich, daß die Spule in einem innerhalb der Kammer befindlichen Gehäuse
angeordnet ist und dieses Gehäuse durch Einführen eines inerlen und/oder reaktiven Gases einen höheren
Druck als der die Werkstücke enhaltcnde Raum der Kammer aufweist.
1 9U5 058
Hs ist besonders vorteilhaft, in dem innerhalb der Kammer befindlichen Gehäuse, in welchem die zu zerstäubende
Spule angeordnet ist. einen höheren Druck aufrechtzuerhalten als in dem Kammerraum, in welchem
das Werkstück angeordnet ist. Beispielsweise wird in dem Gehäuse ein Druck \on etwa
K)-' mm Hg aufrechterhalten und in dem Kaminerraum,
in weichem das zu beschichtende Werkstück angeordnet ist, ein Druck \on etwa K)-4 mm Hg.
Die in dem Gehäuse auf der den Werkstücken zugewandten Seite angebrachte Ötinung zum Durchtritt
der von der SpulenoberfUiehc abgestäubten Teilchen
besitzt etwa die Größe de- Innendurchmessers
der zu zerstäubenden Spule. Du Ebene der Öffnung stein praktisch senkrecht auf der Achse der zu zerstäubenden
Spule. Die die Öffnung enthaltende Wand des die zu zerstäubende Spule enthaltenden Gehäuses
wird vorteühafterweise aus einem solchen Werkstoff hergestellt, welcher das in dem von der Spule
umschlossenen Raum erzeugte Hoch.'requenzfeld nicht wesentlich schwächt. Als besonders geeignet
hat sich hierfür eine mit einer Öffnung versehene Kupferplatte erwiesen, welche vorzugsweise gekühlt
ist. In den von der zu zerstäubenden Spule umschlossenen Raum wird von dem zu beschichtenden
Werkstück abgekehrten Ende der Spule her ein ineries
und/oder reaktives Gas eingeleitet. Durch die erfindungsgemäße Ausbildung der Vorrichtung wird
die Ionendichte in dem von der zu zerstäubenden Spule umschlossenen Raum erhöht, woraus eine Erhöhung
der Zerstäubungsrate und damit der Beschichtungsgeschwindigkeit resultiert. Durch die Anordnung
der Spule in einem Raum, in welchem gegenüber dem Beschichtungsraum ein wesentlich erhöhter
Druck aufrechterhalten wird, kann die kinetische Energie der abgestäubten Teilchen voll ausgenutzt werden. Unerwünschte Gasentladungen, v,jL-sie
beispielsweise bei der bekannten Vorricluuns:
durch Überlagern einer üblichen KathodenzersUiu-
bunu auftreten können, sind bei der erlindunesuemäLien
Vorrichtung ausgeschlossen.
In der Figur ist schematisch ein Ausfülmnigshe;-spiei
einer errindungsgemäßen Vorrichtung dargestellt, welche sich besonders bewährt hat.
xo In der Kammer 1 i>ι das /.u beschichtende Weikstück
2 und die Spule 3 angeordnet. Die Spule. \ ■--,
deren Oberfläche Teilchen durch HoehfreqiK: Plasmaentladiing
abgestäubt werden sollen, ist !in:
dem Hochfrequenzgenerator 4 verbunden. |.>:.
Kammer I wird während der Beschichtung des W . ι i.
Stücks 2 mittels des Vakuum-Pumpenaggregats 5 :. ::
einem Druck von etwa K)"1 mm Hg gehalten. Is-.
zu zerstäubende Spule 3 ist innerhalb des Gehalt L-s f>
angeordnet. Dieses Gehäuse ,eist von der Spule ;i.
ίο Richtung Werkstück gesehen eine Öffnung 7 auf /im.ι
Durchtritt der von der Spule abgestäubten Teilchen oder ihrer Reaktionsprodukte. Das Gehäuse 6. inbehindere
aber die dem zu beschichtenden Wegstück 2 zugekehrte Gchäusevvand, besteht aus Kupl· .
