JP2018518489A - アプレミラスト及びその中間体の調製方法 - Google Patents

アプレミラスト及びその中間体の調製方法 Download PDF

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Abstract

本発明は、式(II)の1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミンの調製方法、その分割及び式(I)のアプレミラストの調製におけるその使用、アプレミラストの結晶形態Bの調製方法、アプレミラストの非晶質形態及び式(Va)の(S)−1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミンの結晶形態の調製方法に関する。【選択図】図2

Description

本願は、式(II)の1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミンの調製方法及びアプレミラストの調製におけるその使用に関する。本願の別の態様は、式(II)の1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミンの分割方法及びアプレミラストの調製におけるその使用を提供する。本願の別の態様は、式(Va)の(S)−1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミン及びその結晶形態の調製方法を提供する。本願の別の態様は、式(Vb)の(R)−1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミンからの式(II)のラセミの1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミンの調製方法を提供する。本願の更に別の態様は、アプレミラストの結晶形態Bの調製方法、またアプレミラストの非晶質形態の調製方法を提供する。
アプレミラストはPDE4阻害剤であり、喘息、慢性閉塞性肺疾患、乾癬並びに他のアレルギー性、自己免疫性及びリウマチ性の病気を含めた多様な病気を治療するための抗炎症剤としての役割を果たし、式(I)の構造で表される。
式(II)の1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミン及び式(Va)のその(S)−異性体は、アプレミラストの調製において有用な重要な中間体である。
アプレミラストの合成ルートは、古典的なラセミのアミノスルホン(II)の分割により必要とされる(S)−鏡像異性体(Va)を得ることに依存することが多く、これでは式(Vb)の不要な(R)−鏡像異性体(以下、(R)−アミノスルホンと称する)の廃液流が大量に発生してしまう。
Vb
アプレミラスト及びその中間体の調製方法は、米国特許第6020358(B2)号明細書、米国特許第7427638(B2)号明細書、米国特許第8242310(B2)号明細書、米国特許出願公開第20130217918(A1)号明細書及び米国特許出願公開第20130217919(A1)号明細書に開示されている。
PDE4阻害剤の重要性から、そのような薬剤及びその中間体の費用効率が高いかつ新規な製造方法は常に関心の対象である。本発明は、アプレミラスト又はその中間体を調製し、また(R)−アミノスルホン(Vb)をラセミのアミノスルホン(II)にリサイクルするためのコスト及び収率を改善する方法を提供する。
本願は、式(I)のアプレミラスト及びその関連する中間体を得るための新規な合成方法を提供する。
本発明で得られる式(Va)のキラルアミノスルホンのPXRDパターン図である。 実施例20で得られるアプレミラストの非晶質形態のPXRDパターン図である。
第1の実施形態において、本願は、式(II):
のアミノスルホン又はその立体異性体及びその医薬的に許容可能な塩の調製方法を提供し、この方法は、
(a)式(III)のベンゾニトリルをジメチルスルホンと適切な溶媒中の塩基の存在下で反応させることで式(IVa)の化合物を得て、続いてその変換により式(IV)のエナミンを得て、
式中、M=Na、Kであり、
(b)式(IV)のエナミンを適切な溶媒の存在下で還元することで式(II)のアミノスルホンを得て、
(c)任意で式(II)のアミノスルホンを精製することを含む。
第2の実施形態において、本願は、式(Va):
又はその立体異性体の調製方法を提供し、この方法は、
(a)式(II)のラセミの1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミンをキラル酸と適切な溶媒の存在下で反応させることで式(V)の1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミンのキラル酸塩を生成し、
(b)任意で式(V)のアミノスルホンのキラル酸塩を単離及び精製し、
(c)式(V)のアミノスルホンのキラル酸塩を適切な溶媒中の塩基で処理することで式(Va)のキラルアミノスルホンを生成し、
(d)任意で式(Va)のキラルアミノスルホンを単離及び精製することを含む。
第3の実施形態において、本願は、式(I):
のアプレミラスト又はその立体異性体の調製方法を提供し、この方法は、
(a)式(II)の1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミンをキラル酸と適切な溶媒の存在下で接触させることで式(V)の1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミンのキラル酸塩を生成し、
(b)任意で式(V)のアミノスルホンのキラル酸塩を単離及び精製し、
(c)任意で式(V)のアミノスルホンのキラル酸塩を塩基で処理することで式(Va)のキラルアミノスルホンを生成し、
(d)式(V)の1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミンのキラル酸塩又は式(Va)のキラルアミノスルホンを式(VI)のジオキソ−1,3−ジヒドロ−イソベンゾフラン−4−イル)−アセトアミドと適切な溶媒の存在下で接触させることで式(I)のアプレミラストを得て、
(e)任意で式(I)のアプレミラストを精製することを含む。
第4の実施形態において、本願は、式(I):
のアプレミラスト又はその立体異性体の調製方法を提供し、この方法は、
(a)式(III)のベンゾニトリルをジメチルスルホンと適切な溶媒中の塩基の存在下で反応させることで式(IVa)の化合物を得て、続いてその変換により式(IV)のエナミンを得て、
式中、M=Na、Kであり、
(b)式(IV)のエナミンを適切な溶媒の存在下で還元することで式(II)のアミノスルホンを得て、
(c)任意で式(II)のアミノスルホンを精製し、
(d)式(II)の1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミンをキラル酸と適切な溶媒の存在下で接触させることで式(V)の1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミンのキラル酸塩を生成し、
(e)任意で式(V)のアミノスルホンのキラル酸塩を単離及び精製し、
(f)任意で式(V)のアミノスルホンのキラル酸塩を塩基で処理することで式(Va)のキラルアミノスルホンを生成し、
(g)式(V)の1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミンのキラル酸塩又は式(Va)のキラルアミノスルホンを式(VI)のN−(1,3−ジオキソ−1,3−ジヒドロ−イソベンゾフラン−4−イル)−アセトアミドと適切な溶媒の存在下で接触させることで式(I)のアプレミラストを得て、
(h)任意で式(I)のアプレミラストを精製することを含む。
第5の実施形態において、本願は、約5.97、17.81、19.85及び26.07±0.2度2θにピークを有するその粉末X線回折(PXRD)パターンを特徴とする式(Va)のキラルアミノスルホンの結晶形態を提供する。実施形態において、本願は、約11.88、15.88、21.96及び26.72±0.2度2θに追加のピークを有するそのPXRDパターンを特徴とする式(Va)のキラルアミノスルホンの結晶形態を提供する。更に他の実施形態において、本願は、約12.10、20.72及び22.18±0.2度2θに追加のピークを有するそのPXRDパターンを特徴とする式(Va)のキラルアミノスルホンの結晶形態を提供する。
第6の実施形態において、本願は、約5.97、11.88、12.10、15.88、17.81、19.85、20.72、21.96、22.18、26.07及び26.72±0.2度2θにピークを有するその粉末X線回折(PXRD)パターンを特徴とする式(Va)のキラルアミノスルホンの結晶形態を提供する。
第7の実施形態において、本願は、実質的に図1のパターンに示した通りのピークを有するPXRDパターンを特徴とし得る式(Va)のキラルアミノスルホンの結晶形態を提供する。
第8の実施形態において、本願は、式(II):
のラセミのアミノスルホン及びその医薬的に許容可能な塩の調製方法を提供し、この方法は、
(a)式(Vb)の(R)−1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミン及びその医薬的に許容可能な塩をハロゲン化試薬と適切な溶媒の存在下で反応させることで式(VII)のハロゲン化アミンを得て、
式中、X=Cl、F、Br、Iであり、
(b)式(VII)のハロゲン化アミンを適切な溶媒中の適切な塩基の存在下で処理することで式(IV)のエナミンを得て、
式中、X=Cl、F、Br、Iであり、
(c)式(IV)のエナミンを式(II)のラセミのアミノスルホンに還元剤及び適切な溶媒の存在下で変換し、
(d)任意で式(II)のラセミのアミノスルホンを精製することを含む。
第9の実施形態において、本願は、式(I):
のアプレミラスト又はその立体異性体の調製方法を提供し、この方法は、
(a)式(Vb)の(R)−1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミン及びその医薬的に許容可能な塩をハロゲン化試薬と適切な溶媒の存在下で反応させることで式(VII)のハロゲン化アミンを得て、
