JP4525745B2 - プロジェクタ、プロジェクションシステム及びプロジェクタにおける画素値生成方法 - Google Patents

Description

本発明は、プロジェクタ、プロジェクションシステム及びプロジェクタにおける画素値生成方法に関する。

従来、２つのプロジェクタを用いて同一画像を１つのスクリーン（投写面）にスタック投写する方法が知られている（例えば、特許文献１参照。）。このような方法によれば、スタック投写された画像光は輝度がほぼ２倍となり、高輝度の投写画像を実現することが可能となる。また、２つのプロジェクタからの画像光を半画素分ずらすようにして投写することにより、高精細な投写画像を実現することが可能となる。

しかしながら、上記のようにスタック投写する場合、２つのプロジェクタからの画像光をスクリーン上で正しく重畳させることは容易ではない。２つのプロジェクタからの画像光が正しく重畳されないと、投写画像の画像品質が低下する。

このような問題を解決することが可能な従来のプロジェクタとして、照明手段からの光を第１偏光成分を有する光と第２偏光成分を有する光とに分離して２つの画像形成手段に向けて射出する偏光分離光学系と、２つの画像形成手段からの画像光を合成する偏光合成光学系とを備えるプロジェクタが提案されている（例えば、特許文献２参照。）。

従来のプロジェクタによれば、照明手段からの光を第１偏光成分を有する光と第２偏光成分を有する光とに分離して、各画像形成手段で画像光を形成した後、２つの画像光を偏光合成光学系で合成して当該合成光を１つの投写光学系でスクリーンに投写することとしているため、２つの画像形成手段を出荷前に正しく位置合わせしておけば、２つの画像形成手段からの画像光をスクリーン上で正しく重畳させることが可能となる。その結果、投写画像の画像品質の低下を抑制することが可能となる。

特開平５−１０７６３９号公報 特開平１−１２６６７８号公報

しかしながら、近年、極めて高精細な超高画素プロジェクタ（例えば、２Ｋ×４Ｋ（２０００画素×４０００画素）、４Ｋ×８Ｋ（４０００画素×８０００画素）の超高画素のプロジェクタ）が要望されており、このような超高画素プロジェクタを実現しようとすると、各光学要素における若干の精度不足（光変調素子（例えば、液晶パネル。）や周辺光学要素（例えば、偏光板、視野角補償板など。）における若干の面内不均一性、投写光学系における若干の光学歪や色収差、投写光学系に対する光変調素子の位置・姿勢に関する若干の精度不足など。）に起因して、画像形成手段から射出される光が投写面に正しく投写されない場合（例えば、どのように位置調整しても２つの画像形成手段からの画像光が投写面上で完全には重畳しない場合、投写面上で特定領域の画素のみが位置ずれを起こす場合など。）があるという問題があることが判明した。このような問題があると、プロジェクタの画像品質が低下する。なお、このような問題は超高画素のプロジェクタのみならず通常の高画素のプロジェクタ（例えば、１０８０画素×１９２０画素、７２０画素×１２８０画素などのプロジェクタ。）においても生じ得る問題である。

そこで、本発明は、このような問題を解決するためになされたもので、高画素のプロジェクタにおいても画像品質の低下を抑制することが可能なプロジェクタを提供することを目的とする。また、高画素のプロジェクタを用いた場合においても画像品質の低下を抑制することが可能なプロジェクションシステムを提供することを目的とする。さらにまた、そのようなプロジェクタを実現するための、プロジェクタにおける画素値生成方法を提供することを目的とする。

本発明のプロジェクタは、照明手段と、前記照明手段からの光を変調する光変調素子を有する第１光学ユニットを有し、前記第１光学ユニットを用いて第１画像光を射出する第１画像形成手段と、前記照明手段からの光を変調する光変調素子を有する第２光学ユニットを有し、前記第２光学ユニットを用いて第２画像光を射出する第２画像形成手段と、前記第１画像形成手段から射出される第１画像光と、前記第２画像形成手段から射出される第２画像光とを合成する偏光合成光学系と、前記偏光合成光学系で合成された画像光を投写する投写光学系と、投写面における前記光変調素子の投写位置を光学的に調整する投写位置調整手段と、前記投写位置調整手段で投写位置が調整された前記光変調素子が有する各画素からの光の投写位置に基づいて、当該各画素における画素値を生成する画素値生成手段とを備えることを特徴とする。

このため、本発明のプロジェクタによれば、投写面における光変調素子の投写位置を光学的に調整するための投写位置調整手段を備えるため、第１画像形成手段からの第１画像光と第２画像形成手段からの第２画像光とを投写面上でほぼ正しく重畳することが可能となる。さらには、投写位置調整手段で投写位置が調整された光変調素子が有する各画素からの光の投写位置に基づいて、当該各画素における画素値を生成する画素値生成手段を備えるため、各光学要素における若干の精度不足が存在することに起因して各画素からの光の投写位置に位置ずれが発生したとしても、位置ずれを起こした各画素からの光の投写位置に応じて各画素毎に画素値を生成することが可能となる。その結果、本発明のプロジェクタは、高画素プロジェクタにおいても画像品質の低下を抑制することが可能なプロジェクタとなる。

本発明のプロジェクタにおいては、前記画素値生成手段は、投写面において複数の仮想画素を含む仮想画面を定義したときに、前記光変調素子が有する各画素からの光が前記複数の仮想画素のうちどの仮想画素にどのくらいの割合で投写されるかに関する画素投写位置情報に基づいて、前記各画素における画素値を生成することが好ましい。

ところで、本発明のプロジェクタにおいては、各光変調素子における各画素からの光は、投写面における複数の仮想画素のうち１の仮想画素（の領域内）に丁度収まるように投写されるとは限られず、複数の仮想画素のうち２以上の仮想画素にわたって投写されることもあると考えられる。
しかしながら、上記のように構成することにより、そのような場合であっても、各光変調素子における各画素について適切な画素値を生成することが可能となる。

本発明のプロジェクタにおいては、前記プロジェクタは、投写面において複数の仮想画素を含む仮想画面を定義したときに、前記光変調素子が有する各画素からの光が前記複数の仮想画素のうちどの仮想画素にどのくらいの割合で投写されるかに関する画素投写位置情報を生成する画素投写位置情報生成機能と、前記画素投写位置情報生成機能によって生成された画素投写位置情報に基づいて画素値生成パラメータを生成するパラメータ生成機能とを備えることが好ましい。

このように構成することにより、プロジェクタの上記機能によって画素値生成パラメータを生成した後は、画素値生成手段は、当該画素値生成パラメータを用いて各画素における画素値を生成することが可能となる。

本発明のプロジェクタにおいては、前記画素投写位置情報に基づいて生成された画素値生成パラメータを記憶するパラメータ記憶部をさらに備え、前記画素値生成手段は、前記パラメータ記憶部が記憶する画素値生成パラメータを用いて、前記各画素における画素値を生成することが好ましい。

このように構成することにより、一旦、画素投写位置情報に基づいて画素値生成パラメータを生成した後は、画素値生成手段は、パラメータ記憶部が記憶する画素値生成パラメータを用いて、各画素における画素値を生成することが可能となる。

本発明のプロジェクタにおいては、前記割合は、面積割合であることが好ましい。

このように構成することにより、各光変調素子における各画素について適切な画素値を生成することが可能となる。

本発明のプロジェクタにおいては、前記割合は、光量割合であることが好ましい。

このように構成することによっても、各光変調素子における各画素について適切な画素値を生成することが可能となる。

本発明のプロジェクタにおいては、前記第１画像形成手段における前記光変調素子及び前記第２画像形成手段における前記光変調素子のそれぞれについて、各画素からの光の投写位置を撮影する撮像素子をさらに備えることが好ましい。

このように構成することにより、画素値生成手段は、撮像素子による撮影結果に基づいて、各画素における画素値を生成することが可能となる。

本発明のプロジェクタにおいては、前記第１画像形成手段は、前記照明手段からの光を３つの色光に分離する色分離光学系と、前記色分離光学系で分離された３つの色光をそれぞれ変調する前記光変調素子としての３つの光変調素子及び前記３つの光変調素子で変調される色光を合成する色合成光学系からなる前記第１光学ユニットとを有し、前記第２画像形成手段は、前記照明手段からの光を３つの色光に分離する色分離光学系と、前記色分離光学系で分離された３つの色光をそれぞれ変調する前記光変調素子としての３つの光変調素子及び前記３つの光変調素子で変調される色光を合成する色合成光学系からなる前記第２光学ユニットとを有することが好ましい。

このように構成することにより、第１画像形成手段及び第２画像形成手段がともに３板式の画像形成手段である場合にも、高画素プロジェクタにおいても画像品質の低下を抑制することが可能なプロジェクタとなる。

本発明のプロジェクタにおいては、前記投写位置調整手段は、前記第１画像形成手段における前記３つの光変調素子及び前記第２画像形成手段における前記３つの光変調素子のそれぞれを独立して６軸で位置調整する位置調整装置であることが好ましい。

このように構成することにより、第１画像形成手段からの第１画像光と第２画像形成手段からの第２画像光とを投写面上でほぼ正しく重畳することが可能となる。

本発明のプロジェクタにおいては、前記投写位置調整手段は、前記第１光学ユニット及び前記第２光学ユニットのそれぞれを独立して６軸で位置調整する位置調整装置であることが好ましい。

このように構成することによっても、第１画像形成手段からの第１画像光と第２画像形成手段からの第２画像光とを投写面上でほぼ正しく重畳することが可能となる。

本発明のプロジェクタにおいては、前記投写位置調整手段は、前記第１光学ユニットと前記偏光合成光学系との間及び前記第２光学ユニットと前記偏光合成光学系との間のうち少なくともいずれかに配置される１又は２の光シフト素子であることが好ましい。

