JP3978193B2 - クロストーク補正方法およびｘ線ｃｔ装置 - Google Patents

Description

この発明は、矩形状に２次元配列されるシンチレータ（ｓｃｉｎｔｉｌｌａｔｏｒ）のクロストーク（ｃｒｏｓｓ ｔａｌｋ）補正方法およびこれを用いたＸ線ＣＴ装置に関する。

近年、Ｘ線ＣＴ装置のＸ線検出器部分には、無機結晶からなるシンチレータが用いられる。これらは、厚みを持って扇状に拡がるコーン状のＸ線ビームを発するＸ線管と対向する平面上に複数配設され、ＭＤ（Ｍｕｌｔｉ Ｄｅｔｅｃｔｏｒ−ｒｏｗ）ＣＴ装置を構成する。そして、ＭＤＣＴ装置は、被検体の奥行き方向に分解能を有する３Ｄ（ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ）画像を取得する。

また、シンチレータは入射したＸ線の強度に比例する蛍光を発し、この蛍光を光電変換器により電荷量あるいは電流等の電気的な量に変換する。この際、平面状に配置された複数のシンチレータは、隣接するシンチレータ間で蛍光の漏洩を生じる。従って、光電変換器から出力される電気的な量は、漏洩光を含んだものとなる。

この漏洩は、矩形状の平面に配列されるシンチレータの隣接するシンチレータ間で生じる一方で、ＭＤＣＴ装置では、Ｘ線ビームの厚み方向をなすスライス方向と、扇状の拡がり方向をなすチャネル（ｃｈａｎｎｅｌ）方向とでは、取得される断層画像上への影響が異なる。なお、平面に配列されるシンチレータのスライス方向は、被検体が載置されるボア内の奥行き方向に概ね一致する。

ここで、チャネル方向への漏洩は、断層画像を再構成する基になる投影情報間での情報漏洩を意味し、主として断層画像の空間分解能の低下をもたらす。そして、空間分解能の改善を計る種々のハードウェアおよび画像処理的手法は、同時にチャネル方向への蛍光の漏洩を軽減する効果を含むものとなる（例えば、特許文献１参照）。
特開昭５３−０６７３９４号公報、（第１〜４頁、第１〜６図）

しかしながら、上記背景技術によれば、スライス方向に隣接するシンチレータ間の漏洩に起因する画像劣化を、防止することができない。すなわち、スライス方向での漏洩は、断層画像内にアーチファクト（ａｒｔｉｆａｃｔ）として出現するものであり、チャネル方向に生じる漏洩とは断層画像上に生じる現象が異なり、同様の画像処理的手法を用いることができない。

特に、ＭＤＣＴ装置を用いたスライス方向の撮像範囲に、例えば被検体の頸部および胸部の様に被検体のプロジェクション長が急激に変化する部分を含む場合には、断層画像の中心部分にスライス方向の漏洩に起因するアーチファクトが生じ、断層画像を読影する上での障害となる。

これらのことから、スライス方向に隣接するシンチレータ間で生じる蛍光の漏洩を簡便に除去するクロストーク補正方法およびＸ線ＣＴ装置をいかに実現するかが重要となる。
この発明は、上述した背景技術による課題を解決するためになされたものであり、スライス方向に隣接するシンチレータ間で生じる蛍光の漏洩を簡便に除去することができる、クロストーク補正方法およびＸ線ＣＴ装置を提供することを目的とする。

上述した課題を解決し、目的を達成するために、第１の観点の発明にかかるクロストーク補正方法は、厚みを持って扇状に拡がるＸ線ビームの強度を検出する、前記Ｘ線ビームの入射方向と概ね直交する矩形状の面に２次元配列される複数のシンチレータが存在し、前記シンチレータによる前記Ｘ線ビームの検出情報が、前記シンチレータに入射するＸ線ビームの強度に比例する強度情報と、前記２次元配列の前記厚みの方向であるスライス方向に隣接するシンチレータからの、前記隣接するシンチレータに入射するＸ線ビームの強度に比例する漏洩情報とを含む際に、前記隣接するシンチレータに入射するＸ線ビームの強度から前記漏洩情報の量を算出するのに用いる漏洩係数を、前記スライス方向をなす第１の方向への第１の漏洩係数および前記第１の方向の反対方向である第２の方向への第２の漏洩係数ごとに算定し、前記漏洩係数を用いて、前記複数のシンチレータで検出される検出情報に含まれる前記漏洩情報を除去し、前記強度情報を求めることを特徴とする。

この第１の観点による発明では、隣接するシンチレータに入射するＸ線ビームの強度から漏洩情報の量を算出するのに用いる漏洩係数を、スライス方向をなす第１の方向への第１の漏洩係数および第１の方向の反対方向である第２の方向への第２の漏洩係数ごとに算定し、この漏洩係数を用いて、複数のシンチレータで検出される検出情報に含まれる漏洩情報を除去し、強度情報を求める。

また、第２の観点の発明にかかるクロストーク補正方法は、前記算定が、前記第１の漏洩係数をε₊とし、前記第２の漏洩係数をε_-とし、前記スライス方向のシンチレータの順番をｎとし、前記ｎ番目のシンチレータの強度情報をＤ_nとし、前記ｎ番目のシンチレータの検出情報をＳ_nとし、
−ｌｎ（Ｄ_n）≒
−ｌｎ（Ｓ_n）＋ε₊・（Ｓ_n-1／Ｓ_n−１）＋ε_-・（Ｓ_n+1／Ｓ_n−１）
である式（１）を用いて行われることを特徴とする。

この第２の観点の発明では、算定を、式（１）を用いて行う。
また、第３の観点の発明にかかるクロストーク補正方法は、前記算定が、前記スライス方向の位置に対応して円径が変化する円筒状のファントムを透過するＸ線ビームの検出情報Ｓ_nであるスロープファントム投影情報を用いて行われることを特徴とする。

この第３の観点の発明では、算定を、スロープファントム投影情報を用いて行う。
また、第４の観点の発明にかかるクロストーク補正方法は、前記算定が、前記式（１）のＤ_nの値として、前記スロープファントム投影情報の前記ｎ番目のスライス方向位置で、前記２次元配列の前記扇状の拡がり方向であるチャネル方向位置に対応する値に第１の関数フィッティングを行い、前記第１の関数フィッティングで取得される関数値を用いることを特徴とする。

この第４の観点の発明では、算定を行う式（１）のＤ_nの値として、スロープファントム投影情報の、チャネル方向に行われる第１の関数フィッティングで取得される関数値を用いる。