式中、X=Cl、F、Br、Iであり、
(b)式(VII)のハロゲン化アミンを適切な溶媒中の適切な塩基の存在下で処理することで式(IV)のエナミンを得て、
式中、X=Cl、F、Br、Iであり、
(c)式(IV)のエナミンを式(II)のラセミのアミノスルホンに還元剤及び適切な溶媒の存在下で変換し、
(d)任意で式(II)のラセミのアミノスルホンを精製し、
(e)式(II)のラセミのアミノスルホンを式(I)のアプレミラストに変換し、
(f)任意で式(I)のアプレミラストを精製することを含む。
第10の実施形態において、本願は、式(VII):
(式中、X=Cl、F、Br、I)
の新規な化合物を提供する。
第11の実施形態において、本願は、式(I)のアプレミラスト又はその立体異性体の調製方法を提供し、この方法は、
(a)式(V)の1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミンのキラル酸塩又は式(Va)のキラルアミノスルホンを式(VI)のN−(1,3−ジオキソ−1,3−ジヒドロ−イソベンゾフラン−4−イル)−アセトアミドとケトン(ketonic)溶媒と極性溶媒との混合物の存在下で接触させることで式(I)のアプレミラストを得て、
(b)任意で式(I)のアプレミラストを精製することを含む。
第12の実施形態において、本願は、式(I)のアプレミラスト又はその立体異性体の結晶形態Bの調製方法を提供し、この方法は、
(a)式(V)の1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミンのキラル酸塩又は式(Va)のキラルアミノスルホンを式(VI)のN−(1,3−ジオキソ−1,3−ジヒドロ−イソベンゾフラン−4−イル)−アセトアミドとケトン溶媒と極性溶媒との混合物の存在下で接触させることで式(I)のアプレミラストを得て、
(b)任意でアプレミラストを単離及び精製し、
(c)工程(b)で得られたアプレミラストをアプレミラストの結晶形態Bに変換し、
(d)任意でアプレミラストの結晶形態Bを単離及び精製することを含む。
第13の実施形態において、本願はアプレミラストの非晶質形態の調製方法を提供し、この方法は、
(a)アプレミラストを適切な溶媒又はその混合物に溶解させ、
(b)任意で工程(a)の溶液を加熱し、
(c)貧溶媒(anti−solvent)としての水をアプレミラストの溶液に添加し又はアプレミラストの溶液を水に添加し、
(d)固形物を単離し、
(e)任意で生成物を適切な温度で乾燥させることを含む。
第14の実施形態において、本発明はアプレミラストのデスオキソ不純物を提供し、この不純物は不純物Mと称され、以下の構造を有する。
第15の実施形態において、本願は、本願の方法に従って調製した式(I)のアプレミラストを1種以上の医薬的に許容可能な賦形剤、担体及び希釈剤と共に含む医薬組成物を提供する。
本願は、式(I)のアプレミラスト及びその関連する中間体を得るための新規な合成方法を提供する。
第1の実施形態において、本願は、式(II):
のアミノスルホン又はその立体異性体及びその医薬的に許容可能な塩の調製方法を提供し、この方法は、
(a)式(III)のベンゾニトリルをジメチルスルホンと適切な溶媒中の塩基の存在下で反応させることで式(IVa)の化合物を得て、続いてその変換により式(IV)のエナミンを得て、
式中、M=Na、Kであり、
(b)式(IV)のエナミンを適切な溶媒の存在下で還元することで式(II)のアミノスルホンを得て、
(c)任意で式(II)のアミノスルホンを精製することを含む。
工程(a)は1種以上の適切な塩基の存在下で行い得る。工程(a)で使用し得る適切な塩基には、以下に限定するものではないが、ナトリウムアミド、カリウムアミド、ナトリウムのC1−C20アルコキシド、カリウムのC1−C20アルコキシド、マグネシウムのC1−C20アルコキシド、水素化ナトリウム、水素化カリウム等が含まれる。
工程(a)は1種以上の適切な溶媒中で行い得る。工程(a)で使用し得る適切な溶媒には、以下に限定するものではないが、エーテル溶媒、例えばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、2−メチルテトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、アニソール、1,4−ジオキサン等;ケトン溶媒、例えばアセトン、ジアルキルケトン等;芳香族炭化水素溶媒、例えばトルエン、キシレン、クロロベンゼン、テトラリン等;ニトリル溶媒、例えばアセトニトリル、プロピオニトリル等;アルコール溶媒、例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール等;エステル溶媒、例えばギ酸エチル、メチルアセテート、エチルアセテート、プロピルアセテート、ブチルアセテート、メチルプロパノエート、エチルプロパノエート、メチルブタノエート、エチルブタノエート等若しくはアミド溶媒、例えばジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド等、ジメチルスルホキシド又はこれらの混合物が含まれる。
ある実施形態においては、式(IVa)の化合物のエナミンの塩を直接、式(IV)のその対応するエナミンを変換することなく還元に供することで式(II)のアミノスルホンを得る場合もある。エナミン化合物(IV)の遊離塩基のものと実質的に同様の反応条件を採用し得る。
エナミンをアミンに還元するための当該分野で公知のいずれの還元剤も、工程(b)の還元に使用できる。工程(b)で使用し得る還元剤には、以下に限定するものではないが、ナトリウムトリアセトキシボロヒドリド、水素化ホウ素ナトリウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、パラジウム、ラネー・ニッケル等が含まれる。
工程(b)の還元は酸の存在下で起き得て、例えば、以下に限定するものではないが、酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、4−(トリフルオロメチル)安息香酸、p−トルエンスルホン酸、塩酸、硝酸、硫酸、リン酸、クエン酸、酒石酸、ベンゼンスルホン酸等である。
式(II)の化合物又はその医薬的に許容可能な塩の単離及び精製を伴う工程(c)は、望むならば、任意の適切な分離又は精製手順、例えば濾過、遠心分離、抽出、酸/塩基処理、結晶化、慣用の単離及び純化手段、例えば濃縮、減圧下での濃縮、溶媒抽出、結晶化、相移動クロマトグラフィ、カラムクロマトグラフィ又はこれらの手順の組み合わせで達成できる。
上記の工程を行い得る温度は、特定の工程で使用する溶媒又は溶媒混合物に基づき、約0〜約100℃、好ましくは約5〜約60℃である。
第2の実施形態において、本願は、式(Va):
又はその立体異性体の調製方法を提供し、この方法は、
(a)式(II)のラセミの1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミンをキラル酸と適切な溶媒の存在下で接触させることで式(V)の1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミンのキラル酸塩を生成し、
(b)任意で式(V)のアミノスルホンのキラル酸塩を単離及び精製し、
(c)式(V)のアミノスルホンのキラル酸塩を適切な溶媒中の塩基で処理することで式(Va)のキラルアミノスルホンを生成し、
(d)任意で式(Va)のキラルアミノスルホンを単離及び精製することを含む。
工程(a)は1種以上の適切な溶媒中で行い得る。工程(a)で使用し得る適切な溶媒には、以下に限定するものではないが、エーテル溶媒、例えばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、アニソール、1,4−ジオキサン等;ケトン溶媒、例えばアセトン、メチルエチルケトン等;芳香族炭化水素溶媒、例えばトルエン、キシレン、クロロベンゼン、テトラリン等;ニトリル溶媒、例えばアセトニトリル、プロピオニトリル等;アルコール溶媒、例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール等;エステル溶媒、例えばギ酸エチル、メチルアセテート、エチルアセテート、プロピルアセテート、ブチルアセテート、メチルプロパノエート、エチルプロパノエート、メチルブタノエート、エチルブタノエート等若しくはアミド溶媒、例えばジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン等若しくは酸、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸;水又はこれらの混合物が含まれる。
工程(a)で使用し得る適切なキラル酸には、以下に限定するものではないが、10−カンファースルホン酸、ショウノウ酸、メトキシ酢酸、酒石酸、ジアセチル酒石酸、ジ−トルオイル酒石酸、ジベンゾイル酒石酸、マンデル酸、マンデル酸の誘導体、例えばアセチルマンデル酸、プロピルマンデル酸、乳酸、イブプロフェン、リンゴ酸、ピロリドン−5−カルボン酸、ナプロキセン等の個々の鏡像異性体が含まれる。工程(a)で使用し得る特に適切なキラル酸には、以下に限定するものではないが、酒石酸、ジベンゾイル酒石酸及びジトルオイル酒石酸が含まれる。より具体的には、適切なキラル酸はジベンゾイル酒石酸になり得る。分割は、任意のポープ・ピーチー分割条件下で又は任意の慣用の分割方法でも行い得る。ポープ・ピーチー分割の場合、キラル分割剤を入れた水中の有機又は無機酸をキラル分割工程に、任意のキラル酸、有機/無機酸、水のモル比でもって使用できる。
式(V)の化合物又はその医薬的に許容可能な塩の単離及び精製を伴う工程(b)は、望むならば、任意の適切な分離又は精製手順、例えば濾過、遠心分離、抽出、酸/塩基処理、結晶化、慣用の単離及び純化手段、例えば濃縮、減圧下での濃縮、溶媒抽出、結晶化、相移動クロマトグラフィ、カラムクロマトグラフィ又はこれらの手順の組み合わせで達成できる。塩を溶解可能な任意の適切な溶媒を精製に使用することでキラル純度を所望のレベルまで上昇させ得る。
