JP4508502B2 - 漏洩電流を最小化する撮像アレイ - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光又は電離性放射エネルギを検出するために使用されるイメージャに関する。具体的に述べると、本発明は、画像を劣化させる電流を低減すように設計した撮像アレイを有するイメージャに関する。
【０００２】
【発明の背景】
半導体ダイオード・アレイで構成した放射エネルギ(radiation) イメージャは通常、電離性放射エネルギ（放射線）を検出するために使用される。半導体ダイオード・アレイは検出器画素を形成するためにシンチレータと共に配列されて、Ｘ線ＣＴ（コンピュータ断層撮影）用に使用される。
【０００３】
イメージャ（例えば、Ｘ線イメージャ）における漏洩電流はノイズ及びダーク・オフセットの安定性にかなり影響を及ぼすことがある。漏洩電流は付加的なノイズ源であり、また温度につれてドリフトを生じる欠点のあるオフセットを生じる。ダーク・オフセットは、何ら放射エネルギがないときに撮像アレイが生じる信号である。例えば周囲の温度変化又はイメージャ内の温度変化に起因してダーク・オフセットが時間につれて変化することは、望ましくない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
このようなイメージャの構成部品の欠陥による漏洩電流は近年になって製造方法の改良により劇的に減少したが、漏洩電流は未だ少なくとも４つの源から生じる。第１の漏洩電流源は、半導体ウェーハから、撮像アレイを設けた半導体チップを切断することから生じる。切断縁は典型的には十分に不動態化されていず、従って、かなり大きな漏洩電流源になる傾向がある。第２の漏洩電流源は、アレイの隣り合う画素ダイオードが非常に小さいバイアス電圧（すなわち、５０ｍＶ未満）で且つ僅かに異なる逆バイアス電圧に保持される場合に生じ、その結果として隣り合う光感応撮像素子間にバイポーラ電流が生じる。このバイポーラ電流は、ダイオードの逆バイアスを大きく（すなわち、５０ｍＶよりもかなり大きく）すると、ゼロまで低減する。大きな（≫５０ｍＶ）逆バイアスを使用すると、撮像用途において２つの利点が生じる。１つの利点は、前述したように、撮像用途におけるオフセットの源であり且つオフセット熱ドリフトの源である、不所望な漏洩電流の一成分を低減できることである。２つ目の利点は、ダイオードが逆バイアスされ、ダイオードの１端子が回路することにより、信号電荷がダイオード電圧の低下を生じることである。この電荷は、次いでスイッチ装置を使用してダイオードを増幅器へ接続することにより、読み出すことが出来る。これにより、単一の増幅器を使用して、アレイ内の多数のダイオード上の電荷をアナログ多重化読出しすることが可能になる。しかしながら、このような大きな逆バイアスは他の漏洩電流源を増大させる。このため、多くの検出器アレイはほぼゼロのバイアス電圧で作動されている。本発明では、バイポーラ電流を低減する為にダイオードのバイアスは大きくする（≫５０ｍＶ）。第３の漏洩電流源は、半導体材料中の欠陥である。第４の漏洩電流源は、半導体と誘電体との界面における欠陥である。これらの全ての漏洩電流源は放射エネルギ損傷によって増大することがあり、第４の源は放射エネルギに対して特に敏感である。従って、検出器ダイオード・アレイで構成された放射エネルギ・イメージャでは、放射エネルギの作用によって引き起こされる動作の劣化を低減する為の作動を有することも望ましい。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明は、第１の面では、撮像装置を提供する。この撮像装置は、基板と、該基板内にある少なくとも１つの放射エネルギ感応撮像領域と、上記基板の切断縁に位置し又は該切断縁に直ぐ隣接して位置するガード領域とを含む。ガード領域は、撮像装置が使用中である時に切断縁から放射エネルギ感応撮像領域に到達する漏洩電流を低減する。撮像領域及びガード領域は基板に対して電気的に逆バイアスされる。
【０００６】