また、第５の観点の発明にかかるクロストーク補正方法は、前記関数が、２次関数であることを特徴とする。
この第５の観点の発明では、関数は、クロストーク成分を除去する。

また、第６の観点の発明にかかるクロストーク補正方法は、前記算定が、同一チャネル方向位置の前記スロープファントム投影情報および前記関数値に前記式（１）を用いた第２の関数フィッティングを行い、前記第２の関数フィッティングで取得される関数形から前記第１の漏洩係数をε₊および前記第２の漏洩係数をε_-を求めることを特徴とする。

この第６の観点の発明では、算定を、スロープファントム投影情報および第１の関数フィッティングで取得される関数値を式（１）に適用する第２の関数フィッティングで取得される関数形から第１の漏洩係数をε₊および第２の漏洩係数をε_-を求める。

また、第７の観点の発明にかかるクロストーク補正方法は、前記関数フィッティングが、最小二乗法あるいは回帰分析を用いて行われることを特徴とする。
この第７の観点の発明では、関数フィッティングにより、最適化を行う。

また、第８の観点の発明にかかるクロストーク補正方法は、前記除去が、前記第１の漏洩係数をε₊とし、前記第２の漏洩係数をε_-とし、前記スライス方向のシンチレータの順番をｎとし、前記ｎ番目のシンチレータの検出情報をＳ_nとし、前記ｎ番目のシンチレータの強度情報をＤ_nとし、ｇ＝１−ε ₊ −ε _- とし、
Ｄ_n＝（Ｓ_n−ε₊・Ｓ_n-1−ε_-・Ｓ_n+1）／ｇ
である式（２）を用いて、前記強度情報であるＤ_nを求めることを特徴とする。

この第８の観点の発明では、除去を、式（２）を用いて行う。
また、第９の観点の発明にかかるクロストーク補正方法は、前記除去が、前記シンチレータの感度補正の前あるいは後に行われることを特徴とする。

この第９の観点の発明では、除去を、検出器のチャネル方向補正終了前あるいは後に行う。
また、第１０の観点の発明にかかるクロストーク補正方法は、前記算定を、前記２次元配列される複数のシンチレータが、矩形状に２次元配列されるシンチレータからなるタイルを複数組み合わせてなる際に、単数あるいは複数の前記タイルごとに第１の漏洩係数および第２の漏洩係数を求めることを特徴とする。

この第１０の観点の発明では、算定を、単数あるいは複数のタイルごとに行う。
また、第１１の観点の発明にかかるクロストーク補正方法は、前記除去が、単数あるいは複数の前記タイルごとの第１の漏洩係数および第２の漏洩係数を用いて、前記強度情報を求めることを特徴とする。

この第１１の観点の発明では、除去を、単数あるいは複数のタイルごとに行う。
また、第１２の観点の発明にかかるＸ線ＣＴ装置は、厚みを持って扇状に拡がるコーン状のＸ線ビームを照射するＸ線管と、前記Ｘ線ビームの照射方向と概ね直交する面上に２次元配列される、前記Ｘ線ビームを検出するシンチレータと、前記シンチレータで検出される２次元的な投影情報に基づいて、前記Ｘ線管および前記シンチレータの間に配置される被検体の断層画像を再構成するデータ処理装置と、を備えるＸ線ＣＴ装置であって、前記データ処理装置は、前記シンチレータの検出情報が、前記シンチレータに入射するＸ線ビームの強度に比例する強度情報と、前記Ｘ線ビームの厚み方向となる前記２次元配列のスライス方向に隣接するシンチレータからの前記隣接するシンチレータに入射するＸ線ビームの強度に比例する漏洩情報とを含む際に、前記隣接するシンチレータに入射するＸ線ビームの強度から前記漏洩情報の量を算出するのに用いる漏洩係数を、前記スライス方向をなす第１の方向への第１の漏洩係数および前記第１の方向の反対方向である第２の方向への第２の漏洩係数ごとに算定する算定手段、並びに、前記漏洩係数を用いて、前記投影情報の検出情報に含まれる前記漏洩情報を除去し、前記強度情報を求める補正手段を備えることを特徴とする。

この第１２の観点の発明では、データ処理装置は、シンチレータの検出情報が、シンチレータに入射するＸ線ビームの強度に比例する強度情報と、Ｘ線ビームの厚み方向となる２次元配列のスライス方向に隣接するシンチレータからの隣接するシンチレータに入射するＸ線ビームの強度に比例する漏洩情報とを含む際に、隣接するシンチレータに入射するＸ線ビームの強度から漏洩情報の量を算出するのに用いる漏洩係数を、算定手段により、スライス方向をなす第１の方向への第１の漏洩係数および前記第１の方向の反対方向である第２の方向への第２の漏洩係数ごとに算定し、並びに、この漏洩係数を用いて、補正手段により、前記投影情報の検出情報に含まれる前記漏洩情報を除去し、前記強度情報を求める。

また、第１３の観点の発明にかかるＸ線ＣＴ装置は、前記算定手段が、前記第１の漏洩係数をε₊とし、前記第２の漏洩係数をε_-とし、前記スライス方向のシンチレータの順番をｎとし、前記ｎ番目のシンチレータの強度情報をＤ_nとし、前記ｎ番目のシンチレータの検出情報をＳ_nとし、
−ｌｎ（Ｄ_n）≒
−ｌｎ（Ｓ_n）＋ε₊・（Ｓ_n-1／Ｓ_n−１）＋ε_-・（Ｓ_n+1／Ｓ_n−１）
である式（１）を用いることを特徴とする。

この第１３の観点の発明では、算定手段は、式（１）を用いる。
また、第１４の観点の発明にかかるＸ線ＣＴ装置は、前記算定手段が、前記スライス方向の位置に対応して円径が変化する円筒状のファントムを透過するＸ線ビームの検出情報Ｓ_nであるスロープファントム投影情報を用いることを特徴とする。

この第１４の観点の発明では、算定手段は、スロープファントム投影情報を用いる。
また、第１５の観点の発明にかかるＸ線ＣＴ装置は、前記算定手段が、前記式（１）のＤ_nの値として、前記スロープファントム投影情報の前記ｎ番目のスライス方向位置で、前記２次元配列の前記扇状の拡がり方向であるチャネル方向位置に対応する値に関数のフィッティングを行い、前記フィッティングされる関数値を求める第１の関数フィッティング手段を備えることを特徴とする。

この第１５の観点の発明では、算定手段は、第１の関数フィッティング手段により、算定を行う式（１）のＤ_nの値として、スロープファントム投影情報のチャネル方向に行われる関数のフィッティングで取得される関数値を用いる。

