JP4551203B2 - Iii族窒化物の結晶製造方法 - Google Patents
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Description
可能なIII族窒化物の結晶製造方法を提供することを目的としている。
本発明の第1の形態は、少なくともアルカリ金属とIII族金属原料と窒素とが溶解した融液からIII族窒化物結晶を成長させる結晶成長方法において、種結晶上にIII族窒化物結晶を成長させた後、該III族窒化物結晶が結晶成長した種結晶の所定の結晶面の法線方向とは異なる方向へ、該III族窒化物結晶をさらに結晶成長させることを特徴としている。
本発明の第2の形態は、第1の形態のIII族窒化物の結晶成長方法において、種結晶のc面にIII族窒化物結晶を成長させた後、該III族窒化物結晶を種結晶のc面の法線方向とは異なる方向へさらに結晶成長させることを特徴としている。
本発明の第3の形態は、第2の形態のIII族窒化物の結晶成長方法において、種結晶のc面の法線方向とは異なる方向は、<10−10>方向であることを特徴としている。
本発明の第4の形態は、第1の形態のIII族窒化物の結晶成長方法において、種結晶の{10−10}面にIII族窒化物結晶を成長させた後、該III族窒化物結晶を種結晶の{10−10}面の法線方向とは異なる方向へさらに結晶成長させることを特徴としている。
本発明の第5の形態は、第4の形態のIII族窒化物の結晶成長方法において、種結晶の{10−10}面の法線方向と異なる方向は、[000−1]方向であることを特徴としている。
本発明の第6の形態は、第1乃至第5のいずれかの形態のIII族窒化物の結晶成長方法において、前記種結晶は、基板上に結晶成長して作製されたIII族窒化物単結晶であることを特徴としている。
本発明の第7の形態は、第1乃至第6のいずれかの形態のIII族窒化物の結晶成長方法で作製されたIII族窒化物結晶である。
本発明の第8の形態は、第7の形態のIII族窒化物結晶を用いた半導体デバイスである。
12 融液保持容器
13 ヒーター
14 ガス供給管
15,18,21 バルブ
16,19 圧力調整器
17 窒素供給管
20 アルゴン供給管
22 圧力計
23 内部空間
24 融液保持容器保持台
25 融液
26,28,30 GaN種結晶
27,29,31,33 成長したGaN結晶
32 テンプレート基板
40 n型GaN層
41 n型Al0.2Ga0.8Nクラッド層
42 n型GaN光ガイド層
43 In0.05Ga0.95N/In0.15Ga0.85N量子井戸活性層
44 p型GaN光ガイド層
45 p型Al0.2Ga0.8Nクラッド層
46 p型GaNキャップ層
47 絶縁膜
48 p側のオーミック電極
49 n側のオーミック電極
50 n型GaN基板
51 電流狭窄リッジ導波路構造
400 積層構造
401,402 光共振器面
411,412 レーザー光
Claims (6)
- 反応容器内で、少なくともアルカリ金属とIII族金属原料とを含む融液および前記反応容器内に充満させた窒素原料とからIII族窒化物結晶を成長させる結晶製造方法において、
種結晶上にIII族窒化物結晶を成長させる第1工程と、
前記第1工程の後、続けて前記反応容器内の前記窒素原料の圧力を上げて、該III族窒化物結晶が結晶成長した種結晶の所定の結晶面の法線方向とは異なる方向へ、該III族窒化物結晶をさらに結晶成長させる第2工程と
を含むことを特徴とするIII族窒化物の結晶製造方法。 - 前記第1工程で、前記種結晶の{10−10}面にIII族窒化物結晶を成長させた後、
前記第2工程で、該III族窒化物結晶を種結晶の{10−10}面の法線方向とは異なる方向へさらに結晶成長させることを特徴とする請求項1に記載の結晶製造方法。 - 前記種結晶の{10−10}面の法線方向と異なる方向は、[000−1]方向であることを特徴とする請求項2に記載の結晶製造方法。
- 前記第1工程では、前記種結晶の{11−20}面に前記III族窒化物結晶を成長させ、
前記第2工程では、前記第1工程の後、該III族窒化物結晶を前記種結晶の{11−20}面の法線方向とは異なる方向へさらに結晶成長させることを特徴とする請求項1に記載の結晶製造方法。 - 前記種結晶の{11−20}面の法線方向と異なる方向は、[000−1]方向であることを特徴とする請求項4に記載の結晶製造方法。
- 前記種結晶は、基板上に結晶成長して作製されたIII族窒化物単結晶であることを特徴とする請求項1から5のいずれか一項に記載の結晶製造方法。
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