本発明は、第２の面では、イメージャを提供する。このイメージャは、半導体基板と、該半導体基板内にある複数の光感応撮像領域と、基板の切断縁に位置し又は該切断縁に直ぐ隣接して位置するガード領域と、半導体基板が複数の光感応撮像領域及びガード領域と共にそれぞれ構成した複数の光感応撮像素子及びガード素子に電気的逆バイアスを供給する複数の電気コンタクトとを含む。
【０００７】
本発明の第３及び第４の面では、第１の面における撮像装置及び第２の面におけるイメージャをそれぞれ製造する方法を提供する。
【０００８】
【発明の実施の形態】
図１は、半導体チップ（図示せず）の縁１２近くの関心部分１０の断面図である。縁は、半導体チップを大きな半導体ウェーハから切断して得た場合の区域を表す。ガード素子のガード領域１４が縁１２。本明細書では、「に位置し又は縁に直ぐ隣接して位置する」という用語は、アレイの中の２つの指名した部分の間に介在するアレイ構成部品が何もないことを表す。ガード素子の機能は、切断縁１２からそれに最も近い放射エネルギ感応撮像素子へ到達する漏洩電流を低減することである。上側層２８とそれに対して高濃度にドープされた下側層３６とを有する半導体基板２７は、撮像領域、例えば、ドープした撮像領域１６、１８及び２０と共に、ドープした領域１６、１８及び２０に対応する複数の放射エネルギ感応撮像素子（この例では、３つの代表的なフォトダイオードを図示）を構成する。同様に、層３６及び２８は、ガード領域１４と共に、放射エネルギ感応ガード領域（この例では、また、フォトダイオード）を構成する。撮像領域（すなわち、領域１６、１８及び２０）を含むチップの領域は活性領域と称される。一実施例では、上記ガード領域（又は、複数のガード領域）は、活性領域の横方向寸法に沿って延在する。
【０００９】
一実施例では、半導体基板２７はＮ導電型にドープし、層３６は層２８に対して高濃度にドープする。この例では、高濃度にドープとは、約１０¹⁸ドーパント数／ｃｍ³ より大きいドーパント濃度を意味する。各々の撮像領域はＰ＋導電型であり、例えば、硼素を約１０¹⁸ドーパント数／ｃｍ³ 以上の濃度でドープし（ここで、ドーパント数／ｃｍ³ とは、特定のドーパント・タイプの集合を表す）、通常は約０．０５オームｃｍと約０．０００１オームｃｍとの間の範囲内の抵抗率を持つ。この例では、ガード領域は撮像領域と同様な深さ及び同じドーピング型を持つ。フォトダイオード及びガード・ダイオードは、例えば、約０．２５ミクロン〜約２ミクロンの深さを持つ。ガード素子は深さが約１ミクロン〜約１０ミクロンであることが好ましい。しかし、ガード素子の電気的範囲は、空乏領域がドープした領域を超えて延在するように逆バイアスを印加することにより、増大させることが出来る。ドーピング・レベル及びバイアスに依存して、空乏領域の範囲は２０ミクロン以上にし得る。
【００１０】
本例では可視光に感応するダイオードとして上述したが、放射エネルギ感応撮像素子及び／又はガード素子は、約０．５ｅＶ（すなわち、赤外線）〜約３ｅＶ（すなわち、紫外線）の光、Ｘ線、（１ｋＶより高い）高エネルギ荷電粒子、及びガンマ線に感応するものであってよいことが理解されよう。また、ガード素子は放射エネルギ感応撮像素子と全く同じ形式の素子である必要が無いことが理解されよう。例えば、ガード素子のガード領域１４に使用されるドーパントは、撮像領域のドーパントとは異なるが、同じ導電型（すなわち、Ｎ型、Ｐ型など）を生成する化学的不純物であってよい。一例として、硼素の代わりに、アンチモンをガード・リング用ドーパントに使用してもよい。さらに、ガード領域１４の半導体材料は、撮像領域を取り囲む半導体材料と異なる材料にすることが出来る。
例えば、一方にシリコンを使用し、他方にシリコン・ゲルマニウム合金を使用してもよい。
【００１１】