工程(c)は、1種以上の適切な塩基及び1種以上の適切な溶媒の存在下で行い得る。工程(c)で使用し得る適切な塩基には、以下に限定するものではないが、有機塩基、例えばピリジン、ピペリジン、ピリミジン、トリエチルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピル−エチルアミン、1,1,3,3−テトラメチルグアニジン、DBU、DABCO等、無機塩基、例えば金属カーボネート、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム;金属バイカーボネート、例えば重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウム;金属水酸化物、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化カルシウム等が含まれる。
工程(c)は1種以上の適切な溶媒中で行い得る。工程(c)で使用し得る適切な溶媒には、以下に限定するものではないが、芳香族炭化水素溶媒、例えばトルエン、キシレン、クロロベンゼン、テトラリン等;ハロゲン化炭化水素、例えばジクロロメタン、クロロホルム等;アルコール溶媒、例えばメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等;水及びこれらの混合物が含まれる。
式(Va)の化合物又はその医薬的に許容可能な塩の単離及び精製を伴う工程(d)は、望むならば、任意の適切な分離又は精製手順、例えば濾過、遠心分離、抽出、酸/塩基処理、結晶化、慣用の単離及び純化手段、例えば濃縮、減圧下での濃縮、溶媒抽出、結晶化、相移動クロマトグラフィ、カラムクロマトグラフィ又はこれらの手順の組み合わせで達成できる。
任意で、式(Va)の得られたキラルアミノスルホンを1種以上の適切な溶媒における精製に供し得る。
上記の工程を行い得る温度は、特定の工程で使用する溶媒又は溶媒混合物に基づいて、約0〜約100℃、好ましくは約25〜約70℃である。
第3の実施形態において、本願は、式(I):
のアプレミラスト又はその立体異性体の調製方法を提供し、この方法は、
(a)式(II)の1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミンをキラル酸と適切な溶媒の存在下で接触させることで式(V)の1−(3−エトキシ−4−メトキシフェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミンのキラル酸塩を生成し、
(b)任意で式(V)のアミノスルホンのキラル酸塩を単離及び精製し、
(c)任意で式(V)のアミノスルホンのキラル酸塩を塩基で処理することで式(Va)のキラルアミノスルホンを生成し、
(d)式(V)の1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミンのキラル酸塩又は式(Va)のキラルアミノスルホンを式(VI)のN−(1,3−ジオキソ−1,3−ジヒドロ−イソベンゾフラン−4−イル)−アセトアミドと適切な溶媒の存在下で接触させることで式(I)のアプレミラストを得て、
(e)任意で式(I)のアプレミラストを精製することを含む。
工程(a)、(b)及び(c)の試薬、溶媒及び反応条件は、本発明の第1及び第2の実施形態の工程で記載したような1種以上の適切な試薬、溶媒及び工程条件から選択し得る。
工程(d)は1種以上の適切な溶媒中で行い得る。工程(c)で使用し得る適切な溶媒には、以下に限定するものではないが、水と組み合わせたエーテル溶媒、例えばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、アニソール、1,4−ジオキサン等;ケトン溶媒、例えばアセトン、ジアルキルケトン等;芳香族炭化水素溶媒、例えばトルエン、キシレン、クロロベンゼン、テトラリン等;ニトリル溶媒、例えばアセトニトリル、プロピオニトリル等;アルコール溶媒、例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール等;エステル溶媒、例えばギ酸エチル、メチルアセテート、エチルアセテート、プロピルアセテート、ブチルアセテート、メチルプロパノエート、エチルプロパノエート、メチルブタノエート、エチルブタノエート等若しくはアミド溶媒、例えばジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド若しくは酸、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸若しくは無水物、例えば無水酢酸、無水プロピオン酸又はこれらの混合物が含まれる。
式(I)の化合物の単離及び精製を伴う工程(e)は、望むならば、任意の適切な分離又は精製手順、例えば濾過、遠心分離、抽出、酸/塩基処理、結晶化、慣用の単離及び純化手段、例えば濃縮、減圧下での濃縮、溶媒抽出、結晶化、相移動クロマトグラフィ、カラムクロマトグラフィ又はこれらの手順の組み合わせで達成できる。
上記の工程を行い得る温度は、特定の工程で使用する溶媒又は溶媒混合物に基づいて、約0〜約100℃、好ましくは約25〜約100℃である。
第4の実施形態において、本願は、式(I):
のアプレミラスト又はその立体異性体の調製方法を提供し、この方法は、
(a)式(III)のベンゾニトリルをジメチルスルホンと適切な溶媒中の塩基の存在下で反応させることで式(IVa)の化合物を得て、続いてその変換により式(IV)のエナミンを得て、
式中、M=Na、Kであり、
(c)式(IV)のエナミンを適切な溶媒の存在下で還元することで式(II)のアミノスルホンを得て、
(c)任意で式(II)のアミノスルホンを精製し、
(d)式(II)の1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミンをキラル酸と適切な溶媒の存在下で接触させることで式(V)の1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミンのキラル酸塩を生成し、
(e)任意で式(V)のアミノスルホンのキラル酸塩を単離及び精製し、
(f)任意で式(V)のアミノスルホンのキラル酸塩を塩基で処理することで式(Va)のキラルアミノスルホンを生成し、
(g)式(V)の1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミンのキラル酸塩又は式(Va)のキラルアミノスルホンを式(VI)のN−(1,3−ジオキソ−1,3−ジヒドロ−イソベンゾフラン−4−イル)−アセトアミドと適切な溶媒の存在下で接触させることで式(I)のアプレミラストを得て、
(h)任意で式(I)のアプレミラストを精製することを含む。
工程(a)〜(h)の試薬、溶媒及び反応条件は、本発明の第1、第2及び第3の実施形態の工程で記載したような1種以上の適切な試薬、溶媒及び工程条件から選択し得る。
第5の実施形態において、本願は、約5.97、17.81、19.85及び26.07±0.2度2θにピークを有するその粉末X線回折(PXRD)パターンを特徴とする式(Va)のキラルアミノスルホンの結晶形態を提供する。実施形態において、本願は、約11.88、15.88、21.96及び26.72±0.2度2θに追加のピークを有するそのPXRDパターンを特徴とする式(Va)のキラルアミノスルホンの結晶形態を提供する。更に他の実施形態において、本願は、約12.10、20.72及び22.18± 0.2度2θに追加のピークを有するそのPXRDパターンを特徴とする式(Va)のキラルアミノスルホンの結晶形態を提供する。
第6の実施形態において、本願は、約5.97、11.88、12.10、15.88、17.81、19.85、20.72、21.96、22.18、26.07及び26.72±0.2度2θにピークを有するその粉末X線回折(PXRD)パターンを特徴とする式(Va)のキラルアミノスルホンの結晶形態を提供する。
第7の実施形態において、本願は、実質的に図1のパターンに示した通りのピークを有するPXRDパターンを特徴とし得る式(Va)のキラルアミノスルホンの結晶形態を提供する。
本明細書において報告するPXRDデータは、PANalytical社のX線回折装置を銅Kα線と共に使用して得る。本発明で得られる式(Va)のキラルアミノスルホン及び/又は式(I)のアプレミラストは、95%を超える化学的及びキラル純度を有する。
第8の実施形態において、本願は、式(II):
のラセミのアミノスルホン及びその医薬的に許容可能な塩の調製方法を提供し、この方法は、
(a)式(Vb)の(R)−1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミン及びその医薬的に許容可能な塩をハロゲン化試薬と適切な溶媒の存在下で反応させることで式(VII)のハロゲン化アミンを得て、
式中、X=Cl、F、Br、Iであり、
(b)式(VII)のハロゲン化アミンを適切な溶媒中の適切な塩基の存在下で処理することで式(IV)のエナミンを得て、
式中、X=Cl、F、Br、Iであり、
(c)式(IV)のエナミンを式(II)のラセミのアミノスルホンに還元剤及び適切な溶媒の存在下で変換し、
(d)任意で式(II)のラセミのアミノスルホンを精製することを含む。
工程(a)で使用し得る適切なハロゲン化試薬には、以下に限定するものではないが、ナトリウムジクロロイソシアヌレート(NaDCC)、トリクロロイソシアヌル酸、N,N’−ジクロロビス(2,4,6−トリクロロフェニル)ウレア、N−クロロスクシンイミド、N−ブロモスクシンイミド、次亜塩素酸ナトリウム、次亜臭素酸ナトリウム等が含まれる。
工程(a)は1種以上の適切な溶媒中で行い得る。工程(a)で使用し得る適切な溶媒には、以下に限定するものではないが、エーテル溶媒、例えばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、アニソール、1,4−ジオキサン等;芳香族炭化水素溶媒、例えばトルエン、キシレン、クロロベンゼン、テトラリン等;塩素化炭化水素溶媒、例えばクロロホルム、ジクロロメタン等;アルコール溶媒、例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール等;水及びこれらの混合物が含まれる。
