JP4522836B2 - Iii族窒化物結晶製造方法及びiii族窒化物結晶成長装置 - Google Patents

Iii族窒化物結晶製造方法及びiii族窒化物結晶成長装置 Download PDF

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Description

本発明は、III族窒化物結晶製造方法及びIII族窒化物結晶成長装置に関する。
一般に、高品質の半導体層を基板上にエピタキシャル成長させる場合には、基板と半導体層の格子定数や熱膨張係数が同程度である必要がある。しかし、III族窒化物半導体はこれらを同時に満足する基板が世の中には存在しない。
従って、III族窒化物では、一般に、III族窒化物半導体とは格子定数や熱膨張係数の大きく異なるサファイアやGaAsのような異種基板上に、ELO等の結晶成長技術を用いて厚膜GaNを成長させている。
しかるに、異種基板を用いて結晶成長されたGaN基板は、転位密度が10cm−2程度と非常に多くの結晶欠陥が含まれており、実用的な高出力のレーザー素子や電子デバイスを作製するには未だ十分な品質であるとはいえない。
一方、高品質なGaN基板を作製するためのGaNバルク単結晶を作製する試みが様々の研究機関においてなされているが、いまだに数ミリ程度のものしか得られていないのが現状であり、実用化には程遠い状態である。
特許文献1(従来技術1)には、Naをフラックスとして用いたGaN結晶成長方法が示されている。この方法は、フラックスとしてのアジ化ナトリウム(NaN)と金属Gaとを原料として、ステンレス製の反応容器(容器内寸法;内径=7.5mm、長さ=100mm)に窒素雰囲気で封入し、この反応容器を600℃〜800℃の温度で24〜100時間保持することにより、GaN結晶を成長させるものである。この方法では、600℃〜800℃程度の比較的低温での結晶成長が可能であり、容器内圧も高々100kg/cm程度と低くできる点が特徴である。
Chemistry of Materials Vol.9 (1997) p.413−416
しかしながら、上述した特許文献1(従来技術1)では、フラックスとしてのアジ化ナトリウム(NaN)とIII族金属Gaとを原料として、ステンレス製の融液保持容器内で反応させることで、GaN結晶成長を行っているが、高温にすることでNaが蒸気となって反応容器内に充満し、低温部があるとその部分にNaが凝固するという現象が発生する。この現象は、結晶成長中、連続的にNaが蒸発するため、GaとNaの混合融液の比率が刻々と変化する。NaとGaの混合融液の比率はGaN結晶成長の重要なパラメータであり、この混合融液の比率が変化すると、安定した結晶成長条件とはならず、大きな結晶を得ることができない。
この問題を解決するためにいくつかの提案がなされているが、万全な対策とはなっていないのが現状である。一例を挙げると、Na洩れを防止するために融液保持容器を密閉する構造にすると、融液保持容器内ではGaとNガスが反応することでNガスが枯渇してしまい、大きな結晶を得ることができなくなる。
本発明は、III族窒化物の結晶成長中に、アルカリ金属とIII族金属の混合融液の混合比
率の変化が少なく、かつ、窒素原料の枯渇を防止することの可能なIII族窒化物結晶製造
方法及びIII族窒化物結晶成長装置を提供することを目的としている。
上記目的を達成するために、請求項1記載の発明は、反応容器内に融液保持容器が収容され、融液保持容器内にアルカリ金属を含む融液が収容されており、アルカリ金属を含む融液中でIII族窒化物を成長させるIII族窒化物結晶製造方法であって、III族窒化物の結晶成長中において、融液保持容器の圧力P1と反応容器内の圧力P2との圧力関係がP2−P1≧C (C>0の定数)の場合にのみ反応容器から融液保持容器に対して窒素原料が供給され、|P2−P1|<Cの場合では反応容器と融液保持容器との間に気体の出入がない状態でIII族窒化物を結晶成長させることを特徴としている。
また、請求項2記載の発明は、請求項1記載のIII族窒化物結晶製造方法において、結晶成長中に融液保持容器内からアルカリ金属が洩れないようにし、かつ融液保持容器内において窒素原料が消費されると融液保持容器内に窒素原料が供給されることを特徴としている。
