JP4524399B2 - 温度・光応答性組成物及びこれから製造された細胞培養基材 - Google Patents
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Description
特許文献1には、培養細胞の分離回収に酵素を用いない方法として、温度応答性の高分子化合物を培養基材として用いる方法が開示されている。また、温度応答性支持体を用いた細胞培養法により、細胞接着物質や膜タンパクを分解せず、その器官特異的機能を維持したまま細胞をシート状態で剥離・回収する手法が報告されている(例えば、非特許文献1参照。)。これらの方法では、温度変化によって培養基材の接着制御を行うため、培養容器中の種々の細胞あるいは細胞群から、特定の細胞あるいは細胞群(コロニー)のみを回収しようとする場合において、個々の細胞あるいは細胞群毎にその脱着を制御することは極めて困難であった。
従って、細胞播種後の光照射により、高い自由度、コントラスト及び可逆性を持って細胞接着性及び/又は細胞増殖性を局所的に制御することを従来技術で実現することは不可能である。
すなわち、本発明は
(1) N−イソプロピルアクリルアミドモノマー成分と、6−ニトロスピロベンゾピラン残基を有するアクリルアミド系モノマー成分から構成され、光照射及び/又は温度変化に応答してその細胞接着性が変化する温度・光応答性コポリマーを少なくとも一つの成分として含む温度・光応答性組成物により形成された温度・光応答性表面を有することを特徴とする細胞培養基材。
(2) 前記温度・光応答性組成物が、前記前記コポリマーの他に水に不溶なポリマーを少なくとも一つの成分として含む(1)に記載の細胞培養基材。
(3) 前記水に不溶なポリマーを構成するモノマー成分が、メタクリル酸又はアクリル酸の炭素原子数1〜8のアルキルエステル、アクリロニトリル、酢酸ビニル、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、テレフタル酸、およびアルキレングリコールからなる群から選択されることを特徴とする(2)に記載の細胞培養基材。
(4) 前記水に不溶なポリマーがポリメチルメタクリレートであることを特徴とする(3)に記載の細胞培養基材。
(5) 水に不溶なポリマーを成膜した基板の上に、前記温度・光応答性組成物により形成された温度・光応答性表面を有することを特徴とする(1)〜(4)のいずれかに記載の細胞培養基材。
(6) 前記水に不溶なポリマーを構成するモノマー成分が、メタクリル酸又はアクリル酸の炭素原子数1〜8のアルキルエステル、アクリロニトリル、酢酸ビニル、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、テレフタル酸、およびアルキレングリコールからなる群から選択されることを特徴とする(5)に記載の細胞培養基材。
(7) 前記水に不溶なポリマーがポリメチルメタクリレートであることを特徴とする(6)に記載の細胞培養基材。
(8)(1)〜(7)のいずれかに記載の細胞培養基材に細胞を播種する前及び/又は播種した後に、所期の目的に応じて前記培養基材の温度・光応答性表面の全部または一部の所望領域を光照射し、光照射領域における細胞接着性及び/又は細胞増殖性を亢進または減少させることによって、所望の細胞又は細胞群以外の細胞を該表面に分別保持させ、所望の細胞又は細胞群を回収することを特徴とする、細胞の分別回収方法。
(9) 細胞接着性及び/又は細胞増殖性を亢進させる波長範囲の光と、それを減少させる波長範囲の光の両方を用いて、所望領域の細胞接着性及び/又は細胞増殖性を任意に変化させることによって、所望の細胞又は細胞群を回収することを特徴とする、(8)に記載の細胞の分別回収方法。
(10) 光を照射する前及び/又は照射中及び/又は照射した後に温度を変化させることによって、所望の細胞又は細胞群を回収することを特徴とする、(8)又は(9)に記載の細胞の分別回収方法。
