JP4544432B2 - シンナモイル基を持つジアミン化合物の製造法 - Google Patents

Description

本発明はジアミン化合物の製造法に関する。

従来、ジアミン化合物を製造する方法としては、原料としてジニトロ体を用いて目的物の前駆体とした後、還元反応を用いてジアミン化合物を製造する方法がとられている。
このような製造方法においてはニトロ基の還元反応時に、ニトロ基以外の箇所の還元や、結合の切断といった望まない副反応が生じることがある。
とりわけ目的物にα，β−不飽和カルボニル構造を含む化合物の場合、かかる二重結合部位は反応性に富み、副反応を生じることが多い。
シンナモイル骨格はこのようなα，β不飽和カルボニル構造を含む化合物の代表的な骨格であり、従来のジアミン製造方法では、このような骨格を含むジアミン化合物を製造することは困難であった。

本発明の目的は、シンナモイル骨格を有するポリイミド樹脂を合成するのに用いることができるジアミン化合物を収率よく簡便に製造する方法を提供することにある。

本発明の他の目的は、液晶配向膜として有用なポリイミド樹脂の合成に用いられるジアミン化合物の製造方法を提供することにある。

本発明のさらに他の目的および利点は、以下の説明から明らかになるであろう。

本発明によれば、本発明の上記目的および利点は、
下記式（ＩＩ）

ここで、Ｒ^１はシンナモイル骨格を有する２価の有機基であり、Ｒ^２およびＲ^３は互に独立に炭素数１〜２０の有機基である、
で表されるＮ，Ｎ’−ジ置換ジアミンを酸性化合物で処理して下記式（Ｉ）

ここで、Ｒ^１の定義は上記式（ＩＩ）に同じである、
で表される１級ジアミンを生成せしめることを特徴とするジアミンの製造法によって達成される。

本発明の製造法によれば、ジアミン化合物を高純度、高収率で有利に製造することができる。

以下、本発明について詳細に説明する。

本発明方法は、上記式（ＩＩ）で表されるＮ，Ｎ’−ジ置換ジアミンを酸性化合物で処理して上記式（Ｉ）で表される１級ジアミンを生成する反応からなる。
酸性化合物は、フッ化水素酸、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硫酸、硝酸、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、トリフルオロ酢酸、ペンタフルオロプロピオン酸またはヘプタフルオロ酪酸である。中でもトリフルオロ酢酸が特に好ましい。
上記反応における酸性化合物の使用量は、用いる上記式（ＩＩ）のＮ，Ｎ’−ジ置換ジアミンに対して、０．００５等量以上である。また酸性化合物をそのまま溶媒として用いることもできる。

この反応は適宜の溶剤中において行うことができる。溶剤として、例えばヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、トルエン、ｏ−キシレン、ｍ−キシレン、ｐ−キシレン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、アセトニトリル、アセトン、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸ペンチル、酢酸ヘキシル、ジメチルスルホキシド、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、クロロメタンなどを挙げることができる。反応温度は好ましくは−１５〜１５０℃、より好ましくは０〜４０℃であり、反応時間は好ましくは１時間〜５日間である。
上記式（ＩＩ）で表されるＮ，Ｎ’−ジ置換ジアミンは、下記式（ＩＩ−Ａ）〜（ＩＩ−Ｄ）のそれぞれで表される化合物である。

しかして、本発明の反応で生成される上記式（Ｉ）で表される１級ジアミンは、下記式（Ｉ−Ａ）〜（Ｉ−Ｄ）のそれぞれで表される化合物である。

本発明によれば、上記式（ＩＩ−Ａ）〜（ＩＩ−Ｄ）のそれぞれで表されるＮ，Ｎ’−ジ置換ジアミンのそれぞれから、上記式（Ｉ−Ａ）〜（Ｉ−Ｄ）のそれぞれで表される１級ジアミンを高純度、高収率で製造することができる。