このように構成することによっても、第１画像形成手段からの第１画像光と第２画像形成手段からの第２画像光とを投写面上でほぼ正しく重畳することが可能となる。

本発明のプロジェクタにおいては、前記照明手段からの光を第１偏光成分を含む光と第２偏光成分を含む光とに分離する偏光分離光学系、前記偏光分離光学系で分離された第１偏光成分を含む光を前記第１画像形成手段に導光する第１導光光学系及び前記偏光分離光学系で分離された第２偏光成分を含む光を前記第２画像形成手段に導光する第２導光光学系を有する偏光分離・導光光学系をさらに備えることが好ましい。

このように構成することにより、同一の照明手段からの光を用いて第１画像光と第２画像光とを生成することが可能となるため、光利用効率の高いプロジェクタとなる。

本発明のプロジェクタにおいては、前記照明手段として、第１画像形成手段に向けて光を射出する第１照明手段及び第２画像形成手段に向けて光を射出する第２照明手段を備えることを備えることが好ましい。

このように構成することにより、第１照明手段からの光を用いて第１画像光を生成し、第２照明手段からの光を用いて第２画像光を生成することが可能となるため、より高輝度のプロジェクタとなる。

本発明のプロジェクションシステムは、照明手段と、前記照明手段からの光を変調する光変調素子を有する第１光学ユニットを有し、前記第１光学ユニットを用いて第１画像光を射出する第１画像形成手段と、前記照明手段からの光を変調する光変調素子を有する第２光学ユニットを有し、前記第２光学ユニットを用いて第２画像光を射出する第２画像形成手段と、前記第１画像形成手段から射出される第１画像光と、前記第２画像形成手段から射出される第２画像光とを合成する偏光合成光学系と、前記偏光合成光学系で合成された画像光を投写する投写光学系と、投写面における前記光変調素子の投写位置を光学的に調整する投写位置調整手段と、前記投写位置調整手段で投写位置が調整された前記光変調素子が有する各画素からの光の投写位置に基づいて、当該各画素における画素値を生成する画素値生成手段とを備えるプロジェクタと、前記第１画像形成手段における前記光変調素子及び前記第２画像形成手段における前記光変調素子のそれぞれについて、各画素からの光の投写位置を撮影する撮像素子と、前記撮像素子による撮影結果に基づいて、投写面において複数の仮想画素を含む仮想画面を定義したときに、前記光変調素子が有する各画素からの光が前記複数の仮想画素のうちどの仮想画素にどのくらいの割合で投写されるかに関する画素投写位置情報を生成する画素投写位置情報生成機能と、前記画素投写位置情報生成機能によって生成された画素投写位置情報に基づいて画素値生成パラメータを生成するパラメータ生成機能とを備える電子計算機とを備え、前記画素値生成手段は、前記電子計算機によって生成された前記画素値生成パラメータを用いて、前記各画素における画素値を生成することを特徴とする。

このため、本発明のプロジェクションシステムによれば、上記の投写位置調整手段及び画素値生成手段を備えるプロジェクタと、各光変調素子における各画素の投写位置を撮影する撮像素子と、撮像素子による撮影結果に基づいて画素投写位置情報を生成する画素投写位置情報生成機能及び当該画素投写位置情報に基づいて画素値生成パラメータを生成するパラメータ生成機能を備える電子計算機とを備えるため、プロジェクタ内に配置された各光学要素における若干の精度不足が存在することに起因して各画素からの光の投写位置に位置ずれが発生したとしても、位置ずれを起こした各画素からの光の投写位置に応じて各画素毎に画素値を生成することが可能となる。その結果、本発明のプロジェクションシステムは、高画素プロジェクタを用いた場合においても画像品質の低下を抑制することが可能なプロジェクションシステムとなる。

本発明のプロジェクションシステムにおいては、前記プロジェクタは、前記電子計算機によって生成された画素値生成パラメータを記憶するパラメータ記憶部をさらに備え、前記画素値生成手段は、前記パラメータ記憶部が記憶する画素値生成パラメータを用いて、前記各画素における画素値を生成することが好ましい。

このように構成することにより、一旦、画素投写位置情報に基づいて画素値生成パラメータを生成した後は、画素値生成手段は、パラメータ記憶部が記憶する画素値生成パラメータを用いて、各画素における画素値を生成することが可能となる。

本発明のプロジェクタにおける画素値生成方法は、照明手段と、前記照明手段からの光を変調する光変調素子を有する第１光学ユニットを有し、前記第１光学ユニットを用いて変調された第１画像光を射出する第１画像形成手段と、前記照明手段からの光を変調する光変調素子を有する第２光学ユニットを有し、前記第２光学ユニットを用いて変調された第２画像光を射出する第２画像形成手段と、前記第１画像形成手段から射出される第１画像光と、前記第２画像形成手段から射出される第２画像光とを合成する偏光合成光学系と、前記偏光合成光学系で合成された画像光を投写する投写光学系と、投写面における前記光変調素子の投写位置を光学的に調整する投写位置調整手段と、前記投写位置調整手段で投写位置が調整された前記光変調素子が有する各画素からの光の投写位置に基づいて、当該各画素における画素値を生成する画素値生成手段とを備えるプロジェクタにおける画素値生成方法であって、撮像素子を用いて、前記第１画像形成手段における前記光変調素子及び前記第２画像形成手段における前記光変調素子のそれぞれについて、各画素からの光の投写位置を撮影する第１ステップと、前記撮像素子による撮影結果に基づいて、前記画素値生成手段が各画素における画素値を生成する第２ステップとをこの順序で含むことを特徴とする。

このため、本発明のプロジェクタにおける画素値生成方法によれば、投写位置調整手段を用いて、第１画像形成手段からの第１画像光と第２画像形成手段からの第２画像光とが投写面上でほぼ正しく重畳された状態で、撮像素子を用いて各光変調素子における各画素の投写位置を撮影することにより第１ステップを実行し、さらには、そのようにして撮影された各光変調素子における各画素からの光の投写位置に基づいて、当該各画素における画素値を生成することにより第２ステップを実行することとしているため、各光学要素における若干の精度不足が存在することに起因して各画素からの光の投写位置に位置ずれが発生したとしても、位置ずれを起こした各画素からの光の投写位置に応じて各画素毎に画素値を生成することが可能となる。その結果、本発明のプロジェクタにおける画素値生成方法は、高画素プロジェクタにおいても画像品質の低下を抑制することが可能な、プロジェクタにおける画素値生成方法となる。

本発明のプロジェクタにおける画素値生成方法においては、前記第２ステップにおいては、前記画素値生成手段は、投写面において複数の仮想画素を含む仮想画面を定義したときに、前記光変調素子が有する各画素からの光が前記複数の仮想画素のうちどの仮想画素にどのくらいの割合で投写されるかに関する画素投写位置情報に基づいて、前記各画素における画素値を生成することが好ましい。

このような方法とすることにより、各光変調素子における各画素について適切な画素値を生成することが可能となる。

本発明のプロジェクタにおける画素値生成方法においては、前記第２ステップは、前記撮像素子による撮影結果に基づいて、投写面において複数の仮想画素を含む仮想画面を定義したときに、前記光変調素子が有する各画素からの光が前記複数の仮想画素のうちどの仮想画素にどのくらいの割合で投写されるかに関する画素投写位置情報を生成する画素投写位置情報生成ステップと、前記画素投写位置情報生成ステップを行うことによって生成された前記画素投写位置情報に基づいて画素値生成パラメータを生成するパラメータ生成ステップとを含むことが好ましい。

このような方法とすることにより、画素値生成手段は、上記した画素投写位置情報生成ステップ及びパラメータ生成ステップを実行することによって得られる画素値生成パラメータを用いて、各画素における画素値を生成することが可能となる。

以下、本発明のプロジェクタ、プロジェクションシステム及びプロジェクタにおける画素値生成方法について、図に示す実施の形態に基づいて説明する。

［実施形態１］
図１及び図２は、実施形態１に係るプロジェクションシステム１及びプロジェクタ１０を説明するために示す図である。

実施形態１に係るプロジェクションシステム１は、図１及び図２に示すように、プロジェクタ１０と、撮像素子５００と、電子計算機としてのＰＣ６００とを備える、いわゆるリア投写型のプロジェクションシステムである。

１．プロジェクタ１０の基本構成
実施形態１に係るプロジェクタ１０は、例えば、２Ｋ×４Ｋ（２０００行×４０００列）のリア型の超高画素プロジェクタであり、図１に示すように、照明手段１００と、照明手段１００からの光を変調して第１画像光として射出する第１画像形成手段１１００と、照明手段１００からの光を変調して第２画像光として射出する第２画像形成手段２１００と、第１画像形成手段１１００から射出される第１画像光と、第２画像形成手段２１００から射出される第２画像光とを合成する偏光合成光学系としての偏光合成プリズム３００と、偏光合成プリズム３００で合成された画像光を投写する投写光学系４００とを備える。

照明手段１００は、被照明領域側に照明光束を射出する光源装置１１０と、光源装置１１０から射出される照明光束を複数の部分光束に分割するための第１小レンズを有する第１レンズアレイ１２０と、第１レンズアレイ１２０の複数の第１小レンズに対応する複数の第２小レンズを有する第２レンズアレイ１３０と、第２レンズアレイ１３０から射出される各部分光束を被照明領域で重畳させるための重畳レンズ１５０とを有する。

光源装置１１０は、楕円面リフレクタ１１４と、楕円面リフレクタ１１４の第１焦点近傍に発光中心を有する発光管１１２と、発光管１１２から被照明領域側に向けて射出される光を発光管１１２に向けて反射する副鏡１１６と、楕円面リフレクタ１１４からの集束光を略平行光として射出する凹レンズ１１８とを有する。