オプションとして、隣り合う撮像領域の間に反射領域２２、２４及び２６を設ける。反射領域は中位濃度にドープした半導体（以下に詳しく述べる）で構成され、撮像領域の導電型とは反対の導電型にドープされ、またこの例では、ガード領域の導電型とは同様に反対の導電型にドープされる。例えば、撮像領域がＰ＋型にドープされた場合、反射領域は約１０¹²〜約１０¹⁷ドーパント数／ｃｍ³ 程度でＮ−又はＮ＋導電型になり、且つ約０．０１〜約１０オームｃｍの抵抗率を持ち、好ましくは、出来るだけ浅く（例えば、約０．５ミクロン以下に）なるようにドープする。典型的には、熱酸化層４１を半導体２７の表面上に形成し、例えば、約０．０５〜約１．０ミクロンの厚さを持つ二酸化シリコンで構成する。中位濃度にドープした反射領域２２、２４及び２６の機能は、上部の酸化物と半導体との界面から少数キャリアを反射し、少数キャリアの発生を抑制して、光感応撮像素子における漏洩電流を低減することである。オプションとして、反射領域のいくつか又は全部に、約１０¹⁸ドーパント数／ｃｍ³ 以上のドーパント濃度を持つドープしたＮ＋導電型の部分（例えば、図５における部分５０２）を設ける。このような比較的高いドーピング濃度は、漏洩電流の低減及び反射領域における再結合に一層効果的であるので望ましい。しかし、一般的に、このように高濃度にドープしたＮ＋領域が撮像用フォトダイオードの空乏領域の中へ延在することは望ましくない。低濃度にドープした反射領域は撮像用フォトダイオードの空乏領域の中へ延在することが出来る。ガード領域及び反射領域は共に、ガード・ダイオードの空乏領域の中へ延在することが出来る。空乏領域の典型的な範囲は１０〜１００ミクロンである。
【００１２】
放射エネルギ感応撮像素子の電圧を読み出すのに増幅器を使用する場合、増幅器は典型的には、非常に小さい不均一な電圧を撮像素子に印加する。この不均一さの原因は、増幅器が（多くの装置と同様に）完全でないことである。従って、隣り合う撮像素子（例えば、ダイオード１４、１６、１８）は僅かに異なる電圧が印加されることがあり、その結果、隣り合う素子の両方に印加される電圧が小さい、すなわち、ｋＴ／ｅ〜５０ｍＶと同等である場合は、該隣り合う撮像素子の間にバイポーラ電流が生じる可能性がある。バイポーラ電流はまた、撮像素子が増幅器に接続されている間にガード素子が増幅器に結合されていないので、ガード素子と最も近い放射エネルギ感応撮像素子との間に生じ得る。画像劣化についてのこのようなバイポーラ電流の負の効果（例えば、ノイズ）は、切断縁からの同じ負の漏洩電流によるものであり得る。バイポーラ電流を低減するために、基板に対してガード素子及び放射エネルギ感応撮像素子に実質的な（すなわち、１００ｍＶより大きい）逆バイアスを印加する。しかし、逆バイアスはまた、光感応撮像素子において他の漏洩電流源を増大させるという望ましくない効果も生じさせる。とは言え、実質的な逆バイアスは、正味の漏洩電流を低減することが出来る。その上、用途によっては、逆バイアスされた撮像素子上に電荷を蓄積させることが出来るように、実質的な逆バイアスが必要とされる。
【００１３】
ここで、放射エネルギ感応撮像素子に印加される逆バイアスはガード素子に対するものと同じ大きさである必要はないことが理解されよう。最適な逆バイアスの大きさは素子の設計に左右される。例えば、比較的大きな逆バイアス（例えば、＞２０Ｖ）をガード素子に印加すると、より深く且つより幅広い空乏領域４２が生じ（図３に破線で示す）、これは切断縁１２からの漏洩電流を低減するためのガード素子の能力を改善する。空乏領域について以下により詳しく説明する。しかし、同様な大きさの逆バイアスを放射エネルギ感応撮像素子に印加すると、不所望に大きな漏洩電流が生じることがある。
【００１４】
図２は、図１の部分１０の別の断面図であり、この場合、シンチレータ・セグメント３３、３４及び３５が設置されている。本発明の一実施態様では、イメージャ部分１０は放射エネルギ・イメージャの一部分であり、放射エネルギ感応撮像素子はフォトダイオードである。シンチレータは、撮像しようとする種類の入射放射エネルギを吸収して光学フォトンを放出するようになっており、ＣＴシステムの実施態様では、典型的には約３ｍｍの厚さを持つ。通常のシンチレーション材料は、（Ｙ_y Ｇｄ，Ｏ）：Ｃｅ、ＣｄＷＯ₄ 、沃化セシウム（ＣｓＩ）等である。