(11) (1)〜(7)のいずれかに記載の細胞培養基材に細胞を播種する前及び/又は播種した後に、所期の目的に応じて前記培養基材の温度・光応答性表面の一部の所望領域を光照射し、光照射領域における細胞接着性及び/又は細胞増殖性を亢進または減少させることによって、所望の細胞又は細胞群のみを該表面に分別保持させ、引き続きこれらの細胞又は細胞群のみを培養することを特徴とする、細胞の分別培養又は2次元パターン培養の方法。
(12) 細胞接着性及び/又は細胞増殖性を亢進させる波長範囲の光と、それを減少させる波長範囲の光の両方を用いて、所望領域の細胞接着性及び/又は細胞増殖性を任意に変化させることによって、所望の細胞又は細胞群のみを引き続き培養することを特徴とする、(11)に記載の細胞の分別培養又は2次元パターン培養の方法。
(13) 光を照射する前及び/又は照射中及び/又は照射した後に温度を変化させることによって、所望の細胞又は細胞群のみを引き続き培養することを特徴とする、(11)又は(12)に記載の細胞の分別培養又は2次元パターン培養の方法。
この細胞培養基材は、細胞を播種した後の光照射に応答して、培養基材表面の特定の領域に対して、数百ナノメートルの分解能で局所選択的に細胞接着性及び/又は細胞増殖性を、それ以外の領域に比べて著しく亢進あるいは減少させることができる。
そのため、本発明の細胞分別回収方法によれば、従来技術では両立できなかった細胞の精密分離に加え、該分離において細胞外マトリックスや膜タンパク質を損なわず細胞の器官特異的機能の維持を同時に実現することが可能となる。
また、従来の細胞のパターニングでは、細胞播種前の処理によって予め培養パターンが決まってしまうのに対し、本発明の細胞分別培養又は2次元パターン培養方法によれば、細胞播種後に細胞を接着・増殖させる領域を、細胞接着性及び/又は細胞増殖'性を亢進あるいは減少させる2種類の光を用いて、任意の2次元パターンで決めることができるため、従来にない自由度と利便性を有する細胞操作手段が提供できる。
本発明において、細胞接着性の変化とは、変化前に剥離に至った細胞が、培地や緩衝液等による洗浄、遠心操作、振動印加等の一定の物理的刺激によっても剥離しなくなることである。また、細胞接着性の変化には、変化前に剥離に至ることのない細胞が、培地や緩衝液等による洗浄、遠心操作、振動印加等の一定の物理的刺激によって剥離するようになることも含まれる。例えば、上記物理刺激の目安として、変化前には剥離に至った加速度の大きさ(1×g〜10×g)の遠心操作によって変化後は剥離しなくなることが挙げられる。
本発明において、上記細胞接着性の変化により、細胞の増殖性も制御することができる。すなわち、ヒト等の接着性細胞(足場依存性細胞)は何らかの表面に接着しないと増殖できないため、本発明の細胞培養基材表面の上記細胞接着性が向上することにより、細胞増殖の進展が促進するためである。
光照射によって細胞接着性が変化するメカニズムは定かではないが、細胞表面脂質との相互作用で、スピロベンゾピラン及び/又はスピロオキサジン残基の光照射による開環体と細胞が接着していると推定される。一方、温度変化によって細胞接着性が変化するメカニズムも定かではないが、本発明の温度・光応答性組成物が、低温処理に誘起されて水和状態(すなわち、水素結合を介して付着した水分子の付着・脱着)が変化し、膨潤し、水和したポリマーが細胞を剥離すると推定される。
また、前記温度・光応答性コポリマーを構成するアクリルアミド系モノマー成分は、N−アルキルアクリルアミド、N,N−ジアルキルアクリルアミド、N−アルキルメタクリルアミド、N,N一ジアルキルメタクリルアミド、ビニルエーテルが好ましく、N−アルキルアクリルアミドがより好ましい。前記アルキル基としては炭素数1〜5のものが好ましく、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル基等を挙げることができる。N−ジアルキルの場合、炭素数1〜3のものが好ましく、例えば、メチル、エチル、プロピル基を挙げることができる。N−イソプロピルアミドまたはジメチルアクリルアミドが特に好ましい。
