JP4481761B2 - 基板設計支援装置、基板設計支援方法、及び基板設計支援プログラム - Google Patents

基板設計支援装置、基板設計支援方法、及び基板設計支援プログラム Download PDF

Info

Publication number
JP4481761B2
JP4481761B2 JP2004234101A JP2004234101A JP4481761B2 JP 4481761 B2 JP4481761 B2 JP 4481761B2 JP 2004234101 A JP2004234101 A JP 2004234101A JP 2004234101 A JP2004234101 A JP 2004234101A JP 4481761 B2 JP4481761 B2 JP 4481761B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
design support
printed wiring
board
main material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2004234101A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2006053706A (ja
Inventor
健治 福園
英明 吉村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP2004234101A priority Critical patent/JP4481761B2/ja
Priority to US10/986,135 priority patent/US7222316B2/en
Publication of JP2006053706A publication Critical patent/JP2006053706A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4481761B2 publication Critical patent/JP4481761B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F30/00Computer-aided design [CAD]
    • G06F30/30Circuit design
    • G06F30/39Circuit design at the physical level
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0005Apparatus or processes for manufacturing printed circuits for designing circuits by computer
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/01Dielectrics
    • H05K2201/0183Dielectric layers
    • H05K2201/0191Dielectric layers wherein the thickness of the dielectric plays an important role
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4602Manufacturing multilayer circuits characterized by a special circuit board as base or central core whereon additional circuit layers are built or additional circuit boards are laminated

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Evolutionary Computation (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Description