照明手段１００の後段には、照明手段１００からの光を第１偏光成分を含む光（例えばｐ偏光）と第２偏光成分を含む光（例えばｓ偏光）とに分離する偏光分離光学系としての偏光分離ミラー２００、偏光分離ミラー２００で分離された第１偏光成分を含む光を第１画像形成手段１１００に導光する第１導光光学系及び偏光分離ミラー２００で分離された第２偏光成分を含む光を第２画像形成手段２１００に導光する第２導光光学系を有する偏光分離・導光光学系が配設されている。

第１画像形成手段１１００は、照明手段１００からの光（第１偏光成分を含む光）を３つの色光に分離する色分離光学系１２００と、色分離光学系１２００で分離された３つの色光をそれぞれ変調する３つの光変調素子としての液晶パネル１３００Ｒ，１３００Ｇ，１３００Ｂ及び当該３つの液晶パネル１３００Ｒ，１３００Ｇ，１３００Ｂで変調される色光を合成する色合成光学系としてのクロスダイクロイックプリズム１４００からなる第１光学ユニット１５００（図示せず。）とを有する。

色分離光学系１２００は、ダイクロイックミラー１２１０，１２２０と、両面反射ミラー１２３０とを有する。色分離光学系１２００は、重畳レンズ１５０から射出される照明光束を、赤色光、緑色光及び青色光の３つの色光に分離して、赤色光及び緑色光については液晶パネル１３００Ｒ，１３００Ｇに、青色光についてはリレー光学系１２４０に導く機能を有する。

ダイクロイックミラー１２１０で反射された赤色光成分の光は、両面反射ミラー１２３０により曲折され、赤色光用の液晶パネル１３００Ｒの画像形成領域に入射する。ダイクロイックミラー１２１０を通過した緑色光成分及び青色光成分の光のうち緑色光成分の光は、ダイクロイックミラー１２２０で反射され、緑色光用の液晶パネル１３００Ｇの画像形成領域に入射する。一方、青色光成分の光は、ダイクロイックミラー１２２０を透過してリレー光学系１２４０に入射する。

リレー光学系１２４０は、入射側レンズ１２７０と、入射側の反射ミラー１２５０と、リレーレンズ１２８０と、射出側の反射ミラー１２６０とを有し、ダイクロイックミラー１２２０を透過した青色光成分の光を液晶パネル１３００Ｂまで導く機能を有する。リレー光学系１２４０に入射した青色光成分の光は、入射側レンズ１２７０を通過して反射ミラー１２５０で曲折され、リレーレンズ１２８０によりリレーされた後、反射ミラー１２６０で曲折されて、青色光用の液晶パネル１３００Ｂの画像形成領域に入射する。

第２画像形成手段２１００は、照明手段１００からの光（第２偏光成分を含む光）を３つの色光に分離する色分離光学系２２００と、色分離光学系２２００で分離された３つの色光をそれぞれ変調する３つの光変調素子としての液晶パネル２３００Ｒ，２３００Ｇ，２３００Ｂ及び当該３つの液晶パネル２３００Ｒ，２３００Ｇ，２３００Ｂで変調される色光を合成する色合成光学系としてのクロスダイクロイックプリズム２４００からなる第２光学ユニット２５００（図示せず。）とを有する。

色分離光学系２２００及びリレー光学系２２４０の詳細については、第１画像形成手段２１００の場合と同様であるため、説明を省略する。

２．投写位置調整手段
実施形態１に係るプロジェクタ１０は、投写面としてのスクリーンＳＣＲにおける液晶パネル１３００Ｒ，１３００Ｇ，１３００Ｂ，２３００Ｒ，２３００Ｇ，２３００Ｂの投写位置を光学的に調整する投写位置調整手段として、第１画像形成手段１１００における３つの液晶パネル１３００Ｒ，１３００Ｇ，１３００Ｂ及び第２画像形成手段２１００における３つの液晶パネル２３００Ｒ，２３００Ｇ，２３００Ｂのそれぞれを独立して６軸で位置調整する６つの位置調整装置（図示せず。）をさらに備える。

図３は、位置調整装置を説明するために示す図である。図３（ａ）〜図３（ｉ）においては、位置調整装置が液晶パネル１３００Ｒについて位置調整する場合を示している。その他の液晶パネル１３００Ｇ，１３００Ｂ，２３００Ｒ，２３００Ｇ，２３００Ｂについて位置調整する場合も同様である。

当該位置調整装置は、液晶パネル１３００Ｒの位置及び姿勢を６軸で位置調整する機能を有する。具体的には、図３に示すように、光軸Ｌａｘに垂直でかつ互いに垂直な２軸に沿って液晶パネル１３００Ｒを微動させることが可能であり（図３（ａ）及び図３（ｂ）参照。）、光軸Ｌａｘに沿って液晶パネル１３００Ｒを微動させることが可能であり（図３（ｃ）参照。）、光軸Ｌａｘに垂直でかつ互いに垂直な２軸の周りに液晶パネル１３００Ｒを微小回転させることが可能であり（図３（ｄ）及び図３（ｅ）参照。）、光軸Ｌａｘの周りに液晶パネル１３００Ｒを微小回転させることが可能である（図３（ｆ）参照。）。

なお、当該位置調整装置が液晶パネル１３００Ｒの姿勢を位置調整する際には、光軸Ｌａｘに垂直でかつ互いに垂直ではあるが光軸Ｌａｘとは交わらない２軸の周りに液晶パネル１３００Ｒを微小回転させてもよいし（図３（ｇ）及び図３（ｈ）参照。）、光軸Ｌａｘと平行ではあるが光軸Ｌａｘには一致しない軸の周りに液晶パネル１３００Ｒを微小回転させてもよい（図３（ｉ）参照。）。

３．画素値生成手段
図４は、スクリーンＳＣＲにおける仮想画素を説明するために示す図である。図４（ａ）はスクリーンＳＣＲにおける仮想画面Ｉｗを説明するために示す図であり、図４（ｂ）は図４（ａ）の符号Ａで示す部分の拡大図である。

実施形態１に係るプロジェクタ１０は、各液晶パネル（液晶パネル１３００Ｒ，１３００Ｇ，１３００Ｂ，２３００Ｒ，２３００Ｇ，２３００Ｂ）が有する各画素からの光の各画素の投写位置に基づいて、当該各画素における画素値を生成する画素値生成手段としての表示情報処理部７１０をさらに備える。

表示情報処理部７１０は、後述するＰＣ６００における画素投写位置情報生成機能及びパラメータ生成機能によって生成された画素値生成パラメータを用いて、各画素における画素値を生成する機能を有する。

撮像素子５００は、第１画像形成手段１１００における３つの液晶パネル１３００Ｒ，１３００Ｇ，１３００Ｂ及び第２画像形成手段２１００における３つの液晶パネル２３００Ｒ，２３００Ｇ，２３００Ｂのそれぞれについて、各画素からの光の投写位置を撮影する。

ＰＣ６００は、撮像素子５００による撮影結果に基づいて、スクリーンＳＣＲにおいて複数の仮想画素を含む仮想画面Ｉｗ（図４参照。）を定義したときに、各液晶パネル（液晶パネル１３００Ｒ，１３００Ｇ，１３００Ｂ，２３００Ｒ，２３００Ｇ，２３００Ｂ）が有する各画素からの光が、複数の仮想画素のうちどの仮想画素にどのくらいの面積割合で投写されるかに関する画素投写位置情報を生成する画素投写位置情報生成機能と、当該画素投写位置情報生成機能によって生成された画素投写位置情報に基づいて画素値生成パラメータを生成するパラメータ生成機能とを少なくとも備える。

実施形態１に係るプロジェクタにおける画素値生成方法は、上述のプロジェクタ１０における画素値生成方法であって、次に示す第１ステップと第２ステップとが順次実施される。以下、これら各ステップを順次説明する。

（第１ステップ）
第１ステップは、撮像素子５００を用いて、第１画像形成手段１１００における３つの液晶パネル１３００Ｒ，１３００Ｇ，１３００Ｂ及び第２画像形成手段２１００における液晶パネル２３００Ｒ，２３００Ｇ，２３００Ｂのそれぞれについて、各画素からの光の投写位置を撮影するステップである。
具体的に説明すると、プロジェクタ１０からテストパターン（例えば、各色毎の縞模様、格子模様、ドット模様など。）をスクリーンＳＣＲに向けて投写し、スクリーンＳＣＲに投写されたテストパターンを撮像素子５００で撮影する。

（第２ステップ）
第２ステップは、撮像素子５００による撮影結果に基づいて、画素値生成手段としての表示情報処理部７１０が各画素における画素値を生成するステップである。また、第２ステップは、次に示す画素投写位置情報生成ステップと、パラメータ生成ステップとを含んでいる。

（画素投写位置情報生成ステップ）
画素投写位置情報生成ステップは、撮像素子５００による撮影結果に基づいて、各液晶パネル（液晶パネル１３００Ｒ，１３００Ｇ，１３００Ｂ，２３００Ｒ，２３００Ｇ，２３００Ｂ）が有する各画素からの光が、複数の仮想画素のうちどの仮想画素にどのくらいの面積割合で投写されるかに関する画素投写位置情報を生成するステップである。実施形態１においては、ＰＣ６００が、撮像素子５００による撮影結果に基づいて画素投写位置情報を生成する。

（パラメータ生成ステップ）
パラメータ生成ステップは、画素投写位置情報生成ステップを行うことによって生成された画素投写位置情報に基づいて画素値生成パラメータを生成するステップである。実施形態１においては、ＰＣ６００が、画素投写位置情報に基づいて画素値生成パラメータを生成する。

ＰＣ６００によって生成された画素値生成パラメータは、プロジェクタ１０に送られ、図２に示す表示情報入力部７００及び表示情報処理部７１０を介して、パラメータ記憶部７３０に格納される。