また、請求項3記載の発明は、請求項1または請求項2記載のIII族窒化物結晶製造方法において、反応容器と融液保持容器とを逆流防止弁で仕切ってIII族窒化物を結晶成長させることを特徴としている。
また、請求項4記載の発明は、請求項3記載のIII族窒化物結晶製造方法において、前記逆流防止弁は、動作圧力を調整可能となっていることを特徴としている。
また、請求項5記載の発明は、反応容器内に融液保持容器が収容され、融液保持容器内にアルカリ金属を含む融液が収容されており、アルカリ金属を含む融液中でIII族窒化物を成長させるIII族窒化物結晶成長装置であって、反応容器と融液保持容器との間を互いに動作方向が逆向きである逆流防止弁で仕切る構造を有していることを特徴としている。
また、請求項6記載の発明は、請求項5記載のIII族窒化物結晶成長装置において、前記逆流防止弁には、動作圧力を調整する機構が設けられていることを特徴としている。
請求項1,請求項2記載の発明では、結晶成長中に融液保持容器内からアルカリ金属が洩れないようにし、かつ融液保持容器内において窒素原料が消費されると融液保持容器内に窒素原料が供給されるので、III族窒化物の結晶成長中に、アルカリ金属とIII族金属(の混合比率の変動が少なく、窒素原料の枯渇を防ぐことができて、大きなIII族窒化物結晶を得ることが可能となる。
また、請求項3記載の発明では、反応容器と融液保持容器を逆流防止弁で仕切ることで、融液保持容器内部のアルカリ金属の蒸気が融液保持容器外部に洩れることを防止でき、混合融液の混合比率の変化が少なく、大きなIII族窒化物単結晶を得ることができる。
また、請求項4記載の発明では、請求項3記載のIII族窒化物結晶製造方法において、
前記逆流防止弁は、動作圧力を調整可能となっているので、例えば、結晶成長時には、動
作圧力を所定の圧力(例えば0.1kg/cm2)にし、融液保持容器内を真空引きする
ときには、動作圧力を0にして真空引きを行なうことが可能となる。
請求項5記載の発明では、反応容器と融液保持容器とを逆流防止弁で仕切る構造を有しているので、融液保持容器内部のアルカリ金属の蒸気が融液保持容器外部に洩れることを防止でき、混合融液の混合比率の変化が少なく、大きなIII族窒化物単結晶を得ることができる。
また、請求項6記載の発明では、請求項5記載のIII族窒化物結晶成長装置において、前記逆流防止弁には、動作圧力を調整する機構が設けられているので、例えば、結晶成長時には、動作圧力を所定の圧力(例えば0.1kg/cm)にし、融液保持容器内を真空引きするときには、動作圧力を0にして真空引きを行なうことが可能となる。
以下、本発明を実施するための最良の形態を説明する。
(第1の形態)
本発明の第1の形態は、反応容器内に融液保持容器が収容され、融液保持容器内にアル
カリ金属(例えばNa)を含む融液が収容されており、アルカリ金属(例えばNa)を含
む融液中でIII族窒化物(例えばGaN)を成長させるIII族窒化物結晶製造方法であって
、III族窒化物(例えばGaN)の結晶成長中には、融液保持容器の圧力P1と反応容器
内の圧力P2との圧力関係がP2−P1≧C (C>0の定数)の場合にのみ、反応容器
から融液保持容器に対して窒素原料(例えばN2ガス)が供給され、P2−P1≧C (
C>0の定数)を満たさない圧力関係では、反応容器と融液保持容器との間に気体の出入
がない状態でIII族窒化物(例えばGaN)を結晶成長させることを特徴としている。
本発明の第1の形態では、結晶成長中に融液保持容器内からアルカリ金属(例えばNa)が洩れないようにし、かつ融液保持容器内において窒素原料(例えばNガス)が消費されると融液保持容器内に窒素原料(例えばNガス)を供給することが可能となり、III族窒化物(例えばGaN)の結晶成長中に、アルカリ金属(例えばNa)とIII族金属(例えばGa)の混合比率の変動が少なく、窒素原料(例えばNガス)の枯渇を防ぐことができて、大きなIII族窒化物結晶(例えばGaN結晶)を得ることが可能となる。
(第2の形態)
本発明の第2の形態は、第1の形態のIII族窒化物結晶製造方法において、結晶成長中
に融液保持容器内からアルカリ金属(例えばNa)が洩れないようにし、かつ窒素原料(
例えばN2ガス)が消費されると融液保持容器内に窒素原料(例えばN2ガス)が供給さ
れることを特徴としている。
