JPH0549837A - 生成ガス昇圧システム - Google Patents
生成ガス昇圧システムInfo
- Publication number
- JPH0549837A JPH0549837A JP3208274A JP20827491A JPH0549837A JP H0549837 A JPH0549837 A JP H0549837A JP 3208274 A JP3208274 A JP 3208274A JP 20827491 A JP20827491 A JP 20827491A JP H0549837 A JPH0549837 A JP H0549837A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- pressure tank
- pressure
- low
- compressor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
- F25J—LIQUEFACTION, SOLIDIFICATION OR SEPARATION OF GASES OR GASEOUS OR LIQUEFIED GASEOUS MIXTURES BY PRESSURE AND COLD TREATMENT OR BY BRINGING THEM INTO THE SUPERCRITICAL STATE
- F25J3/00—Processes or apparatus for separating the constituents of gaseous or liquefied gaseous mixtures involving the use of liquefaction or solidification
- F25J3/02—Processes or apparatus for separating the constituents of gaseous or liquefied gaseous mixtures involving the use of liquefaction or solidification by rectification, i.e. by continuous interchange of heat and material between a vapour stream and a liquid stream
- F25J3/04—Processes or apparatus for separating the constituents of gaseous or liquefied gaseous mixtures involving the use of liquefaction or solidification by rectification, i.e. by continuous interchange of heat and material between a vapour stream and a liquid stream for air
- F25J3/04763—Start-up or control of the process; Details of the apparatus used
- F25J3/04769—Operation, control and regulation of the process; Instrumentation within the process
- F25J3/04781—Pressure changing devices, e.g. for compression, expansion, liquid pumping
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
- F25J—LIQUEFACTION, SOLIDIFICATION OR SEPARATION OF GASES OR GASEOUS OR LIQUEFIED GASEOUS MIXTURES BY PRESSURE AND COLD TREATMENT OR BY BRINGING THEM INTO THE SUPERCRITICAL STATE
- F25J3/00—Processes or apparatus for separating the constituents of gaseous or liquefied gaseous mixtures involving the use of liquefaction or solidification
- F25J3/02—Processes or apparatus for separating the constituents of gaseous or liquefied gaseous mixtures involving the use of liquefaction or solidification by rectification, i.e. by continuous interchange of heat and material between a vapour stream and a liquid stream