実施形態１に係るプロジェクタ１０を用いて画像表示を行うときには、表示させたい画像信号が表示情報入力部７００に入力されると、当該画像信号を、表示情報処理部７１０を介してデータ記憶部７２０に画像データとして一旦バッファする。その後、表示情報処理部７１０は、パラメータ記憶部７３０が記憶している画素値生成パラメータを用いて、各画素における画素値を生成する。

第２ステップの後、生成された画素値に基づいて、データ記憶部７２０にバッファされている画像データにおける画素値の書き換えを行って補正済み画像データとして、補正済み画像データを各表示駆動部１３１０Ｒ，１３１０Ｇ，１３１０Ｂ，２３１０Ｒ，２３１０Ｇ，２３１０Ｂに出力する。各液晶パネル１３００Ｒ，１３００Ｇ，１３００Ｂ，２３００Ｒ，２３００Ｇ，２３００Ｂにおいては、これらの補正済み画像データに応じて変調が行われる。

実施形態１に係るプロジェクタ１０からの投写画像（投写光学系４００からの画像光）はスクリーンＳＣＲに投写される。スクリーンＳＣＲには、図４に示すように、仮想画面Ｉｗが定義されており、仮想画面Ｉｗには、各仮想画素ＨＰがマトリクス状（２０００行×４０００列）に配置されている（図４においては、４００行目かつ８００列目の仮想画素ＨＰ_{４００，８００}のみ図示する。）。

従って、例えば、各液晶パネル１３００Ｒ，１３００Ｇ，１３００Ｂ，２３００Ｒ，２３００Ｇ，２３００Ｂにおける所定の画素（例えば、上から４００行目かつ左から８００列目の画素（画素Ｐ_{Ｒ（１）４００，８００}、画素Ｐ_{Ｇ（１）４００，８００}、画素Ｐ_{Ｂ（１）４００，８００}、画素Ｐ_{Ｒ（２）４００，８００}、画素Ｐ_{Ｇ（２）４００，８００}、画素Ｐ_{Ｂ（２）４００，８００}））は、仮想画面Ｉｗにおける仮想画素ＨＰ_{４００，８００}の位置に投写されることが望ましい。しかしながら、実施形態１に係るプロジェクタ１０においては、各光学要素における若干の精度不足に起因して、これらの画素は、仮想画面Ｉｗにおける仮想画素ＨＰ_{４００，８００}以外の仮想画素の位置に投写されることもある。

しかしながら、実施形態１に係るプロジェクタ１０においては、そのような場合でも、各液晶パネル１３００Ｒ，１３００Ｇ，１３００Ｂ，２３００Ｒ，２３００Ｇ，２３００Ｂが有する各画素からの光の投写位置に基づいて、当該各画素における画素値を生成することとしている。

図５及び図６は、各画素における画素値を生成する手順を説明するために示す図である。
図５（ａ）は液晶パネル１３００Ｒの画素Ｐ_{４００，８００}からの光が投写される領域Ｐ_{Ｒ（１）４００，８００}と、仮想画面Ｉｗにおける各仮想画素との関係を示す図であり、図５（ｂ）は液晶パネル１３００Ｇの画素Ｐ_{４００，８００}からの光が投写される領域Ｐ_{Ｇ（１）４００，８００}と、仮想画面Ｉｗにおける各仮想画素との関係を示す図であり、図５（ｃ）は液晶パネル１３００Ｂの画素Ｐ_{４００，８００}からの光が投写される領域Ｐ_{Ｂ（１）４００，８００}と、仮想画面Ｉｗにおける各仮想画素との関係を示す図である。

図６（ａ）は液晶パネル２３００Ｒの画素Ｐ_{４００，８００}からの投写画素Ｐ_{Ｒ（２）４００，８００}と、仮想画面Ｉｗにおける各仮想画素との関係を示す図であり、図６（ｂ）は液晶パネル２３００Ｇの画素Ｐ_{４００，８００}からの投写画素Ｐ_{Ｇ（２）４００，８００}と、仮想画面Ｉｗにおける各仮想画素との関係を示す図であり、図６（ｃ）は液晶パネル２３００Ｂの画素Ｐ_{４００，８００}からの投写画素Ｐ_{Ｂ（２）４００，８００}と、仮想画面Ｉｗにおける各仮想画素との関係を示す図である。

表示情報処理部７１０は、図５（ａ）に示すように、液晶パネル１３００Ｒが有する画素Ｐ_{４００，８００}の画素値については、Ｄ_Ｒ１×Ｓ_{Ｒ１（１）}＋Ｄ_Ｒ２×Ｓ_{Ｒ２（１）}＋Ｄ_Ｒ３×Ｓ_{Ｒ３（１）}＋Ｄ_Ｒ４×Ｓ_{Ｒ４（１）}の計算式に従って画素値Ｄ_Ｒを生成する。
なお、Ｄ_Ｒ１、Ｄ_Ｒ２、Ｄ_Ｒ３、Ｄ_Ｒ４はそれぞれ、仮想画素ＨＰ_{３９９，８００}、仮想画素ＨＰ_{４００，８００}、仮想画素ＨＰ_{４００，８０１}、仮想画素ＨＰ_{３９９，８０１}における赤の画素値であり、Ｓ_{Ｒ１（１）}、Ｓ_{Ｒ２（１）}、Ｓ_{Ｒ３（１）}、Ｓ_{Ｒ４（１）}はそれぞれ、液晶パネル１３００Ｒが有する画素Ｐ_{４００，８００}からの光が仮想画素ＨＰ_{３９９，８００}の位置、仮想画素ＨＰ_{４００，８００}の位置、仮想画素ＨＰ_{４００，８０１}の位置、仮想画素ＨＰ_{３９９，８０１}の位置に投写される面積割合である。

また、表示情報処理部７１０は、図５（ｂ）に示すように、液晶パネル１３００Ｇが有する画素Ｐ_{４００，８００}の画素値については、Ｄ_Ｇ１×Ｓ_{Ｇ１（１）}＋Ｄ_Ｇ２×Ｓ_{Ｇ２（１）}＋Ｄ_Ｇ３×Ｓ_{Ｇ３（１）}＋Ｄ_Ｇ４×Ｓ_{Ｇ４（１）}の計算式に従って画素値Ｄ_Ｇを生成する。
なお、Ｄ_Ｇ１、Ｄ_Ｇ２、Ｄ_Ｇ３、Ｄ_Ｇ４はそれぞれ、仮想画素ＨＰ_{３９９，８００}、仮想画素ＨＰ_{４００，８００}、仮想画素ＨＰ_{４００，８０１}、仮想画素ＨＰ_{３９９，８０１}における緑の画素値であり、Ｓ_{Ｇ１（１）}、Ｓ_{Ｇ２（１）}、Ｓ_{Ｇ３（１）}、Ｓ_{Ｇ４（１）}はそれぞれ、液晶パネル１３００Ｇが有する画素Ｐ_{４００，８００}からの光が仮想画素ＨＰ_{３９９，８００}の位置、仮想画素ＨＰ_{４００，８００}の位置、仮想画素ＨＰ_{４００，８０１}の位置、仮想画素ＨＰ_{３９９，８０１}の位置に投写される面積割合である。

また、表示情報処理部７１０は、図５（ｃ）に示すように、液晶パネル１３００Ｂが有する画素Ｐ_{４００，８００}の画素値については、Ｄ_Ｂ１×Ｓ_{Ｂ１（１）}＋Ｄ_Ｂ２×Ｓ_{Ｂ２（１）}＋Ｄ_Ｂ３×Ｓ_{Ｂ３（１）}＋Ｄ_Ｂ４×Ｓ_{Ｂ４（１）}の計算式に従って画素値Ｄ_Ｂを生成する。
なお、Ｄ_Ｂ１、Ｄ_Ｂ２、Ｄ_Ｂ３、Ｄ_Ｂ４はそれぞれ、仮想画素ＨＰ_{３９９，８００}、仮想画素ＨＰ_{４００，８００}、仮想画素ＨＰ_{４００，８０１}、仮想画素ＨＰ_{３９９，８０１}における青の画素値であり、Ｓ_{Ｂ１（１）}、Ｓ_{Ｂ２（１）}、Ｓ_{Ｂ３（１）}、Ｓ_{Ｂ４（１）}はそれぞれ、液晶パネル１３００Ｂが有する画素Ｐ_{４００，８００}からの光が仮想画素ＨＰ_{３９９，８００}の位置、仮想画素ＨＰ_{４００，８００}の位置、仮想画素ＨＰ_{４００，８０１}の位置、仮想画素ＨＰ_{３９９，８０１}の位置に投写される面積割合である。

また、表示情報処理部７１０は、図６（ａ）に示すように、液晶パネル２３００Ｒが有する画素Ｐ_{４００，８００}の画素値については、Ｄ_Ｒ１×Ｓ_{Ｒ１（２）}（＝Ｄ_Ｒ１）の計算式に従って画素値Ｄ_Ｒを生成する。
なお、Ｄ_Ｒ１は、仮想画素ＨＰ_{４００，８００}における赤の画素値であり、Ｓ_{Ｒ１（２）}は、液晶パネル２３００Ｒが有する画素Ｐ_{４００，８００}からの光が仮想画素ＨＰ_{４００，８００}の位置に投写される面積割合である。

また、表示情報処理部７１０は、図６（ｂ）に示すように、液晶パネル２３００Ｇが有する画素Ｐ_{４００，８００}の画素値については、Ｄ_Ｇ１×Ｓ_{Ｇ１（２）}（＝Ｄ_Ｇ１）の計算式に従って画素値Ｄ_Ｇを生成する。
なお、Ｄ_Ｇ１は、仮想画素ＨＰ_{４００，８００}における緑の画素値であり、Ｓ_{Ｇ１（２）}は、液晶パネル２３００Ｇが有する画素Ｐ_{４００，８００}からの光が仮想画素ＨＰ_{４００，８００}の位置に投写される面積割合である。

