JP5428318B2 - イオン注入用ステンシルマスク及びその製造方法 - Google Patents
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Description
図1(a)〜(f)及び図2(a)〜(e)は、本発明の実施の形態に係るイオン注入用ステンシルマスク119の製造方法を示す概略断面図である。
比較例として、図3(a)及び(b)に示す従来のSOIウエハを用いたイオン注入用ステンシルマスク37を形成した。まず、図3(a)に示すように、500μm厚の単結晶シリコンからなる支持層31、1.0μm厚のシリコン酸化膜からなるエッチングストッパー層32及び5μm厚の単結晶シリコンからなる薄膜層33の3層からなる100mmΦのSOIウエハ34形成した。
Claims (3)
- 開口部を有する支持層と、
前記支持層上に形成された開口部を有するエッチングストッパー層と、
前記エッチングストッパー層上に形成された第1のイオン注入用パターン及び表裏重ね合わせ用マークを有する第1の薄膜層と、
前記第1の薄膜層上に形成された第2のイオン注入用パターン及び表裏重ね合わせ用マークを有する第2の薄膜層と、
第2の薄膜層上に形成された第3のイオン注入用パターン及び位置合わせ用マークを有する第3の薄膜層と、
第3の薄膜層上に形成された第4のイオン注入パターン及び位置合わせ用マークを有する第4の薄膜層と、を備え、
前記支持層が単結晶シリコンであり、前記エッチングストッパー層がシリコン酸化膜であり、前記第1の薄膜層が単結晶シリコンであり、前記第2の薄膜層がダイヤモンドであり、前記第3の薄膜層が多結晶シリコンであり、前記第4の薄膜層がダイヤモンドであることを特徴とするイオン注入用ステンシルマスク。 - 支持層上にエッチングストッパー層を形成し、
前記エッチングストッパー層上に第1の薄膜層を形成し、
前記第1の薄膜層上に第2の薄膜層を形成し、
前記第2の薄膜層上に第3の薄膜層を形成し、
前記第3の薄膜層上に第4の薄膜層を形成し、
前記支持層に開口部を形成し、
前記第1の薄膜層に第1のイオン注入用パターンを形成した後に第1の薄膜層をエッチングマスクとして前記第2の薄膜層に第2のイオン注入用パターンを形成し、
前記第4の薄膜層に第4のイオン注入用パターンを形成した後に第4の薄膜層をエッチングマスクとして前記第3の薄膜層に第3のイオン注入用パターンを形成し、
前記支持層が単結晶シリコンであり、前記エッチングストッパー層がシリコン酸化膜であり、前記第1の薄膜層が単結晶シリコンであり、前記第2の薄膜層がダイヤモンドであり、前記第3の薄膜層が多結晶シリコンであり、前記第4の薄膜層がダイヤモンドであることを特徴とするイオン注入用ステンシルマスクの製造方法。 - 前記第1の薄膜層及び前記第2の薄膜層に表裏重ね合わせ用マークを形成し、
前記第4の薄膜層に前記表裏重ね合わせ用マークを用いて位置合わせ用マークを形成し、
前記第4の薄膜層に前記位置合わせ用マークを用いて前記第4のイオン注入用パターンを形成することを特徴とする請求項2に記載のイオン注入用ステンシルマスクの製造方法。
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