- F25J3/04—Processes or apparatus for separating the constituents of gaseous or liquefied gaseous mixtures involving the use of liquefaction or solidification by rectification, i.e. by continuous interchange of heat and material between a vapour stream and a liquid stream for air
- F25J3/04763—Start-up or control of the process; Details of the apparatus used
- F25J3/04769—Operation, control and regulation of the process; Instrumentation within the process
- F25J3/04812—Different modes, i.e. "runs" of operation
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
- F25J—LIQUEFACTION, SOLIDIFICATION OR SEPARATION OF GASES OR GASEOUS OR LIQUEFIED GASEOUS MIXTURES BY PRESSURE AND COLD TREATMENT OR BY BRINGING THEM INTO THE SUPERCRITICAL STATE
- F25J2230/00—Processes or apparatus involving steps for increasing the pressure of gaseous process streams
- F25J2230/42—Processes or apparatus involving steps for increasing the pressure of gaseous process streams the fluid being nitrogen
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
- F25J—LIQUEFACTION, SOLIDIFICATION OR SEPARATION OF GASES OR GASEOUS OR LIQUEFIED GASEOUS MIXTURES BY PRESSURE AND COLD TREATMENT OR BY BRINGING THEM INTO THE SUPERCRITICAL STATE
- F25J2240/00—Processes or apparatus involving steps for expanding of process streams
- F25J2240/40—Expansion without extracting work, i.e. isenthalpic throttling, e.g. JT valve, regulating valve or venturi, or isentropic nozzle, e.g. Laval
- F25J2240/44—Expansion without extracting work, i.e. isenthalpic throttling, e.g. JT valve, regulating valve or venturi, or isentropic nozzle, e.g. Laval the fluid being nitrogen
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
- F25J—LIQUEFACTION, SOLIDIFICATION OR SEPARATION OF GASES OR GASEOUS OR LIQUEFIED GASEOUS MIXTURES BY PRESSURE AND COLD TREATMENT OR BY BRINGING THEM INTO THE SUPERCRITICAL STATE
- F25J2245/00—Processes or apparatus involving steps for recycling of process streams
- F25J2245/02—Recycle of a stream in general, e.g. a by-pass stream