本発明は、設計された基板を簡素化して単純積層モデルを作成し、該単純積層モデルに基づいて基板の熱変位を算出する基板設計支援装置、基板設計支援方法、及び基板設計支援プログラムに関するものである。
従来、プリント配線基板における配線パターン設計は、設計ルール(配線幅、厚さ、間隔など)に基づく自動ツールなどが用いられており、材料選定や製造プロセス条件などは考慮されず製造されている。このため、完成後に温度プロセス過程における温度変化の影響を受けたたわみ(変位量)などが大きくなる場合が発生し、このような場合は設計変更を行って再度製造を試みるということが繰り返されている。
なお、従来、プリント配線基板の補強部の位置を簡易にかつ、より合理的な方法で決定することができる技術として、多面取りプリント基板の溝部にその周辺部位と比較して剛性を低下させたダミー材料を埋め込む工程と、ダミー材料が埋め込まれた状態の多面取りプリント基板に対して反り変形シミュレーションを行って、溝部の応力あるいは変形量分布を求める工程と、得られた応力あるいは変形量分布に基づいて、溝部における高応力部あるいは高変形量部を特定する技術が知られる(例えば特許文献1参照)。
特開平10−93206号公報
しかしながら、上述した従来の技術では、プリント配線基板を製造して初めて問題が判明するため、設計を行って製造を行うというサイクルでの繰り返しが多くなり、開発期間が長くなると共にコスト高となる。また、変位量が大きくなる場合について事前に考えられる問題について、三次元解析などを用い予測しようとすると、膨大な要素数となってしまうため、その予測は極めて困難である。
なお、上述した特許文献1においても、このような複雑なプリント配線基板の温度による変位量の予測問題を解決するものではない。
本発明は、上述した従来の問題点を解決するためになされたものであり、プリント配線基板の温度変化による変位量を容易、且つ低コストに予測することができる基板設計支援装置、基板設計支援方法、及び基板設計支援プログラムを提供することを目的としている。
上述した課題を解決するため、本発明は、プリント配線基板の変位量を予測するために、設計されたプリント配線基板を簡素化する基板設計支援装置であって、プリント配線基板を構成する各層ごとにその層を構成する主要材料について、基板面積に対する平均厚さを求める層厚演算部と、前記層厚演算部で演算された層厚の層を積層して単純積層モデルを作成する積層モデル作成部とを備えてなるものである。
ここで、前記層厚演算部は、第1の層に隣合う第2の層において第1の層の主要材料と同じ材料が含まれる場合は、該第2の層における第1の層の主要材料と同じ材料についての体積を前記第1の層の主要材料についての体積に含めて第1の層の平均厚さを求めることを特徴とする。
また、前記層厚演算部は、第3の層に隣合う第4の層において第3の層の主要材料と同じ材料が含まれる場合は、該第4の層における前記主要材料と同じ材料についての体積を前記第3の層の主要材料についての体積に含めることなく第3の層の平均厚さを求めることを特徴とする。
さらに、本発明の基板設計支援装置において、前記積層モデル作成部により作成された積層モデルについて、各層を構成する物性情報に基づいてプロセス温度変化に伴って生じる変位量を演算する変位量演算部を備えることを特徴とすることができる。
ここで、前記積層モデル作成部は、前記変位量演算部の演算結果に基づいて単純積層モデルを変更することを特徴とすることができる。
また、前記凹凸情報取得部は、プリント配線基板に関する設計値に対し、プリント配線基板の製造過程によって前記設計値と異なる結果が生じる傾向を定量化してなる製造ライン傾向値を用いて、前記プリント配線基板の凹凸情報を取得することを特徴とすることができる。
また、本発明は、プリント配線基板の変位量を予測するために、設計されたプリント配線基板を簡素化する基板設計支援方法であって、プリント配線基板を構成する各層ごとにその層を構成する主要材料について、基板面積に対する平均厚さを求める層厚演算ステップと、前記層厚演算ステップで演算された層厚の層を積層して単純積層モデルを作成する積層モデル作成ステップとを備えてなるものである。
ここで、前記層厚演算ステップは、第1の層に隣合う第2の層において第1の層の主要材料と同じ材料が含まれる場合は、該第2の層における第1の層の主要材料と同じ材料についての体積を前記第1の層の主要材料についての体積に含めて第1の層の平均厚さを求めることを特徴とすることができる。
また、本発明の基板設計支援方法において、前記積層モデル作成ステップにより作成された積層モデルについて、各層を構成する物性情報に基づいてプロセス温度変化に伴って生じる変位量を演算する変位量演算ステップを備えることを特徴とすることができる。
また、本発明の基板設計支援方法において、前記変位量演ステップの演算結果に基づいて単純積層モデルのデータを変更する単純積層モデル変更ステップを含むことを特徴とすることができる。
ここで、前記凹凸情報取得ステップは、プリント配線基板に関する設計値に対し、プリント配線基板の製造過程によって前記設計値と異なる結果が生じる傾向を定量化してなる製造ライン傾向値を用いて、前記プリント配線基板の凹凸情報を取得することを特徴とすることができる。
また、本発明は、プリント配線基板の変位量を予測するために、設計されたプリント配線基板を簡素化する基板設計支援プログラムであって、プリント配線基板を構成する各層ごとにその層を構成する主要材料について、基板面積に対する平均厚さを求める層厚演算ステップと、前記層厚演算ステップで演算された層厚の層を積層して単純積層モデルを作成する積層モデル作成ステップとをコンピュータに実行させるものである。
本発明によれば、複雑な形状、構造を有するプリント配線基板であっても、温度変化による変位量を容易、且つ低コストに予測することができる。
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しつつ説明する。
実施の形態1.
図1は本実施の形態1における基板設計支援装置を示すブロック図である。この基板設計支援装置は、プリント配線基板を設計したCADデータを記憶するCADデータファイル記憶部1と、CADデータファイル記憶部1に記憶されたCADデータファイルを用いて形状変換を行って解析用モデルを作成する解析用モデル作成部2と、解析用モデル作成部2で作成された解析用モデルを一時的に記憶する解析用データファイル記憶部3と、解析用データファイル記憶部3に記憶された解析用データファイルを用いて温度プロセスにより生じる変位量を演算する解析部(変位量演算部)4と、変位量演算部4により演算された変位量に基づいて、基板表面の変位量を演算する基板表面変位演算部5と、解析に用いられる必要なデータを供給するためのデータベース部6と、基板表面変位演算部5において用いられる凹凸情報をCADデータファイル記憶部1から取得する凹凸情報取得部7とを備える。
