JP4548014B2 - カーボンナノチューブの連続製造方法およびその装置 - Google Patents
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触媒層を有する基板をCVD装置に導入して加熱し、同装置内に原料ガスを供給して、基板上に触媒層からカーボンナノチューブを生成させ、次いでカーボンナノチューブ付き基板を冷却したあとCVD装置から取出し、空になったCVD装置を空気存在下に加熱してタール分などの副次物を分解除去する装置であって、
所定角度ずつ断続的に回転するターンテーブルと、
触媒層を有する基板をターンテーブル上の一側に導入する基板導入ゾーンと、
基板導入ゾーンの回転方向前方に設けられ、かつ原料ガス供給ノズルおよびヒータを備え、基板導入ゾーンから来た基板上に加熱によりカーボンナノチューブを生成させる加熱ゾーンと、
加熱ゾーンの回転方向前方に設けられ、かつクーラを備え、加熱ゾーンから来たカーボンナノチューブ付き基板を冷やす冷却ゾーンと、
冷却ゾーンの回転方向前方に設けられ、かつ冷却ゾーンから来た冷却カーボンナノチューブ付き基板をターンテーブル上から取出す基板取出しゾーンとを備え、
加熱ゾーンは、空になったあと空気存在下に加熱して副次物を分解除去する働きも兼ねる、
カーボンナノチューブ連続製造装置である。
第1の発明によるカーボンナノチューブ連続製造装置を用い、
ターンテーブルを所定角度ずつ断続的に回転させ、
ターンテーブルの断続的な停止時に1回置きに触媒層を有する基板を基板導入ゾーンに導入し、
加熱ゾーンにおいて、導入ゾーンから来た触媒層付き基板を原料ガスの存在下に同ゾーンを加熱して触媒層上にカーボンナノチューブを生成させ、
冷却ゾーンにおいて、加熱ゾーンから来たカーボンナノチューブ付き基板を冷却し、
基板取出しゾーンにおいて、冷却ゾーンから来た冷却カーボンナノチューブ付き基板をターンテーブル上から取出し、
カーボンナノチューブ付き基板を冷却ゾーンへ送って空になった加熱ゾーンを空気存在下に加熱して同ゾーン内面に付着している副次物を分解除去する、
カーボンナノチューブ連続製造方法である。
(B) 加熱ゾーン
(C)冷却ゾーン
(D)基板取出しゾーン
(1) ターンテーブル
(2) ハウジング
(4) 矩形枠
(5) カバー
(6) 基板昇降装置、(6a)内側昇降機、(6b)外側昇降機
(7) 支持プレート
(9) 基板保持プレート
(11)基板
(12)(21)原料ガス供給ノズル
(13)石英板
(14)赤外線ヒータ
(15)冷却ファン
(22)マントルヒータ
Claims (3)
- 触媒層を有する基板をCVD装置に導入して加熱し、同装置内に原料ガスを供給して、基板上に触媒層からカーボンナノチューブを生成させ、次いでカーボンナノチューブ付き基板を冷却したあとCVD装置から取出し、空になったCVD装置を空気存在下に加熱して副次物を分解除去するカーボンナノチューブ連続製造装置であって、
所定角度ずつ断続的に回転するターンテーブルと、
触媒層を有する基板をターンテーブル上の一側に導入する基板導入ゾーンと、
基板導入ゾーンの回転方向前方に設けられ、かつ原料ガス供給ノズルおよびヒータを備え、基板導入ゾーンから来た基板上に加熱によりカーボンナノチューブを生成させる加熱ゾーンと、
加熱ゾーンの回転方向前方に設けられ、かつクーラを備え、加熱ゾーンから来たカーボンナノチューブ付き基板を冷やす冷却ゾーンと、
冷却ゾーンの回転方向前方に設けられ、かつ冷却ゾーンから来た冷却カーボンナノチューブ付き基板をターンテーブル上から取出す基板取出しゾーンとを備え、
加熱ゾーンは、空になったあと空気存在下に加熱して副次物を分解除去する働きも兼ねる、
カーボンナノチューブ連続製造装置。 - 原料ガス供給ノズルが基板に向けられている請求項1記載のカーボンナノチューブ連続製造装置。
- 請求項1または2記載のカーボンナノチューブ連続製造装置を用い、
ターンテーブルを所定角度ずつ断続的に回転させ、
ターンテーブルの断続的な停止時に1回置きに触媒層を有する基板を基板導入ゾーンに導入し、
加熱ゾーンにおいて、導入ゾーンから来た触媒層付き基板を原料ガスの存在下に同ゾーンを加熱して触媒層上にカーボンナノチューブを生成させ、
冷却ゾーンにおいて、加熱ゾーンから来たカーボンナノチューブ付き基板を冷却し、
基板取出しゾーンにおいて、冷却ゾーンから来た冷却カーボンナノチューブ付き基板をターンテーブル上から取出し、
カーボンナノチューブ付き基板を冷却ゾーンへ送って空になった加熱ゾーンを空気存在下に加熱して同ゾーン内面に付着している副次物を分解除去する、
カーボンナノチューブ連続製造方法。
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