JP4480506B2 - ステンシルマスク及びステンシルマスクブランクス - Google Patents
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本発明の第1の実施形態について図1〜図4を参照して説明する。図1に示すように、ステンシルマスク1Aはシリコンウエハ2を用いて形成される。シリコンウエハ2の中央部は正方形状に除去されており、この部分にメンブレン3Aが形成されている。メンブレン3Aを取り囲む厚肉のシリコンウエハ2は、薄膜のメンブレン3Aを支持するための支持枠(フレーム)9として用いられる(図4の(g)参照)。メンブレン3Aには格子状に梁4が形成されている。梁4はシリコンウエハ2に複数の開口部を形成した残りの部分である。全ての梁4の末端はフレーム9または他の梁4に接続しており、梁4が途切れている箇所はない。
次に、図5を参照して第2の実施形態について説明する。なお、本実施形態が上記第1の実施形態と重複する部分の説明は省略する。
次に、図6を参照して第3の実施形態について説明する。なお、本実施形態が上記第1の実施形態と重複する部分の説明は省略する。
2…シリコンウエハ、
3,3A,3B,3C,3M,3N…メンブレン、
3a…メンブレン形成用層(シリコン系薄膜)、
4…梁、
5,5A,5B1〜5B2,5C,5M1〜5M5,5N1〜5N6…メンブレン分割領域、
6…梁帯部、
6A,6B…梁帯部セグメントが交差する部分を無くした部分、
6M,6N…4つの梁帯部セグメントが交差する部分(4重点)、
6R…補強梁を含む梁帯部、
6a…第1のY軸梁帯部セグメント、
6b…第2のX軸梁帯部セグメント、
6c…第2のY軸梁帯部セグメント、
6d…第1のX軸梁帯部セグメント、
8…荷電粒子線通過孔(電子線通過孔)、
9…支持枠(フレーム)、
10…エッチングストッパ層(シリコン酸化膜)、
11…裾部(スカート)、
21…SOIウエハ、
22…保護膜(シリコン酸化膜)、
23,24…レジスト膜、
25…アライメントマーク、
30…ステンシルマスクブランクス、
40…ステンシルマスク、
I…第1象限の相補パターン区画、
II…第2象限の相補パターン区画、
III…第3象限の相補パターン区画、
IV…第4象限の相補パターン区画。
Claims (8)
- 荷電粒子線が通過する孔がパターン形成されたメンブレンと、前記メンブレンの周縁を支持する支持枠と、平面視野において前記荷電粒子線通過孔と重ならないように前記支持枠の内側に設けられ、前記メンブレンを支持する複数の梁と、平面視野において前記梁と前記メンブレンとの連結部分の周囲の裾部および前記梁を含み、前記メンブレンを複数のメンブレン分割領域に分割するとともに、直交するX軸及びY軸に沿って前記メンブレンを矩形状に4つの第1〜第4象限の相補パターン区画に分ける梁帯部と、を具備するステンシルマスクであって、
前記梁帯部は、
X軸に沿って延び出し、前記第1象限の相補パターン区画に含まれ、前記第1象限の相補パターン区画と第4象限の相補パターン区画とを分ける第1のX軸梁帯部セグメントと、
X軸に沿って延び出し、前記第3象限の相補パターン区画に含まれ、前記第2象限の相補パターン区画と第3象限の相補パターン区画とを分ける第2のX軸梁帯部セグメントと、
Y軸に沿って延び出し、前記第1象限の相補パターン区画に含まれ、前記第1象限の相補パターン区画と第2象限の相補パターン区画とを分ける第1のY軸梁帯部セグメントと、
Y軸に沿って延び出し、前記第3象限の相補パターン区画に含まれ、前記前記第3象限の相補パターン区画と第4象限の相補パターン区画とを分ける第2のY軸梁帯部セグメントと、を有し、
1つの象限の相補パターン区画に属する梁帯部セグメントの端部が出会う中央の交差部分を欠落させ、周囲のメンブレン分割領域よりも平面視野内での面積が大きい中央メンブレン分割領域を有することを特徴とするステンシルマスク。 - 前記4つの梁帯部セグメントの全てについて中央部分を部分的に欠落させていることを特徴とする請求項1記載のステンシルマスク。
- 前記欠落させる梁帯部セグメントは2つであり、欠落した梁帯部セグメントに接して隣り合う象限の中央メンブレン分割領域に、該象限に接する欠落した梁帯部セグメントと平行な補強梁を含む梁帯部を設けたことを特徴とする請求項1記載のステンシルマスク。
- 少なくとも1つの相補パターン区画に属する梁の群が、該相補パターン区画に属する2つの梁帯部セグメントにそれぞれ接続される部分を除いて、前記少なくとも1つの相補パターン区画に属する2つの梁帯部セグメントの全てを欠落させていることを特徴とする請求項1記載のステンシルマスク。
- メンブレンと、前記メンブレンの周縁を支持する支持枠と、平面視野において前記支持枠の内側に設けられ、前記メンブレンを支持する複数の梁と、平面視野において前記梁と前記メンブレンとの連結部分の周囲の裾部および前記梁を含み、前記メンブレンを複数のメンブレン分割領域に分割するとともに、直交するX軸及びY軸に沿って前記メンブレンを矩形状に4つの第1〜第4象限の相補パターン区画に分ける梁帯部と、を具備するステンシルマスクブランクスであって、
前記梁帯部は、
X軸に沿って延び出し、前記第1象限の相補パターン区画に含まれ、前記第1象限の相補パターン区画と第4象限の相補パターン区画とを分ける第1のX軸梁帯部セグメントと、
X軸に沿って延び出し、前記第3象限の相補パターン区画に含まれ、前記第2象限の相補パターン区画と第3象限の相補パターン区画とを分ける第2のX軸梁帯部セグメントと、
Y軸に沿って延び出し、前記第1象限の相補パターン区画に含まれ、前記第1象限の相補パターン区画と第2象限の相補パターン区画とを分ける第1のY軸梁帯部セグメントと、
Y軸に沿って延び出し、前記第3象限の相補パターン区画に含まれ、前記前記第3象限の相補パターン区画と第4象限の相補パターン区画とを分ける第2のY軸梁帯部セグメントと、を有し、
1つの象限の相補パターン区画に属する梁帯部セグメントの端部が出会う中央の交差部分を欠落させ、周囲のメンブレン分割領域よりも平面視野内での面積が大きい中央メンブレン分割領域を有することを特徴とするステンシルマスクブランクス。 - 前記4つの梁帯部セグメントの全てについて中央部分を部分的に欠落させていることを特徴とする請求項5記載のステンシルマスクブランクス。
- 前記欠落させる梁帯部セグメントは2つであり、欠落した梁帯部セグメントに接して隣り合う象限の中央メンブレン分割領域に、該象限に接する欠落した梁帯部セグメントと平行な補強梁を含む梁帯部を設けたことを特徴とする請求項5記載のステンシルマスクブランクス。
- 少なくとも1つの相補パターン区画に属する梁の群が、該相補パターン区画に属する2つの梁帯部セグメントにそれぞれ接続される部分を除いて、前記少なくとも1つの相補パターン区画に属する2つの梁帯部セグメントの全てを欠落させていることを特徴とする請求項5記載のステンシルマスクブランクス。
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