また、第１６の観点の発明にかかるＸ線ＣＴ装置は、前記算定手段が、同一チャネル方向位置の前記スロープファントム投影情報および前記関数値に前記式（１）を用いてフィッティングを行い、前記フィッティングされる式（１）の関数形から前記第１の漏洩係数をε₊および前記第２の漏洩係数をε_-を求める第２の関数フィッティング手段を備えることを特徴とする。

この第１６の観点の発明では、算定手段は、第２の関数フィッティング手段により、スロープファントム投影情報および第１の関数フィッティングで取得される関数値を式（１）にフィッティングして取得される関数形から第１の漏洩係数をε₊および第２の漏洩係数をε_-を求める。

また、第１７の観点の発明にかかるＸ線ＣＴ装置は、前記補正手段が、前記第１の漏洩係数をε₊とし、前記第２の漏洩係数をε_-とし、前記スライス方向のシンチレータの順番をｎとし、前記ｎ番目のシンチレータの検出情報をＳ_nとし、前記ｎ番目のシンチレータの強度情報をＤ_nとし、ｇ＝１−ε ₊ −ε _- とし、
Ｄ_n＝（Ｓ_n−ε₊・Ｓ_n-1−ε_-・Ｓ_n+1）／ｇ
である式（２）を用いて、前記強度情報であるＤ_nを求めることを特徴とする。

この第１７の観点の発明では、除去手段を、式（２）を用いる。
また、第１８の観点の発明にかかるＸ線ＣＴ装置は、前記除去手段が、前記シンチレータの感度補正の前あるいは後に行われることを特徴とする。

この第１８の観点の発明では、除去手段は、検出器の感度補正の前あるいは後に行われる。
また、第１９の観点の発明にかかるＸ線ＣＴ装置は、前記算定手段が、前記２次元配列される複数のシンチレータが、矩形状に２次元配列されるシンチレータからなるタイルを複数組み合わせてなる際に、単数あるいは複数の前記タイルごとに前記第１の漏洩係数および前記第２の漏洩係数を求めることを特徴とする。

この第１９の観点の発明では、算定手段は、単数あるいは複数のタイルごとに算定を行う。
また、第２０の観点の発明にかかるＸ線ＣＴ装置は、前記除去手段が、単数あるいは複数の前記タイルごとの第１の漏洩係数および第２の漏洩係数を用いて、前記強度情報を求めることを特徴とする。

この第２０の観点の発明では、除去手段は、単数あるいは複数のタイルごとに除去を行う。

以上説明したように、本発明によれば、データ処理装置は、シンチレータの検出情報が、シンチレータに入射する厚みを持って扇状に拡がるＸ線ビームの強度に比例する強度情報と、この厚みの方向である２次元配列のスライス方向に隣接するシンチレータからの隣接するシンチレータに入射するＸ線ビームの強度に比例する漏洩情報とを含む際に、隣接するシンチレータに入射するＸ線ビームの強度から漏洩情報を算出するのに用いる漏洩係数を、算定手段により、スライス方向をなす第１の方向への第１の漏洩係数および前記第１の方向の反対方向である第２の方向への第２の漏洩係数ごとに算定し、並びに、この漏洩係数を用いて、補正手段により、前記投影情報の検出情報に含まれる前記漏洩情報を除去し、前記強度情報を求めることとしているので、スライス方向に隣接するシンチレータ間で生じる蛍光の漏洩情報を簡便に除去し、入射するＸ線の強度に比例する強度情報のみとし、断層画像に生じるアーチファクトを無くし、画質の向上を計ることができる。

以下に添付図面を参照して、この発明にかかるクロストーク補正方法およびＸ線ＣＴ装置を実施するための最良の形態について説明する。なお、これにより本発明が限定されるものではない。

まず、本実施の形態にかかるＸ線ＣＴ装置の全体構成について説明する。図１は、Ｘ線ＣＴ装置のブロック（ｂｌｏｃｋ）図を示す。図１に示すように、本装置は、走査ガントリ（ｇａｎｔｒｙ）１０および操作コンソール（ｃｏｎｓｏｌｅ）６を有する。

走査ガントリ１０は、Ｘ線管２０を有する。Ｘ線管２０から放射された図示しないＸ線は、コリメータ（ｃｏｌｌｉｍａｔｏｒ）２２により、例えば、厚みを持って扇状に拡がるコーン状のＸ線ビーム（ｂｅａｍ）となるように成形され、Ｘ線検出器２４に照射される。

Ｘ線検出器２４は、ファンビームＸ線の広がり方向にマトリックス（ｍａｔｒｉｘ）状に配列された複数のシンチレータを有する。Ｘ線検出器２４は、複数のシンチレータをマトリックス状に配列した、幅のある多チャネルの検出器となっている。

Ｘ線検出器２４は、全体として、凹面状に湾曲したＸ線入射面を形成する。Ｘ線検出器２４は、例えば無機結晶からなるシンチレータと光電変換器であるフォトダイオード（ｐｈｏｔｏ ｄｉｏｄｅ）を組み合わせたものである。

Ｘ線検出器２４には、データ収集部２６が接続されている。データ収集部２６は、Ｘ線検出器２４の個々のシンチレータの検出情報を収集する。Ｘ線管２０からのＸ線の照射は、Ｘ線コントローラ（ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｒ）２８によって制御される。なお、Ｘ線管２０とＸ線コントローラ２８との接続関係およびコリメータ２２とコリメータコントローラ３０との接続関係については図示を省略する。コリメータ２２は、コリメータコントローラ３０によって制御される。

以上の、Ｘ線管２０からコリメータコントローラ３０までのものが、走査ガントリ１０の回転部３４に搭載されている。ここで、被検体あるいはファントムは、回転部３４の中心に位置するボア（ｂｏｒｅ）２９内の撮影テーブル（ｔａｂｌｅ）４上に載置される。回転部３４は、回転コントローラ３６により制御されつつ回転し、Ｘ線管２０からＸ線を爆射し、Ｘ線検出器２４において被検体およびファントムの透過Ｘ線を、回転角度に応じた各ビューごとの投影情報として検出する。なお、回転部３４と回転コントローラ３６との接続関係については図示を省略する。

操作コンソール６は、データ処理装置６０を有する。データ処理装置６０は、例えばコンピュータ等によって構成される。データ処理装置６０には、制御インタフェース（ｉｎｔｅｒｆａｃｅ）６２が接続されている。制御インタフェース６２には、走査ガントリ１０が接続されている。データ処理装置６０は、制御インタフェース６２を通じて走査ガントリ１０を制御する。