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
- F25J—LIQUEFACTION, SOLIDIFICATION OR SEPARATION OF GASES OR GASEOUS OR LIQUEFIED GASEOUS MIXTURES BY PRESSURE AND COLD TREATMENT OR BY BRINGING THEM INTO THE SUPERCRITICAL STATE
- F25J2290/00—Other details not covered by groups F25J2200/00 - F25J2280/00
- F25J2290/62—Details of storing a fluid in a tank
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
- Separation By Low-Temperature Treatments (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は気体濃度を一定に保ちつつ生成ガス
を昇圧させるよう構成した生成ガス昇圧システムを提供
することを目的とする。 【構成】 窒素発生装置１により生成されたガスは低圧
タンク３に滞溜された後、圧縮機４により昇圧されて高
圧タンク６に供給される。低圧タンク３内の圧力が下限
値以下に低下したとき、開閉弁１７が開弁し、高圧タン
ク６内の生成ガスバイパス管路１１、分岐管路１３を介
して低圧タンク３に還流され、圧縮機４の吸引量に対す
る窒素発生装置１の供給不足分が高圧タンク６より補充
され、生成ガスのＮ2 濃度低下が防止できる。
を昇圧させるよう構成した生成ガス昇圧システムを提供
することを目的とする。 【構成】 窒素発生装置１により生成されたガスは低圧
タンク３に滞溜された後、圧縮機４により昇圧されて高
圧タンク６に供給される。低圧タンク３内の圧力が下限
値以下に低下したとき、開閉弁１７が開弁し、高圧タン
ク６内の生成ガスバイパス管路１１、分岐管路１３を介
して低圧タンク３に還流され、圧縮機４の吸引量に対す
る窒素発生装置１の供給不足分が高圧タンク６より補充
され、生成ガスのＮ2 濃度低下が防止できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は生成ガス昇圧システムに
係り、特に所定濃度の生成ガスを一定の気体濃度保ちつ
つ昇圧させるよう構成した生成ガス昇圧システムに関す
る。
係り、特に所定濃度の生成ガスを一定の気体濃度保ちつ
つ昇圧させるよう構成した生成ガス昇圧システムに関す
る。
【０００２】
【従来の技術】例えばＰＳＡ（Pressure Swing Adsorpt
ion)式の窒素発生装置によって生成された窒素ガスを昇
圧させて高圧タンクに貯溜する生成ガス昇圧システムと
しては、図３に示すような構成のシステムがある。
ion)式の窒素発生装置によって生成された窒素ガスを昇
圧させて高圧タンクに貯溜する生成ガス昇圧システムと
しては、図３に示すような構成のシステムがある。
【０００３】同図中、１は窒素発生装置、２は開閉弁、
３は低圧タンク、４は圧縮機（コンプレッサ）、５はド
ライヤ、６は高圧タンク、７は圧力センサ、８は制御装
置である。
３は低圧タンク、４は圧縮機（コンプレッサ）、５はド
ライヤ、６は高圧タンク、７は圧力センサ、８は制御装
置である。
【０００４】窒素発生装置１により生成された所定濃度
の生成ガスは開閉弁２の開弁により管路９を通って低圧
タンク３に貯溜される。そして、圧縮機４が起動される
と低圧タンク３内のガスは圧縮機４に吸引されて加圧さ
れ、ドライヤ５を通過する過程で除湿されて高圧タンク
６に供給される。
の生成ガスは開閉弁２の開弁により管路９を通って低圧
タンク３に貯溜される。そして、圧縮機４が起動される
と低圧タンク３内のガスは圧縮機４に吸引されて加圧さ
れ、ドライヤ５を通過する過程で除湿されて高圧タンク
６に供給される。
【０００５】高圧タンク６内の圧力は圧力センサ７によ
り検出されており、目標圧力に達すると制御装置８は圧
縮機４をアンロード状態に切換える。
り検出されており、目標圧力に達すると制御装置８は圧
縮機４をアンロード状態に切換える。
【０００６】従って、高圧タンク６に貯溜された高圧の
生成ガスが使用されて圧力が低下すると、制御装置８は
圧縮機４を再起動して昇圧した生成ガスを高圧タンク６
へ供給する。
生成ガスが使用されて圧力が低下すると、制御装置８は
圧縮機４を再起動して昇圧した生成ガスを高圧タンク６
へ供給する。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかるに、上記圧縮機
４は低圧タンク３内の生成ガスを強制的に吸引するた
め、窒素発生装置１より供給される流量以上の流量が低