上記構成において、解析用モデル作成部2は、CADデータファイルに基づいて、プリント配線基板を構成する複数の層における各層についての層厚を求める層厚演算部21と、演算された層厚からなる層を積層することにより、解析用の単純積層モデルを作成する積層モデル作成部22とを備える。
また、データベース(DB)部6は、製造過程におけるプロセス温度等を記憶するプロセスデータDB61と、プリント配線基板の各層を構成する主要材料、すなわち積層モデル作成部22で作成される各層の材料に関する物性情報として、例えば熱膨張係数、ヤング率など温度変位を算出するのに必要な物性情報を記憶した構成材料DB62とを備える。
そして、凹凸情報取得部7は、CADデータファイル記憶部1から後述するようにして凹凸情報を取得する。
以下、実施の形態1の動作について説明する。
図2は、解析用モデル作成部2における解析用モデル作成動作を示すフローチャートである。まず、CADデータファイル記憶部1から得られるプリント配線基板データにおいて、該基板を構成する各層ごとにその層を構成する主要材料について所定のルールで体積を算出する(ステップS1,S2)。例えば図3に示すように、プリント配線基板が最下層より配線層(d4)、絶縁層(d3)、配線層(d2)、絶縁層(d1)とある場合、各配線層の体積を算出し(ステップS1)、次に各絶縁層の体積を算出する(ステップS2)。
ステップS1の動作において、第1のルールとして、配線層(本発明の第1の層に対応:例えばd2)内に主要材料である配線材料と異なる絶縁材量が含まれる場合は、その配線層内の絶縁材量の体積は無視されると共に、その配線層に隣合う(下側に重なる)絶縁層(本発明の第2の層に対応:d3)にビアなどにより該配線層と同じ配線材料が含まれる場合はその配線材料の体積が配線層(d2)の主要材料の体積に加算されて配線層(d3)の体積が算出される。
また、ステップS2の動作において、第2のルールとして、絶縁層(本発明の第3の層に対応:d3)内にビア等による配線材料がある場合、その配線材料の体積は無視される(その上層側の配線層の体積に含められる)と共に、その絶縁層に隣合う(下側に重なる)配線層(本発明の第4の層に対応:d4)に該絶縁層と同じ絶縁材料が含まれていても、その絶縁材料の体積は第1のルール1のように絶縁層(d3)に加えられることなく、該絶縁層の体積が算出される。
こうして、各層の体積が算出されると、次に各層の平均厚さ算出する(ステップS3)。これは各層の体積を基板面積で除算することにより行われる。各層の平均厚さが算出されると、その平均厚さを有する各層を重ね合わせて簡素化された単純積層モデル(解析用モデル)が作成される(ステップS4)。
図3は解析用モデル作成の説明の便宜のために、簡単な例を示したが、図4に示されるように、もっと複雑な構造を有するプリント配線基板においても同様に適用される。図4において、図4(a)はプリント配線基板の断面構造を示し、図4(b)はその一部の詳細断面構造を示し、図4(c)は図4(b)に示した部分の構造が図2、図3に示したと同じ処理により簡素化(単純化)された場合を示し、図4(d)は図4(a)の全体の構造が図2、図3に示したと同じ処理により簡素化(単純化)された場合を示している。すなわち、図4(d)は図4(a)のプリント配線基板から作成される単純積層モデル(解析用モデル)を示している。
こうして、解析用モデル作成部2は、複雑な構造を有するプリント配線基板からそのプリント配線基板を構成する各層ごとにその層を構成する主要材料(例えば配線材料と絶縁材料)について所定のルール(第1、第2のルール)で基板面積に対する平均厚さを求め、求められた層厚の層を積層して単純積層モデルを作成する。
次に、作成された単純積層モデルを使用し、プリント配線基板の表面変位を演算する表面変位演算動作について、図5のフローチャートを用いて説明する。
まず、変位量演算部4は解析用データファイル記憶部から単純積層モデルデータを取得し(ステップS11)、プロセス温度変化分の変位量を演算する(ステップS12)。変位量は、図6(a)に示すような単純積層モデルが温度変化を受けたときに、その熱膨張率及びヤング率の相異から、図6(b)に示すように生じる変位量である。熱膨張率やヤング率は構成材料DB62から取得し、プロセス温度変化はプロセスデータDB61から取得する。
この算出方法は周知であり、ここでの説明は省略するが、一例として日本機械学会論文集59巻563号1993-7、機械多層はり理論によるプリント基板の応力・変形の評価(尾田十八 他)で示される、多層積層板の熱膨張係数の違いによる反りの計算式を用いることができる。
こうして、温度変化に伴う変位量が演算されると、次に、基板表面変位演算部5は、凹凸情報取得部7によりCADデータファイル記憶部1の設計データにおいて得ることができるプリント配線基板表面の凹凸量を、変位量演算部4で求められた変位量に対して加減算してプリント配線基板表面の変位量を求める(ステップS13)。
この凹凸は配線層の厚さが基板の面内方向で異なることにより生じるものであり、配線層が薄い領域においては、配線層の厚い領域に比べて凹部が形成されやすい(配線層の厚い領域は薄い領域に比べて凸部が形成されやすい)。このため、例えば図7(a)に示されるように配線層の厚さが一定の基板においては、単純積層モデルにより、図7(b)のように得られる変位量(変位量)において基板表面各部を表せるが、図7(c)のように例えば配線層が薄い領域においては、表面に凹部ができてその変位はステップS12において演算された変位量にその凹部の深さを加算したものとすることが好ましい。
図8は、凹凸情報取得部7による凹凸情報取得動作を示すフローチャートである。まず、設計時の基板表面変位データがCADデータファイルから取得される(ステップS21)。次に凹凸情報取得部7は、基板を所定の形状によって分割し(ステップS22)、分割された各領域における基板平均厚さを算出する(ステップS23)。次に各分割領域における基板平均厚さと、基板全領域における基板厚さの平均値との差を求める(ステップS24)。図5に示した表面変位演算(ステップS13)では、ステップS24で求められた厚さの差をステップS12において得られた各領域における変位量に加算して基板の表面変位を得る。なお、ここでは凹凸を加味する表面変位の演算方法の一例について説明したが、基板の最小厚さを基準にする方法、基板の最大厚さを基準にする方法など、上述した基板の平均厚さを基準にする以外の方法もとり得ることは言うまでもない。
図9〜図11はプリント配線基板の分割方法を示しており、第1の分割方法は、図9(a)のようなプリント配線基板を図9(b)のように各部を格子状に分割する方法である。この場合、細かく領域を分けるため、精度には優れるが手間がかかるものとなり、処理の効率は悪いものとなる。