本発明の第2の形態では、結晶成長中に融液保持容器内からアルカリ金属(例えばNa)が洩れないようにし、かつ融液保持容器内において窒素原料(例えばNガス)が消費されると融液保持容器内に窒素原料(例えばNガス)が供給されるので、III族窒化物(例えばGaN)の結晶成長中に、アルカリ金属(例えばNa)とIII族金属(例えばGa)の混合比率の変動が少なく、窒素原料(例えばNガス)の枯渇を防ぐことができて、大きなIII族窒化物結晶(例えばGaN結晶)を得ることが可能となる。
(第3の形態)
本発明の第3の形態は、第1または第2の形態のIII族窒化物結晶製造方法において、
反応容器と融液保持容器を逆流防止弁で仕切ってIII族窒化物(例えばGaN)を結晶成
長させることを特徴としている。
本発明の第3の形態では、反応容器と融液保持容器を逆流防止弁で仕切ることで、融液保持容器内部のアルカリ金属(例えばNa)の蒸気が融液保持容器外部に洩れることを防止でき、混合融液の混合比率の変化が少なく、大きなIII族窒化物単結晶(例えばGaN単結晶)を得ることができる。
(第4の形態)
本発明の第4の形態は、第3の形態のIII族窒化物結晶製造方法において、前記逆流防
止弁は、動作圧力を調整可能となっていることを特徴としている。
本発明の第4の形態では、前記逆流防止弁は、動作圧力を調整可能となっているので、例えば、結晶成長時には、動作圧力を所定の圧力(例えば0.1kg/cm)にし、融液保持容器内を真空引きするときには、動作圧力を0にして真空引きを行なうことが可能となる。
(第5の形態)
本発明の第5の形態は、反応容器内に融液保持容器が収容され、融液保持容器内にアルカリ金属(例えばNa)を含む融液が収容されており、アルカリ金属(例えばNa)を含む融液中でIII族窒化物(例えばGaN)を成長させるIII族窒化物結晶成長装置であって、反応容器と融液保持容器とを逆流防止弁で仕切る構造を有していることを特徴としている。
本発明の第5の形態では、反応容器と融液保持容器とを逆流防止弁で仕切る構造を有しているので、融液保持容器内部のアルカリ金属(例えばNa)の蒸気が融液保持容器外部に洩れることを防止でき、混合融液の混合比率の変化が少なく、大きなIII族窒化物単結晶(例えばGaN単結晶)を得ることができる。
(第6の形態)
本発明の第6の形態は、第5の形態のIII族窒化物結晶成長装置において、前記逆流防止弁には、動作圧力を調整する機構が設けられていることを特徴としている。
本発明の第6の形態では、前記逆流防止弁には、動作圧力を調整する機構が設けられているので、例えば、結晶成長時には、動作圧力を所定の圧力(例えば0.1kg/cm)にし、融液保持容器内を真空引きするときには、動作圧力を0にして真空引きを行なうことが可能となる。
図1は実施例1を説明するための図である。図1を参照すると、反応容器1には、ガス導入管2が接続され、また、反応容器1は、ヒーター10により加熱できる構造となっている。反応容器1内には、融液保持容器4が設置されており、融液保持容器4内にアルカリ金属とIII族金属との混合融液5が収容されている。さらに、融液保持容器4には、ガス導入管6とガス排出管7が接続され、ガス導入管6,ガス排出管7には、それぞれ、逆流防止弁8,9が接続されている。
融液保持容器4は、密閉された容器であり、Na蒸気が発生しても容器の外に洩れない構造をしている。さらに、ガス導入管6,ガス排出管7にそれぞれ接続された逆流防止弁8,9により反応容器1と仕切っているので、結晶成長中はこの部分からのNa洩れは発生しない。
逆流防止弁8,9は、順方向からのガス圧に対してはガスが流れることが可能であり、逆方向からのガス圧に対しては遮断する機能を有しているものであり、逆流防止弁8は融液保持容器4に入る方向を順方向とし、逆流防止弁9は融液保持容器4から出る方向を順方向としている。
本実施例1では、融液保持容器4内にアルカリ金属としてNaを5g、III族金属としてGaを5g仕込んだ。仕込みはAr雰囲気のグローブボックス内で行うことでNaの酸化を抑えている。
また、本実施例1では、窒素原料としてNガスを用いている。
融液保持容器4を反応容器1内に収容し、窒素原料としてのNガスを反応容器1内に導入するが、ガスの圧力を高めていくと融液保持容器4の圧力より反応容器1の圧力が高くなり、融液保持容器4の逆流防止弁8は融液保持容器4に入る方向に順方向となるため、融液保持容器4にNガスが充填される。