撮像領域１６、１８及び２０の各々の上にはシンチレータ・ブロック（３３、３４及び３５）が設けられている。各シンチレータ・ブロックは典型的には、撮像領域内部に光を保持するために、出口側を除いて全て反射体３７で囲まれている。反射材料は、プラスチック、エポキシ又は接着剤の母材の中に入れた金属又はホワイトパウダ（例えば、ＴｉＯ₂ ）であってよい。反射材料の別の例としては、金属、プラスチック及び白色顔料の積層複合物である。上記の放出された可視光はフォトダイオード１６、１８及び２０に入射する。この光の入射により電流が生じ、この電流は時間積分され、周期的に読み出されて、ディジタル・データとして変換される。当業者には理解されるように、シンチレータ３３、３４及び３５とフォトダイオード１６、１８及び２０との間には付加的な層（ここでは簡単化のために図示していない）を設けてもよい。例えば、湿分障壁層（例えば、窒化シリコンや燐ドープ二酸化シリコン）又は光学結合用接着材のような層４９を設けてもよい。
【００１５】
ここで図１に戻って説明すると、半導体層３６は層２８よりも高濃度にドープし、好ましくは、層２８と同じ導電型にする。層３６は、好ましくはＮ＋層あって、そのドーピング濃度を約１０^１８〜約１０^２１ドーパント数／ｃｍ^３程度とし、また、層２８は約１０^１２〜約１０^１７ドーパント数／ｃｍ^３程度の低濃度にドープしたＮ−層である。高濃度にドープした層の機能は、光への露出により発生した少数キャリアを反射して戻して放射エネルギ感応撮像素子で収集できるようにすることであり、また層２８の空乏領域の外部からの漏洩電流（すなわち、所謂「拡散漏洩電流」）の発生を抑制することである。
【００１６】
好ましくは、撮像領域１６、１８及び２０の横方向寸法（例えば、図１の参照符号５で示した領域の水平方向の範囲）は、図１の層２８の厚さ３２と同等か又はそれより大きくする。これにより、放射エネルギによって発生された少数キャリアが拡散により一撮像領域から隣接の撮像領域へ到達すること、従ってクロストークが生じることを防止する。また、シンチレータ３４（図２参照）によって発生された信号キャリアがガード素子（１４）へ向かうことによる損失を最小にするために、厚さ３２は距離３８（例えば、約７０ミクロン）及び距離４０（例えば、約１００ミクロン）に比して小さくすること（例えば、約１０〜約９０ミクロン）が好ましい。距離３８は縁１２の最も遠い点からガード領域１４の内側の点までの距離であり、距離４０はガード領域１４の内側の縁と最も近い撮像領域（本例では、領域１６）との間の距離である。
【００１７】
図３は、種々の寸法及び空乏領域をより明瞭に示す為に光学的反射領域２２、２４又は２６を省略した、図１のイメージャ部分１０の一部を示す。空乏領域４２、４４、４６及び４８に関して、その各々の深さ及び横方向範囲は（ダイオード素子（例えば１６、１８及び２０）を構成するドープした領域の境界から測定して）約１〜約２５ミクロンである。この空乏領域の大きさは層２８のドーピング濃度及逆バイアス電圧に依存する。放射エネルギ感応撮像素子の隣り合う撮像領域の間の距離（例えば、距離５０）は約２００ミクロンであり、また隣り合う空乏領域の間の距離（例えば、距離５１）は約１５０ミクロンである。ガード領域の空乏領域４２と直ぐ隣接する撮像領域の空乏領域（すなわち、空乏領域４４）との間の距離５２は約７５ミクロンである。各々の撮像領域の幅（例えば、撮像領域１６の幅５４）は約７００ミクロンである。
【００１８】
図４は、図３のイメージャ部分１０のうちの縁１２付近の部分４００の拡大図である。部分４００は、ガード領域１４及びそれに隣接する第１の撮像領域１６に注目している。距離４０１は、縁１２と最も近い撮像領域（本例では、領域１６）との間の距離である。当業者に公知のように、ガード素子がダイオードであり、且つ放射エネルギ感応撮像素子がフォトダイオードである場合、図３に関して説明したように、各素子には関連したそれぞれの空乏領域４２及び４４がある。読出し回路（図示せず）におけるノイズを増大させる原因となるフォトダイオードの容量が、空乏領域４４の深さ４０６に逆比例する。従って、ノイズ低減設計の観点からは、フォトダイオードの空乏領域の深さを増大させることによって該容量を小さくすることが望ましい。しかしながら、切断縁とフォトダイオードとの間の距離４０１は約１００ミクロンに過ぎず、また空乏領域をガード領域１４とオーバーラップするほど大きくすることは出来ない。オーバーラップすると、ガード・ダイオードがフォトダイオードから電荷を「盗む」ことが起こり得るからである。しかし、隣り合う撮像領域の間の距離（幅）は同じにしなくともよいことに注意されたい。