そこで、第2の分割方法として、図10(a)のような上下左右対称デザインのような場合、図10(b)のように各部を同心枠状に分割する方法があげられる。この場合は、図9(b)のように細かく分割する必要がないため、処理の効率に優れたものとなる。
また、第3の分割方法として、図11(a)のような上下左右非対称デザインのような場合は、図11(b)のように各部を放射状に分割することも可能である。このように、プリント配線基板のデザインにより分割方法を適宜選択し分割することにより、精度的にも効率的にも優れた処理方法を得ることができる。
こうして実施の形態1によれば、複雑な断面構造を有するプリント配線基板から単純積層モデルを作成し、それに基づいて温度変位を求めると共にその変位に表面の凹凸を含めたため、簡単にして精度よくプリント配線基板の温度変位を求めることができる。
実施の形態2.
実施の形態1は設計値データのみに基づいてプリント配線基板表面の凹凸を求めた。しかし、製造プロセスを経ることにより、プリント配線基板に関する設計値に対し、設計値と異なる結果が傾向的に生じる場合がある。そこで、実施の形態2は、この傾向を、配線層の厚さにおいて生じる傾向に例をとって説明する。
図12は実施の形態2における基板設計支援装置のブロック図を示す。
一般に配線層はプリント基板のメッキ工程で形成されるが、メッキ場所によって、設計値よりも厚めに形成されたり、薄めに形成されたりする。そこで、実施の形態2におけるデータベース部6Aは、そのような傾向を統計的且つ定量的に取得し、それを製造ライン傾向値として記憶する製造ライン傾向DB63を備える。
そして、凹凸情報取得部7Aは、CADデータファイル記憶部1と製造ライン傾向DB63とから凹凸情報を取得するようにする。例えば、設計値に基づいて配線層の厚さがTと得られた場合、製造ライン傾向DB63からその配線層がメッキされる場所における製造ライン傾向値として、その厚さTを修正するデータを取得する。例えば、その製造ライン傾向値が+αであった場合、凹凸情報取得部7AはT×(1+α)をその設計された配線層厚さとして置き換え、それを用いて以下実施の形態1と同様な処理が行われる。
なお、実施の形態2において、この凹凸情報取得部7Aにより得られた製造ライン傾向値は基板表面変位演算部5においてのみ用いられるようにしたが、この製造ライン傾向値を図12に点線で示すように層厚演算部21に用いて、修正された層厚による単純積層モデルを作成するようにすることもできる。
こうして、実施の形態2によれば、プリント配線基板の表面変位に製造プロセス過程での傾向値を取り入れることができ、その精度を高めることができる。なお、図12において、図1と同一符号は図1に示したそれらと同一又は相当物を示しており、ここでの説明は省略する。
実施の形態3.
図13は実施の形態3の構成を示すブロック図である。実施の形態3は、実施の形態1の構成に評価部8を備えると共に、最適化データ登録部9を備える。実施の形態3では、解析用モデル作成と変位量演算を、初期パターン(初期設計値(初期データ))を変更しつつ繰り返し行い、それらの評価を行い、プリント配線基板設計の最適化を行う場合について説明する。
図14は実施の形態3の動作を示すフローチャートである。
ここでは、図15(a)の初期プリント配線基板(初期設計値)について、図15(b)に示すようにL1〜Lm層までの積層モデルを作成し、初期データ取得を行う(ステップS31)。
このとき、図16の直交表に示される各層(配線層)厚さL1〜Lm、及び各層間(絶縁層)厚さL1−L2〜Ln−Lmについて、まずその第1のデータの組み合わせ(第1のデータ)が得られる。この第1のデータは、当所の設計データそのものを用いて得られるもの(初期パターンにおける設計値)を使用するのが好ましい。
変位量演算部4は作成された第1の組み合わせのデータについて変位量演算処理を行い(ステップS32)、その結果を評価部8が評価する(ステップS33)。評価結果が最適条件を満たさない場合(例えば変位量または表面変位量が所定値内に納まらない場合)(ステップS34、N)、評価部8は、次の組み合わせの値について、同様の処理を行うように指示し、解析用モデル作成部2Aは第1のデータを変更し(ステップS37)、以下同様の処理を行なう。この場合、解析用モデル作成部(積層モデル作成部22)2Aは本発明の初期パターン変更部を構成している。なお、このとき得られた変位量は図16の直交表における変位量の欄に記述されていく。また評価部8の評価基準は例えば変位量が所定値以下となることを基準とする。
評価部8による評価結果が最適条件を満たす場合(ステップS34、Y)、それにより最適データが決定され(ステップS35)、最適化データ登録部9がCADデータファイル記憶部1にそのデータを最適化データとして登録し(ステップS36)最適化処理を終了する。
なお、最適データは図16の各厚さを表すデータとして得られるので、それを用いて図15(a)に示す初期パターンの各部設計値を変形することもできる。この場合、図15(a)で示される各層厚を、得られた最適データに基づいて変更修正することが一例として挙げられる。また最適化データ登録部9はこの変更修正されたデータもCADデータファイル記憶部1に登録するようにしてもよい。
なお、上記処理は、解析用モデル作成部2Aにおいて直交表を作成しつつ変位量を求め、またそれ毎に評価を繰り返すようにしたが、別の手法として、まずとれるべき全ての層厚さ及び層間厚さの組み合わせに対して変位量を求めて図16で示す直交表を満たし、得られた変位量とそのときの各層の厚さの組み合わせに基づいて最適パターンを決定するようにしてもよい。
この場合の評価基準については、例えば変位量が所定値以下で、且つもっとも小さくなるデータ組を選択するようにする。なお、各層(配線層)厚さL1〜Lm、及び各層間(絶縁層)厚さL1−L2〜Ln−Lmの組み合わせの作成方法については、初期設計値の値から所定の割合の大きさの値までの範囲において、各値を一定間隔で増減させてそれらの組み合わせを得るようにすることが一例として挙げられる。
実施の形態3によれば、CADデータファイルより得られた設計値に基づいて最適パターン構造が得られ、プリント配線基板の設計が極めて容易、且つ低コストに行なえる。
以上、本発明の実施の形態を配線層と絶縁層からなる多層に適用した場合について説明したが、配線層と絶縁層以外の層を含むものでも本発明は適用できることは言うまでもない。なお、本発明によれば、上述した図2、図5、図8及び図14のフローチャートにおける各ステップを基板設計支援装置を構成するコンピュータに実行させる基板設計支援プログラムとして提供することができる。上述したプログラムは、コンピュータにより読取り可能な記録媒体に記憶させることによって、基板設計支援装置を構成するコンピュータに実行させることが可能となる。ここで、上記コンピュータにより読取り可能な記録媒体としては、CD−ROMやフレキシブルディスク、DVDディスク、光磁気ディスク、ICカード等の可搬型記憶媒体や、コンピュータプログラムを保持するデータベース、或いは、他のコンピュータ並びにそのデータベースや、更に回線上の伝送媒体をも含むものである。