圧タンク３により圧縮機４に流れることになる。つま
り、開閉弁２よりの供給量よりも多い流量のガスが圧縮
機４へ吸引される。
４は低圧タンク３内の生成ガスを強制的に吸引するた
め、窒素発生装置１より供給される流量以上の流量が低
圧タンク３により圧縮機４に流れることになる。つま
り、開閉弁２よりの供給量よりも多い流量のガスが圧縮
機４へ吸引される。
【０００８】ところが、ＰＳＡ式の窒素発生装置１にあ
っては、図４に示す如く、生成ガスの吐出量と生成ガス
の濃度が比例関係にあるため、低圧タンク３内のガス減
少に伴って、装置１からの吐出量が増加すると、生成ガ
スＮ2 の濃度が低下してしまう。従って、従来の構成で
は圧縮機４が連続運転されると、次第に高圧タンク６の
生成ガスのＮ2 濃度が低下してしまうといった課題が生
ずる。
っては、図４に示す如く、生成ガスの吐出量と生成ガス
の濃度が比例関係にあるため、低圧タンク３内のガス減
少に伴って、装置１からの吐出量が増加すると、生成ガ
スＮ2 の濃度が低下してしまう。従って、従来の構成で
は圧縮機４が連続運転されると、次第に高圧タンク６の
生成ガスのＮ2 濃度が低下してしまうといった課題が生
ずる。
【０００９】そこで、本発明は上記課題を解決した生成
ガス昇圧システムを提供することを目的とする。
ガス昇圧システムを提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は、気体分離装置
により生成された低圧で所定濃度の生成ガスを貯蔵する
低圧タンクと、該低圧タンク内の生成ガスを昇圧させる
圧縮機と、該圧縮機により高圧とされた生成ガスを貯溜
する高圧タンクとを有してなる生成ガス昇圧システムに
おいて、前記高圧タンクと低圧タンクとの間に両タンク
間を連通するバイパス管路を設け、該バイパス管路に、
前記圧縮機が前記低圧タンクからのガスを加圧して前記
高圧タンクに供給するとき、前記低圧タンクからの不足
分を補うように前記バイパス管路を介して一定量のガス
を前記高圧タンクから前記低圧タンクに還流させるガス
還流手段を設けてなる。
により生成された低圧で所定濃度の生成ガスを貯蔵する
低圧タンクと、該低圧タンク内の生成ガスを昇圧させる
圧縮機と、該圧縮機により高圧とされた生成ガスを貯溜
する高圧タンクとを有してなる生成ガス昇圧システムに
おいて、前記高圧タンクと低圧タンクとの間に両タンク
間を連通するバイパス管路を設け、該バイパス管路に、
前記圧縮機が前記低圧タンクからのガスを加圧して前記
高圧タンクに供給するとき、前記低圧タンクからの不足
分を補うように前記バイパス管路を介して一定量のガス
を前記高圧タンクから前記低圧タンクに還流させるガス
還流手段を設けてなる。
【００１１】
【作用】圧縮機が起動して低圧タンク内の生成ガスを吸
引するとき、高圧タンク内の一定量の生成ガスがバイパ
ス管路を介して低圧タンクに還流されるため、気体分離
装置からの生成ガス吐出量が変動せず、生成ガスの濃度
を低下させずに高圧ガスを高圧タンクに安定供給しう
る。
引するとき、高圧タンク内の一定量の生成ガスがバイパ
ス管路を介して低圧タンクに還流されるため、気体分離
装置からの生成ガス吐出量が変動せず、生成ガスの濃度
を低下させずに高圧ガスを高圧タンクに安定供給しう
る。
【００１２】
【実施例】図１及び図２に本発明になる生成ガス昇圧シ
ステムの一実施例を示す。
ステムの一実施例を示す。
【００１３】尚、両図中前述した図３と同一構成部分に
は同一符号を付してその説明を省略する。
は同一符号を付してその説明を省略する。
【００１４】図１において、低圧タンク３と高圧タンク
６との間には両タンク間を連通するバイパス管路１１が
配設されている。このバイパス管路１１は圧縮機４が起
動されるとき、高圧タンク６内の生成ガスを低圧タンク
３へ還流させるための管路である。又、システム始動時
には低圧タンク３内の生成ガスがバイパス管路１１を通
って高圧タンク６に供給され、両タンクの均圧化が行わ
れる。
６との間には両タンク間を連通するバイパス管路１１が
配設されている。このバイパス管路１１は圧縮機４が起
動されるとき、高圧タンク６内の生成ガスを低圧タンク
３へ還流させるための管路である。又、システム始動時
には低圧タンク３内の生成ガスがバイパス管路１１を通
って高圧タンク６に供給され、両タンクの均圧化が行わ
れる。
【００１５】１２は電磁弁よりなる開閉弁で、通常閉弁
しているが、後述するようにシステム始動時又は圧縮機
４の起動時に開弁される。
しているが、後述するようにシステム始動時又は圧縮機
４の起動時に開弁される。
【００１６】開閉弁１の上流側と下流側のバイパス管路
１１には分岐管路１３の両端が分岐接続されている。こ
の分岐管路１３はバイパス管路１１と同一の内径寸法を
有している。
１１には分岐管路１３の両端が分岐接続されている。こ
の分岐管路１３はバイパス管路１１と同一の内径寸法を
有している。