また、表示情報処理部７１０は、図６（ｃ）に示すように、液晶パネル２３００Ｂが有する画素Ｐ_{４００，８００}の画素値については、Ｄ_Ｂ１×Ｓ_{Ｂ１（２）}＋Ｄ_Ｂ２×Ｓ_{Ｂ２（２）}＋Ｄ_Ｂ３×Ｓ_{Ｂ３（２）}＋Ｄ_Ｂ４×Ｓ_{Ｂ４（２）}の計算式に従って画素値Ｄ_Ｂを生成する。
なお、Ｄ_Ｂ１、Ｄ_Ｂ２、Ｄ_Ｂ３、Ｄ_Ｂ４はそれぞれ、仮想画素ＨＰ_{４００，８００}、仮想画素ＨＰ_{４０１，８００}、仮想画素ＨＰ_{４０１，８０１}、仮想画素ＨＰ_{４００，８０１}における青の画素値であり、Ｓ_{Ｂ１（２）}、Ｓ_{Ｂ２（２）}、Ｓ_{Ｂ３（２）}、Ｓ_{Ｂ４（２）}はそれぞれ、液晶パネル２３００Ｂが有する画素Ｐ_{４００，８００}からの光が仮想画素ＨＰ_{４００，８００}の位置、仮想画素ＨＰ_{４０１，８００}の位置、仮想画素ＨＰ_{４０１，８０１}の位置、仮想画素ＨＰ_{４００，８０１}の位置に投写される面積割合である。

以上のように構成された実施形態１に係るプロジェクタ１０によれば、スクリーンＳＣＲにおける各液晶パネル１３００Ｒ，１３００Ｇ，１３００Ｂ，２３００Ｒ，２３００Ｇ，２３００Ｂの投写位置を光学的に調整するための投写位置調整手段としての６つの位置調整装置を備えるため、第１画像形成手段１１００からの第１画像光と第２画像形成手段２１００からの第２画像光とをスクリーンＳＣＲ上でほぼ正しく重畳することが可能となる。さらには、位置調整装置で投写位置が調整された各液晶パネルが有する各画素からの光の投写位置に基づいて、当該各画素における画素値を生成する画素値生成手段としての表示情報処理部７１０を備えるため、プロジェクタ１０の各光学要素における若干の精度不足が存在することに起因して各画素からの光の投写位置に位置ずれが発生したとしても、位置ずれを起こした各画素からの光の投写位置に応じて各画素毎に画素値を生成することが可能となる。その結果、実施形態１に係るプロジェクタ１０は、高画素プロジェクタにおいても画像品質の低下を抑制することが可能なプロジェクタとなる。

また、実施形態１に係るプロジェクタ１０によれば、表示情報処理部７１０は、スクリーンＳＣＲにおいて複数の仮想画素を含む仮想画面Ｉｗを定義したときに、各液晶パネルが有する各画素からの光が複数の仮想画素のうちどの仮想画素にどのくらいの面積割合で投写されるかに関する画素投写位置情報に基づいて、各画素における画素値を生成することとしているため、各液晶パネルにおける各画素について常に適切な画素値を生成することが可能となる。

また、実施形態１に係るプロジェクタ１０によれば、画素値生成パラメータを記憶するパラメータ記憶部７３０をさらに備え、表示情報処理部７１０は、パラメータ記憶部７３０が記憶する画素値生成パラメータを用いて、各画素における画素値を生成することとしているため、一旦画素値生成パラメータを生成した後は、パラメータ記憶部７３０が記憶する画素値生成パラメータを用いて各画素における画素値を生成することが可能となる。

実施形態１に係るプロジェクタ１０においては、第１画像形成手段１１００における３つの液晶パネル１３００Ｒ，１３００Ｇ，１３００Ｂ及び第２画像形成手段２１００における３つの液晶パネル２３００Ｒ，２３００Ｇ，２３００Ｂのそれぞれを独立して６軸で位置調整する６つの位置調整装置を備えているため、第１画像形成手段１１００からの第１画像光と第２画像形成手段２１００からの第２画像光とをスクリーンＳＣＲ上でほぼ正しく重畳することが可能となる。

また、実施形態１に係るプロジェクタ１０によれば、上記した偏光分離・導光光学系をさらに備えるため、同一の照明手段からの光を用いて第１画像光と第２画像光とを生成することが可能となり、光利用効率の高いプロジェクタとなる。

実施形態１に係るプロジェクションシステム１によれば、上記した６つの位置調整装置及び表示情報処理部７１０を備えるプロジェクタ１０と、各液晶パネルにおける各画素の投写位置を撮影する撮像素子５００と、撮像素子５００による撮影結果に基づいて画素投写位置情報を生成する画素投写位置情報生成機能及び当該画素投写位置情報に基づいて画素値生成パラメータを生成するパラメータ生成機能を備えるＰＣ６００とを備えるため、プロジェクタ１０内に配置された各光学要素における若干の精度不足が存在することに起因して各画素からの光の投写位置に位置ずれが発生したとしても、位置ずれを起こした各画素からの光の投写位置に応じて各画素毎に画素値を生成することが可能となる。その結果、実施形態１に係るプロジェクションシステムは、高画素プロジェクタを用いた場合においても画像品質の低下を抑制することが可能なプロジェクションシステムとなる。

実施形態１に係るプロジェクションシステム１においては、プロジェクタ１０は、ＰＣ６００によって生成された画素値生成パラメータを記憶するパラメータ記憶部７３０をさらに備え、表示情報処理部７１０は、パラメータ記憶部７３０が記憶する画素値生成パラメータを用いて、各画素における画素値を生成することとしている。これにより、一旦、画素投写位置情報に基づいて画素値生成パラメータを生成した後は、表示情報処理部７１０は、パラメータ記憶部７３０が記憶する画素値生成パラメータを用いて、各画素における画素値を生成することが可能となる。

実施形態１に係るプロジェクタにおける画素値生成方法によれば、投写位置調整手段としての６つの位置調整装置を用いて、第１画像形成手段１１００からの第１画像光と第２画像形成手段２１００からの第２画像光とがスクリーンＳＣＲ上でほぼ正しく重畳された状態で、撮像素子５００を用いて各液晶パネルにおける各画素の投写位置を撮影することにより第１ステップを実行し、さらには、そのようにして撮影された各液晶パネルにおける各画素からの光の投写位置に基づいて、当該各画素における画素値を生成することにより第２ステップを実行することとしているため、各光学要素における若干の精度不足が存在することに起因して各画素からの光の投写位置に位置ずれが発生したとしても、位置ずれを起こした各画素からの光の投写位置に応じて各画素毎に画素値を生成することが可能となる。その結果、実施形態１に係るプロジェクタにおける画素値生成方法は、高画素プロジェクタにおいても画像品質の低下を抑制することが可能な、プロジェクタにおける画素値生成方法となる。

実施形態１に係るプロジェクタにおける画素値生成方法において、第２ステップにおいては、表示情報処理部７１０は、スクリーンＳＣＲにおいて複数の仮想画素を含む仮想画面Ｉｗを定義したときに、液晶パネルが有する各画素からの光が複数の仮想画素のうちどの仮想画素にどのくらいの面積割合で投写されるかに関する画素投写位置情報に基づいて、各画素における画素値を生成することとしている。このため、各液晶パネルにおける各画素について適切な画素値を生成することが可能となる。

実施形態１に係るプロジェクタにおける画素値生成方法においては、第２ステップは、撮像素子５００による撮影結果に基づいて画素投写位置情報を生成する画素投写位置情報生成ステップと、生成された画素投写位置情報に基づいて画素値生成パラメータを生成するパラメータ生成ステップとを含むため、表示情報処理部７１０は、画素投写位置情報生成ステップ及びパラメータ生成ステップを実行することによって得られる画素値生成パラメータを用いて、各画素における画素値を生成することが可能となる。

［実施形態２］
図７は、実施形態２に係るプロジェクタ１２を説明するために示す図である。なお、図７において、図１と同一の部材については同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。

実施形態２に係るプロジェクタ１２は、基本的には実施形態１に係るプロジェクタ１０とよく似た構成を有するが、投写位置調整手段の構成が、実施形態１に係るプロジェクタ１０の場合とは異なる。

すなわち、実施形態２に係るプロジェクタ１２においては、図７に示すように、投写位置調整手段として、第１画像形成手段１１００における第１光学ユニット１５００及び第２画像形成手段２１００における第２光学ユニット２５００のそれぞれを独立して６軸で位置調整する２つの位置調整装置を備える。

２つの位置調整装置のそれぞれは、各光学ユニット１５００，２５００の位置及び姿勢を６軸で位置調整する機能を有する。具体的には、各クロスダイクロイックプリズム１４００，２４００から射出される光の光軸に垂直でかつ互いに垂直な２軸に沿って各光学ユニット１５００，２５００を微動させることが可能であり、当該光軸に沿って各光学ユニット１５００，２５００を微動させることが可能であり、当該光軸に垂直でかつ互いに垂直な２軸の周りに各光学ユニット１５００，２５００を微小回転させることが可能であり、当該光軸の周りに各光学ユニット１５００，２５００を微小回転させることが可能である。

このように、実施形態２に係るプロジェクタ１２は、投写位置調整手段の構成が実施形態１に係るプロジェクタ１０の場合とは異なるが、実施形態１に係るプロジェクタ１０の場合と同様に、２つの位置調整装置で投写位置が調整された各液晶パネル１３００Ｒ，１３００Ｇ，１３００Ｂ，２３００Ｒ，２３００Ｇ，２３００Ｂが有する各画素からの光の投写位置に基づいて当該各画素における画素値を生成する画素値生成手段としての表示情報処理部７１０（図示せず。）をさらに備えるため、プロジェクタ１２における各光学要素における若干の精度不足が存在することに起因して各画素からの光の投写位置に位置ずれが発生したとしても、位置ずれを起こした各画素からの光の投写位置に応じて各画素毎に画素値を生成することが可能となる。その結果、実施形態２に係るプロジェクタ１２は、実施形態１に係るプロジェクタ１０と同様に、高画素プロジェクタにおいても画像品質の低下を抑制することが可能なプロジェクタとなる。