工程(b)で使用し得る適切な塩基には、以下に限定するものではないが、有機塩基、例えば2,4,6−コリジン、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルピリジン、1−ジエチルアミノ−2−プロパノール、N−エチルアミノ−2−プロパノール、N−エチルジイソプロピルアミン、4−エチルモルホリン、1−エチルピペリジン、2,6−ルチジン、N−メチルモルホリン、1−メチルピペリジン、トリベンジルアミン、トリエチルアミン、DBU、ピリジン、LDA、NaHMDS、KHMDS、水素化ナトリウム、水素化カリウム等が含まれる。適切な無機塩基には、以下に限定するものではないが、アルカリ水素化物、例えば水素化ナトリウム、水素化カリウム等;アルカリ金属水酸化物、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム及び水酸化セシウム等;アルカリ土類金属水酸化物、例えば水酸化バリウム、水酸化ストロンチウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等;アルカリ金属カーボネート、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸セシウム等;アルカリ土類金属カーボネート、例えば炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等;アルカリ金属バイカーボネート、例えば重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウム等が含まれる。
工程(b)は1種以上の適切な溶媒中で行い得る。工程(b)で使用し得る適切な溶媒には、以下に限定するものではないが、エーテル溶媒、例えばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、アニソール、1,4−ジオキサン等;芳香族炭化水素溶媒、例えばトルエン、キシレン、クロロベンゼン、テトラリン等;塩素化炭化水素溶媒、例えばクロロホルム、ジクロロメタン等;アルコール溶媒、例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール等及びこれらの混合物が含まれる。
工程(c)は1種以上の適切な還元剤中で行い得る。工程(c)で使用し得る適切な還元剤には、以下に限定するものではないが、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、ジ−イソブチルアルミニウムヒドリド等が含まれる。
工程(c)は1種以上の適切な溶媒中で行い得る。工程(a)で使用し得る適切な溶媒には、以下に限定するものではないが、エーテル溶媒、例えばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、アニソール、1,4−ジオキサン等;芳香族炭化水素溶媒、例えばトルエン、キシレン、クロロベンゼン、テトラリン等;塩素化炭化水素溶媒、例えばクロロホルム、ジクロロメタン等;アルコール溶媒、例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール等;水及びこれらの混合物が含まれる。
式(II)の化合物又はその医薬的に許容可能な塩の単離及び精製を伴う工程(d)は、望むならば、任意の適切な分離又は精製手順、例えば濾過、遠心分離、抽出、酸/塩基処理、結晶化、慣用の単離及び純化手段、例えば濃縮、減圧下での濃縮、溶媒抽出、結晶化、相移動クロマトグラフィ、カラムクロマトグラフィ又はこれらの手順の組み合わせで達成できる。
上記の工程を行い得る温度は、特定の工程で使用する溶媒又は溶媒混合物に基づいて、約−20〜約100℃、好ましくは約0〜約25℃である。
第9の実施形態において、本願は、式(I):
のアプレミラスト又はその立体異性体の調製方法を提供し、この方法は、
(a)式(Vb)の(R)−1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミン及びその医薬的に許容可能な塩をハロゲン化試薬と適切な溶媒の存在下で反応させることで式(VII)のハロゲン化アミンを得て、
式中、X=Cl、F、Br、Iであり、
(b)式(VII)のハロゲン化アミンを適切な溶媒中の適切な塩基の存在下で処理することで式(IV)のエナミンを得て、
式中、X=Cl、F、Br、Iであり、
(c)式(IV)のエナミンを式(II)のラセミのアミノスルホンに還元剤及び適切な溶媒の存在下で変換し、
(d)任意で式(II)のラセミのアミノスルホンを精製し、
(e)式(II)のラセミのアミノスルホンを式(I)のアプレミラストに変換し、
(f)任意で式(I)のアプレミラストを精製することを含む。
工程(a)〜(d)の試薬、溶媒及び反応条件は、本発明の第8の実施形態の工程(a)〜(d)で記載したような1種以上の適切な試薬、溶媒及び工程条件から選択し得る。
本発明で得られた式(II)のラセミのアミノスルホンは、当該分野で公知の方法により式(I)のアプレミラストに変換し得る。本発明で得られる中間体は、次の工程で単離又は直接使用し得る。
第10の実施形態において、本願は、式(VII):
(式中、X=Cl、F、Br、I)
の新規な化合物を提供する。
本発明は、アプレミラスト又はその中間体を調製するための式(VII)の新規な化合物の使用を更に含む。
第11の実施形態において、本願は、式(I)のアプレミラスト又はその立体異性体の調製方法を提供し、この方法は、
(a)式(V)の1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミンのキラル酸塩又は式(Va)のキラルアミノスルホンを式(VI)のN−(1,3−ジオキソ−1,3−ジヒドロ−イソベンゾフラン−4−イル)−アセトアミドとケトン溶媒と極性溶媒との混合物の存在下で接触させることで式(I)のアプレミラストを得て、
(b)任意で式(I)のアプレミラストを精製することを含む。
工程(a)で使用し得る適切なケトン溶媒には、以下に限定するものではないが、アセトン、ジアルキルケトン、例えばエチルメチルケトン、メチルイソブチルケトン等又はこれらの混合物が含まれる。
工程(a)で使用し得る適切な極性溶媒には、以下に限定するものではないが、酸、例えば酢酸、ギ酸等;エーテル、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等;ニトリル、例えばアセトニトリル、プロピオニトリル等;エステル、例えばエチルアセテート、イソプロピルアセテート等;アルコール、例えばメタノール、エタノール等;アミド、例えばジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等;ジメチルスルホキシド、水又はこれらの混合物が含まれる。
ある実施形態において、上記の工程におけるケトン対極性溶媒比は、25:1v/v、好ましくは約20:1v/vである。
工程(a)で使用し得る適切なキラル酸には、以下に限定するものではないが、10−カンファースルホン酸、ショウノウ酸、アルファ−ブロモショウノウ酸、メトキシ酢酸、酒石酸、ジアセチル酒石酸、ジトルオイル酒石酸、ジベンゾイル酒石酸、マンデル酸、乳酸、イブプロフェン、リンゴ酸、ピロリドン−5−カルボン酸、ナプロキセン、3−(2−アミノ−2−オキソエチル)−5−メチルヘキサン酸等の個々の鏡像異性体が含まれる。
式(I)の化合物の単離及び精製を伴う工程(b)は、望むならば、任意の適切な分離又は精製手順、例えば濾過、遠心分離、抽出、酸/塩基処理、結晶化、慣用の単離及び純化手段、例えば濃縮、減圧下での濃縮、溶媒抽出、結晶化、相移動クロマトグラフィ、カラムクロマトグラフィ又はこれらの手順の組み合わせで達成できる。
上記の工程を行い得る温度は、特定の工程で使用する溶媒又は溶媒混合物に基づいて、約0〜約100℃、好ましくは約25〜約100℃である。
特定の実施形態において、式(Va)の遊離塩基はアミノスルホン中間体であり、文献で公知の方法に従って又は式(Vb)の1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミンのキラル酸塩を塩基で中和してラセミのアミノスルホンを得ることで調製する。
第12の実施形態において、本願は式(I)のアプレミラスト又はその立体異性体の結晶形態Bの調製方法を提供し、この方法は、
(a)式(V)の1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミンのキラル酸塩又は式(Va)のキラルアミノスルホンを式(VI)のN−(1,3−ジオキソ−1,3−ジヒドロ−イソベンゾフラン−4−イル)−アセトアミドとケトン溶媒と極性溶媒との混合物の存在下で接触させることで式(I)のアプレミラストを得て、
(b)任意でアプレミラストを単離及び精製し、
(c)工程(b)で得られたアプレミラストをアプレミラストの結晶形態Bに変換し、
(d)任意でアプレミラストの結晶形態Bを単離及び精製することを含む。
工程(a)の試薬、溶媒及び反応条件は、本発明の第11の実施形態の工程で記載したような1種以上の適切な試薬、溶媒及び工程条件から選択し得る。
本発明の工程(b)で得られた結晶形態は任意の単一の結晶形態又は当該分野で公知のアプレミラストの1種以上の結晶形態を含有する混合物になり得る。
工程(b)及び(d)の単離は、望むならば、任意の適切な分離方法、例えば沈澱、濾過、遠心分離、抽出、酸/塩基処理、慣用の単離及び純化手段、例えば濃縮、減圧下での濃縮又はこれらの手順の組み合わせで達成できる。
上記の工程を行い得る温度は、特定の工程で使用する溶媒又は溶媒混合物に基づいて、約0〜約100℃、好ましくは約25〜約100℃である。
本発明の工程(b)で得られたアプレミラストは任意の公知の乾燥方法で乾燥させ得る及び/又は公知の精製技法により更に精製し得る。
ある実施形態において、アプレミラストの結晶形態Bは、本発明の工程(c)において種結晶として添加し得る。種結晶の使用量は約0.5〜約50質量%になり得て、好ましくは種結晶の量は投入材料の約0.5質量%になり得る。
実施形態の1つにおいては、本発明の工程(c)で得られた反応塊を異なる温度範囲で適切な時間にわたって撹拌し得る。特には、本発明の工程(c)で得られた反応塊は約70〜95℃で約2〜4時間、続いて約40〜65℃で約10〜20時間にわたって、更には約25〜35℃で約10〜30時間にわたって撹拌し得る。撹拌温度及び時間は、工程(b)で得られたアプレミラストのアプレミラストの結晶形態Bへの変換に基づいて変化し得る。