以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

合成例１
冷却管を備えた２００ｍｌ三口フラスコに、二塩酸３，５−ジアミノベンジルアルコール５．０ｇを加えて脱気後窒素置換を行い、Ｎ−メチルピロリドン４８ｍｌを加え攪拌した。ここに、別に調製した二炭酸ジ−ｔ−ブチル１２．４１ｇ、０．５Ｍ水酸化ナトリウム水溶液１００ｍｌの混合溶液を加え、室温で１時間攪拌した。１．５時間後、２．０Ｍ水酸化ナトリウム水溶液５０ｍｌを加え、さらに１２時間室温で攪拌した。得られた反応溶液を５％塩酸水溶液に注ぎ、析出した沈殿物を濾過にて回収、６０℃で真空乾燥することにより下記化合物Ａを５．５ｇ得た。

合成例２
冷却管を備えた１００ｍｌ三口フラスコに化合物Ａ２．００ｇを加えて、脱気後窒素置換を行い、テトラヒドロフラン６０ｍｌを加えて攪拌した。ここに、シンナモイルクロライド１．００ｇを加え攪拌し、次いでピリジン２．００ｇを加えた。その後、室温で２４時間攪拌した。濾過にて不溶部を取り除き、シリカゲルカラム（溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製することにより、下記化合物Ｂを２．６ｇ得た。

実施例１
１００ｍｌフラスコに、化合物Ｂ１．００ｇ、トリフルオロ酢酸５０ｍｌを加え、室温で４時間攪拌した。エバポレーターでトリフルオロ酢酸を留去した後、酢酸エチル２００ｍｌを加え攪拌、飽和炭酸水素ナトリウム１００ｍｌで洗浄した。得られた有機相を無水硫酸マグネシウム上で乾燥させた後、これを濾過で除き、シリカゲルカラム（溶媒：クロロホルム／エタノール＝９５／５）で精製することにより、目的とする下記ジアミン化合物Ｃを０．５２ｇ得た。

合成例1で得られた化合物（Ａ）の^１Ｈ−ＮＭＲスペクトル図。 合成例２で得られた化合物（Ｂ）の^１Ｈ−ＮＭＲスペクトル図。 実施例１で得られた化合物（Ｃ）の^１Ｈ−ＮＭＲスペクトル図。

Claims (4)

1. 下記式（ＩＩ−Ａ）
   

   

   で表されるＮ，Ｎ’−ジ置換ジアミンを、フッ化水素酸、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硫酸、硝酸、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、トリフルオロ酢酸、ペンタフルオロプロピオン酸またはヘプタフルオロ酪酸で処理して下記式（Ｉ−Ａ）
   

   

   で表される１級ジアミンを生成せしめることを特徴とするジアミンの製造法。
2. 下記式（ＩＩ−Ｂ）
   

   

   で表されるＮ，Ｎ’−ジ置換ジアミンを、フッ化水素酸、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硫酸、硝酸、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、トリフルオロ酢酸、ペンタフルオロプロピオン酸またはヘプタフルオロ酪酸で処理して下記式（Ｉ−Ｂ）
   

   

   で表される１級ジアミンを生成せしめることを特徴とするジアミンの製造法。
3. 下記式（ＩＩ−Ｃ）
   

   

   で表されるＮ，Ｎ’−ジ置換ジアミンを、フッ化水素酸、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硫酸、硝酸、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、トリフルオロ酢酸、ペンタフルオロプロピオン酸またはヘプタフルオロ酪酸で処理して下記式（Ｉ−Ｃ）
   

   

   で表される１級ジアミンを生成せしめることを特徴とするジアミンの製造法。
4. 下記式（ＩＩ−Ｄ）
   

   

   で表されるＮ，Ｎ’−ジ置換ジアミンを、フッ化水素酸、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硫酸、硝酸、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、トリフルオロ酢酸、ペンタフルオロプロピオン酸またはヘプタフルオロ酪酸で処理して下記式（Ｉ−Ｄ）
   

   

   で表される１級ジアミンを生成せしめることを特徴とするジアミンの製造法。
   

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