なお、実施形態２に係るプロジェクタ１２は、投写位置調整手段の構成が異なる点以外の点では、実施形態１に係るプロジェクタ１０と同様の構成を有するため、実施形態１に係るプロジェクタ１０が有する効果のうち該当する効果をそのまま有する。

［実施形態３］
図８は、実施形態３に係るプロジェクタ１４を説明するために示す図である。なお、図８において、図１と同一の部材については同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。

実施形態３に係るプロジェクタ１４は、基本的には実施形態１に係るプロジェクタ１０とよく似た構成を有するが、投写位置調整手段の構成が、実施形態１に係るプロジェクタ１０の場合とは異なる。

すなわち、実施形態３に係るプロジェクタ１４においては、図８に示すように、投写位置調整手段として、第１画像形成手段１１００における第１光学ユニット１５００と偏光合成プリズム３００との間及び第２画像形成手段２１００における第２光学ユニット２５００と偏光合成プリズム３００との間に配置される２つの光シフト素子１６００，２６００を備える。

図９は、光シフト素子を説明するために示す図である。図９においては、光シフト素子１６００を示している。光シフト素子２６００の場合も同様である。

光シフト素子１６００は、光シフト素子１６００を光軸に対して所定角度傾けることにより、光シフト素子１６００を通過する光束（及び光軸）を任意の量だけ平行にシフトさせる機能を有する。具体的には、光シフト素子１６００を光軸に対して垂直に配置した場合には、図９（ａ）に示すように、光シフト素子１６００を通過する光束（及び光軸）はシフトしないのであるが、光シフト素子１６００を光軸に対して所定角度だけ傾けて配置した場合には、図９（ｂ）及び図９（ｃ）に示すように、光シフト素子１６００を通過する光束（及び光軸）を所定量だけ平行にシフトさせることができる。

このように、実施形態３に係るプロジェクタ１４は、投写位置調整手段の構成が実施形態１に係るプロジェクタ１０の場合とは異なるが、実施形態１に係るプロジェクタ１０の場合と同様に、２つの光シフト素子１６００，２６００で投写位置が調整された各液晶パネル１３００Ｒ，１３００Ｇ，１３００Ｂ，２３００Ｒ，２３００Ｇ，２３００Ｂが有する各画素からの光の投写位置に基づいて当該各画素における画素値を生成する画素値生成手段としての表示情報処理部７１０（図示せず。）をさらに備えるため、プロジェクタ１４における各光学要素における若干の精度不足が存在することに起因して各画素からの光の投写位置に位置ずれが発生したとしても、位置ずれを起こした各画素からの光の投写位置に応じて各画素毎に画素値を生成することが可能となる。その結果、実施形態３に係るプロジェクタ１４は、実施形態１に係るプロジェクタ１０と同様に、高画素プロジェクタにおいても画像品質の低下を抑制することが可能なプロジェクタとなる。

なお、実施形態３に係るプロジェクタ１４は、投写位置調整手段の構成が異なる点以外の点では、実施形態１に係るプロジェクタ１０と同様の構成を有するため、実施形態１に係るプロジェクタ１０が有する効果のうち該当する効果をそのまま有する。

［実施形態４］
図１０は、実施形態４に係るプロジェクタ１６を説明するために示す図である。なお、図１０において、図１と同一の部材については同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。

実施形態４に係るプロジェクタ１６は、基本的には実施形態１に係るプロジェクタ１０とよく似た構成を有するが、照明手段の構成が、実施形態１に係るプロジェクタ１０の場合とは異なる。

すなわち、実施形態４に係るプロジェクタ１６においては、図１０に示すように、照明手段として、第１画像形成手段１１００に向けて光を射出する第１照明手段１０２及び第２画像形成手段２１００に向けて光を射出する第２照明手段１０４を備える。

第１照明手段１０２及び第２照明手段１０４は、実施形態１で説明した照明手段１００とよく似た構成を有するが、偏光変換素子をさらに備える点で、実施形態１で説明した照明手段１００とは異なる。

すなわち、第１照明手段１０２は、被照明領域側に照明光束を射出する光源装置１１０と、光源装置１１０から射出される照明光束を複数の部分光束に分割するための第１小レンズを有する第１レンズアレイ１１２０と、第１レンズアレイ１１２０の複数の第１小レンズに対応する複数の第２小レンズを有する第２レンズアレイ１１３０と、第２レンズアレイ１１３０から射出される各部分光束を第１偏光成分を含む光に変換して射出する偏光変換素子１１４０と、偏光変換素子１１４０から射出される各部分光束を被照明領域で重畳させるための重畳レンズ１１５０とを有する。これにより、第１照明手段１０２からは、第１偏光成分を含む光が射出される。

第２照明手段１０４は、被照明領域側に照明光束を射出する光源装置１１０と、光源装置１１０から射出される照明光束を複数の部分光束に分割するための第１小レンズを有する第１レンズアレイ２１２０と、第１レンズアレイ２１２０の複数の第１小レンズに対応する複数の第２小レンズを有する第２レンズアレイ２１３０と、第２レンズアレイ２１３０から射出される各部分光束を第２偏光成分を含む光に変換して射出する偏光変換素子２１４０と、偏光変換素子２１４０から射出される各部分光束を被照明領域で重畳させるための重畳レンズ２１５０とを有する。これにより、第２照明手段１０４からは、第２偏光成分を含む光が射出される。

第１照明手段１０２における光源装置１１０、第１レンズアレイ１１２０、第２レンズアレイ１１３０及び重畳レンズ１１５０並びに第２照明手段１０４における光源装置１１０、第１レンズアレイ２１２０、第２レンズアレイ２１３０及び重畳レンズ２１５０については、実施形態１で説明したものと同様であるため、詳細な説明は省略する。

このように、実施形態４に係るプロジェクタ１６は、照明手段の構成が実施形態１に係るプロジェクタ１０の場合とは異なるが、実施形態１に係るプロジェクタ１０の場合と同様に、６つの位置調整装置で投写位置が調整された各液晶パネル１３００Ｒ，１３００Ｇ，１３００Ｂ，２３００Ｒ，２３００Ｇ，２３００Ｂが有する各画素からの光の投写位置に基づいて当該各画素における画素値を生成する画素値生成手段としての表示情報処理部７１０（図示せず。）をさらに備えるため、プロジェクタ１６における各光学要素における若干の精度不足が存在することに起因して各画素からの光の投写位置に位置ずれが発生したとしても、位置ずれを起こした各画素からの光の投写位置に応じて各画素毎に画素値を生成することが可能となる。その結果、実施形態４に係るプロジェクタ１６は、実施形態１に係るプロジェクタ１０と同様に、高画素プロジェクタにおいても画像品質の低下を抑制することが可能なプロジェクタとなる。

また、実施形態４に係るプロジェクタ１６によれば、照明手段として、第１画像形成手段１１００に向けて光を射出する第１照明手段１０２及び第２画像形成手段２１００に向けて光を射出する第２照明手段１０４を備えるため、第１照明手段１０２からの光を用いて第１画像光を生成し、第２照明手段１０４からの光を用いて第２画像光を生成することが可能となり、より高輝度のプロジェクタとなる。

なお、実施形態４に係るプロジェクタ１６は、照明手段の構成が異なる点以外の点では、実施形態１に係るプロジェクタ１０と同様の構成を有するため、実施形態１に係るプロジェクタ１０が有する効果のうち該当する効果をそのまま有する。

［実施形態５］
図１１は、実施形態５に係るプロジェクタ１８を説明するために示す図である。なお、図１１において、図２と同一の部材については同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。

実施形態５に係るプロジェクタ１８は、基本的には実施形態１に係るプロジェクタ１０とよく似た構成を有するが、画素値生成手段の構成及び撮像素子がプロジェクタに配設されている点で、実施形態１に係るプロジェクタ１０の場合とは異なる。

すなわち、実施形態５に係るプロジェクタ１８においては、図１１に示すように、画素値生成手段としての表示情報処理部７１２は、スクリーンＳＣＲにおいて複数の仮想画素を含む仮想画面Ｉｗ（図４参照。）を定義したときに、各液晶パネルが有する各画素からの光が複数の仮想画素のうちどの仮想画素にどのくらいの面積割合で投写されるかに関する画素投写位置情報を生成する画素投写位置情報生成機能と、画素投写位置情報生成機能によって生成された画素投写位置情報に基づいて画素値生成パラメータを生成するパラメータ生成機能とを備えている。

また、実施形態５に係るプロジェクタ１８においては、第１画像形成手段１１００における３つの液晶パネル１３００Ｒ，１３００Ｇ，１３００Ｂ及び第２画像形成手段２１００における３つの液晶パネル２３００Ｒ，２３００Ｇ，２３００Ｂのそれぞれについて、各画素からの光の投写位置を撮影する撮像素子５１０をさらに備える。

実施形態５では、表示情報処理部７１２が画素投写位置情報生成機能及びパラメータ生成機能を備えているため、実施形態１で説明した画素投写位置情報生成ステップ及びパラメータ生成ステップは、プロジェクタ１８における表示情報処理部７１２が実行する。つまり、実施形態５に係るプロジェクタ１８においては、プロジェクタ１８からテストパターンをスクリーンＳＣＲに向けて投写し、スクリーンＳＣＲに投写されたテストパターンを撮像素子５１０で撮影する。そして、表示情報処理部７１２は、撮像素子５１０による撮影結果に基づいて画素投写位置情報を生成し、さらに画素投写位置情報に基づいて画素値生成パラメータを生成する。