本発明において、光応答性を示すスピロベンゾピラン及び/又はスピロオキサジン残基を有するモノマー成分は、重合性を有する任意の単量体でよく、アクリルアミド、メタクリルアミド、アクリルエステル、メタクリルエステル、ビニルアミド、ビニルエステル、ビニルエーテル等を挙げることができる。
前記温度・光応答性コポリマーにおいて、これに含まれる前記スピロベンゾピラン及び/又はスピロオキサジン残基を有するモノマー成分の数の、コポリマーを構成する全アクリルアミド系モノマーユニット数に対する割合は、0.1〜100mol%、好ましくは1〜10mol%程度であればよく、より好ましくは3mol%程度である。
コーティングされる組成物は、所望の細胞接着性の変化を妨げなければ、温度・光応答性ポリマーおよび水に不溶なポリマー以外に追加の成分を含有させてもよい。また、必要に応じて、温度・光応答性組成物または水に不溶なポリマーによるコーティングの前または後に、異なる成分のコーティングを追加してもよい。
水に不溶なポリマーをコーティングした後、温度・光応答性組成物をコーティングする場合、該温度・光応答性組成物を溶剤に溶解した溶液としてコーティングすることが好ましい。溶媒としては、温度・光応答性組成物を溶解するものであればどのようなものでもよいが、水に不要なポリマーまたはその溶液と相溶性を有することが好ましく、適度に水に不溶なポリマーを膨潤させるようなものがより好ましい。例えば、アルコール、アセトン、エステル類、ハロアルカン類、水、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミド、エーテル類(環状分子を含む)などが好ましく、これらの混合溶媒も好ましく用いられ、イソプロパノールがより好ましい。
本発明の温度・光応答性組成物中の水に不溶なポリマーの配合量は、特に制限されることではなく、総合量の1〜50質量%、好ましくは5〜30質量%程度であればよく、より好ましくは20質量%程度である。
本発明において、温度・光応答性コポリマーの平均分子量(質量平均)は、成膜性があれば特に限定されるものではないが、通常2,000〜500,000、好ましくは5,000〜100,000である。2,000未満では成膜性が劣る恐れがあり、一方500,000を超えると、合成が困難である場合がある。
本発明の温度・光応答性組成物をコーティングなどの目的のため溶液とする場合、その溶剤は使用する温度・光応答性組成物を溶解できるものであればよく、例えば、1,2−ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、クロロフォルム、メチルエチルケトン、酢酸エチル等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
本発明の細胞培養基材を作製するために、前記光応答性組成物の溶液、または水に不溶なポリマー溶液をガラス、改質ガラス、プラスチック、金属等の基板上にスピンコートまたはキャスト法にて成膜することができる。基板はシランカップリング剤などにより疎水化処理してもよい。成膜後に熱処理を行うこともできるが、熱処理を行う場合は、室温〜200℃、より好ましくは60〜140℃の温度で、2、3時間の熱処理が望ましい。
本発明の温度・光応答性組成物を化学結合を介して基材表面に導入する場合、グラフト表面重合でモノマーから温度・光応答性コポリマーを表面で重合してもよいし、反応性を有する温度・光応答性コポリマーを化学的に後付けしてもよく、コーティングなどにより物理的に付着させてもよい。