走査ガントリ１０内のデータ収集部２６、Ｘ線コントローラ２８、コリメータコントローラ３０および回転コントローラ３６は、制御インタフェース６２を通じて制御される。なお、これら各部と制御インタフェース６２との個別の接続については図示を省略する。

データ処理装置６０には、また、データ収集バッファ（ｂｕｆｆｅｒ）６４が接続されている。データ収集バッファ６４には、走査ガントリ１０のデータ収集部２６が接続されている。データ収集部２６で収集されたデータがデータ収集バッファ６４を通じてデータ処理装置６０に入力される。

データ処理装置６０は、データ収集バッファ６４を通じて収集した透過Ｘ線信号すなわち投影情報を用いて画像再構成を行う。データ処理装置６０には、また、記憶装置６６が接続されている。記憶装置６６は、データ収集バッファ６４に収集された投影情報や再構成された断層画像情報および本装置の機能を実現するためのプログラム（ｐｒｏｇｒａｍ）等を記憶する。

また、データ処理装置６０には、表示装置６８と操作装置７０がそれぞれ接続されている。表示装置６８は、データ処理装置６０から出力される断層画像情報やその他の情報を表示する。操作装置７０は、オペレータによって操作され、各種の指示や情報等をデータ処理装置６０に入力する。オペレータは表示装置６８および操作装置７０を使用してインタラクティブ（ｉｎｔｅｒａｃｔｉｖｅ）に本装置を操作する。なお、走査ガントリ１０、撮影テーブル４および操作コンソール６は、被検体あるいはファントムを撮影して断層画像を取得する。

図２は、Ｘ線管２０、コリメータ２２およびＸ線検出器２４の立体的な配置を図示したものである。Ｘ線検出器２４は、Ｘ線管２０により生成される厚みを持って扇状に拡がるコーン状のＸ線ビームと対向する面に、矩形状に２次元配列されるシンチレータからなる。この２次元配列は、Ｘ線ビームの厚み方向をなすスライス方向、扇状の拡がり方向をなすチャネル方向からなる。スライス方向は、概ねボア２９が筒抜けしている奥行き方向と一致する。また、Ｘ線検出器２４は、チャネル方向に凹面を形成し、入射するＸ線ビームが２次元配列の面に直交入射するようにされる。なお、Ｘ線検出器２４は、スライス方向およびチャネル方向に、例えば６４列、１０００チャネル程度のシンチレータから構成される。また、シンチレータの背面には、図示しない同数の光電変換器が配設される。

ここで、Ｘ線ビームがシンチレータに入射した場合に、光電変換器で検出される検出情報および本発明にかかるクロストーク補正方法について説明する。シンチレータは、Ｘ線ビームが入射するとＸ線強度に比例する蛍光を発する。他方、Ｘ線検出器２４は、シンチレータが密に２次元配列されており、隣接するシンチレータ間で蛍光の漏洩が不可避的に生じる。

図３は、スライス方向に隣接するシンチレータ間で生じる蛍光の漏洩をモデル化して示した図である。Ｘ線検出器２４のシンチレータおよび光電変換器は、スライス方向の端部から、１から順に通し番号が付けられたブロックにより表される。なお、任意の通し番号をｎで表す。このｎ番目のブロックでの、入射するＸ線ビームの強度に比例する出力を強度情報Ｄ_nとし（図３中では入射Ｘ線ビームの強度として図示されている）、個別のブロックにおいて結果として観測される出力を検出情報Ｓ_nとする。なお、強度情報Ｄ_nおよび検出情報Ｓ_nには、ブロック番号に対応する通し番号ｎが添字として付されている。

ここで、モデル化された隣接するシンチレータ間での蛍光の漏洩を図３を用いて説明する。なお、２番目のブロック２を中心に説明するが、他のブロックにおいても全く同様となる。まず、ブロック２に入射するＸ線ビームの強度Ｄ₂に比例する漏洩が隣接するブロック１およびブロック３に発生する。この際、漏洩の大きさは、強度Ｄ₂に対するブロック１およびブロック３への漏れの漏洩係数をε２１、ε２３とすると、ブロック１にはε２１・Ｄ₂、ブロック３にはε２３・Ｄ₂の大きさの漏洩が生じる。

また、ブロック２には、隣接するブロック１および３からの漏洩光が入力する。ブロック１に入射するＸ線ビームの強度Ｄ₁に比例するブロック１からブロック２への漏洩光は、漏洩係数をε１２とするとε１２・Ｄ₁となり、ブロック３に入射するＸ線ビームの強度Ｄ₃に比例するブロック３からブロック２への漏洩光は、漏洩係数をε３２とするとε３２・Ｄ₃となる。

従って、ブロック２の検出情報Ｓ₂は、
Ｓ₂＝Ｄ₂−ε２１・Ｄ₂−ε２３・Ｄ₂＋ε１２・Ｄ₁＋ε３２・Ｄ₃
＝（１−ε２１−ε２３）・Ｄ₂＋ε１２・Ｄ₁＋ε３２・Ｄ₃
となる。ここで、Ｘ線検出器２４の製造工程に係わる事由により、漏洩係数は、スライス方向での向きにより異なり、ブロックごとの変化は小さいことが実験的に知られている。すなわち、
ε１２＝ε２３＝ε₊
ε２１＝ε３２＝ε_-
とすることができる。ここで、ε₊は、第１の漏洩係数をなし、図３のスライス方向左向きの漏洩係数を現し、ε_-は、第２の漏洩係数をなし、図３のスライス方向右向きの漏洩係数を現している。なお、図３左側部分には、ε₊およびε_-による漏洩係数が図示されている。

これにより、ブロック２の検出情報Ｓ₂は、
Ｓ₂＝（１−ε₊−ε_-）・Ｄ₂＋ε₊・Ｄ₁＋ε_-・Ｄ₃
となる。そして、全く同様に、ｎ番目のブロックｎの検出情報Ｓ_nに対しても
Ｓ_n＝（１−ε₊−ε_-）・Ｄ_n＋ε₊・Ｄ_n-1＋ε_-・Ｄ_n+1 （３）
である式（３）が成立する。

ここで、式（３）では、検出情報Ｓ₂は、投影情報として実験的に検出される量であり、強度情報Ｄ_nは、式に基づいて算定される真の入射Ｘ線強度に比例する量である。従って、ｎ個のブロックに対してｎ個の式（３）が成立し、ｎ個の検出情報Ｓ₂からｎ個の強度情報Ｄ_nを、原理的には求めることができる。しかしながら、式（３）の右辺は、未知数である複数の強度情報Ｄ_nを含むので算出が容易でない。