(付記1)プリント配線基板の変位量を予測するために、設計されたプリント配線基板を簡素化する基板設計支援装置であって、
プリント配線基板を構成する各層ごとにその層を構成する主要材料について、基板面積に対する平均厚さを求める層厚演算部と、
前記層厚演算部で演算された層厚の層を積層して単純積層モデルを作成する積層モデル作成部と
を備えてなる基板設計支援装置。
(付記2)付記1に記載の基板設計支援装置において、
前記層厚演算部は、第1の層に隣合う第2の層において第1の層の主要材料と同じ材料が含まれる場合は、該第2の層における第1の層の主要材料と同じ材料についての体積を前記第1の層の主要材料についての体積に含めて第1の層の平均厚さを求めることを特徴とする基板設計支援装置。
(付記3)付記1に記載の基板設計支援装置において、
前記層厚演算部は、第3の層に隣合う第4の層において第3の層の主要材料と同じ材料が含まれる場合は、該第4の層における前記主要材料と同じ材料についての体積を前記第3の層の主要材料についての体積に含めることなく第3の層の平均厚さを求めることを特徴とする基板設計支援装置。
(付記4)付記1乃至付記3のいずれかに記載の基板設計支援装置において、
前記積層モデル作成部により作成された積層モデルについて、各層を構成する物性情報に基づいてプロセス温度変化に伴って生じる変位量を演算する変位量演算部を備えることを特徴とする基板設計支援装置。
(付記5)付記1乃至付記4のいずれかに記載の基板設計支援装置において、
前記積層モデル作成部は、前記変位量演算部の演算結果に基づいて単純積層モデルを変更することを特徴とする基板設計支援装置。
(付記6)付記1乃至付記5のいずれかに記載の基板設計支援装置において、
前記凹凸情報取得部は、プリント配線基板に関する設計値に対し、プリント配線基板の製造過程によって前記設計値と異なる結果が生じる傾向を定量化してなる製造ライン傾向値を用いて、前記プリント配線基板の凹凸情報を取得することを特徴とする基板設計支援装置。
(付記7)プリント配線基板の変位量を予測するために、設計されたプリント配線基板を簡素化する基板設計支援方法であって、
プリント配線基板を構成する各層ごとにその層を構成する主要材料について、基板面積に対する平均厚さを求める層厚演算ステップと、
前記層厚演算ステップで演算された層厚の層を積層して単純積層モデルを作成する積層モデル作成ステップと
を備えてなる基板設計支援方法。
(付記8)付記7に記載の基板設計支援方法において、
前記層厚演算ステップは、第1の層に隣合う第2の層において第1の層の主要材料と同じ材料が含まれる場合は、該第2の層における第1の層の主要材料と同じ材料についての体積を前記第1の層の主要材料についての体積に含めて第1の層の平均厚さを求めることを特徴とする基板設計支援方法。
(付記9)付記7又は付記8に記載の基板設計支援方法において、
前記積層モデル作成ステップにより作成された積層モデルについて、各層を構成する物性情報に基づいてプロセス温度変化に伴って生じる変位量を演算する変位量演算ステップを備えることを特徴とする基板設計支援方法。
(付記10)付記7乃至付記9のいずれかに記載の基板設計支援方法において、
前記変位量演ステップの演算結果に基づいて単純積層モデルのデータを変更する単純積層モデル変更ステップを含むことを特徴とする基板設計支援方法。
(付記11)付記7乃至付記10のいずれかに記載の基板設計支援方法において 、
前記凹凸情報取得ステップは、プリント配線基板に関する設計値に対し、プリント配線基板の製造過程によって前記設計値と異なる結果が生じる傾向を定量化してなる製造ライン傾向値を用いて、前記プリント配線基板の凹凸情報を取得することを特徴とする基板設計支援方法。
(付記12)プリント配線基板の変位量を予測するために、設計されたプリント配線基板を簡素化する基板設計支援プログラムであって、
プリント配線基板を構成する各層ごとにその層を構成する主要材料について、基板面積に対する平均厚さを求める層厚演算ステップと、
前記層厚演算ステップで演算された層厚の層を積層して単純積層モデルを作成する積層モデル作成ステップと
をコンピュータに実行させる基板設計支援プログラム。
(付記13)付記12に記載の基板設計支援プログラムにおいて、
前記層厚演算ステップは、第1の層に隣合う第2の層において第1の層の主要材料と同じ材料が含まれる場合は、該第2の層における第1の層の主要材料と同じ材料についての体積を前記第1の層の主要材料についての体積に含めて第1の層の平均厚さを求めることをコンピュータに実行させる基板設計支援プログラム。
(付記14)付記12又は付記13に記載の基板設計支援プログラムにおいて、
前記積層モデル作成ステップにより作成された積層モデルについて、各層を構成する物性情報に基づいてプロセス温度変化に伴って生じる変位量を演算する変位量演算ステップを備えてコンピュータに実行させる基板設計支援プログラム。
(付記15)付記12乃至付記14のいずれかに記載の基板設計支援プログラム において、
前記凹凸情報取得ステップは、プリント配線基板に関する設計値に対し、プリント配線基板の製造過程によって前記設計値と異なる結果が生じる傾向を定量化してなる製造ライン傾向値を用いて、前記プリント配線基板の凹凸情報を取得することをコンピュータに実行させる基板設計支援プログラム。
本発明の実施の形態1の構成を示すブロック図である。 本発明の実施の形態1における解析用モデル(単純積層モデル)作成動作を示すフローチャートである。 単純積層モデルを作成する際に用いるルールを説明するための図である。 具体的な解析用モデルの作成を概念的に示す図である。 表面変位演算処理動作を示すフローチャートである。 多層構造の熱変形を示す概念図である。 表面変位演算の概念を説明する図である。 凹凸情報の取得動作を示すフローチャートである。 基板分割方法その1を示す概念図である。 基板分割方法その2を示す概念図である。 基板分割方法その3を示す概念図である。 実施の形態2の構成を示すブロック図である。 実施の形態3の構成を示すブロック図である。 実施の形態3の動作を示すフローチャートである。 最適化処理を説明するためのプリント配線基板の断面構造を示す図である。 直交表を示す図である。
符号の説明
1 CADデータファイル記憶部、2、2A 解析用モデル作成部、3 解析用データファイル記憶部、4 変位量演算部、5 基板表面変位演算部、6、6A データベース部、7、7A 凹凸情報取得部、8 評価部、9 最適化データ登録部、21 層厚演算部、22 積層モデル作成部。