本実施例1では、この段階でのNガス圧力を設定圧力80kg/cmよりも低い40kg/cmとし、温度上昇に共なう圧力上昇によって結晶成長温度800℃になるときに圧力80kg/cmになるようにしている。
温度上昇時には反応容器1より融液保持容器4の温度が高くなるため、融液保持容器4の内圧が高くなりガス排出管7の逆流防止弁9が動作してNガスが流出するが、その量は僅かであることと結晶成長開始時には平衡状態となるため結晶成長には影響を与えない。
結晶成長中は反応容器1と融液保持容器4とは、同圧となっており、ガス導入管6,ガス排出管7にそれぞれ接続された逆流防止弁8,9で仕切られているため、Na洩れはない。また、GaとNガスが反応しNガスが消費されると、融液保持容器4内のガス圧が低下しガス導入管6の逆流防止弁8が動作してNガスが融液保持容器4内に流入するので、窒素原料(Nガス)の枯渇は発生しない。
降温時には反応容器1が早く冷めるため、融液保持容器4内の圧力が高くなり、ガス排出管7の逆流防止弁9が動作してNガスが流出するが、その量は僅かであることと結晶成長終了後であることから影響はない。
結晶を取出す際には反応容器1のガスを抜くことで融液保持容器4内の圧力が高くなり、ガス排出管7に接続した逆流防止弁9が動作して融液保持容器4内のガスが流出する。
温度を800℃、N圧力を80kg/cmで150時間保持し結晶成長を行った結果、融液保持容器4からのNa洩れがなく大きなIII族窒化物単結晶(GaN単結晶)を得ることができた。
図2は実施例2を説明するための図であり、図2には、融液保持容器4の断面が示されている。
図2を参照すると、融液保持容器4は、容器本体11と、蓋12とからなり、容器本体11には凸状のフランジ13が形成され、蓋12には凹状のフランジ14が形成され、ボルト16とナット17で固定することで、金属ガスケット15により密封される構造となっている。
また、蓋12には、ガス導入管6と、ガス導入管6に接続された逆流防止弁8と、ガス排出管7と、ガス排出管7に接続された逆流防止弁9とが設けられている。逆流防止弁8と逆流防止弁9は動作方向が逆向きになっており、逆流防止弁8は融液保持容器4に入る方向に動作し、逆流防止弁9は融液保持容器4から出る方向に動作するようになっている。
図3,図4は逆流防止弁8,9の構成例を示す図である。逆流防止弁8,9は、例えば図3に示すように、ガス圧が左方向(順方向)からかかると、バネ18を押戻すことで弁19が開きガスが流れる一方、図4に示すように、右方向(逆方向)から圧力がかかると、弁19が閉じてガスは流れなくなるもので、図3,図4の例では、順方向で動作するためにはバネ18を押戻す圧力(動作圧力)が必要となる。
また、結晶成長後には逆流防止弁8にNaが付着するため、洗浄する必要があり構造を簡単にして洗浄しやすくすることが求められる。このため、逆流防止弁8,9としては、例えば図5に示すように弁20の開閉により動作する構造のものや、図6(a),(b)に示すようにボール21やロッド形状22の自重で動作するものなどを用いることもでき、この場合には、構造を簡単にすることができて洗浄が容易となる。
本実施例2では、逆流防止弁8,9の動作圧力を0.1kg/cmとして実施例1に示した実験条件で結晶成長を行ったところ、Na洩れはなく、大きなIII族窒化物単結晶(GaN単結晶)を得ることができた。
実施例2に記載したように、逆流防止弁には動作圧力があり、それを利用してNa漏れを防止しているが、逆流防止弁9の動作圧力を高く設定すると融液保持容器4内を完全に真空にできないこととなる。前記したように動作圧力を0.1kg/cmにすると、融液保持容器4内は0.1kg/cm以下にならない。
結晶成長の仕込み及び取出しにはNaの酸化を防止するためAr雰囲気のグローブボックスを使用しているが、グローブボックス内の雰囲気はppmオーダーで管理され、非常に高純度なAr雰囲気となっている。グローブボックス内に融液保持容器4を入れる場合、真空引きを行い、Nガスを排出し、Ar雰囲気を汚染しないようにする必要がある。
本実施例3は、融液保持容器4に接続された逆流防止弁8,9に動作圧力を調整する機構を設けたもので、結晶成長時には逆流防止弁8,9の動作圧力を適正な値に設定し、結晶成長終了後には逆流防止弁8,9の動作圧力を下げることで、融液保持容器4内の真空度を高くできる。動作圧力の調整は、例えば図7に示すようにナット23を回転させることでネジ24を調整し、バネ18にかかる圧力を調整するもので、バネ18が戻った状態より緩めると動作圧力は0となり真空引きが行えるようになる。