【００１７】１４は流量制御弁で、分岐管路１３に設け
られた可変絞り１５と、分岐管路１３を流れるガス圧力
に応じて可変絞り１５の弁開度を調整し、一定流量Ｑｃ
が流れるように流量制御を行う流量コントローラ１６と
よりなる。
られた可変絞り１５と、分岐管路１３を流れるガス圧力
に応じて可変絞り１５の弁開度を調整し、一定流量Ｑｃ
が流れるように流量制御を行う流量コントローラ１６と
よりなる。
【００１８】又、分岐配管１３には電磁弁よりなる開閉
弁１７が配設されている。尚、上記バイパス管路１１、
開閉弁１２、分岐配管１３、流量制御弁１４、開閉弁１
７よりガス還流機構１８が構成されている。
弁１７が配設されている。尚、上記バイパス管路１１、
開閉弁１２、分岐配管１３、流量制御弁１４、開閉弁１
７よりガス還流機構１８が構成されている。
【００１９】１９は低圧タンク３内の圧力を検出する圧
力センサである。２０は高圧タンク６と下流側装置（図
示せず）との間に配設された開閉弁で、高圧タンク６内
の圧力が供給可能圧力に達したとき、開弁され、始動当
初は閉弁している。
力センサである。２０は高圧タンク６と下流側装置（図
示せず）との間に配設された開閉弁で、高圧タンク６内
の圧力が供給可能圧力に達したとき、開弁され、始動当
初は閉弁している。
【００２０】制御回路８は圧力センサ７，１９からの検
出信号に応じて後述するように圧縮機４及び開閉弁２，
１２，１７，２０を開閉制御する。
出信号に応じて後述するように圧縮機４及び開閉弁２，
１２，１７，２０を開閉制御する。
【００２１】ここで、上記構成になる生成ガス昇圧シス
テムの動作及び制御回路８が実行する処理について説明
する。
テムの動作及び制御回路８が実行する処理について説明
する。
【００２２】制御回路８は電源オンにされると図２に示
す処理を実行する。
す処理を実行する。
【００２３】図２において、制御回路８はステップＳ１
（以下ステップを省略する）で窒素発生装置１を始動す
る。
（以下ステップを省略する）で窒素発生装置１を始動す
る。
【００２４】窒素発生装置１は始動してから生成ガスＮ
2 の濃度が所定濃度（Ｎ2 ＝９９〜９９．９％）に達す
るまでしばらく時間を要する。そのため、Ｓ２では装置
１からの生成ガスがＮ2 ガス濃度が９９％以上になった
とき開閉弁２を開弁する（Ｓ３）。
2 の濃度が所定濃度（Ｎ2 ＝９９〜９９．９％）に達す
るまでしばらく時間を要する。そのため、Ｓ２では装置
１からの生成ガスがＮ2 ガス濃度が９９％以上になった
とき開閉弁２を開弁する（Ｓ３）。
【００２５】これで、装置１により生成される生成ガス
は管路９を通って低圧タンク３へ供給される。
は管路９を通って低圧タンク３へ供給される。
【００２６】低圧タンク３内の圧力ＰL は圧力センサ１
９により検出されており、制御回路８は低圧タンク３内
の圧力ＰL が所定圧力Ｐ0 （例えば装置１からの供給
圧）に達した時点で（Ｓ４）、バイパス管路１１に設け
られた開閉弁１２を開弁せしめる（Ｓ５）。
９により検出されており、制御回路８は低圧タンク３内
の圧力ＰL が所定圧力Ｐ0 （例えば装置１からの供給
圧）に達した時点で（Ｓ４）、バイパス管路１１に設け
られた開閉弁１２を開弁せしめる（Ｓ５）。
【００２７】これにより、低圧タンク３内の生成ガスが
バイパス管路１１を通って高圧タンク６に供給され、両
タンク間の均圧化が行われる。この均圧工程により、高
圧タンク６内の昇圧時間が短縮される。
バイパス管路１１を通って高圧タンク６に供給され、両
タンク間の均圧化が行われる。この均圧工程により、高
圧タンク６内の昇圧時間が短縮される。
【００２８】両タンク３，６の圧力ＰL とＰH が等しく
なり上記均圧工程が完了すると（Ｓ６）、制御回路８は
開閉弁１２を閉弁（Ｓ７）させて圧縮機４を起動させる
（Ｓ８）。圧縮機４は低圧タンク３内のガスを吸引して
昇圧させ、昇圧した高圧ガスを高圧タンク６に供給す
る。
なり上記均圧工程が完了すると（Ｓ６）、制御回路８は
開閉弁１２を閉弁（Ｓ７）させて圧縮機４を起動させる
（Ｓ８）。圧縮機４は低圧タンク３内のガスを吸引して
昇圧させ、昇圧した高圧ガスを高圧タンク６に供給す
る。
【００２９】高圧タンク６内の圧力ＰH が目標値Ｐ1 に
達するまでの間、圧縮機４は運転される。
達するまでの間、圧縮機４は運転される。
【００３０】Ｓ９では、低圧タンク３内の圧力ＰL が圧
縮機４の始動により次第に低下するため、圧力ＰL が装
置１により生成された生成ガスの圧力Ｐ0 より低下した
かどうかをチェックする。即ち、圧縮機４は開閉弁２の
供給量Ｑａより多い流量Ｑｂで低圧タンク３内のガスを
吸引するため、低圧タンク４内の圧力が次第に低下す
る。
縮機４の始動により次第に低下するため、圧力ＰL が装
置１により生成された生成ガスの圧力Ｐ0 より低下した
かどうかをチェックする。即ち、圧縮機４は開閉弁２の
供給量Ｑａより多い流量Ｑｂで低圧タンク３内のガスを