本発明の態様の1つにおいて、工程(b)で得られたアプレミラストは結晶形態A又は結晶形態Aとアプレミラストの他の公知の多形形態との混合物になり得て、好ましくは、多形変換はX線回折分析によりモニタし得る。
第13の実施形態において、本願はアプレミラストの非晶質形態の調製方法を提供し、この方法は、
(a)適切な溶媒又はその混合物中にアプレミラストを溶解させ、
(b)任意で工程(a)の溶液を加熱し、
(c)貧溶媒としての水をアプレミラストの溶液に添加し又はアプレミラストの溶液を水に添加し、
(d)固形物を単離し、
(e)任意で生成物を適切な温度で乾燥させることを含む。
アプレミラストを溶解させるための工程(a)の適切な溶媒には、以下に限定するものではないが、ジメチルホルムアミド;ジメチルアセトアミド;ジメチルスルホキシド;ニトリル、例えばアセトニトリル、プロピオニトリル等;ケトン、例えばアセトン、エチルメチルケトン、メチルイソブチルケトン;エーテル、例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン;エステル、例えばエチルアセテート、イソプロピルアセテート;ハロゲン化炭化水素、例えばクロロホルム、ジクロロメタン;アルコール、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール;及びこれらの混合物が含まれる。
ある実施形態においては、本発明の工程(a)で使用した溶媒に基づいて、貧溶媒としての水を本発明の工程(a)又は(b)で得られた反応溶液に滴加し得る又は1回で添加し得る。任意で、工程(a)又は工程(b)で得られた溶液を水に添加し得る。
上記の工程を行い得る温度は、特定の工程で使用する溶媒又は溶媒混合物に基づいて、約20〜約100℃である。
工程(d)の単離は、望むならば、任意の適切な分離方法、例えば沈澱、濾過、遠心分離、抽出、酸/塩基処理、慣用の単離及び純化手段、例えば濃縮、減圧下での濃縮又はこれらの手順の組み合わせで達成できる。
本発明の実施形態における乾燥は、適切には、エアトレイドライヤー、真空トレイドライヤー、流動層乾燥機、スピンフラッシュドライヤー、フラッシュドライヤー等のいずれを使用しても行い得る。乾燥は大気圧以上又は減圧下、具体的には約80℃未満、より具体的には約60℃未満の温度で行い得る。乾燥は、所望の生成物の質を得るのに必要な任意の時間にわたって行い得て、例えば約30分〜約24時間、あるいはそれより長い。
本発明の第13の実施形態で得られる非晶質のアプレミラストは実質的に結晶ピークを有さない。ある実施形態において、本発明で得られるアプレミラストの非晶質形態は約5質量%未満の結晶質アプレミラストを有し得て、特に、アプレミラストの非晶質形態は約1質量%未満の結晶質アプレミラストを含有し得る。
ガラス−液体転移又はガラス転移温度は、非晶質の物質における硬く比較的砕けやすい状態から溶融した又はゴム様の状態への可逆的な転移である。ガラス転移温度(Tg)は常に、その物質の結晶状態(もし存在するならば)の溶融温度(Tm)より低い。本発明の非晶質のアプレミラストのガラス転移温度は76.03〜78.83℃の範囲である。
本発明で得られる非晶質物質は、異なる相対湿度率の異なる温度条件での加湿実験に供する。特定の実施例においては、加湿実験を、本発明の非晶質のアプレミラストに、約30℃、相対湿度それぞれ60%及び90%で行った。本発明で得られた非晶質アプレミラストは純粋で非吸湿性であり、約24時間にわたってこれらの湿度条件で安定である。
上記の発明のいずれでも得られる式(I)のアプレミラストを任意で、当該分野で公知の手順を取り入れて微粉砕、研削又は篩分け技法に供することで、必要とされる粒径にし得る。
第14の実施形態において、本発明はアプレミラストのデスオキソ不純物を提供し、この不純物は不純物Mと称され、以下の構造を有する。
アプレミラストのデスオキソ不純物(不純物M)は、2つのアプレミラスト単位がキラルアミノスルホキシド鎖のメチル炭素上のメチレン橋で結合されていることを示す。この不純物の生成は、式(VIII)の2,2’−(プロパン−1,3−ジイルジスルホニル)ビス(1−(3−エトキシ−4−メトキシフェニル)エタン−1−アミン)の式(VI)のN−(1,3−ジオキソ−1,3−ジヒドロイソベンゾフラン−4−イル)アセトアミドとのMIBK溶媒中の酢酸の存在下での環化縮合を介して起き得る。アプレミラストのデスオキソ不純物(不純物M)の生成につながるジアミン。アプレミラストの不純物Mは1H−NMR、13C−NMR、IR及び質量スペクトル並びに他の関連する2D NMR分析により特徴づけられる。
本発明は、実質的に不純物Mを有さないアプレミラスト(I)を提供する。本発明は更に、HPLCでの面積率で0.01〜約0.15%質量/質量の不純物Mを有するアプレミラスト(I)を提供する。別の実施形態において、本発明は、HPLCの面積率で0.01〜約0.15%質量/質量の不純物Mを有するアプレミラスト(I)を含む医薬組成物を提供する。
具体的には、実施形態の1つにおいて、本明細書に記載の本発明のいずれでも得られるアプレミラスト(I)は、HPLCの面積率で0.1%質量/質量未満の不純物Mを有する。
第15の実施形態において、本願は、本願の方法に従って調製した式(I)のアプレミラストを1種以上の医薬的に許容可能な賦形剤、担体及び希釈剤と共に含む医薬組成物を提供する。
本発明の方法は、取扱いが簡単で、環境に優しく、要求された純度でもってより高い収率をもたらし、また工業規模で実践することもできる。
定義
以下の定義は、文脈に反さない限り、本発明との関連で用いる。
本明細書における用語「非晶質形態」とは、当業者に公知の任意の非晶質の固形物状態のことである。例えば、非晶質の固形物は結晶質の固形物で見られる三次元の長距離秩序を欠くが、近距離秩序は幾つかの分子寸法にわたって存在し得る。三次元の長距離秩序を欠くことから、非晶質の固形物は結晶質の固形物のように構造的にX線を回折しない。従って、X線粉末回折実験では、輪郭のはっきりしたピークの代わりにブロードで拡散したハローが観察される[Journal of Pharmaceutical Sciences,Vol.93,no.1,January 2004,p3]。
本明細書における「その対応する不純物の1種以上を実質的に有さない」とは、別段の定めがない限り、質量で約2%未満又は約1%未満又は約0.5%未満又は約0.3%未満又は約0.2%未満又は約0.1%未満又は約0.05%未満又は約0.03%未満又は約0.01%未満の個々の不純物を含有する化合物のことである。
本発明の特定の具体的な態様及び実施形態について、以下の実施例を参照しながらより詳細に説明していく。実施例は例示を目的としたものにすぎず、本発明の範囲をなんらかの形で限定すると解釈されるべきではない。
実施例1:1−(3−エトキシ−4−メトキシフェニル)−2−(メチルスルホニル)エテン−1−アミン(IV)の調製:
ジメチルスルホン(53.1g、564ミリモル)をテトラヒドロフラン(1000ml)とジメチルスルホキシド(50ml)との混合物に添加し、室温で5〜10分間にわたって撹拌した。ナトリウムアミド(22.02g、564ミリモル)をゆっくりと40℃の反応混合物に添加し、10〜15分間にわたって撹拌した。テトラヒドロフラン(200ml)中の3−エトキシ−4−メトキシベンゾニトリル(50g、282ミリモル)を反応混合物に30分かけて添加し、3時間にわたって室温で撹拌した。反応混合物を減圧下、40〜45℃で蒸留した。水(750ml)を反応塊に添加し、35〜40℃で30分間にわたって撹拌した。固形物を濾別し、水(150ml)で洗浄し、減圧下、45〜50℃で乾燥させるとタイトル化合物が得られた。
収率:63.7g(83%)
実施例2:1−(3−エトキシ−4−メトキシフェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミン(II)の調製
1−(3−エトキシ−4−メトキシフェニル)−2−(メチルスルホニル)エテン−1−アミン(IV)(5g、18.43ミリモル)をメタノール(25ml)に添加し、5℃まで冷却した。メタノール性塩酸(10%、5ml)を反応混合物に添加した。シアノ水素化ホウ素ナトリウム(1.7g、63.85ミリモル)を反応混合物に添加し、5℃で3時間にわたって維持した。メタノールを35℃で蒸留した。水(5ml)を室温の反応混合物に添加し、pHを5℃の10%水酸化ナトリウム溶液(8ml)で12〜13に調節した。反応混合物を5℃で3時間にわたって撹拌した。固形物を濾別し、水(5ml)で洗浄し、減圧下、50〜55℃で乾燥させるとタイトル化合物が得られた。
収率:2.7g(53.68%)
実施例3:1−(3−エトキシ−4−メトキシフェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミン(II)の調製
1−(3−エトキシ−4−メトキシフェニル)−2−(メチルスルホニル)エテン−1−アミン(IV)(5g、18.43ミリモル)を室温のメタノール(125ml)に添加した。クエン酸(7g、36.4ミリモル)を反応混合物に添加した。シアノ水素化ホウ素ナトリウム(1.7g、63.85ミリモル)を5℃の反応混合物に添加し、1時間にわたって維持した。メタノールを35℃で蒸留した。水(50ml)を室温の反応混合物に添加し、pHを5℃の20%水酸化ナトリウム溶液(15ml)で12〜13に調節した。反応混合物を5℃で3時間にわたって撹拌した。固形物を濾別し、水(15ml)で洗浄し、減圧下、50〜55℃で乾燥させるとタイトル化合物が得られた。
収率:4.4g(88%)
実施例4:1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミン(II)の調製
ジメチルスルホン(0.639g、0.067ミリモル)をジメチルスルホキシド(10ml)に添加し、室温で5〜10分間にわたって撹拌した。カリウムtert−ブトキシド(1.89g、0.169ミリモル)をゆっくりと30℃の反応混合物に添加し、3時間にわたって撹拌した。テトラヒドロフラン(2ml)中の3−エトキシ−4−メトキシベンゾニトリル(1.0g、0.056ミリモル)を反応混合物に30分かけて添加し、3時間にわたって室温で撹拌した。水素化ホウ素ナトリウム(0.213g、0.056ミリモル)を30℃の反応混合物に添加し、1時間にわたって維持した。塩化アンモニウム(10ml)を反応混合物に添加し、エチルアセテート(20ml)で抽出した。エチルアセテート層を水(10ml)で洗浄した。エチルアセテート層を30℃で蒸留すると粗化合物が得られた。この粗化合物をメチルtert−ブチルエーテルで洗浄するとタイトル化合物が淡黄色の固形物として得られた。