本実施例3では、逆流防止弁8,9の動作圧力を0.1kg/cmとして実施例1に示した実験条件で結晶成長を行い、結晶の取出し時には逆流防止弁8,9の動作圧力を0に調整してグローブボックス前室に入れ、真空引きによって融液保持容器4内のNガスを排出しグローブボックス内で開封したが、グローブボックスのNによる汚染はなかった。
以上、上述の説明では、アルカリ金属としてNa(ナトリウム)を用い、III族元素の原料として金属Ga(ガリウム)を用い、窒素原料として窒素ガスを使用し、III族窒化物としてGaNを結晶成長しているが、本発明は、これらに限定されるものではない。
すなわち、本発明において、III族窒化物とは、Ga(ガリウム),Al(アルミニウム),In(インジウム),B(ボロン)から選ばれる1種類あるいは複数の種類のIII族金属と窒素との化合物を意味する。
また、アルカリ金属としては、通常、Na(ナトリウム)やK(カリウム)が使用されるが、Li(リチウム)やその他のアルカリ金属、あるいは複数の種類のアルカリ金属を混合して使用する事もできる。
また、III族金属原料も、特に限定されるものではなく、III族金属、III族窒化物、III族元素を構成元素とする物質、その他適宜使用することができる。
また、窒素の原料も、特に限定されるものではなく、窒素ガスのみならず、窒素を構成元素に含む物質を使用できる。
本発明は、光ディスク用青紫色光源,紫外光源(LD,LED),電子写真用青紫色光源,III族窒化物電子デバイスなどに利用されるIII族窒化物(例えばGaN)結晶を作製するのに用いられる。
実施例1を説明するための図である。 実施例2を説明するための図である。 逆流防止弁の動作を説明するための図である。 逆流防止弁の動作を説明するための図である。 逆流防止弁の構成例を示す図である。 逆流防止弁の構成例を示す図である。 動作圧力調整機構を備えた逆流防止弁の構成例を示す図である。
符号の説明
1 反応容器
2 ガス導入管
4 融液保持容器
5 混合融液
6 ガス導入管
7 ガス排出管
8,9 逆流防止弁
11 容器本体
12 蓋
13,14 フランジ
15 金属ガスケット
16 ボルト
17 ナット
18 バネ
19,20 弁
21 ボール
22 ロッド形状
23 ナット
24 ネジ

Claims (6)

  1. 反応容器内に融液保持容器が収容され、融液保持容器内にアルカリ金属を含む融液が収容されており、アルカリ金属を含む融液中でIII族窒化物を成長させるIII族窒化物結晶製造方法であって、III族窒化物の結晶成長中において、融液保持容器の圧力P1と反応容器内の圧力P2との圧力関係がP2−P1≧C (C>0の定数)の場合にのみ反応容器から融液保持容器に対して窒素原料が供給され、|P2−P1|<Cの場合では反応容器と融液保持容器との間に気体の出入がない状態でIII族窒化物を結晶成長させることを特徴とするIII族窒化物結晶製造方法。
  2. 請求項1記載のIII族窒化物結晶製造方法において、結晶成長中に融液保持容器内からアルカリ金属が洩れないようにし、かつ融液保持容器内において窒素原料が消費されると融液保持容器内に窒素原料が供給されることを特徴とするIII族窒化物結晶製造方法。
  3. 請求項1または請求項2記載のIII族窒化物結晶製造方法において、反応容器と融液保持容器とを逆流防止弁で仕切ってIII族窒化物を結晶成長させることを特徴とするIII族窒化物結晶製造方法。
  4. 請求項3記載のIII族窒化物結晶製造方法において、前記逆流防止弁は、動作圧力を調整可能となっていることを特徴とするIII族窒化物結晶製造方法。
  5. 反応容器内に融液保持容器が収容され、融液保持容器内にアルカリ金属を含む融液が収容されており、アルカリ金属を含む融液中でIII族窒化物を成長させるIII族窒化物結晶成長装置であって、反応容器と融液保持容器との間を互いに動作方向が逆向きである逆流防止弁で仕切る構造を有していることを特徴とするIII族窒化物結晶成長装置。
  6. 請求項5記載のIII族窒化物結晶成長装置において、前記逆流防止弁には、動作圧力を調整する機構が設けられていることを特徴とするIII族窒化物結晶成長装置。
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