以下に式（３）を簡略化し、検出情報Ｓ₂から強度情報Ｄ_nを容易に求められる関数形とする。式（３）は、Ｄ_n＝（Ｄ_n-1＋Ｄ_n+1）／２の仮定にもとに変形すると、以下の表現とすることができる。

Ｓ_n＝Ｄ_n＋（ε₊−ε_-）・（Ｄ_n-1−Ｄ_n+1）／２
ここで、漏洩係数ε₊およびε_-は、実験的に０．１程度の小さな値である。さらにこれらの差分は極めて小さなものとなるので、上式の右辺第２項は無視され、
Ｓ_n≒Ｄ_n （４）
とすることができる。ここで、（４）式を式（３）に代入すると、
Ｓ_n≒（１−ε₊−ε_-）・Ｄ_n＋ε₊・Ｓ_n-1＋ε_-・Ｓ_n+1
となる。この式をＤ_nについて解くと、
Ｄ_n＝（Ｓ_n−ε₊・Ｓ_n-1−ε_-・Ｓ_n+1）／ｇ （２）
である式（２）となる。ここで、ｇ＝１−ε₊−ε_-とする。

式（２）は、右辺に投影情報として実験的に検出される検出情報Ｓ_n+1、Ｓ_n、Ｓ_n-1のみを含み、漏洩係数ε₊およびε_-が求まれば容易に強度情報Ｄ_nが算出される形式となっている。そこで、後述する第２の関数フィッティング手段は、式（２）を用いて、実測される投影情報である検出情報Ｓ_nおよび後述する方法により算定される漏洩係数ε₊、ε_-から、ブロックごとのＸ線ビームの強度情報Ｄ_nを算定する。

つづいて、ブロックごとの強度情報Ｄ_nを求める際に用いられる漏洩係数ε₊、ε_-を求める方法を述べる。式（２）は、漏洩係数ε₊、ε_-が未知数である場合には、強度情報Ｄ_nが
未知数であるため解くことが出来ない。

ここで、式（２）の両辺の対数を取り、対数関数の近似式ｌｎ（１＋ｘ）≒ｘを用いることにより、さらに近似を行うと、
−ｌｎ（Ｄ_n）≒
−ｌｎ（Ｓ_n）＋ε₊・（Ｓ_n-1／Ｓ_n−１）＋ε_-・（Ｓ_n+1／Ｓ_n−１） （１）
である式（１）となる。

式（１）左辺の−ｌｎ（Ｄ_n）の項は、ブロックごとに入射するＸ線ビームのプロジェクション長を現す。この−ｌｎ（Ｄ_n）は、スライス方向に漏洩の無い理想的な場合のプロジェクション長を意味する。他方、実測されるプロジェクション長である−ｌｎ（Ｓ_n）は、スライス方向に漏洩を含むものとなる。ここで、スライス方向に漏洩が存在する場合には、経験的にチャネル方向の投影情報の中心部分に集中した、部分的な投影情報の劣化が生じる。このことから、投影情報のチャネル方向に後述する第１の関数フィッティングを行うことにより、スライス方向の漏洩に起因する部分的な劣化を除去し、理想的な投影情報のみを抽出する。そして、このフィッティングされた関数値を上述したスライス方向に漏洩の無い理想的な場合の−ｌｎ（Ｄ_n）として用いる。これにより、式（１）は、漏洩係数ε₊、ε_-のみを未知数として含む式となる。

また、式（１）を用いて漏洩係数ε₊、ε_-を求めるには、右辺のＳ_n-1／Ｓ_n≠１よびＳ_n+1／Ｓ_n≠１が必要条件となる。この条件は、後述するスロープファントムの投影情報である検出情報Ｓ_nを用いることにより満足される。

なお、式（１）は、２つの未知数である漏洩係数ε₊、ε_-に対して、検出情報Ｓ_nごとのブロック数分の方程式が成立する。従って、最小二乗法あるいは最小二乗法を含む回帰分析等により、複数の方程式あるいは多数の検出情報Ｓ_nから漏洩係数ε₊、ε_-の最適値が求められる。

図４は、上述したクロストーク補正方法を実現するためのデータ処理装置６０を示す機能ブロック図を示す。データ処理装置６０は、スロープファントム投影情報４１、算定手段５０、被検体投影情報４２、クロストーク補正手段８０、画像再構成手段４３、および後処理手段４４を含む。また、算定手段５０は、第１の関数フィッティング手段５１、フィッティング関数５２、第２の関数フィッティング手段５３および式（１）を含み、クロストーク補正手段８０は、チャネル方向補正手段８１、クロストーク除去手段８２および式（２）を含む。

スロープファントム投影情報４１は、データ収集バッファ６４から入力される、スロープファントム（ｓｌｏｐｅ ｐｈａｎｔｏｍ）をボア２９の中心部に載置した際に取得される投影情報である。図５にこのスロープファントム７を例示する。図５（Ａ）は、ボア２９内にスロープファントム７が配設された状態を示している。スロープファントム７は、内部に水等のＸ線吸収物質を含む円筒形状を有し、この円筒の円径がスライス方向の位置に比例して変化する。図５（Ｂ）は、スロープファントム７のスライス方向での断面を示す。スロープファントム７の円径がスライス方向の位置に比例して変化する。これにより、Ｘ線検出器２４のシンチレータは、スライス方向に順次増加あるいは減少するシンチレータごとに異なる投影情報を取得する。従って、スライス方向の検出情報Ｓ_nは、Ｓ_n-1／Ｓ_n＝Ｓ_n+1／Ｓ_n≠１となり、式（１）を導出する必要条件を満たす。なお、スロープファントム投影情報４１は、Ｘ線検出器２４に対応して、チャネル番号およびスライス番号の２つを指標とするマトリックス状のデータ構造を有する。

図４に戻り、算定手段５０は、スロープファントム投影情報４１を構成する検出情報Ｓ_n用いて、Ｘ線検出器２４の漏洩係数ε₊、ε_-を求める。算定手段５０は、第１の関数フィッティング手段５１により、スロープファントム投影情報４１のすべてのスライス方向位置でチャネル方向データにフィッティング関数５２をフィッティングさせ、チャネルごとの関数値を求める。また、第２の関数フィッティング手段５３は、第１の関数フィッティング手段５１で求めたフィッティング関数値である−ｌｎ（Ｄ_n）およびスロープファントム投影情報４１のスライス方向データに、式（１）をフィッティングさせる。このフィッティングされた式（１）の関数形から、漏洩係数ε₊、ε_-を求める。こで、第１の関数フィッティング手段５１および第２の関数フィッティング手段５３は、最小二乗法あるいは最小二乗法を考慮した回帰分析等のフィッティング手段を用いて最適なフィッティング関数およびこの関数の係数を求める。なお、フィッティング関数５２としては、例えば２次関数が用いられる。