収率:750mg(50%)
実施例5:(−)−ジベンゾイル−L−酒石酸を使用した1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミン(II)の分割
1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミン(II)(95g、348ミリモル)及び(2R,3R)−2,3−ビス(ベンゾイルオキシ)コハク酸(91g、243ミリモル)を水(1805ml)及び酢酸(332.5ml)に添加し、室温で撹拌した。反応温度をゆっくりと97℃まで上昇させ、3時間にわたって維持した。反応塊を室温まで冷却し、固形物を分離した。固形物を濾別し、水(100ml)で洗浄した。固形物を70℃で10時間にわたって乾燥させると1−(3−エトキシ−4−メトキシフェニル)−2−(メチルスルホニル)エチルアミンの(−)−ジベンゾイル−L−酒石酸塩が得られた。
収率:78.3g(35.6%)
キラル純度:98.10%
実施例6:(2R,3R)−2,3−ビス((4−メチルベンゾイル)オキシ)コハク酸を使用した1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミン(II)の分割
1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミン(II)(20g、73.2ミリモル)及び(2R,3R)−2,3−ビス(ベンゾイルオキシ)コハク酸一水和物(28.3g、73.2ミリモル)をジメチルホルムアミド(20ml)及びメタノール(200ml)に添加し、室温で撹拌した。反応温度をゆっくりと65℃まで上昇させ、2時間にわたって維持した。反応塊を室温まで冷却した。分離した固形物を真空下、30℃で濾別し、メタノール(10ml)で洗浄した。固形物をメタノール(200ml)及びジメチルホルムアミド(40)に入れ、65℃まで加熱した。反応混合物を65℃で2時間にわたって維持し、室温まで冷却した。固形物を真空下、30℃で濾別し、メタノール(10ml)で洗浄し、70℃で2時間にわたって乾燥させた。固形物をメタノール(168ml)及びジメチルホルムアミド(72ml)に入れ、65℃まで加熱した。反応混合物を65℃で2時間にわたって維持し、室温まで冷却した。固形物を真空下、30℃で濾別し、メタノール(10ml)で洗浄し、70℃で2時間にわたって乾燥させると1−(3−エトキシ−4−メトキシフェニル)−2−(メチルスルホニル)−エチルアミンの(2R,3R)−2,3−ビス((4−メチルベンゾイル)オキシ)コハク酸塩が得られた。
収率:48.3g(12.4%)
キラル純度:91.02%
実施例7:式(Va)の(S)−1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミンの調製
1−(3−エトキシ−4−メトキシフェニル)−2−(メチルスルホニル)エチルアミンの(−)−ジベンゾイル−L−酒石酸塩(15g、0.079モル)を水(150ml)に添加し、室温で撹拌した。10%水酸化ナトリウム水溶液(25ml)を反応混合物に添加し、室温で撹拌した。トルエン(150ml)を反応混合物に添加し、3時間にわたって室温で撹拌した。層を分離し、ジクロロメタン(75ml)を水層に添加し、30分間にわたって室温で撹拌した。有機層を分離し、真空下、50℃未満で蒸留するとタイトル化合物が生成物として得られた。
収率:6.5g
実施例8:式(Va)の(S)−1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミンの調製
水酸化ナトリウム(7g、0.175モル)を室温の水(110ml)に添加し、0〜5℃まで冷却した。1−(3−エトキシ−4−メトキシフェニル)−2−(メチルスルホニル)エチルアミンの(−)−ジベンゾイル−L−酒石酸塩(50g、0.079モル)を反応混合物に添加し、0〜5℃で2時間にわたって撹拌した。反応混合物を濾別し、湿潤した固形物を水(50ml)で洗浄した。固形物を炉内で60〜75℃で乾燥させるとタイトル化合物が得られた。
収率:18.5g
実施例9:1−(3−エトキシ−4−メトキシフェニル)−2−(メチルスルホニル)エテン−1−アミン(IV)の調製
式(Vb)の(R)−1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミン(1.40g、5.12ミリモル、82.9%ee)を室温のジクロロメタン(60mL)に溶解させた。水(15mL)を反応混合物に添加し、溶液のpHは7.6であった。NaDCC(707mg、2.76ミリモル)を25℃の反応混合物に添加し、混合物のpHを8.5まで上昇させた。混合物を力強く45分間にわたって25℃で撹拌した。有機層を水(30mL)で洗浄し、水相を分離した。DBU(825μL、5.52ミリモル)を有機層に添加し、1時間にわたって室温で撹拌した。反応混合物を水(10mL)及びブライン(10mL)で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、乾燥するまで蒸発させるとタイトル化合物が黄色の固形物として得られた。
収率:1.38g(99%).
実施例10:1−(3−エトキシ−4−メトキシフェニル)−2−(メチルスルホニル)エテン−1−アミン(IV)の調製
20%N−Ac−ロイシンを含有する式(Vb)の(R)−1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミン(1.56g、5.06ミリモル、82.9%ee)を室温のジクロロメタン(60mL)に溶解させた。水(15mL)を添加し、溶液のpHを1M水酸化ナトリウムで9.5に調節した。NaDCC(712mg、2.76ミリモル)を反応混合物に添加し、pHを8.9まで低下させた。混合物を力強く45分間にわたって25℃で撹拌した。水(30mL)を反応混合物に添加し、層を分離した。DBU(825μL、5.52ミリモル)を有機層に添加し、1時間にわたって室温で撹拌した。反応混合物を水(10mL)及びブライン(10mL)で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、乾燥するまで蒸発させるとタイトル化合物が黄色の固形物として得られた。
収率:1.40g(>99%)
実施例11:1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミン(II)
式(IV)のエナミン(503mg、1.85ミリモル)をテトラヒドロフラン(3mL)とメタノール(10mL)との混合物に溶解させた。クエン酸(889mg、4.62ミリモル)を反応混合物に添加し、30℃で15分間にわたって撹拌し、次に0℃まで冷却した。水素化ホウ素ナトリウム(142mg、3.75ミリモル)を反応混合物に少しずつ0℃で添加し、温度を5℃未満に維持した。混合物は添加の終了が近づくにつれて濁り、1時間にわたって0℃で撹拌した。水(10mL)を反応混合物に添加し、水層をエチルアセテート(20mL)で洗浄した。pH3〜4を有する水溶液を分離し、0℃まで冷却し、pH11〜12まで5M水酸化カリウムを使用して塩基性化した。30分間にわたる0℃での撹拌で白色の固形物が沈澱した。この白色の固形物を濾別し、水(15mL)で洗浄し、真空下で乾燥させるとタイトル化合物が得られた。
収率:255mg(50%)
実施例12:アプレミラスト(I)の調製
N−(1,3−ジオキソ−1,3−ジヒドロイソベンゾフラン−4−イル)アセトアミド(1.705g、8.31ミリモル)及び1−(3−エトキシ−4−メトキシフェニル)−2−(メチルスルホニル)エチルアミンの(−)−ジベンゾイル−L−酒石酸塩(5g、7.92ミリモル)を酢酸(50ml)に添加し、室温で撹拌した。反応温度をゆっくりと95℃まで上昇させ、15時間にわたって維持した。反応混合物を減圧下、60〜65℃で30分間にわたって蒸留した。エチルアセテート(50ml)及び飽和バイカーボネート溶液(30ml)を反応塊に添加し、35〜40℃で2時間にわたって撹拌した。固形物を真空下、30℃で濾別し、水(5ml)で洗浄した。エタノール(30ml)及びアセトン(15ml)を固形物に添加し、55℃まで加熱し、2時間にわたって維持した。固形物を真空下、30℃で濾別し、65℃で5時間にわたって乾燥させるとアプレミラストが生成物として得られた。
実施例13:アプレミラスト(I)の調製
N−(1,3−ジオキソ−1,3−ジヒドロイソベンゾフラン−4−イル)アセトアミド(5g、7.92ミリモル)及び1−(3−エトキシ−4−メトキシフェニル)−2−(メチルスルホニル)エチルアミンの(−)−ジベンゾイル−L−酒石酸塩(1.70g、8.31ミリモル)をジメチルホルムアミド(25ml)に添加し、室温で撹拌した。反応温度をゆっくりと95℃まで上昇させ、8時間にわたって維持した。水(50ml)及びエチルアセテート(20ml)を室温の反応塊に添加し、15分間にわたって撹拌した。固形物を濾別し、ヘキサン(20ml)中でスラリー化した。固形物を濾別し、65℃で30分間にわたって乾燥させるとアプレミラストが生成物として得られた。
収率:2.8g(77%)
実施例14:アプレミラスト(I)の調製
(S)−1−(3−エトキシ−4−メトキシフェニル)−2−(メチルスルホニル)エチルアミン(6.5g、0.023モル)をトルエン(120ml)に添加し、室温で撹拌した。酢酸(30ml)及びN−アセチルフタル酸無水物(5.12g、0.024モル)を室温の反応混合物に添加した。反応混合物の温度を100〜105℃まで上昇させ、8〜10時間にわたって維持した。溶媒を60℃未満、真空下で蒸留し、反応混合物を室温まで冷却した。メチルエチルケトン(150ml)を室温の反応混合物に添加した。反応混合物の温度を50〜60℃まで上昇させ、10%重炭酸ナトリウム溶液(150ml)、続いて水(50ml)を添加した。層を分離し、有機層をその最初の体積の4分の1まで真空下で蒸留し、0〜5℃まで冷却した。反応混合物を0〜5℃で1〜2時間にわたって維持した。固形物を濾別し、メチルエチルケトン(15ml)で洗浄し、炉内で乾燥させるとアプレミラストが生成物として得られた。