さらに、本発明の細胞培養デバイスとしては、細胞培養が可能であれば特に制限されるものではなく、培養ディッシュ、細胞培養キュベット等が挙げられるが、定点観測が可能な形態がより好ましい。
本発明における細胞培養基材表面の特性を変化させるための照射光としては、紫外光、可視光などが挙げられる。波長域は、300〜1000nm、好ましくは330〜800nm、より好ましくは波長350〜600nmである。また、光照射エネルギーは、光応答性表面の特性を変化させることができ、かつ細胞に損傷を与えない範囲内であり、0.1〜10,000J/cm2、好ましくは1〜1,000J/cm2、より好ましくは10〜100J/cm2である。
特に、細胞接着性を亢進及び/又は減少させる光の波長範囲は350〜400nmが好ましく、強度は5〜15mW/cm2がこのましく、10mW/cm2前後がより好ましい。照射時間は3〜8分が好ましく、5分前後がより好ましい。
本発明で用いられる細胞は、ヒトまたは動物由来の足場依存性細胞や浮遊細胞などのが挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの細胞は必要に応じて単独で使用するか、又は複数組合せて使用することも可能である。
(実施例1)
6−ニトロスピロベンゾピラン修飾ポリN−イソプロピルアクリルアミドの製造
凍結脱気可能で密栓できる100m1フラスコ中、精製したN−イソプロピルアクリルアミド 950mg (9.5mmol;和光純薬製)をテトラヒドロフラン(THF)蒸留液 1mlに溶解したあと、N−[3−{3',3'−ジメチル−6−ニトロスピロ(2H−1−ベンゾピラン−2,2'−インドリン)−1−イル−プロピオニル}−プロピル]−メタクリルアミド 253.3mg (0.5mmol;文献Heterocycles, 51, 2639〜2651(1999) 記載の製造方法により合成)とTHF 1mlを入れて撹拌しながら完全に溶解した。また、開始剤AIBN(2、2−アゾビス(イソブチロ二トリル)、和光特級) 16.4mg (0.1mmol) を入れてTHF 1mlにて溶解して、密封した状態で凍結脱気を5回行った。その後、オイルバス中、65℃で24時間加熱した。CHCl3を少量加えて薄めて、メタノール 400mlに点滴ろ過した後、減圧ろ過して乾燥させることによって6−ニトロスピロベンゾピラン修飾ポリN−イソプロピルアクリルアミドを得た(収量 770mg,収率 64%)。
疎水化ガラス基板の作製
ガラス基板(直径 2.5cm, 厚さ 2mm, 並ガラス製)を、n−ヘキサン、酢酸エチル、イソプロパノール中で順次10分間ずつ超音波洗浄を行い、ガラス表面の汚れを除去した。次いで5N塩酸中、50℃で10分間処理してガラス表面の水酸基を露出させた。これにジクロロジメチルシラン 1 v/v%トルエン溶液に90秒浸漬してシランカップリングによる疎水化処理を行った。処理後トルエンで洗浄、120℃で1時間熱処理を行い、疎水化ガラス基板を作製した。
細胞培養基材の作製
実施例1で得た6−ニトロスピロベンゾピラン修飾ポリN−イソプロピルアクリルアミド 0.04質量%とポリメチルメタクリレート 0.16質量%を含有する1,2−ジクロロエタン溶液 500mgを疎水化ガラス基板上にキャストし、暗所、大気中で24時間静置して乾燥させた。その後120℃で2時間熱処理を行い、細胞培養基材を作製した。
細胞接着後の光照射による細胞の接着性評価