Claims (4)

  1. プリント配線基板の変位量を予測するために、設計されたプリント配線基板を簡素化する基板設計支援装置であって、
    プリント配線基板を構成する各層ごとにその層を構成する主要材料について、第1の層の主要材料と同じ材料が前記第1の層に隣合う第2の層に含まれる場合は、前記第2の層における前記第1の層の主要材料と同じ材料についての体積を前記第1の層の主要材料についての体積に含めて前記第1の層の基板面積に対する平均厚さを求める層厚演算部と、
    前記層厚演算部で演算された層厚の層を積層して単純積層モデルを作成する積層モデル作成部と
    を備えてなる基板設計支援装置。
  2. 請求項1に記載の基板設計支援装置において、
    前記積層モデル作成部により作成された積層モデルについて、各層を構成する物性情報に基づいてプロセス温度変化に伴って生じる変位量を演算する変位量演算部を備えることを特徴とする基板設計支援装置。
  3. プリント配線基板の変位量を予測するために、設計されたプリント配線基板を簡素化する基板設計支援方法であって、
    プリント配線基板を構成する各層ごとにその層を構成する主要材料について、第1の層の主要材料と同じ材料が前記第1の層に隣合う第2の層に含まれる場合は、前記第2の層における前記第1の層の主要材料と同じ材料についての体積を前記第1の層の主要材料についての体積に含めて前記第1の層の基板面積に対する平均厚さを求める層厚演算ステップと、
    前記層厚演算ステップで演算された層厚の層を積層して単純積層モデルを作成する積層モデル作成ステップと
    コンピュータに実行させる基板設計支援方法。
  4. プリント配線基板の変位量を予測するために、設計されたプリント配線基板を簡素化する基板設計支援プログラムであって、
    プリント配線基板を構成する各層ごとにその層を構成する主要材料について、第1の層の主要材料と同じ材料が前記第1の層に隣合う第2の層に含まれる場合は、前記第2の層における前記第1の層の主要材料と同じ材料についての体積を前記第1の層の主要材料についての体積に含めて前記第1の層の基板面積に対する平均厚さを求める層厚演算ステップと、
    前記層厚演算ステップで演算された層厚の層を積層して単純積層モデルを作成する積層モデル作成ステップと
    をコンピュータに実行させる基板設計支援プログラム。
JP2004234101A 2004-08-11 2004-08-11 基板設計支援装置、基板設計支援方法、及び基板設計支援プログラム Active JP4481761B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004234101A JP4481761B2 (ja) 2004-08-11 2004-08-11 基板設計支援装置、基板設計支援方法、及び基板設計支援プログラム
US10/986,135 US7222316B2 (en) 2004-08-11 2004-11-12 Board design aiding apparatus, board design aiding method and board design aiding program