収率:8.5g
実施例15:アプレミラスト(I)の調製
(S)−1−(3−エトキシ−4−メトキシフェニル)−2−(メチルスルホニル)エチルアミン(5g、0.018モル)をメチルエチルケトン(50ml)に添加し、室温で撹拌した。反応混合物を還流させることで水を共沸条件下で除去した。酢酸(10ml)及びN−アセチルフタル酸無水物(3.94g、0.019モル)を室温の反応混合物に添加した。反応混合物の温度を80〜85℃まで上昇させ、8〜10時間にわたって維持した。反応混合物を60℃まで冷却し、10%重炭酸ナトリウム溶液(150ml)を50〜60℃の反応混合物に添加した。層を分離し、有機層を真空下で最小体積まで蒸留し、反応塊を0〜5℃まで冷却した。反応混合物を0〜5℃で2時間にわたって維持した。固形物を濾別し、メチルエチルケトン(5ml)で洗浄し、炉内で乾燥させるとアプレミラストが生成物として得られた。
収率:6g
実施例16:アプレミラスト(I)の調製
(S)−1−(3−エトキシ−4−メトキシフェニル)−2−(メチルスルホニル)エチルアミン(4g、0.014モル)をメチルエチルケトン(40ml)に添加し、室温で撹拌した。酢酸(8ml)及びN−アセチルフタル酸無水物(3.15g、0.015モル)を室温の反応混合物に添加した。反応混合物の温度を100〜105℃まで上昇させ、6〜10時間にわたって維持した。水(40ml)を25〜30℃の反応混合物に添加し、反応混合物を50〜60℃で15分間にわたって撹拌した。層を分離し、10%重炭酸ナトリウム溶液(32ml)を50〜60℃の有機層に添加した。層を分離し、10%塩化ナトリウム溶液(32ml)を有機層に添加した。有機層を分離し、真空下で最小体積まで蒸留し、反応塊を0〜5℃まで冷却した。反応混合物を0〜5℃で2時間にわたって維持した。固形物を濾別し、メチルエチルケトン(8ml)で洗浄し、炉内で乾燥させるとアプレミラストが生成物として得られた。
収率:4.8g
実施例17:アプレミラスト(I)の調製
酢酸(20ml)をメチルイソブチルケトン中の(S)−1−(3−エトキシ−4−メトキシフェニル)−2−(メチルスルホニル)エチルアミン(10g、36.6モル)の混合物(60ml)に添加し、室温で撹拌した。N−(1,3−ジオキソ−1,3−ジヒドロイソベンゾフラン−4−イル)アセトアミド(7.88g、38.4モル)を反応混合物に添加し、96℃まで加熱し、30時間にわたって維持した。水(80ml)を室温の反応混合物に添加した。有機層を分離し、水(40ml)及び10%重炭酸ナトリウム溶液(40ml)で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥させた。有機層を95℃まで加熱し、30分間にわたって維持した。反応混合物を55℃まで加熱し、アプレミラストの種結晶を添加した。反応混合物を45℃で8時間、続いて25℃で5時間にわたって撹拌しながら維持した。固形物を濾別し、メチルイソブチルケトン(20ml)で洗浄し、真空下、62℃で12時間にわたって乾燥させるとタイトル化合物が生成物として得られた。収率:12.6g
実施例18:アプレミラスト(1)の調製
ジメチルスルホキシド(2.5ml)を、メチルイソブチルケトン(50ml)中の(S)−1−(3−エトキシ−4−メトキシフェニル)−2−(メチルスルホニル)エチルアミン(5g、18.29モル)の混合物に添加し、室温で撹拌した。N−(1,3−ジオキソ−1,3−ジヒドロイソベンゾフラン−4−イル)アセトアミド(3.94g、19.21モル)を反応混合物に添加し、96℃まで加熱し、15時間にわたって維持した。水(50ml)を室温の反応混合物に添加した。有機層を分離し、水(20ml)及び10%重炭酸ナトリウム溶液(20ml)で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥させた。反応混合物を25℃まで撹拌し、アプレミラストの種結晶を添加した。反応混合物を撹拌し、25℃で6時間にわたって維持した。固形物を濾別し、メチルイソブチルケトン(10ml)で洗浄し、真空下、62℃で4時間にわたって乾燥させるとタイトル化合物が生成物として得られた。
収率:6.3g
実施例19:アプレミラストの結晶形態Bの調製
アプレミラスト(100g、0.217モル)をメチルイソブチルケトン(900ml)に添加し、30〜35℃で撹拌した。反応混合物を90〜95℃まで加熱し、1〜2時間にわたって撹拌した。反応塊を75℃まで冷却し、ミクロンフィルタで濾別し、メチルイソブチルケトン(100ml)で洗浄した。合わせた濾液を90〜95℃まで加熱した。反応塊を40〜45℃まで冷却し、アプレミラストの形態Bの種結晶を添加した。反応塊を40〜45℃で6〜7時間、更に30〜35℃で14〜16時間にわたって維持した。反応塊をブフナー漏斗上で30〜35℃で濾別し、メチルイソブチルケトン(50ml)で洗浄した。得られた固形物を真空下、75〜85℃で8〜9時間にわたって乾燥させるとタイトル化合物が得られた。
収率:30g
実施例20:非晶質アプレミラストの調製
アプレミラスト(5g)を45℃のメタノール(150mL)に溶解させた。透明な溶液を0〜5℃の水(250mL)に滴加した。固形物を濾別し、水(200ml)で洗浄し、40℃、真空下で約6〜8時間にわたって乾燥させるとタイトル化合物が得られた。
実施例21:非晶質アプレミラストの調製
アプレミラスト(5g)を28℃のジメチルスルホキシド(25mL)に溶解させた。透明な溶液を0〜5℃の水(80mL)に滴加した。固形物を濾別し、水(20ml)で洗浄し、40℃、真空下で約6〜8時間にわたって乾燥させるとタイトル化合物が得られた。
実施例22:非晶質アプレミラストの調製
アプレミラスト(5g)を50℃のアセトニトリル(25mL)に溶解させた。透明な溶液を0〜5℃の水(50mL)に滴加した。固形物を濾別し、25〜30℃、真空下で約5〜6時間にわたって乾燥させるとタイトル化合物が得られた。
実施例23:非晶質アプレミラストの調製
アプレミラスト(5g)を28℃のメタノール(8ml)とジメチルスルホキシド(10mL)との混合物に溶解させた。透明な溶液を0〜5℃の水(100mL)に滴加した。固形物を濾別し、25〜30℃、真空下で約12時間にわたって乾燥させるとタイトル化合物が得られた。
実施例24:非晶質アプレミラストの調製
アプレミラスト(1g)を50℃のアセトン(15mL)に溶解させた。透明な溶液を0〜5℃の水(50mL)に滴加した。固形物を濾別し、25〜30℃、真空下で約5〜6時間にわたって乾燥させるとタイトル化合物が得られた。
実施例25:非晶質アプレミラストの調製
アプレミラスト(1g)を50℃のアセトン(15mL)に溶解させた。事前に冷却した水(50mL)を0〜5℃のアプレミラスト混合物に添加した。固形物を濾別し、25〜30℃、真空下で約5〜6時間にわたって乾燥させるとタイトル化合物が得られた。
実施例26:非晶質アプレミラストの加湿
非晶質アプレミラスト(1g)を30℃、相対湿度60%の加湿チャンバで20時間にわたって維持し、非晶質形態がそのまま保持されることがX線ディフラクトグラムで判明した。
実施例27:非晶質アプレミラストの加湿
非晶質アプレミラスト(1g)を30℃、相対湿度90%の加湿チャンバで20時間にわたって維持し、非晶質形態がそのまま保持されることがX線ディフラクトグラムで判明した。
実施例28:アプレミラストのデスオキソ不純物(不純物M)の調製方法
プラントバッチの1つの母液からの溶媒の蒸留後に得られた式(II)のラセミのアミノスルホン(150g)、N−(1,3−ジオキソ−1,3−ジヒドロイソベンゾフラン−4−イル)アセトアミド(113g)、メチルイソブチルケトン(300mL)及び酢酸(700mL)を丸底フラスコに装入し、室温で撹拌した。混合物を98〜100℃まで加熱し、3時間にわたって維持した。反応塊からの溶媒を真空下、60℃未満で蒸発させた。ジクロロメタン(300mL)、水(200mL)を室温の反応塊に装入し、10分間にわたって撹拌した。有機層を分離し、水(2X200mL)で洗浄した。合わせた有機層を真空下で蒸留した。メチルイソブチルケトン(750mL)を残留物に添加し、15時間にわたって室温で維持した。固形物を濾別し、メチルイソブチルケトン(100mL)で洗浄し、真空下、85℃で10〜12時間にわたって乾燥させた。乾燥させた化合物をシリカゲルに吸着させ、フラッシュカラムクロマトグラフィに供し、必要とされる画分を回収することで不純物を分離した。
1H NMR(400MHz、CDCl3)δ(ppm):1.45(s、6H)、9.4(2NH)、8.75(d、2H)、7.65(t、2H)7.48(d、2H)、5.85(m、2H)、4.6&3.65(m、4H)、4.1(4H)、7.15(d、4H)、6.8(d、2H)、3.8(6H)、3.15(t、4H)、2.4(m、2H)、2.25(s、6H)
質量スペクトルデータ:m/Z=931(M−1)及びm/Z=955(Na付加物)

Claims (24)

  1. 式(II):
    のアミノスルホン又はその立体異性体及びその医薬的に許容可能な塩の調製方法であって、
    (a)式(III)のベンゾニトリルをジメチルスルホンと適切な溶媒中の塩基の存在下で反応して、式(IVa)の化合物を得、続いてその変換により式(IV)のエナミンを得る工程、
    (式中、M=Na、K)、
    (b)式(IV)のエナミンを適切な溶媒の存在下で還元して、式(II)のアミノスルホンを得る工程、
    (c)任意で式(II)のアミノスルホンを精製する工程、
    を含むことを特徴とする方法。
  2. 工程(a)で使用する塩基が、ナトリウムアミド、カリウムアミド、ナトリウムのC1−C20アルコキシド、カリウムのC1−C20アルコキシド、マグネシウムのC1−C20アルコキシド、水素化ナトリウム及び水素化カリウムから選択される、請求項1に記載の方法。
  3. 工程(b)を、酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、4−(トリフルオロメチル)安息香酸、p−トルエンスルホン酸、塩酸、硝酸、硫酸、リン酸、クエン酸、酒石酸及びベンゼンスルホン酸から選択される酸の存在下で行う、請求項1に記載の方法。