上記実施例2から得られた培養基材を細胞培養キュベットに装着した。培地にはMINIMUM ESSENTIAL MEDIUM EAGLE α-MIODIFICATION(商品名、シグマ社製)を用いた。以下ではこれにFBS(牛胎児血清、GIBCO社製)10v/v%を添加したものをFBS(+)培地、添加しないものをFBS(−)培地とする。CHO-K1細胞を1.0x106セル/ディッシュの細胞濃度で播種し、FBS(+)培地中で24時間培養した。その後、FBS(−)培地 1mlで2回培養表面を洗浄後、FBS(−)培地 1mlを培養キュベットに注ぎ、細胞接着性を倒立顕微鏡にて肉眼観察した(倍率100倍)。その撮影結果を図3に示した。次いで培養キュベットを5分間氷冷し、その後直ちに培養基材の半分の領域をアルミ製の遮光板でマスクした状態で、光照射装置(モデル名:LC6、浜松ホトニクス社製)からの放射光のうち石英製干渉フィルター(型番:A7028−05、浜松フォトニクス社製)、及び色ガラスフィルタ(型番:U360ケンコー社製)を介して得られる紫外光(輝線365nm、強度20mW/cm2)を5分間照射した。照射後の培養表面に対して氷冷したPBS(1ml、リン酸緩衝溶液;0.20g/L KCl, 0.20g/L KH2PO4, 8.00g/L NaCl, 2.16g/L Na2HPO4・7H20)で2回洗浄後、同じく氷冷したPBS 1mlを注ぎ、暗所、氷温下で20分間静置した。さらに氷冷したPBS 1mlで2回洗浄後、紫外光の照射部と非照射部での細胞接着性を倒立顕微鏡にて肉眼観察した(倍率100倍)。その撮影結果を図4に示した。
図3から明らかなように、紫外光照射前は撮影視野全体に細胞が接着していることが分かるが、図4ではアルミ製遮光板で遮光した領域(図の下半分の領域)は細胞の接着が著しく減少しているのが分かる。
図5は、図3及び4において、CCDカメラ撮影視野内の細胞数を数え、細胞密度を求めた結果のグラフである。図5から明らかなように、照射領域は、照射前後の細胞密度の差は小さいが、遮光した領域は照射後にほとんど細胞が接着していない。
図6は、その後細胞のエステラーゼ活性によって発色し、生細胞のみを選択的に蛍光染色する色素(製品名:CMFDA, MOLECULAR PROBE社製)にて染色し、細胞の選択的剥離を明確に示すと共に、剥離操作後の細胞の生存を倒立顕微鏡(倍率40倍)にて確認した結果を示す。
図6から明らかなように、図4で接着している細胞は生存していることが分かった。
細胞播種後の光照射による細胞パターニング
アルミ製の遮光板によって培養表面の半分を遮光する代わりに、縮小光学系及びフォトマスクを用いて所定の2次元パターン(「?」)にて紫外光照射を行った。それ以外は上記実施例3の方法と同様の過程で細胞培養基材の作製、細胞の播種、照射後の洗浄操作、生細胞の選択的蛍光染色を行い、倒立顕微鏡(倍率40倍)にて観察した。その結果を図7に示した。図7から明らかなように、フォトマスクを用いて紫外光照射した、150°回転した「?」の形状に生細胞が接着していることが分かった。
別の細胞培養基材による試験
実施例2に記載の方法で疎水化ガラス基板を作製した。この基板上に、ポリメチルメタクリレートを5質量%の濃度でアセトンに溶解した溶液 0.2mlを、3000rpmでスピンコートし、120℃で2時間熱処理を行った。
これとは別に、実施例1と同様にして得た6−ニトロスピロベンゾピラン修飾ポリN−イソプロピルアクリルアミド(色素導入率約 5mol%、質量平均重合度約100)を2質量%の濃度でイソプロパノールに溶解した溶液を調製した。この6−ニトロスピロベンゾピラン修飾ポリN−イソプロピルアクリルアミド溶液 0.2mlを、先に準備したポリメチルメタクリレートでコーティングした基板上に、3000rpmでスピンコートしたのち、120℃で2時間熱処理を行い、細胞培養基材を作製した。
実施例4と同様の手法で所定の2次元パターン(「S」)にて紫外光照射を行った。それ以外は上記実施例3の方法と同様の過程で細胞の播種および培養、照射前後の洗浄操作、生細胞の選択的蛍光染色を行い、倒立顕微鏡(倍率40倍)にて観察した。その結果を図9に示した。図9から明らかなように、フォトマスクを用いて紫外光照射した、「S」の形状に生細胞が接着していることが分かった。