【００１９】
切断縁からの漏洩電流に関する二次的問題は、切断縁１２からの撮像領域（例えば、）フォトダイオード１６、１８など）の距離及び活性領域の厚さ２８を含む。典型的には、フォトダイオードの配置は切断縁から０．１ｍｍの所（図４の距離４０１）で開始され、フォトダイオードの寸法は、例えば、横方向に０．８ｍｍ程度であり、約０．２ｍｍずつ間隔を空けている。撮像領域が切断縁に近くなればなるほど、撮像領域に到達する漏洩電流の量が多くなる。ガード領域１４がない場合は、この漏洩電流は領域１６の縁と切断縁１２との間の距離４０１にほぼ逆比例する。ガード領域は、それが縁に近接しているので、漏洩電流に対する優先的なシンク（受容部）を提供し、従って、撮像領域１６に達する漏洩電流を著しく低減する。また、活性領域の基板区域（例えば、図１の層２８）の厚さを増大すればするほど、切断縁がより長くなるので、漏洩電流がより大きくなる。このような基板層２８の厚さは漏洩電流に関して良くないが、基板の厚さを保持することは、（活性領域に吸収される光の量が増大するので）ダイオード利得が増大し且つ（吸収される光の量が温度に左右されないので）利得の温度係数が低減するので望ましい。その上、低濃度にドープした半導体の層２８が５０ミクロンより厚い場合、製造が安価になり且つ品質が高くなる。
【００２０】
図５は、部分１０を含む図１と同様な代表的な半導体チップの部分５００の断面図であり、関連する電気結合用接続部が設けてある。さらに、前に述べたようにオプションとしてＮ＋部分（例えば、部分５０２）を備えた反射領域２２及び２４が図示されている。基板２７に対してガード素子及び撮像素子に逆バイアスを供給するための２つの代替例について、図５を参照して以下に説明する。
【００２１】
１つの例では、素子の１つ以上の領域内に高濃度にドープしたＮ＋領域５０４を設ける。好ましくは、バイアス用コンタクト領域５０４が約１０¹⁸〜約１０²¹ドーパント数／ｃｍ³ にドープされる。電気コンタクト５０８、５１０、５１２及び５１４が例えばアルミニウムで構成されて、ガード領域１４、撮像領域１６及び１８，ならびに領域１０４に対してそれぞれ電気結合を行う。この例では、コンタクト５１４はカソード・コンタクトとして作用し、約１０ボルトの正電圧源に結合される。コンタクト５０８は約−１０ボルトの負電圧源に結合されるアノード・コンタクトとして作用し、撮像領域（本例では、５１及び５１２）に結合されるコンタクトは電気的アースに接続される。
【００２２】
逆バイアスのもう１つの例では、領域５０４は存在しない。基板２７が電気的に接地され、負の電圧（例えば、−１０ボルト）がガード・ダイオード及び撮像領域フォトダイオードに上述のコンタクト手段を介して印加される。
【００２３】
ここで、シリコンをベースとして用いて部分５００を製造する例を説明する。
シリコン基板２７が低濃度にドープしたＮ−層（層２８）と深いＮ＋拡散層（３６）を有する。この基板を作成するには、例えば、高温で気相の源から燐を拡散させる。次いで、ウェーハの一方の面を研磨して、一方の面にあるＮ＋層を除去する。次いで、酸化物層を、例えば、ウェーハを高温で酸素に露出させることにより生長させ、或いは標準的な方法を用いて堆積する。フォトレジストマスクを形成し、次いでエッチングを行うことにより、Ｎ＋領域（５０２）の所望の位置に対応するパターンを作ることが出来る。イオン打ち込み又は拡散により、Ｎ＋領域５０２を作成する。本発明の方法の一実施態様では、次いで酸化物をエッチングのより除去する。