被検体投影情報４２は、データ収集バッファ６４から入力される、被検体をボア２９の中心部に載置した際に取得される投影情報である。なお、スロープファントム投影情報４１と同様に、Ｘ線検出器２４に対応して、チャネル番号およびスライス番号の２つを指標とするマトリックス状のデータ構造を有する。

クロストーク補正手段８０は、被検体投影情報４２を構成する検出情報Ｓ_nから、シンチレータの入射Ｘ線ビーム強度に比例する強度情報Ｄ_nを求める。クロストーク補正手段８０は、チャネル方向補正手段８１により、被検体投影情報４２に種々の補正を行う。このチャネル方向補正手段８１では、オフセット補正、対数変換、Ｘ線線量補正および感度補正（検出器感度補正とも呼ばれる）等が含まれ、主としてＸ線検出器２４のチャネル方向の誤差要因が取り除かれる。

クロストーク除去手段８２は、チャネル方向補正がなされた被検体投影情報４２を構成する検出情報Ｓ_nを用いて、算定手段５０で求められた漏洩係数ε₊、ε_-および式（２）から、被検体投影情報４２のスライス方向のクロストークが除去された強度情報Ｄ_nを求める。この演算は、式（２）を用いた加減乗除の演算によりなされる。

なお、クロストーク除去手段８２は、チャネル方向補正手段８１で行われる感度補正の前後いずれでも良い。以下に、この理由を説明する。ここで、感度補正とは、図５に示すスロープファントム７が無い状態、すなわち空気だけの状態で投影情報を取得し、この投影情報に基づいて、主として検出器感度の補正を行う。この空気だけの投影情報からなる検出情報をＡ_nとすると、Ａ_nのばらつきは、個々の検出器感度のばらつきを現し、被検体の検出情報Ｓ_nは、Ｓ_n／Ａ_nにより、検出器感度のばらつきが補正される。

また、スライス方向のクロストーク除去が行われた検出情報Ａ_nをＩ_nとすると、式（２）から、
Ｉ_n＝（Ａ_n−ε₊・Ａ_n-1−ε_-・Ａ_n+1）／ｇ
となるが、空気の投影情報であることを考慮すると、Ｉ_n+1＝Ｉ_n＝Ｉ_n-1およびＡ_n+1≒Ａ_n≒Ａ_n-1となり、
Ｉ_n＝Ａ_n （４）
が成立する。この式（４）は、空気だけの投影情報からなる検出情報Ａ_nに、スライス方向のクロストーク除去を行う必要がないことを意味する。

そして、被検体投影情報４２のスライス方向のクロストーク除去を感度補正前に行う場合には、式（２）から、感度補正で用いられる検出情報Ａ_nを用いて、スライス方向のクロストーク除去が行われた検出情報Ｉ_nを求めると、式（４）から
Ｉ_n＝Ａ_n
となり、被検体の検出情報Ｓ_nは、
Ｓ_n＝（Ｓ_n−ε₊・Ｓ_n-1−ε_-・Ｓ_n+1）／ｇ
となり、感度補正された強度出力Ｄ_n＝Ｓ_n／Ｉ_nにより、
Ｄ_n＝Ｓ_n／Ｉ_n＝（Ｓ_n−ε₊・Ｓ_n-1−ε_-・Ｓ_n+1）／（ｇ・Ａ_n） （５）
となる。

他方、被検体投影情報４２のスライス方向のクロストーク除去を感度補正後に行う場合には、感度補正された被検体の検出情報Ｓ_n／Ａ_nに対して式（２）を用い、スライス方向のクロストーク除去を行うと、
Ｄ_n＝（Ｓ_n／Ａ_n−ε₊・Ｓ_n-1／Ａ_n-−ε・Ｓ_n+1／Ａ_n）／ｇ
＝（Ｓ_n−ε₊・Ｓ_n-1−ε_-・Ｓ_n+1）／（ｇ・Ａ_n） （６）
となる。ここで、式（５）および式（６）は、同一の式であり、被検体投影情報４２のスライス方向のクロストーク除去を、感度補正前あるいは後のいずれで行っても、同一の結果が取得される。

画像再構成手段４３は、複数ビューからなる、スライス方向のクロストークが補正された強度情報Ｄ_nのサイノグラムを用いて、被検体の断層画像を再構成する。画像再構成には、例えばフィルタード・バックプロジェクション（ｆｉｌｔｅｒｅｄ ｂａｃｋ ｐｒｏｊｅｃｔｉｏｎ）法等が用いられる。

後処理手段４４は、再構成された断層画像情報にＣＴ値変換等を施し、表示装置６８に再構成画像を表示する。
つづいて、本実施の形態にかかるＸ線ＣＴ装置の動作について述べる。まず、オペレータは、撮影テーブル４に載置されたスロープファントム７を、図５（Ａ）に示す様にボア２９中心部に配置する（ステップＳ６０１）。そして、データ処理装置６０は、走査ガントリ１０を制御し、スロープファントム７のスロープファントム投影情報４１を取得する（ステップＳ６０２）。そして、取得されたスロープファントム投影情報４１は、データ収集バッファ６４に転送される。

その後、データ処理装置６０は、スロープファントム投影情報４１をデータ収集バッファ６４から取得し、算定手段５０により、スロープファントム投影情報４１から式（１）の−ｌｎ（Ｄ_n）を求める（ステップＳ６０３）。ここで、算定手段５０は、第１の関数フィッティング手段５１により、スライスごとのフィッティング関数を求め、各チャネルでのこのフィッティング関数値の対数を、ｌｎ（Ｄ_n）とする。

その後、データ処理装置６０は、算定手段５０により、スロープファントム投影情報４１および第１の関数フィッティング手段５１で求めた−ｌｎ（Ｄ_n）から、漏洩係数ε₊、ε_-を求める（ステップＳ６０４）。ここで、算定手段５０は、第２の関数フィッティング手段５３により、同一チャネルの検出情報Ｓ_n、−ｌｎ（Ｄ_n）を式（１）に適用し、未知数である漏洩係数ε₊、ε_-の最適値を求める。

その後、オペレータは、撮影テーブル４に載置された被検体を、ボア２９中心部に配置する（ステップＳ６０５）。そして、データ処理装置６０は、走査ガントリ１０を制御し、被検体の被検体投影情報４２を取得する（ステップＳ６０６）。そして、取得された被検体投影情報４２は、データ収集バッファ６４に転送される。