別の細胞培養基材および別の条件の光照射による細胞の接着性評価(可逆性の確認)
上記実施例5に記載した方法で作製した細胞培養基材を細胞培養キュベットに装着した。その後上記実施例3に記載した方法で、細胞の播種および培養、培養後の洗浄操作を行い、FBS(−)培地 1mlを培養キュベットに注いでから、倒立顕微鏡(倍率40倍)にて観察し、細胞培養基材全面に一様に細胞が接着したことを確認した。その撮影結果を図10に示した。次いで上記実施例3に記載した条件で紫外光を部分的に照射し、暗所、15℃で20分間静置した。さらに15℃のPBS 1mlで3回洗浄後、生細胞のみを選択的に蛍光染色する色素(製品名:CMTPX, MOLECULAR PROBE社製)にて染色し、紫外光の照射部と非照射部での細胞接着性を倒立顕微鏡にて肉眼観察したところ(倍率40倍)、紫外光照射部に多くの細胞が残存しているのに対し、非照射部から多くの細胞(目視確認では9割程度)が除去されたことを確認した。その撮影結果を図11に示した。
以上の操作によって、部分的に(図11の左半分)に細胞が接着している培養基材の全面に、光照射装置(モデル名:LC6、浜松ホトニクス社製)から得られる可視光(波長436nm、強度30mW/cm2)を5分間照射し、その後インキュベータ内において37℃で2時間静置した。この培養基材を20分間15℃で静置し、さらに15℃のPBS 1mlで4回洗浄した。これにより、最初の紫外光照射により亢進した細胞接着性が未照射領域と同程度にまで減少し、培養表面上に接着していたほとんど全ての細胞を除去できることを確認した。この状態を、倍率40倍の倒立顕微鏡にて撮影した結果を図12に示した。
次いで、生細胞のみを選択的に蛍光染色する色素(製品名:CMFDA)にて予め染色したCHO-K1細胞を1.0x106セル/ディッシュの細胞濃度で播種し、FBS(+)培地中で12時間培養した。この状態を、倍率40倍の倒立顕微鏡にて肉眼観察し、細胞培養基材全面に一様に細胞が接着したことを確認した。その撮影結果を図13に示した。この状態の培養基材に対して、最初に紫外光照射した領域(図11の左半分)アルミ製の遮光板でマスクし、それ以外の領域(図11の右半分)に上記実施例3に記載した条件で紫外光を照射し、暗所、15℃で20分間静置した。さらに15℃のPBS 1mlで3回洗浄後、紫外光の照射部と非照射部での細胞接着性を倒立顕微鏡にて肉眼観察したところ(倍率40倍)、2度目の紫外光照射における照射部に多くの細胞が残存した一方、非照射部から多くの細胞(目視確認では9割以上)が除去されたことを確認した。このことは、可視光の全面照射およびそれに続く37℃での静置によって、細胞培養基材が調製直後の状態に初期化されたことを示している。その撮影結果を図14に示した。
細胞接着性の光制御性における従来技術(特開2005−210936号公報)との比較
細胞播種後に行う光照射の有無による細胞接着性のコントラスト(洗浄後、光照射域における残存細胞数の、非照射域における残存細胞数に対する比)を、本発明の温度・光応答性培養基材と、比較例として特開2005−210936号公報(特許文献2)に記載の光応答性培養基材とで比較した。結果を図8に示した。
図8から明らかなように、比較例の特開2005−210936号明細書に記載の方法では、光照射によって、2倍のコントラストしか得られなかった。一方、本発明の温度・光応答性培養基材を用いれば、16倍以上のコントラストを得ることができることが分かった。
2,2A,2B,12,17 細胞
3,13,18 播種操作
4 細胞の標識操作
5 位置情報の取り込み操作
6A,6B,11,15 照射パターン
7A,7B,10,16 2次元パターン照射操作
8 細胞回収操作
14 洗浄・培養操作
Claims (13)
