JP4516352B2 - ポンプ速度および調整弁の変化と、不活性気体の噴射とによるプロセスチャンバ内の圧力制御 - Google Patents
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Description
ある時には、一次ポンプの上流側で二次ポンプの出口弁の下流側に、不活性気体を噴射しながら一次ポンプの速度を制御することを利用し、
またある時には、その速度が制御されていない一次ポンプの入口に連結された制御弁の上流側に不活性気体を噴射することを利用する、様々な複雑さの数多くの解決方法も知られている。
一次ポンプおよび/または二次ポンプの速度を制御し、したがって非常に長期の傾向に応答することを可能にすること、
調整弁自体の上流側で一次ポンプの上流側に位置する点で、流量制御の下で不活性気体を噴射し、したがって中期の傾向に応答すること、および
調整弁の開度を制御し、したがって、噴射気体によってまた一次ポンプの速度を調整することによって適当な動作状態の下に置かれたとき、非常に速い反応をもたらすことによって、調整を実行することである。
一次ポンプおよび/または二次ポンプの速度が制御され、
調整弁の開度が制御され、かつ調整弁が一次ポンプの入口に連結され、
不活性気体噴射装置の流量が制御され、かつ不活性気体噴射装置が調節弁の上流側に設けられたシステムを提供する。
一次ポンプおよび/または二次ポンプが、一次ポンプおよび/または二次ポンプを調節可能な速度で制御する制御手段に連結され、
調整弁が、調整弁を制御するための制御手段に結合され、
不活性気体噴射装置が、不活性気体源から、噴射弁および噴射弁を制御するための制御手段を備える噴射パイプを介して不活性気体を噴射し、かつ
マイクロプロセッサまたはマイクロコントローラなどの中央制御手段が、一次ポンプおよび/または二次ポンプのための、調整弁のための、および噴射弁のためのそれぞれの制御手段を制御することができる。
2 一次ポンプ
3 一次ポンプの制御手段
4 調整弁
5 調整弁の制御手段
6 不活性気体噴射装置
7 不活性気体源
7a 噴射パイプ
7b 噴射弁
7c 噴射弁の制御手段
8 二次ポンプ
9 隔離弁
10 中央制御手段
11 二次ポンプの制御手段
12 圧力センサ
13 基準手段
Claims (6)
- プロセスチャンバ(1)から気体をポンピングするシステムであり、一次ポンプ(2)と、二次ポンプ(8)と、不活性気体噴射装置(6)と、調整弁(4)とを含むポンピングシステムであって、
前記一次および/または二次ポンプ(2および/または8)の速度が制御され、
前記調整弁(4)の開度が制御され、かつ前記調整弁(4)が前記一次ポンプ(2)の入口に連結され、
前記不活性気体噴射装置(6)の流量が制御され、かつ前記不活性気体噴射装置(6)が前記調整弁(4)の上流側に設けられ、
前記調整弁(4)が、前記プロセスチャンバ(1)内の圧力および気体噴射流量の状態における小さい振幅の速い変化を補償するように制御され、不活性気体噴射装置(6)が、前記プロセスチャンバ(1)内の圧力および気体噴射流量の状態におけるより大きな振幅の変化を補償するように制御され、かつ一次および/または二次ポンプ(2および/または8)の速度が、前記プロセスチャンバ(1)内の圧力および気体噴射流量の状態におけるより長期の傾向および振幅のより大きな変化を補償するように制御される、ポンピングシステム。 - 前記一次ポンプおよび/または二次ポンプ(2および/または8)の速度および不活性気体噴射装置(6)の流量が、前記調整弁(4)を、前記調整弁が適切な反応感度を呈する適切な中間の開度である中間位置にするように決定される、請求項1に記載のポンピングシステム。
- 前記一次および/または二次ポンプ(2および/または8)が、前記一次および/または二次ポンプ(2および/または8)を調節可能な速度で制御するための制御手段(3または11)に連結され、
前記調整弁(4)が、前記調整弁(4)の制御手段(5)に結合され、
前記不活性気体噴射装置(6)が、不活性気体源(7)から、噴射弁(7b)および噴射弁(7b)を制御するための制御手段(7c)を備える噴射パイプ(7a)を介して不活性気体を噴射し、
マイクロプロセッサまたはマイクロコントローラなど中央制御手段(10)が、前記一次ポンプおよび/または二次ポンプ(2および/または8)のための、前記調整弁(4)のための、および前記噴射弁(7b)のためのそれぞれの前記制御手段(3、11、5、7c)を制御する、請求項1に記載のポンピングシステム。 - 前記中央制御手段(10)が、基準手段(13)から受け取る基準信号に応じて、前記調整弁(4)および前記噴射弁(7b)の前記開度位置に関する情報に応じて、かつ圧力センサ(12)から出される前記プロセスチャンバ(1)内の前記圧力の測定値に応じて、前記それぞれの制御手段(3、11、5、7c)を制御する信号を生成する、請求項3に記載のポンピングシステム。
- 設備が、少なくとも1個のプロセスチャンバ(1)および請求項1に記載のポンピングシステムを含む、半導体およびマイクロ電子機械システム(MEMS)を製造するシステム。
- 半導体またはマイクロ電子機械システム(MEMS)を製造する方法であって、プロセスチャンバ(1)内部の雰囲気が、請求項1に記載のポンピングシステムを使用してポンピングされ、調節弁(4)の開度が、前記プロセスチャンバ(1)内の圧力および気体噴射流量の状態における小さい振幅の速い変化を補償するように制御され、不活性気体墳射装置(6)が、前記プロセスチャンバ(1)内の圧力および気体噴射流量の状態におけるより大きな振幅の変化を補償するように流量で制御され、また一次ポンプおよび/または二次ポンプ(2および/または8)の速度が、前記プロセスチャンバ(1)の圧力および/または気体噴射流量の前記状態におけるより長期の傾向および大きな振幅の変化を補償するように制御される、方法。
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