実施形態５に係るプロジェクタ１８を用いて画像表示を行うときには、表示させたい画像信号が表示情報入力部７００に入力されると、当該画像信号を、表示情報処理部７１２を介してデータ記憶部７２０に画像データとして一旦バッファする。その後、表示情報処理部７１２は、パラメータ記憶部７３０が記憶している画素値生成パラメータを用いて、各画素における画素値を生成する。

このように、実施形態５に係るプロジェクタ１８は、画素値生成手段の構成及び撮像素子がプロジェクタに配設されている点で実施形態１に係るプロジェクタ１０の場合とは異なるが、実施形態１に係るプロジェクタ１０の場合と同様に、６つの位置調整装置で投写位置が調整された各液晶パネル１３００Ｒ，１３００Ｇ，１３００Ｂ，２３００Ｒ，２３００Ｇ，２３００Ｂが有する各画素からの光の投写位置に基づいて当該各画素における画素値を生成する画素値生成手段としての表示情報処理部７１２をさらに備えるため、プロジェクタ１８における各光学要素における若干の精度不足が存在することに起因して各画素からの光の投写位置に位置ずれが発生したとしても、位置ずれを起こした各画素からの光の投写位置に応じて各画素毎に画素値を生成することが可能となる。その結果、実施形態５に係るプロジェクタ１８は、実施形態１に係るプロジェクタ１０と同様に、高画素プロジェクタにおいても画像品質の低下を抑制することが可能なプロジェクタとなる。

なお、実施形態５に係るプロジェクタ１８は、画素値生成手段の構成が異なる点及び撮像素子がプロジェクタに配設されている点以外の点では、実施形態１に係るプロジェクタ１０と同様の構成を有するため、実施形態１に係るプロジェクタ１０が有する効果のうち該当する効果をそのまま有する。

以上、本発明のプロジェクタ、プロジェクションシステム及びプロジェクタにおける画素値生成方法を、上記の各実施形態に基づいて説明したが、本発明は上記の各実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々の態様において実施することが可能であり、例えば次のような変形も可能である。

上記各実施形態においては、画素値生成手段は、各液晶パネルが有する各画素からの光が複数の仮想画素のうちどの仮想画素にどのくらいの面積割合で投写されるかに関する画素投写位置情報に基づいて、各画素における画素値を生成することとしているが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、画素値生成手段は、各液晶パネルが有する各画素からの光が複数の仮想画素のうちどの仮想画素にどのくらいの光量割合で投写されるかに関する画素投写位置情報に基づいて、各画素における画素値を生成することとしてもよい。

上記各実施形態においては、各液晶パネルが有する画素の数と仮想画面Ｉｗが有する仮想画素の数とが同じである場合を例にとって説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、各液晶パネルが有する画素の数が仮想画面Ｉｗが有する仮想画素の数よりも多くてもよいし、各液晶パネルが有する画素の数が仮想画面Ｉｗが有する仮想画素の数よりも少なくてもよい。

上記実施形態１〜４においては、電子計算機としてのＰＣ６００が画素投写位置情報生成機能及びパラメータ生成機能を備える場合を例示して説明し、実施形態５においては、画素値生成手段としての表示情報処理部７１２が画素投写位置情報生成機能及びパラメータ生成機能を備える場合を例示して説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、実施形態１〜４の構成において、ＰＣが画素投写位置情報生成機能を備え、表示情報処理部がパラメータ生成機能を備えていてもよい。また、上記実施形態５においては、画素値生成手段としての表示情報処理部７１２が画素投写位置情報生成機能及びパラメータ生成機能を備える場合を例示して説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、これらの機能を備える他の手段をプロジェクタ内に配設してもよい。

上記各実施形態においては、偏光合成光学系として、プリズムタイプの偏光合成プリズムを用いたが、本発明はこれに限定されるものではなく、プレートタイプの偏光合成光学系をも好ましく用いることができる。プレートタイプの偏光合成光学系としては、透光性の基板に偏光分離膜を設けた構成のものなどを適宜採用することができる。

上記各実施形態においては、照明手段として、発光管を有する照明手段を用いたが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、照明手段として、ＬＥＤ（発光ダイオード）、ＬＤ（半導体レーザ）その他の固体光源を用いることもできる。

上記各実施形態においては、光変調素子として、透過型の光変調素子（透過型の液晶パネル）を用いたが、本発明はこれに限定されるものではない。反射型の光変調素子を用いることもできる。

上記各実施形態においては、光変調素子として液晶パネルを用いたが、本発明はこれに限定されるものではない。マイクロミラー型光変調装置を用いることもできる。

上記各実施形態においては、超高画素のプロジェクタ（２Ｋ×４Ｋ（２０００画素×４０００画素））を例にとって説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、高画素のプロジェクタ（例えば、１０８０画素×１９２０画素、７２０画素×１２８０画素などのプロジェクタ。）にも適用可能である。

上記各実施形態においては、リア型プロジェクタを例にとって説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、フロント型プロジェクタにも適用可能である。

実施形態１に係るプロジェクションシステム１及びプロジェクタ１０を説明するために示す図。 実施形態１に係るプロジェクションシステム１及びプロジェクタ１０を説明するために示す図。 位置調整装置を説明するために示す図。 スクリーンＳＣＲにおける仮想画素を説明するために示す図。 各画素における画素値を生成する手順を説明するために示す図。 各画素における画素値を生成する手順を説明するために示す図。 実施形態２に係るプロジェクタ１２を説明するために示す図。 実施形態３に係るプロジェクタ１４を説明するために示す図。 光シフト素子を説明するために示す図。 実施形態４に係るプロジェクタ１６を説明するために示す図。 実施形態５に係るプロジェクタ１８を説明するために示す図。

符号の説明

１０，１２，１４，１６，１８…プロジェクタ、１００…照明手段、１０２…第１照明手段、１０４…第２照明手段、１１０…光源装置、１１２…発光管、１１４…楕円面リフレクタ、１１６…副鏡、１１８…凹レンズ、１２０，１１２０，２１２０…第１レンズアレイ、１３０，１１３０，２１３０…第２レンズアレイ、１１４０，２１４０…偏光変換素子、１５０，１１５０，２１５０…重畳レンズ、２００…偏光分離ミラー、２１０，１２３０…両面反射ミラー、２２０，２３０，１２５０，１２６０，２２２０，２２３０…反射ミラー、３００…偏光合成プリズム、４００…投写光学系、５００，５１０…撮像素子、６００…ＰＣ、７００…表示情報入力部、７１０，７１２…表示情報処理部、７２０…データ記憶部、７３０…パラメータ記憶部、１１００…第１画像形成手段、１２００，２２００…色分離光学系、１２１０，１２２０，２２１０，２２２０…ダイクロイックミラー、１２４０，２２４０…リレー光学系、１２７０，２２７０…入射側レンズ、１２８０，２２８０…リレーレンズ、１３００Ｒ，１３００Ｇ，１３００Ｂ，２３００Ｒ，２３００Ｇ，２３００Ｂ…液晶パネル、１３１０Ｒ，１３１０Ｇ，１３１０Ｂ，２３１０Ｒ，２３１０Ｇ，２３１０Ｂ…表示駆動部、１４００，２４００…クロスダイクロイックプリズム、１５００…第１光学ユニット、１６００，２６００…光シフト素子、２１００…第２画像形成手段、２５００…第２光学ユニット、Ｃ_７９７〜Ｃ_８０２…列、ＨＰ_{４００，８００}…仮想画素、Ｉｗ…仮想画面、Ｌ_３９８〜Ｌ_４０１…行、Ｌａｘ…光軸、Ｐ_{Ｒ（１）４００，８００}，Ｐ_{Ｇ（１）４００，８００}，Ｐ_{Ｂ（１）４００，８００}，Ｐ_{Ｒ（２）４００，８００}，Ｐ_{Ｇ（２）４００，８００}，Ｐ_{Ｂ（２）４００，８００}…画素（投写画素）、ＳＣＲ…スクリーン

Claims (16)