  4. 式(Va):
    又はその立体異性体の調製方法であって、
    (a)式(II)のラセミの1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミンをキラル酸と適切な溶媒の存在下で反応して、式(V)の1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミンのキラル酸塩を生成する工程、
    (b)任意で式(V)のアミノスルホンのキラル酸塩を単離及び精製する工程、
    (c)式(V)のアミノスルホンのキラル酸塩を適切な溶媒中の塩基で処理して、式(Va)のキラルアミノスルホンを生成する工程、
    (d)任意で式(Va)のキラルアミノスルホンを単離及び精製する工程、
    を含むことを特徴とする方法。
  5. 工程(a)で使用するキラル酸が、10−カンファースルホン酸、ショウノウ酸、メトキシ酢酸、酒石酸、ジアセチル酒石酸、ジ−トルオイル酒石酸、ジベンゾイル酒石酸、マンデル酸、マンデル酸の誘導体、例えばアセチルマンデル酸、プロピルマンデル酸、乳酸、イブプロフェン、リンゴ酸、ピロリドン−5−カルボン酸及びナプロキセンの個々の鏡像異性体から選択される、請求項4に記載の方法。
  6. 工程(c)で使用する塩基が、ピリジン、ピペリジン、ピリミジン、トリエチルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、1,1,3,3−テトラメチルグアニジン、DBU、DABCO、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム;金属バイカーボネート、例えば重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウム;金属水酸化物、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム及び水酸化カルシウムから選択される、請求項4に記載の方法。
  7. 式(I):
    のアプレミラスト又はその立体異性体の調製方法であって、
    (a)式(II)の1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミンをキラル酸と適切な溶媒の存在下で接触させて、式(V)の1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミンのキラル酸塩を生成する工程、
    (b)任意で式(V)のアミノスルホンのキラル酸塩を単離及び精製する工程、
    (c)任意で式(V)のアミノスルホンのキラル酸塩を塩基で処理して、式(Va)のキラルアミノスルホンを生成する工程、
    (d)式(V)の1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミンのキラル酸塩又は式(Va)のキラルアミノスルホンを式(VI)のN−(1,3−ジオキソ−1,3−ジヒドロ−イソベンゾフラン−4−イル)−アセトアミドと適切な溶媒の存在下で接触させることで式(I)のアプレミラストを得る工程、
    (e)任意で式(I)のアプレミラストを精製する工程、
    を含むことを特徴とする方法。
  8. 工程(d)で使用する溶媒が、エーテル、ケトン溶媒、芳香族炭化水素溶媒、ニトリル溶媒、アルコール溶媒、エステル溶媒、アミド溶媒、酸溶媒、水及びこれらの混合物から選択される、請求項7に記載の方法。
  9. 式(I):
    のアプレミラスト又はその立体異性体の調製方法であって、
    (a)式(III)のベンゾニトリルをジメチルスルホンと適切な溶媒中の塩基の存在下で反応させて、式(IVa)の化合物を得、続いてその変換により式(IV)のエナミンを得る工程、
    (式中、M=Na、K)、
    (b)式(IV)のエナミンを適切な溶媒の存在下で還元して、式(II)のアミノスルホンを得る工程、
    (c)任意で式(II)のアミノスルホンを精製する工程、
    (d)式(II)の1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミンをキラル酸と適切な溶媒の存在下で接触させて、式(V)の1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミンのキラル酸塩を生成する工程、
    (e)任意で式(V)のアミノスルホンのキラル酸塩を単離及び精製する工程、
    (f)任意で式(V)のアミノスルホンのキラル酸塩を塩基で処理して、式(Va)のキラルアミノスルホンを生成する工程、
    (g)式(V)の1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミンのキラル酸塩又は式(Va)のキラルアミノスルホンを式(VI)のN−(1,3−ジオキソ−1,3−ジヒドロ−イソベンゾフラン−4−イル)−アセトアミドと適切な溶媒の存在下で接触させて、式(I)のアプレミラストを得る工程、
    (h)任意で式(I)のアプレミラストを精製する工程、
    を含むことを特徴とする方法。
  10. 約5.97、17.81、19.85及び26.07±0.2度2θにピークを有するその粉末X線回折(PXRD)パターンを特徴とする式(Va)のキラルアミノスルホンの結晶形態。
  11. 約11.88、15.88、21.96及び26.72±0.2に位置する2θピークを更に含む、請求項10に記載の式(Va)のキラルアミノスルホンの結晶形態。
  12. 約12.10、20.72及び22.18±0.2に位置する2θピークを更に含む、請求項10及び11に記載の式(Va)のキラルアミノスルホンの結晶形態。
  13. 式(II):
    のラセミのアミノスルホン及びその医薬的に許容可能な塩の調製方法であって、
    (a)式(Vb)の(R)−1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミン及びその医薬的に許容可能な塩をハロゲン化試薬と適切な溶媒の存在下で反応させて、式(VII)のハロゲン化アミンを得る工程、
    (式中、X=Cl、F、Br、I)、
    (b)式(VII)のハロゲン化アミンを適切な溶媒中の適切な塩基の存在下で処理して、式(IV)のエナミンを得る工程、
    (式中、X=Cl、F、Br、I)、
    (c)式(IV)の前記エナミンを式(II)のラセミのアミノスルホンに還元剤及び適切な溶媒の存在下で変換する工程、
    (d)任意で式(II)のラセミのアミノスルホンを精製する工程、
    を含むことを特徴とする方法。
  14. 工程(a)で使用するハロゲン化試薬が、ナトリウムジクロロイソシアヌレート(NaDCC)、トリクロロイソシアヌル酸、N,N’−ジクロロビス(2,4,6−トリクロロフェニル)ウレア、N−クロロスクシンイミド、N−ブロモスクシンイミド、次亜塩素酸ナトリウム及び次亜臭素酸ナトリウムから選択される、請求項13に記載の方法。
  15. 工程(c)で使用する還元剤が、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム及びジ−イソブチルアルミニウムヒドリドから選択される、請求項13に記載の方法。
  16. 式(VII):
    (式中、X=Cl、F、Br、I)
    の新規な化合物。
  17. 式(I)のアプレミラスト又はその立体異性体の調製方法であって、
    (a)式(V)の1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミンのキラル酸塩又は式(Va)のキラルアミノスルホンを式(VI)のN−(1,3−ジオキソ−1,3−ジヒドロ−イソベンゾフラン−4−イル)−アセトアミドとケトン溶媒と極性溶媒との混合物の存在下で接触させて、式(I)のアプレミラストを得る工程、
    (b)任意で式(I)のアプレミラストを精製する工程、
    を含むことを特徴とする方法。
  18. 工程(a)で使用するケトン溶媒が、アセトン、ジアルキルケトン、エチルメチルケトン、メチルイソブチルケトン及びこれらの混合物から選択される、請求項17に記載の方法。
  19. 工程(a)で使用する極性溶媒が、酸溶媒、エーテル、ニトリル、エステル、アルコール、アミド、水及びこれらの混合物から選択される、請求項17に記載の方法。
  20. 式(I)のアプレミラスト又はその立体異性体の結晶形態Bの調製方法であって、
    (a)式(V)の1−(3−エトキシ−4−メトキシ−フェニル)−2−メタンスルホニル−エチルアミンのキラル酸塩又は式(Va)のキラルアミノスルホンを式(VI)のN−(1,3−ジオキソ−1,3−ジヒドロ−イソベンゾフラン−4−イル)−アセトアミドとケトン溶媒と極性溶媒との混合物の存在下で接触させて、式(I)のアプレミラストを得る工程、
    (b)任意でアプレミラストを単離及び精製する工程、
    (c)前記工程(b)で得られたアプレミラストをアプレミラストの結晶形態Bに変換する工程、
    (d)任意でアプレミラストの結晶形態Bを単離及び精製する工程、
    を含むことを特徴とする方法。
  21. アプレミラストの非晶質形態の調製方法であって、
    (a)アプレミラストを適切な溶媒又はその混合物に溶解させる工程、
    (b)任意で前記工程(a)の溶液を加熱する工程、
    (c)貧溶媒としての水を前記アプレミラストの溶液に添加し又は前記アプレミラストの溶液を水に添加する工程、
    (d)固形物を単離する工程、
    (e)任意で前記生成物を適切な温度で乾燥させる工程、
    を含むことを特徴とする方法。
  22. 前記工程(a)で使用する溶媒が、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ニトリル、ケトン、エーテル、エステル、ハロゲン化炭化水素、アルコール及びこれらの混合物から選択される、請求項21に記載の方法。
  23. アプレミラストのデスオキソ不純物(不純物M)の化合物。
  24. 実質的にデスオキソ不純物(不純物M)を有さない式(I)のアプレミラスト。
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