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004234101A JP4481761B2 (ja) 2004-08-11 2004-08-11 基板設計支援装置、基板設計支援方法、及び基板設計支援プログラム

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006053706A JP2006053706A (ja) 2006-02-23
JP4481761B2 true JP4481761B2 (ja) 2010-06-16

Family

ID=35801457

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004234101A Active JP4481761B2 (ja) 2004-08-11 2004-08-11 基板設計支援装置、基板設計支援方法、及び基板設計支援プログラム

Country Status (2)

Country Link
US (1) US7222316B2 (ja)
JP (1) JP4481761B2 (ja)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4588502B2 (ja) * 2005-03-17 2010-12-01 富士通株式会社 プリント配線基板設計支援装置、プリント配線基板設計支援方法、及びプリント配線基板設計支援プログラム
US7222321B2 (en) * 2005-05-10 2007-05-22 Anaglobe Technology, Inc. System and method for manipulating an integrated circuit layout
JP4770535B2 (ja) * 2006-03-22 2011-09-14 株式会社デンソー 多層基板の設計支援装置
JP4980684B2 (ja) * 2006-09-29 2012-07-18 富士通株式会社 基板情報取得変換方法とそのプログラムおよび装置
JP5040363B2 (ja) * 2007-03-01 2012-10-03 富士通株式会社 解析装置、解析方法及び解析プログラム
JP5062249B2 (ja) * 2007-03-07 2012-10-31 富士通株式会社 解析装置、解析方法及び解析プログラム
US7482180B1 (en) 2008-04-29 2009-01-27 International Business Machines Corporation Method for determining the impact of layer thicknesses on laminate warpage
WO2010067415A1 (ja) * 2008-12-09 2010-06-17 富士通株式会社 解析装置、解析方法及び解析プログラム
US20110076472A1 (en) * 2009-09-29 2011-03-31 Jin Ho Kim Package substrate
CN102096736B (zh) * 2011-01-28 2013-08-14 重庆大学 一种基于渐近变分法的复合材料层合板仿真及优化方法
US11817359B2 (en) 2020-09-01 2023-11-14 International Business Machines Corporation Warp mitigation using pattern-matched metal layers in organic substrates