吸引するため、低圧タンク４内の圧力が次第に低下す
る。
【００３１】低圧タンク４内の圧力が予め設定された下
限値まで低下したことを圧力センサ１９により検出され
ると、制御回路８は分岐管路１３に設けられた開閉弁１
７を開弁する（Ｓ１０）。これにより、高圧タンク６内
の高圧ガスがバイパス管路１１、分岐管路１３を介して
低圧タンク３に還流される。
限値まで低下したことを圧力センサ１９により検出され
ると、制御回路８は分岐管路１３に設けられた開閉弁１
７を開弁する（Ｓ１０）。これにより、高圧タンク６内
の高圧ガスがバイパス管路１１、分岐管路１３を介して
低圧タンク３に還流される。
【００３２】流量制御弁１４は高圧タンク６からの生成
ガスの圧力に応じて可変絞り１５の弁開度を調整してお
り、低圧タンク３への供給量を制御する。流量コントロ
ーラ１６は可変絞り１５を通過する流量ＱｃがＱｃ＝Ｑ
ｂ−Ｑａとなるように弁開度を制御する。
ガスの圧力に応じて可変絞り１５の弁開度を調整してお
り、低圧タンク３への供給量を制御する。流量コントロ
ーラ１６は可変絞り１５を通過する流量ＱｃがＱｃ＝Ｑ
ｂ−Ｑａとなるように弁開度を制御する。
【００３３】これにより、窒素発生装置１の生成能力を
越える流量が圧縮機４に吸引されることが防止され、装
置１より供給される生成ガスのＮ2 濃度が低下すること
が防止される。従って、高圧タンク６には高純度のＮ2
ガスが一定濃度を保ったまま昇圧した状態で安定供給さ
れる。
越える流量が圧縮機４に吸引されることが防止され、装
置１より供給される生成ガスのＮ2 濃度が低下すること
が防止される。従って、高圧タンク６には高純度のＮ2
ガスが一定濃度を保ったまま昇圧した状態で安定供給さ
れる。
【００３４】従って、Ｓ１１で高圧タンク６内の圧力Ｐ
H が目標値Ｐ1 に達すると、開閉弁１７を閉弁する（Ｓ
１２）とともに、圧縮機４をアンロード状態に切換える
（Ｓ１３）。
H が目標値Ｐ1 に達すると、開閉弁１７を閉弁する（Ｓ
１２）とともに、圧縮機４をアンロード状態に切換える
（Ｓ１３）。
【００３５】続いて、高圧タンク６の下流側に設けられ
た開閉弁２０を開弁して下流側へ高圧生成ガスを供給す
る（Ｓ１４）。
た開閉弁２０を開弁して下流側へ高圧生成ガスを供給す
る（Ｓ１４）。
【００３６】その後は、下流側でのガス使用量に応じて
変動する高圧タンク６内の圧力ＰH を監視し、（Ｓ１
５）圧力ＰH が下限値まで低下すると、Ｓ８に戻り上記
したＳ８〜Ｓ１５の処理を繰返す。
変動する高圧タンク６内の圧力ＰH を監視し、（Ｓ１
５）圧力ＰH が下限値まで低下すると、Ｓ８に戻り上記
したＳ８〜Ｓ１５の処理を繰返す。
【００３７】尚、圧縮機４がアンロード状態のときも窒
素発生装置１は生成ガスを低圧タンク３に供給し続けて
おり、次回の圧縮機４による圧縮動作に備えている。
素発生装置１は生成ガスを低圧タンク３に供給し続けて
おり、次回の圧縮機４による圧縮動作に備えている。
【００３８】又、上記実施例では可変絞り１５を分岐配
管１３に設ける構成としたが、これに限らず、要はバイ
パス管路１１を介して高圧タンク６のガスが圧縮機４の
吸引量に対する不足分を補うように還流されるガス流量
を制御する構成とされた流量制御弁が設けられていれば
良い。この場合、流量制御弁としてはダイヤフラムを利
用した流量制御弁、あるいはパイロット圧力によりピス
トンを変位されて弁開度を調整する機構等がある。
管１３に設ける構成としたが、これに限らず、要はバイ
パス管路１１を介して高圧タンク６のガスが圧縮機４の
吸引量に対する不足分を補うように還流されるガス流量
を制御する構成とされた流量制御弁が設けられていれば
良い。この場合、流量制御弁としてはダイヤフラムを利
用した流量制御弁、あるいはパイロット圧力によりピス
トンを変位されて弁開度を調整する機構等がある。
【００３９】
【発明の効果】上述の如く、本発明になる生成ガス昇圧
システムは、圧縮機の起動により低圧タンクの圧力が低
下したとき、高圧タンク内の生成ガスをバイパス管路を
介して低圧タンクに還流させて低圧タンクからの不足分
を補うようにしたため、気体分離装置からの生成ガス供
給量を生成ガス供給能力の一定量に保つことができ、生
成ガスの濃度が低下することを防止できる。従って、昇
圧された所定濃度の生成ガスを高圧タンクへ安定供給す
ることができる等の特長を有する。
システムは、圧縮機の起動により低圧タンクの圧力が低
下したとき、高圧タンク内の生成ガスをバイパス管路を
介して低圧タンクに還流させて低圧タンクからの不足分
を補うようにしたため、気体分離装置からの生成ガス供
給量を生成ガス供給能力の一定量に保つことができ、生
成ガスの濃度が低下することを防止できる。従って、昇
圧された所定濃度の生成ガスを高圧タンクへ安定供給す
ることができる等の特長を有する。
【図１】本発明になる生成ガス昇圧システムの一実施例
の概念構成図である。
の概念構成図である。