次いで、ウェーハの全表面を覆うように新しく酸化物を成長させ又は堆積し、パターン形成する。この酸化物は前と同様にパターン形成されて、所望のＰ＋領域（１４、１６、１８）を露出させる。イオン打ち込み又は拡散により、Ｐ＋領域を作成する。別の酸化物を成長させ又は堆積し、前述のようにパターン形成する。このエッチング工程により、電気コンタクトのために所望の通りにＰ＋及びＮ＋領域の上方にバイア(via) を作成する。コンタクト用金属を堆積し、パターン形成し、エッチングすることにより、ダイオード及びガード素子を逆バイアスするための所望のコンタクト構造（５０８、５１０、５１２及び５１４）を得る。図５に示されるＮ−領域（２２、２４、２６、５０６）は、典型的には、シリコンが露出されている処理工程中にイオン打ち込みによって作成される。適切な処理の時点は、最初の酸化物層より前の最初の工程か、或いはＮ＋領域（５０２）を作成した後での酸化物の除去後である。
【００２４】
本書で好ましい実施態様を図示し説明したが、当業者にとって、本発明の精神から離れることなく種々の変更、追加、置換等を行うことができ、従ってこれらが特許請求の範囲に記載した通りの本発明の範囲内に含まれることは明らかであろう。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明によるイメージャの一例の関連部分の断面図である。
【図２】シンチレータを設けた図１のイメージャ部分を示す断面図である。
【図３】種々の寸法を示す図１のイメージャ部分を示す部分図である。
【図４】図１のイメージャ部分の一部分の拡大図である。
【図５】逆バイアス印加用の電気コンタクトを設けた、図１のイメージャ部分の断面図である。
【符号の説明】
１０ イメージャの一部分
１２ 切断縁
１４ ガード領域
１６、１８、２０、５０４ 放射エネルギ感応撮像領域
２２、２４、２６、５０６ 反射領域
４１ 酸化物層
５０２ Ｎ＋導電型部分
５０８、５１０、５１２、５１４ 電気コンタクト

Claims (13)

1. 放射エネルギ撮像装置において、基板（２７）と、該基板内にある少なくとも１つの放射エネルギ感応撮像領域（１６、１８、２０）と、上記基板の切断縁（１２）に位置し又は該切断縁に直ぐ隣接して位置し、上記少なくとも１つの放射エネルギ感応撮像領域（１６、１８、２０）と同じドーピング型を持っているガード領域（１４）であって、当該撮像装置の使用中に上記少なくとも１つの放射エネルギ感応撮像領域及び上記ガード領域を電気的に逆バイアスすることにより、上記切断縁から上記少なくとも１つの放射エネルギ感応撮像領域に到達する漏洩電流を低減するガード領域（１４）と、
   直ぐ隣り合う放射エネルギ感応撮像領域の間で上記基板内にそれぞれ配置された複数の反射領域と、
   上記放射エネルギ感応撮像領域（１６、１８、２０）及び上記反射領域の表面上に形成した酸化物層（４１）とを有し、
   上記少なくとも１つの放射エネルギ感応撮像領域（１６、１８、２０）は、第１の導電型の複数の放射エネルギ感応撮像領域からなり、
   上記反射領域は、上記酸化物層（４１）と上記基板（２７）との界面から少数キャリアを反射し、
   上記反射領域は、上記第１の導電型とは反対の第２の導電型の領域であり、
   上記反射領域は、上記放射エネルギ感応撮像領域（１６、１８、２０）の空乏領域の中へ延在する低濃度にドープした反射領域と、上記放射エネルギ感応撮像領域（１６、１８、２０）の上記空乏領域の中へ延在しない高濃度にドープした反射領域とを有している、ことを特徴とする放射エネルギ撮像装置。
2. 請求項１記載の放射エネルギ撮像装置において、上記基板（２７）はドープした半導体材料の第１の層（３６）と、該第１の層と比べてに低濃度にドープした半導体材料の第２の層（２８）とを有する、放射エネルギ撮像装置。
3. 請求項１記載の放射エネルギ撮像装置において、上記少なくとも１つの放射エネルギ感応撮像領域（１６、１８、２０）は上記撮像装置の活性領域を規定し、上記ガード領域は活性領域の横方向寸法に沿って延在している、放射エネルギ撮像装置。