und ist vorzugsweise gekühlt. Zur Kühlung sind k:-
spielsvveise Kühlschlangen 8 an dem Gehäuse K festigt. Die Kühlschlangen werden mittels Was
durchspült. Zur Erhöhung der Ionendichte in d, . zylindrischen, von der Spule umschlossenen Rau■<■,
sind die Magnetspulen 9 vorgesehen. Mittels dieses
Magnetspulen wird ein Magnetfeld mit zur Achse ι!·.·ι
Spule annähernd parallelen Feldlinien erzeugt. Zm;,
Zuführen eines inerten und/oder reaktiven Gases in den von der Spule umschlossenen Raum ist das Roh;
10 vorgesehen.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (6)
1. Vorrichtung zum Beschichten von Werkstücken mit einem Metall, einer Metall-Legierung
oder einer Metallverbindung im Vakuum in einer ein inertes und oder reaktives Gas enthaltenden
Kammer, durch Plasmazerstäubunü der Oberfläche einer in der Kammer angeordneten,
mit einem Hochfrequenzgenerator verbundenen Spule und Niederschlagen der abgestäubten Teilchen
oder ihrer Reaktionsprodukte auf dem Werkstück, dadurch gekennzeichnet,
daß in der Kammer Magnete zum Erzeugen eines Feldes mit zur Achse der Spule annähernd parallelen
Feldlinien angeordnet sind.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Spule in einem innerhalb
der Kammer befindlichen Gehäuse angeordnet ist, und dieses Gehäuse durch Zuführen eines
inerten und oder reaktiven Gases einen höheren Druck als der die Werkstücke enthaltende Raum
der Kamm, r aufweist.
3. Vorrichtung nach Anspruch 2. dadurch gekennzeichnet, daß das Gehäuse auf der den Werkstücken
zugewandten Seite eine Öffnung in Größe des Innendurchmessers der Spule besitzt und die
Ebene der Öffnung aul der Achse dieser Spule senkrecht steht.
4. Vorrichtung nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß wei.igstens die die
Öffnung aufweisende Wand des Gehäuses aus einem das Hochfrequenzfcld nicht wesentlich beeinflussenden
Werkstoff besieht.
5. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 2 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß
wenigstens die die Öffnung aufweisende Gehäusewand gekühlt ist.
6. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch
ein Rohr zum Zuführen eines inerten und/oder reaktiven Gases in den von der Spule umschlossenen
Raum von dem den Werkstücken abgekehrten Ende dieser Spule her.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19691905058 DE1905058C3 (de) | 1969-02-01 | 1969-02-01 | Vorrichtung für die Beschichtung von Werkstücken durch Hochfrequenz-Plasmazerstäubung von Werkstoffen im Vakuum |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19691905058 DE1905058C3 (de) | 1969-02-01 | 1969-02-01 | Vorrichtung für die Beschichtung von Werkstücken durch Hochfrequenz-Plasmazerstäubung von Werkstoffen im Vakuum |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1905058A1 DE1905058A1 (de) | 1970-08-13 |
DE1905058B2 DE1905058B2 (de) | 1973-03-15 |
DE1905058C3 true DE1905058C3 (de) | 1973-10-04 |
Family
ID=5724069
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19691905058 Expired DE1905058C3 (de) | 1969-02-01 | 1969-02-01 | Vorrichtung für die Beschichtung von Werkstücken durch Hochfrequenz-Plasmazerstäubung von Werkstoffen im Vakuum |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE1905058C3 (de) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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FR2324755A1 (fr) * | 1975-09-19 | 1977-04-15 | Anvar | Dispositif de pulverisation cathodique de grande vitesse de depot |
JPS57111031A (en) * | 1980-12-27 | 1982-07-10 | Clarion Co Ltd | Sputtering device |
US6264812B1 (en) | 1995-11-15 | 2001-07-24 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for generating a plasma |
US6368469B1 (en) | 1996-05-09 | 2002-04-09 | Applied Materials, Inc. | Coils for generating a plasma and for sputtering |
KR100489918B1 (ko) | 1996-05-09 | 2005-08-04 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 플라즈마발생및스퍼터링용코일 |
US6254737B1 (en) | 1996-10-08 | 2001-07-03 | Applied Materials, Inc. | Active shield for generating a plasma for sputtering |
US6103070A (en) * | 1997-05-14 | 2000-08-15 | Applied Materials, Inc. | Powered shield source for high density plasma |
US6168690B1 (en) * | 1997-09-29 | 2001-01-02 | Lam Research Corporation | Methods and apparatus for physical vapor deposition |
-
1969
- 1969-02-01 DE DE19691905058 patent/DE1905058C3/de not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE1905058B2 (de) | 1973-03-15 |
DE1905058A1 (de) | 1970-08-13 |
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