【図２】制御回路が実行する処理を説明するためのフロ
ーチャートである。
ーチャートである。
【図３】従来の生成ガス昇圧システムを説明するための
構成図である。
構成図である。
【図４】窒素発生装置の吐出流量と濃度との関係を示す
図である。
図である。
【符号の説明】 １ 窒素発生装置 ２，１２，１７ 開閉弁 ３ 低圧タンク ４ 圧縮機 ６ 高圧タンク ７，１９ 圧力センサ ８ 制御回路 １１ バイパス管路 １３ 分岐管路 １４ 流量制御弁 １５ 可変絞り １６ 流量コントローラ １８ ガス還流機構
Claims (1)
- 【請求項１】 気体分離装置により生成された低圧で所
定濃度の生成ガスを貯蔵する低圧タンクと、該低圧タン
ク内の生成ガスを昇圧させる圧縮機と、該圧縮機により
高圧とされた生成ガスを貯溜する高圧タンクを有してな
る生成ガス昇圧システムにおいて、 前記高圧タンクと低圧タンクとの間に両タンク間を連通
するバイパス管路を設け、 該バイパス管路に、前記圧縮機が前記低圧タンクからの
ガスを加圧して前記高圧タンクに供給するとき、前記低
圧タンクからの不足分を補うように前記バイパス管路を
介して一定量のガスを前記高圧タンクから前記低圧タン
クに還流させるガス還流手段を設けてなることを特徴と
する生成ガス昇圧システム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3208274A JPH0549837A (ja) | 1991-08-20 | 1991-08-20 | 生成ガス昇圧システム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3208274A JPH0549837A (ja) | 1991-08-20 | 1991-08-20 | 生成ガス昇圧システム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0549837A true JPH0549837A (ja) | 1993-03-02 |
Family
ID=16553527
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3208274A Pending JPH0549837A (ja) | 1991-08-20 | 1991-08-20 | 生成ガス昇圧システム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0549837A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008248847A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Hitachi Ltd | ガス昇圧圧縮装置 |
| JP2011148670A (ja) * | 2010-01-25 | 2011-08-04 | Taiyo Nippon Sanso Corp | 高圧且つ高純度の窒素ガス供給装置及び供給方法 |
| WO2015075840A1 (ja) * | 2013-11-25 | 2015-05-28 | ギガフォトン株式会社 | ガス精製システム及びレーザ装置 |
| WO2016125529A1 (ja) * | 2015-02-04 | 2016-08-11 | 株式会社日立産機システム | ガス昇圧圧縮装置およびガス圧縮機 |
| JP2018177615A (ja) * | 2017-04-20 | 2018-11-15 | 大陽日酸株式会社 | 水素ガス製造装置、及び水素ガス製造方法 |
-
1991
- 1991-08-20 JP JP3208274A patent/JPH0549837A/ja active Pending
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008248847A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Hitachi Ltd | ガス昇圧圧縮装置 |
| JP2011148670A (ja) * | 2010-01-25 | 2011-08-04 | Taiyo Nippon Sanso Corp | 高圧且つ高純度の窒素ガス供給装置及び供給方法 |
| US20190081449A1 (en) * | 2013-11-25 | 2019-03-14 | Gigaphoton Inc. | Gas laser apparatus |
| WO2015075840A1 (ja) * | 2013-11-25 | 2015-05-28 | ギガフォトン株式会社 | ガス精製システム及びレーザ装置 |
| WO2015076415A1 (ja) * | 2013-11-25 | 2015-05-28 | ギガフォトン株式会社 | ガスレーザ装置 |