1. 照明手段と、
   前記照明手段からの光を変調する光変調素子を有する第１光学ユニットを有し、前記第１光学ユニットを用いて第１画像光を射出する第１画像形成手段と、
   前記照明手段からの光を変調する光変調素子を有する第２光学ユニットを有し、前記第２光学ユニットを用いて第２画像光を射出する第２画像形成手段と、
   前記第１画像形成手段から射出される第１画像光と、前記第２画像形成手段から射出される第２画像光とを合成する偏光合成光学系と、
   前記偏光合成光学系で合成された画像光を投写する投写光学系と、
   投写面における前記光変調素子の投写位置を光学的に調整する投写位置調整手段と、
   前記投写位置調整手段で投写位置が調整された前記光変調素子が有する各画素からの光の投写位置に基づいて、当該各画素における画素値を生成する画素値生成手段とを備え、
   前記画素値生成手段は、投写面において複数の仮想画素を含む仮想画面を定義したときに、前記光変調素子が有する各画素からの光が前記複数の仮想画素のうちどの仮想画素にどのくらいの割合で投写されるかに関する画素投写位置情報に基づいて、前記各画素における画素値を生成することを特徴とするプロジェクタ。
2. 照明手段と、
   前記照明手段からの光を変調する光変調素子を有する第１光学ユニットを有し、前記第１光学ユニットを用いて第１画像光を射出する第１画像形成手段と、
   前記照明手段からの光を変調する光変調素子を有する第２光学ユニットを有し、前記第２光学ユニットを用いて第２画像光を射出する第２画像形成手段と、
   前記第１画像形成手段から射出される第１画像光と、前記第２画像形成手段から射出される第２画像光とを合成する偏光合成光学系と、
   前記偏光合成光学系で合成された画像光を投写する投写光学系と、
   投写面における前記光変調素子の投写位置を光学的に調整する投写位置調整手段と、
   前記投写位置調整手段で投写位置が調整された前記光変調素子が有する各画素からの光の投写位置に基づいて、当該各画素における画素値を生成する画素値生成手段とを備え、
   前記画素値生成手段は、
   投写面において複数の仮想画素を含む仮想画面を定義したときに、前記光変調素子が有する各画素からの光が前記複数の仮想画素のうちどの仮想画素にどのくらいの割合で投写されるかに関する画素投写位置情報を生成する画素投写位置情報生成機能と、
   前記画素投写位置情報生成機能によって生成された画素投写位置情報に基づいて画素値生成パラメータを生成するパラメータ生成機能とを備えることを特徴とするプロジェクタ。
3. 請求項２に記載のプロジェクタにおいて、
   前記画素投写位置情報に基づいて生成された画素値生成パラメータを記憶するパラメータ記憶部をさらに備え、
   前記画素値生成手段は、前記パラメータ記憶部が記憶する画素値生成パラメータを用いて、前記各画素における画素値を生成することを特徴とするプロジェクタ。
4. 請求項１〜３のいずれかに記載のプロジェクタにおいて、
   前記割合は、面積割合であることを特徴とするプロジェクタ。
5. 請求項１〜３のいずれかに記載のプロジェクタにおいて、
   前記割合は、光量割合であることを特徴とするプロジェクタ。
6. 請求項１〜５のいずれかに記載のプロジェクタにおいて、
   前記第１画像形成手段における前記光変調素子及び前記第２画像形成手段における前記光変調素子のそれぞれについて、各画素からの光の投写位置を撮影する 撮像素子をさらに備えることを特徴とするプロジェクタ。
7. 請求項１〜６のいずれかに記載のプロジェクタにおいて、
   前記第１画像形成手段は、
   前記照明手段からの光を３つの色光に分離する色分離光学系と、
   前記色分離光学系で分離された３つの色光をそれぞれ変調する、前記光変調素子としての３つの光変調素子及び前記３つの光変調素子で変調される色光を合成する色合成光学系からなる前記第１光学ユニットとを有し、
   前記第２画像形成手段は、
   前記照明手段からの光を３つの色光に分離する色分離光学系と、
   前記色分離光学系で分離された３つの色光をそれぞれ変調する、前記光変調素子としての３つの光変調素子及び前記３つの光変調素子で変調される色光を合成する色合成光学系からなる前記第２光学ユニットとを有することを特徴とするプロジェクタ。
8. 請求項７に記載のプロジェクタにおいて、
   前記投写位置調整手段は、前記第１画像形成手段における前記３つの光変調素子及び前記第２画像形成手段における前記３つの光変調素子のそれぞれを独立して６軸で位置調整する位置調整装置であることを特徴とするプロジェクタ。
9. 請求項１〜７のいずれかに記載のプロジェクタにおいて、
   前記投写位置調整手段は、前記第１光学ユニット及び前記第２光学ユニットのそれぞれを独立して６軸で位置調整する位置調整装置であることを特徴とするプロジェクタ。
10. 請求項１〜７のいずれかに記載のプロジェクタにおいて、
    前記投写位置調整手段は、前記第１光学ユニットと前記偏光合成光学系との間及び前記第２光学ユニットと前記偏光合成光学系との間のうち少なくともいずれかに配置される１又は２の光シフト素子であることを特徴とするプロジェクタ。
11. 請求項１〜１０のいずれかに記載のプロジェクタにおいて、
    前記照明手段からの光を第１偏光成分を含む光と第２偏光成分を含む光とに分離する偏光分離光学系、前記偏光分離光学系で分離された第１偏光成分を含む光を前記第１画像形成手段に導光する第１導光光学系及び前記偏光分離光学系で分離された第２偏光成分を含む光を前記第２画像形成手段に導光する第２導光光学系を有する偏光分離・導光光学系をさらに備えることを特徴とするプロジェクタ。
12. 請求項１〜１０のいずれかに記載のプロジェクタにおいて、
    前記照明手段として、第１画像形成手段に向けて光を射出する第１照明手段及び第２画像形成手段に向けて光を射出する第２照明手段を備えることを特徴とするプロジェクタ。
13. 照明手段と、前記照明手段からの光を変調する光変調素子を有する第１光学ユニットを有し、前記第１光学ユニットを用いて第１画像光を射出する第１画像形成手段と、前記照明手段からの光を変調する光変調素子を有する第２光学ユニットを有し、前記第２光学ユニットを用いて第２画像光を射出する第２画像形成手段と、前記第１画像形成手段から射出される第１画像光と、前記第２画像形成手段から射出される第２画像光とを合成する偏光合成光学系と、前記偏光合成光学系で合成された画像光を投写する投写光学系と、投写面における前記光変調素子の投写位置を光学的に調整する投写位置調整手段と、前記投写位置調整手段で投写位置が調整された前記光変調素子が有する各画素からの光の投写位置に基づいて、当該各画素における画素値を生成する画素値生成手段とを備えるプロジェクタと、
    前記第１画像形成手段における前記光変調素子及び前記第２画像形成手段における前記光変調素子のそれぞれについて、各画素からの光の投写位置を撮影する撮像素子と、
    前記撮像素子による撮影結果に基づいて、投写面において複数の仮想画素を含 む仮想画面を定義したときに、前記光変調素子が有する各画素からの光が前記複数の仮想画素のうちどの仮想画素にどのくらいの割合で投写されるかに関する画素投写位置情報を生成する画素投写位置情報生成機能と、前記画素投写位置情報生成機能によって生成された画素投写位置情報に基づいて画素値生成パラメータを生成するパラメータ生成機能とを備える電子計算機とを備え、
    前記画素値生成手段は、前記電子計算機によって生成された前記画素値生成パラメータを用いて、前記各画素における画素値を生成することを特徴とするプロジェクションシステム。
14. 請求項１３に記載のプロジェクションシステムにおいて、
    前記プロジェクタは、前記電子計算機によって生成された画素値生成パラメータを記憶するパラメータ記憶部をさらに備え、
    前記画素値生成手段は、前記パラメータ記憶部が記憶する画素値生成パラメータを用いて、前記各画素における画素値を生成することを特徴とするプロジェクションシステム。
15. 照明手段と、
    前記照明手段からの光を変調する光変調素子を有する第１光学ユニットを有し、前記第１光学ユニットを用いて変調された第１画像光を射出する第１画像形成手段と、
    前記照明手段からの光を変調する光変調素子を有する第２光学ユニットを有し、前記第２光学ユニットを用いて変調された第２画像光を射出する第２画像形成手段と、
    前記第１画像形成手段から射出される第１画像光と、前記第２画像形成手段から射出される第２画像光とを合成する偏光合成光学系と、
    前記偏光合成光学系で合成された画像光を投写する投写光学系と、
    投写面における前記光変調素子の投写位置を光学的に調整する投写位置調整手段と、
    前記投写位置調整手段で投写位置が調整された前記光変調素子が有する各画素 からの光の投写位置に基づいて、当該各画素における画素値を生成する画素値生成手段とを備えるプロジェクタにおける画素値生成方法であって、
    撮像素子を用いて、前記第１画像形成手段における前記光変調素子及び前記第２画像形成手段における前記光変調素子のそれぞれについて、各画素からの光の投写位置を撮影する第１ステップと、
    前記撮像素子による撮影結果に基づいて、前記画素値生成手段が各画素における画素値を生成する第２ステップとをこの順序で含み、
    前記第２ステップにおいては、前記画素値生成手段は、投写面において複数の仮想画素を含む仮想画面を定義したときに、前記光変調素子が有する各画素からの光が前記複数の仮想画素のうちどの仮想画素にどのくらいの割合で投写されるかに関する画素投写位置情報に基づいて、前記各画素における画素値を生成することを特徴とするプロジェクタにおける画素値生成方法。
16. 照明手段と、
    前記照明手段からの光を変調する光変調素子を有する第１光学ユニットを有し、前記第１光学ユニットを用いて変調された第１画像光を射出する第１画像形成手段と、
    前記照明手段からの光を変調する光変調素子を有する第２光学ユニットを有し、前記第２光学ユニットを用いて変調された第２画像光を射出する第２画像形成手段と、
    前記第１画像形成手段から射出される第１画像光と、前記第２画像形成手段から射出される第２画像光とを合成する偏光合成光学系と、
    前記偏光合成光学系で合成された画像光を投写する投写光学系と、
    投写面における前記光変調素子の投写位置を光学的に調整する投写位置調整手段と、
    前記投写位置調整手段で投写位置が調整された前記光変調素子が有する各画素からの光の投写位置に基づいて、当該各画素における画素値を生成する画素値生成手段とを備えるプロジェクタにおける画素値生成方法であって、
    撮像素子を用いて、前記第１画像形成手段における前記光変調素子及び前記第 ２画像形成手段における前記光変調素子のそれぞれについて、各画素からの光の投写位置を撮影する第１ステップと、
    前記撮像素子による撮影結果に基づいて、前記画素値生成手段が各画素における画素値を生成する第２ステップとをこの順序で含み、
    前記第２ステップは、
    前記撮像素子による撮影結果に基づいて、投写面において複数の仮想画素を含む仮想画面を定義したときに、前記光変調素子が有する各画素からの光が前記複数の仮想画素のうちどの仮想画素にどのくらいの割合で投写されるかに関する画素投写位置情報を生成する画素投写位置情報生成ステップと、
    前記画素投写位置情報生成ステップを行うことによって生成された前記画素投写位置情報に基づいて画素値生成パラメータを生成するパラメータ生成ステップとを含むことを特徴とするプロジェクタにおける画素値生成方法。

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