その後、データ処理装置６０は、被検体投影情報４２をデータ収集バッファ６４から取得し、チャネル方向補正手段８１により、チャネル方向補正を行う（ステップＳ６０７）。これにより、被検体投影情報４２の検出情報Ｓ_nのチャネル方向に含まれる誤差要因が取り除かれる。

その後、クロストーク補正手段８０は、クロストーク除去手段８２を用いて、チャネル方向補正が行われた被検体投影情報４２からスライス方向のクロストーク除去を行う（ステップＳ６０８）。これにより、被検体投影情報４２の検出情報Ｓ_nのスライス方向に含まれる蛍光の漏洩要因が取り除かれた強度情報Ｄ_nが求まる。

その後、画像再構成手段４３は、チャネルごとの強度情報Ｄ_nを用いて、画像再構成を行う（ステップＳ６０９）。そして、後処理手段４４は、再構成された画像情報を、表示装置６８に表示し（ステップＳ６１０）、本処理を終了する。

上述してきたように、本実施の形態では、スロープファントム７のスロープファントム投影情報４１から、チャネル方向の第１の関数フィッティング手段５１およびスライス方向の第２の関数フィッティング手段５３により、理想的なプロジェクション長であるｌｎ（Ｄ_n）を求め、さらに式（１）を用いて、漏洩係数ε₊、ε_-を決定し、つづいて、クロストーク除去手段８２により、被検体の被検体投影情報４２を構成する検出情報Ｓ_nから、式（２）および前記漏洩係数ε₊、ε_-を用いて、強度情報Ｄ_nを求めることとしているので、被検体投影情報４２に含まれる、スライス方向に隣接するシンチレータの漏洩成分を簡便に除去し、スライス方向の漏洩に起因するアーチファクトを無くし、ひいては画質の向上を計ることができる。

また、本実施の形態では、Ｘ線検出器２４の漏洩係数ε₊、ε_-を、スライス方向の向きで異なるものとしたが、同時にＸ線検出器２４を構成するタイルごとに異なるものとすることもできる。ここで、タイルとは、シンチレータがマトリクス状に配列されたもので、このタイルが複数組み合わされて１つのＸ線検出器２４を構成する。

図７に、スライス方向に２つ、チャネル方向に複数のタイルを配列したＸ線検出器２４の１例を示す。これらタイルは、同一の形状を有し、１つのタイルは、スライス方向に３２列、チャネル方向に１６行のシンチレータから構成される。これらシンチレータは、製造工程を一にしているので、タイル内では、シンチレータの特性が一致し、シンチレータごとの漏洩係数ε₊、ε_-も同様に近似した値を示す。そして、上述したクロストーク補正方法を、これら単数のタイルごと、あるいはスライス方向の同列に位置する複数のタイルごとに行うことにより、より精度の高い補正とすることができる。

Ｘ線ＣＴ装置の全体構成を示すブロック図である。 実施の形態のＸ線管およびＸ線検出器を示す図である。 実施の形態のスライス方向に隣接する固体体検出器の漏洩を示す図である。 実施の形態のデータ処理装置を示す機能ブロック図である。 実施の形態のスロープファントムを示す図である。 実施の形態のＸ線ＣＴ装置の動作を示す図である。 複数タイルからなるＸ線検出器の一例を示す図である。

符号の説明

１〜３ ブロック
４ 撮影テーブル
６ 操作コンソール
７ スロープファントム
１０ 走査ガントリ
２０ Ｘ線管
２２ コリメータ
２４ Ｘ線検出器
２６ データ収集部
２８ Ｘ線コントローラ
２９ ボア
３０ コリメータコントローラ
３４ 回転部
３６ 回転コントローラ
４１ スロープファントム投影情報
４２ 被検体投影情報
４３ 画像再構成手段
４４ 後処理手段
５０ 算定手段
５１、５３フィッティング手段
５２ フィッティング関数
６０ データ処理装置
６２ 制御インタフェース
６４ データ収集バッファ
６６ 記憶装置
６８ 表示装置
７０ 操作装置
８０ クロストーク補正手段
８１ チャネル方向補正手段
８２ クロストーク除去手段

Claims (18)