| JPWO2015076415A1 (ja) * | 2013-11-25 | 2017-03-16 | ギガフォトン株式会社 | ガスレーザ装置 |
| US9722384B2 (en) | 2013-11-25 | 2017-08-01 | Gigaphoton Inc. | Gas laser apparatus |
| US11081850B2 (en) | 2013-11-25 | 2021-08-03 | Gigaphoton Inc. | Gas laser apparatus |
| US10971883B2 (en) | 2013-11-25 | 2021-04-06 | Gigaphoton Inc. | Gas laser apparatus |
| US10038295B2 (en) | 2013-11-25 | 2018-07-31 | Gigaphoton Inc. | Gas laser apparatus |
| US10666008B2 (en) | 2013-11-25 | 2020-05-26 | Gigaphoton Inc. | Gas laser apparatus |
| US20190074655A1 (en) * | 2013-11-25 | 2019-03-07 | Gigaphoton Inc. | Gas laser apparatus |
| WO2016125529A1 (ja) * | 2015-02-04 | 2016-08-11 | 株式会社日立産機システム | ガス昇圧圧縮装置およびガス圧縮機 |
| JPWO2016125529A1 (ja) * | 2015-02-04 | 2017-11-30 | 株式会社日立産機システム | ガス昇圧圧縮装置およびガス圧縮機 |
| CN107407272A (zh) * | 2015-02-04 | 2017-11-28 | 株式会社日立产机系统 | 气体升压压缩装置和气体压缩机 |
| JP2018177615A (ja) * | 2017-04-20 | 2018-11-15 | 大陽日酸株式会社 | 水素ガス製造装置、及び水素ガス製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US9810374B2 (en) | Gas-filling apparatus and method for filling gas | |
| US10221811B2 (en) | Vaporized fuel processing apparatus | |
| JP4965769B2 (ja) | 多レート充填機能を備えるガス発生システム | |
| US10710019B2 (en) | Pressure swing adsorption type of gas production device | |
| US11130093B2 (en) | Oxygen supplying apparatus | |
| JPH0549837A (ja) | 生成ガス昇圧システム | |
| US20190041292A1 (en) | Fuel vapor processing device | |
| JP4516352B2 (ja) | ポンプ速度および調整弁の変化と、不活性気体の噴射とによるプロセスチャンバ内の圧力制御 | |
| JP4675774B2 (ja) | 空気圧縮機 | |
| JP4009426B2 (ja) | Ｂｏｇ圧縮機の起動時の運転制御方法 | |
| JP5188742B2 (ja) | ガス昇圧圧縮装置 | |
| JP6378632B2 (ja) | 水素荷卸し方法及び水素ステーション | |
| JP2009082782A (ja) | 気体分離装置 | |
| JPH04371210A (ja) | 気体分離装置 | |
| JP2781527B2 (ja) | 圧力タンク式給水装置のポンプ制御方法 | |
| JP5939917B2 (ja) | 気体分離装置 | |
| US20200298180A1 (en) | Membrane separation apparatus | |
| TWI634263B (zh) | Gas booster compression device and gas compressor | |
| JPH0125920B2 (ja) | ||
| JPS5815793A (ja) | 圧縮機の無負荷運転制御装置 | |
| JPH0663861U (ja) | 内燃機関の燃料供給装置 | |
| CN115454159A (zh) | 一种气体输出设备 | |
| JP2774433B2 (ja) | 遠心圧縮機の容量制御装置 | |
| JPH03161008A (ja) | 気体分離装置 | |
| JP2003056506A (ja) | 液圧アクチュエータ制御装置 |