4. 請求項１記載の放射エネルギ撮像装置において、上記基板（２７）は半導体基板で構成され、上記少なくとも１つの放射エネルギ感応撮像領域（１６、１８、２０）は該半導体基板と共に少なくとも１つのダイオードを構成している、放射エネルギ撮像装置。
5. 請求項１記載の放射エネルギ撮像装置において、上記基板（２７）は半導体基板で構成され、上記ガード領域（１４）は該半導体基板と共にダイオードを構成している、放射エネルギ撮像装置。
6. 請求項１記載の放射エネルギ撮像装置において、上記基板（２７）はドープした半導体材料の第１の層（３６）と、該第１の層と比べて低濃度にドープした半導体材料の第２の層（２８）とを有し、また、上記第２の層の厚さ（３２）が上記ガード領域の各々の幅（３８）よりも小さく且つ上記ガード領域と上記切断縁（１２）から最も近い放射エネルギ感応撮像領域（１６）との間の距離（４０）よりも小さい、放射エネルギ撮像装置。
7. 請求項２記載の放射エネルギ撮像装置において、
   上記基板（２７）は上記第１の導電型とは反対の第２の導電型を持ち、
   上記基板（２７）が半導体基板で構成されている、放射エネルギ撮像装置。
8. 請求項７記載の放射エネルギ撮像装置において、上記第１の導電型がＰ型であり、上記第２の導電型がＮ型である、放射エネルギ撮像装置。
9. 請求項１記載の放射エネルギ撮像装置において、上記基板（２７）が半導体基板で構成されており、上記半導体基板（２７）はドープした半導体材料の第１の層（３６）と、該第１の層と比べて低濃度にドープした半導体材料の第２の層（２８）とを有し、また、上記少なくとも１つの放射エネルギ感応撮像領域（１６、１８、２０）の各々の横方向寸法が上記第２の層の厚さ（３２）より大きいか又はそれに等しい、放射エネルギ撮像装置。
10. イメージャにおいて、半導体基板（２７）と、該半導体基板内にある複数の光感応撮像領域（１６、１８）であって、
    上記半導体基板と共に複数の光感応撮像素子を構成する複数の光感応撮像領域（１６、１８）と、
    上記基板の切断縁（１２）に位置し又は該切断縁に直ぐ隣接して位置していて、上記複数の光感応撮像領域（１６、１８）と同じドーピング型を持っている上記半導体基板と共にガード・ダイオードを構成するガード領域（１４）と、
    上記複数の光感応撮像素子及び上記ガード領域（１４）に電気的逆バイアスを供給する複数の電気コンタクト（５０８、５１０、５１２、５１４）と、
    直ぐ隣り合う光感応撮像領域（１６、１８）の間で上記基板内にそれぞれ配置された複数の反射領域と、
    上記光感応撮像領域（１６、１８）及び上記反射領域の表面上に形成した酸化物層（４１）と、
    を有し、
    上記反射領域は、上記酸化物層（４１）と上記半導体基板（２７）との界面から少数キャリアを反射し、
    上記反射領域は、上記複数の光感応撮像領域（１６、１８）と異なるドーピング型を持っており、
    上記反射領域は、上記光感応撮像領域（１６、１８）の空乏領域の中へ延在する低濃度にドープした反射領域と、上記光感応撮像領域（１６、１８）の上記空乏領域の中へ延在しない高濃度にドープした反射領域とを有しており、
    上記ガード領域（１４）は上記イメージャの使用中に上記複数の光感応撮像素子及び上記ガード領域（１４）に電気的逆バイアスが供給されることにより上記切断縁から上記複数の光感応撮像領域に到達する漏洩電流を低減するイメージャ。
11. 請求項１０記載のイメージャにおいて、上記複数の光感応撮像領域（１６、１８）は上記基板と共に複数のフォトダイオードを構成しており、上記ガード領域（１４）は上記基板と共にガード・ダイオードを構成している、イメージャ。
12. 請求項１１記載のイメージャにおいて、上記複数の光感応撮像領域はＰ型にドープされた半導体材料を有する、イメージャ。
13. 請求項１１記載のイメージャにおいて、上記複数の光感応撮像領域（１６、１８）は上記イメージャの活性領域を規定し、上記ガード領域は活性領域の横方向寸法に沿って延在している、イメージャ。

Images