1. 厚みを持って扇状に拡がるＸ線ビームの強度を検出する、前記Ｘ線ビームの入射方向と概ね直交する矩形状の面に２次元配列される複数のシンチレータが存在し、前記シンチレータによる前記Ｘ線ビームの検出情報が、前記シンチレータに入射するＸ線ビームの強度に比例する強度情報と、前記２次元配列の前記厚みの方向であるスライス方向に隣接するシンチレータからの、前記隣接するシンチレータに入射するＸ線ビームの強度に比例する漏洩情報とを含む際に、
   前記隣接するシンチレータに入射するＸ線ビームの強度から前記漏洩情報の量を算出するのに用いる漏洩係数を、前記スライス方向の位置に対応してＸ線ビームの透過路長が変化するファントムを透過するＸ線ビームの検出情報であるファントム投影情報を用いて、前記スライス方向をなす第１の方向への第１の漏洩係数および前記第１の方向の反対方向である第２の方向への第２の漏洩係数ごとに式（１）により算定し、
   前記漏洩係数を用いて、前記複数のシンチレータで検出される検出情報に含まれる前記漏洩情報を除去し、前記強度情報を求めることを特徴とするクロストーク補正方法。
   −ｌｎ（Ｄ_n）≒−ｌｎ（Ｓ_n）＋ε₊・（Ｓ_n-1／Ｓ_n−１）＋ε_-・（Ｓ_n+1／Ｓ_n−１） …式（１）
   ただし、前記第１の漏洩係数をε₊とし、前記第２の漏洩係数をε_-とし、前記スライス方向のシンチレータの順番をｎとし、前記ｎ番目のシンチレータの強度情報をＤ_nとし、前記ｎ番目のシンチレータの検出情報をＳ_nとし、Ｓ_n-1／Ｓ_n≠１とし、Ｓ_n+1／Ｓ_n≠１とする。
2. 前記算定が、前記式（１）のＤ_nの値として、前記ファントム投影情報の前記ｎ番目のスライス方向位置で、前記２次元配列の前記扇状の拡がり方向であるチャネル方向位置に対応する値に第１の関数フィッティングを行い、前記第１の関数フィッティングで取得される関数値を用いるものであることを特徴とする請求項１に記載のクロストーク補正方法。
3. 前記関数が、２次関数であることを特徴とする請求項２に記載のクロストーク補正方法。
4. 前記算定が、同一チャネル方向位置の前記ファントム投影情報および前記関数値に前記式（１）を用いた第２の関数フィッティングを行い、前記第２の関数フィッティングで取得される関数形から前記第１の漏洩係数をε₊および前記第２の漏洩係数をε_-を求めることを特徴とする請求項２または請求項３に記載のクロストーク補正方法。
5. 前記第１の関数フィッティングまたは前記第１および第２の関数フィッティングが、最小二乗法あるいは回帰分析を用いて行うものであることを特徴とする請求項２から請求項４のうちいずれか１項に記載のクロストーク補正方法。
6. 前記除去が、前記第１の漏洩係数をε₊とし、前記第２の漏洩係数をε_-とし、前記スライス方向のシンチレータの順番をｎとし、前記ｎ番目のシンチレータの検出情報をＳ_nとし、前記ｎ番目のシンチレータの強度情報をＤ_nとし、ｇ＝１−ε₊−ε_-とし、
   Ｄ_n＝（Ｓ_n−ε₊・Ｓ_n-1−ε_-・Ｓ_n+1）／ｇ
   である式（２）を用いて、前記強度情報であるＤ_nを求めるものであることを特徴とする請求項１から請求項５のうちいずれか１項に記載のクロストーク補正方法。
7. 前記除去が、前記シンチレータの感度補正の前あるいは後に行われるものであることを特徴とする請求項６に記載のクロストーク補正方法。
8. 前記算定が、前記２次元配列される複数のシンチレータが、矩形状に２次元配列されるシンチレータからなるタイルを複数組み合わせてなる際に、単数あるいは複数の前記タイルごとに第１の漏洩係数および第２の漏洩係数を求めるものであることを特徴とする請求項１から請求項７のうちいずれか１項に記載のクロストーク補正方法。
9. 前記除去が、単数あるいは複数の前記タイルごとの第１の漏洩係数および第２の漏洩係数を用いて、前記強度情報を求めるものであることを特徴とする請求項８に記載のクロストーク補正方法。
10. 前記ファントムが、前記スライス方向の位置に対応して円径が変化する円筒状のスロープファントムであることを特徴とする請求項１から請求項９のうちいずれか１項に記載のクロストーク補正方法。
11. 厚みを持って扇状に拡がるコーン状のＸ線ビームを照射するＸ線管と、
    前記Ｘ線ビームの照射方向と概ね直交する面上に２次元配列される、前記Ｘ線ビームを検出するシンチレータと、
    前記シンチレータで検出される２次元的な投影情報に基づいて、前記Ｘ線管および前記シンチレータの間に配置される被検体の断層画像を再構成するデータ処理装置と、を備えるＸ線ＣＴ装置であって、
    前記データ処理装置が、前記シンチレータの検出情報が、前記シンチレータに入射するＸ線ビームの強度に比例する強度情報と、前記厚みの方向である前記２次元配列のスライス方向に隣接するシンチレータからの前記隣接するシンチレータに入射するＸ線ビームの強度に比例する漏洩情報とを含む際に、前記隣接するシンチレータに入射するＸ線ビームの強度から前記漏洩情報の量を算出するのに用いる漏洩係数を、前記スライス方向の位置に対応してＸ線ビームの透過路長が変化するファントムを透過するＸ線ビームの検出情報であるファントム投影情報を用いて、前記スライス方向をなす第１の方向への第１の漏洩係数および前記第１の方向の反対方向となる第２の方向への第２の漏洩係数ごとに式（１）により算定する算定手段、並びに、前記漏洩係数を用いて、前記投影情報の検出情報に含まれる前記漏洩情報を除去し、前記強度情報を求める補正手段を備えることを特徴とするＸ線ＣＴ装置。
    −ｌｎ（Ｄ_n）≒−ｌｎ（Ｓ_n）＋ε₊・（Ｓ_n-1／Ｓ_n−１）＋ε_-・（Ｓ_n+1／Ｓ_n−１） …式（１）
    ただし、前記第１の漏洩係数をε₊とし、前記第２の漏洩係数をε_-とし、前記スライス方向のシンチレータの順番をｎとし、前記ｎ番目のシンチレータの強度情報をＤ_nとし、前記ｎ番目のシンチレータの検出情報をＳ_nとし、Ｓ_n-1／Ｓ_n≠１とし、Ｓ_n+1／Ｓ_n≠１とする。
12. 前記算定手段が、前記式（１）のＤ_nの値として、前記ファントム投影情報の前記ｎ番目のスライス方向位置で、前記２次元配列の前記扇状の拡がり方向であるチャネル方向位置に対応する値に関数のフィッティングを行い、前記フィッティングされる関数値を求める第１の関数フィッティング手段を備えることを特徴とする請求項１１に記載のＸ線ＣＴ装置。
13. 前記算定手段が、同一チャネル方向位置の前記ファントム投影情報および前記関数値に前記式（１）を用いてフィッティングを行い、前記フィッティングされる式（１）の関数形から前記第１の漏洩係数をε₊および前記第２の漏洩係数をε_-を求める第２の関数フィッティング手段を備えることを特徴とする請求項１２に記載のＸ線ＣＴ装置。
14. 前記補正手段が、前記第１の漏洩係数をε₊とし、前記第２の漏洩係数をε_-とし、前記スライス方向のシンチレータの順番をｎとし、前記ｎ番目のシンチレータの検出情報をＳ_nとし、前記ｎ番目のシンチレータの強度情報をＤ_nとし、ｇ＝１−ε₊−ε_-とし、
    Ｄ_n＝（Ｓ_n−ε₊・Ｓ_n-1−ε_-・Ｓ_n+1）／ｇ
    である式（２）を用いて、前記強度情報であるＤ_nを求めるものであることを特徴とする請求項１１から請求項１３のうちいずれか１項に記載のＸ線ＣＴ装置。
15. 前記補正手段が、前記除去を、前記シンチレータの感度補正の前あるいは後に行うものであることを特徴とする請求項１４に記載のＸ線ＣＴ装置。
16. 前記算定手段が、前記２次元配列される複数のシンチレータが、矩形状に２次元配列されるシンチレータからなるタイルを複数組み合わせてなる際に、単数あるいは複数の前記タイルごとに前記第１の漏洩係数および前記第２の漏洩係数を求めるものであることを特徴とする請求項１１から請求項１５のうちいずれか１項に記載のＸ線ＣＴ装置。
17. 前記補正手段が、単数あるいは複数の前記タイルごとの第１の漏洩係数および第２の漏洩係数を用いて、前記強度情報を求めるものであることを特徴とする請求項１６に記載のＸ線ＣＴ装置。
18. 前記ファントムが、前記スライス方向の位置に対応して円径が変化する円筒状のスロープファントムであることを特徴とする請求項１１から請求項１７のうちいずれか１項に記載のＸ線ＣＴ装置。

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