- N−イソプロピルアクリルアミドモノマー成分と、6−ニトロスピロベンゾピラン残基を有するアクリルアミド系モノマー成分から構成され、光照射及び/又は温度変化に応答してその細胞接着性が変化する温度・光応答性コポリマーを少なくとも一つの成分として含む温度・光応答性組成物により形成された温度・光応答性表面を有することを特徴とする細胞培養基材。
- 前記温度・光応答性組成物が、前記コポリマーの他に水に不溶なポリマーを少なくとも一つの成分として含む請求項1に記載の細胞培養基材。
- 前記水に不溶なポリマーを構成するモノマー成分が、メタクリル酸又はアクリル酸の炭素原子数1〜8のアルキルエステル、アクリロニトリル、酢酸ビニル、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、テレフタル酸、およびアルキレングリコールからなる群から選択されることを特徴とする請求項2に記載の細胞培養基材。
- 前記水に不溶なポリマーがポリメチルメタクリレートであることを特徴とする請求項3に記載の細胞培養基材。
- 水に不溶なポリマーを成膜した基板の上に、前記温度・光応答性組成物により形成された温度・光応答性表面を有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の細胞培養基材。
- 前記水に不溶なポリマーを構成するモノマー成分が、メタクリル酸又はアクリル酸の炭素原子数1〜8のアルキルエステル、アクリロニトリル、酢酸ビニル、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、テレフタル酸、およびアルキレングリコールからなる群から選択されることを特徴とする請求項5に記載の細胞培養基材。
- 前記水に不溶なポリマーがポリメチルメタクリレートであることを特徴とする請求項6に記載の細胞培養基材。
- 請求項1〜7のいずれか1項に記載の細胞培養基材に細胞を播種する前及び/又は播種した後に、所期の目的に応じて前記培養基材の温度・光応答性表面の全部または一部の所望領域を光照射し、光照射領域における細胞接着性及び/又は細胞増殖性を亢進または減少させることによって、所望の細胞又は細胞群以外の細胞を該表面に分別保持させ、所望の細胞又は細胞群を回収することを特徴とする、細胞の分別回収方法。
- 細胞接着性及び/又は細胞増殖性を亢進させる波長範囲の光と、それを減少させる波長範囲の光の両方を用いて、所望領域の細胞接着性及び/又は細胞増殖性を任意に変化させることによって、所望の細胞又は細胞群を回収することを特徴とする、請求項8に記載の細胞の分別回収方法。
- 光を照射する前及び/又は照射中及び/又は照射した後に温度を変化させることによって、所望の細胞又は細胞群を回収することを特徴とする、請求項8又は9に記載の細胞の分別回収方法。
- 請求項1〜7のいずれか1項に記載の細胞培養基材に細胞を播種する前及び/又は播種した後に、所期の目的に応じて前記培養基材の温度・光応答性表面の一部の所望領域を光照射し、光照射領域における細胞接着性及び/又は細胞増殖性を亢進または減少させることによって、所望の細胞又は細胞群のみを該表面に分別保持させ、引き続きこれらの細胞又は細胞群のみを培養することを特徴とする、細胞の分別培養又は2次元パターン培養の方法。
- 細胞接着性及び/又は細胞増殖性を亢進させる波長範囲の光と、それを減少させる波長範囲の光の両方を用いて、所望領域の細胞接着性及び/又は細胞増殖性を任意に変化させることによって、所望の細胞又は細胞群のみを引き続き培養することを特徴とする、請求項11に記載の細胞の分別培養又は2次元パターン培養の方法。
- 光を照射する前及び/又は照射中及び/又は照射した後に温度を変化させることによって、所望の細胞又は細胞群のみを引き続き培養することを特徴とする、請求項11又は12に記載の細胞の分別培養又は2次元パターン培養の方法。
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