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04360274A (ja) 1991-06-06 1992-12-14 Fujitsu Ltd 領域パターン自動生成処理方式
US5922212A (en) * 1995-06-08 1999-07-13 Nippondenso Co., Ltd Semiconductor sensor having suspended thin-film structure and method for fabricating thin-film structure body
JP3329667B2 (ja) 1996-09-17 2002-09-30 株式会社東芝 補強部位置決定方法、多面取りプリント基板の製造方法、及び多面取りプリント基板
JP3829281B2 (ja) * 2002-04-11 2006-10-04 株式会社日立製作所 膜厚分布解析方法、電子回路基板及び製造プロセスの設計装置
US20040010766A1 (en) * 2002-07-10 2004-01-15 Swope John M. Method and system for automated design of printed circuit boards
US7240313B2 (en) * 2003-06-27 2007-07-03 Ttm Technologies, Inc. Method for analyzing material density variations on a multi-layer printed circuit board
US7069095B2 (en) * 2003-12-04 2006-06-27 Hewlett-Packard Development Company, L.P. System and method for populating a computer-aided design program's database with design parameters

Also Published As

Publication number Publication date
JP2006053706A (ja) 2006-02-23
US7222316B2 (en) 2007-05-22
US20060036978A1 (en) 2006-02-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4588502B2 (ja) プリント配線基板設計支援装置、プリント配線基板設計支援方法、及びプリント配線基板設計支援プログラム
JP4481761B2 (ja) 基板設計支援装置、基板設計支援方法、及び基板設計支援プログラム
KR100297732B1 (ko) 반도체 소자의 소정 물질층의 패턴밀도를 구하는 방법 및 이를 이용한 화학기계적 연마의 시뮬레이션 방법
US8510690B2 (en) Hierarchical feature extraction for electrical interaction calculations
US7483818B2 (en) Structural analysis program, a structural analysis method, a structural analysis apparatus, and a production process of a semiconductor integrated circuit
JP5092752B2 (ja) ノイズチェック方法および装置並びにノイズチェックプログラムを記録したコンピュータ読取可能な記録媒体
KR101142881B1 (ko) 해석 장치, 해석 방법 및 해석 프로그램을 기록한 컴퓨터로 판독가능한 기록 매체
JP3927076B2 (ja) 基板の反り解析方法及びそのシステム、基板の反り解析プログラム
JP2010102680A (ja) レイアウト評価装置、レイアウト評価プログラム、ダミールール生成装置及びダミールール生成プログラム
US20090113373A1 (en) Layout design apparatus, layout design method, and computer product
US20130139117A1 (en) Model-Based Fill
JP2007027152A (ja) プリント基板の設計方法
JP4618065B2 (ja) 配線パターン設計装置及び方法並びにプログラム
JP5051036B2 (ja) 多層基板解析装置、多層基板解析プログラム及び方法
US7813905B2 (en) Simulation apparatus, simulation method, and computer-readable recording medium in which simulation program is stored
US8225267B2 (en) Method and apparatus for analyzing structure of complex material layer, and storage medium storing program for causing a computer to execute thereof method
US20140237434A1 (en) Photolithography mask design simplification
Selvanayagam et al. Global optimization of surface warpage for inverse design of ultra-thin electronic packages using tensor train decomposition
JP5040363B2 (ja) 解析装置、解析方法及び解析プログラム
JP4260149B2 (ja) 板状体解析方法
JP4204524B2 (ja) 解析処理装置
JP4770535B2 (ja) 多層基板の設計支援装置
CN117148664B (zh) 一种层叠桥接模拟方法、装置、设备及介质
JP2005266886A (ja) 含浸解析モデルの作成方法及び作成装置
JP2007241658A (ja) 熱伝導率算出方法、装置、およびプログラム

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070720

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20091125

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20091208

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100208

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100316

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100318

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130326

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4481761

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140326

Year of fee payment: 4