JP4480279B2 - 欠陥を低減する面を有する光学フィルム - Google Patents

Description

【０００１】
背景技術
本発明は主に、光透過フィルムに関し、さらに詳細にはディスプレイにおいて、欠陥の発生を減少させるフィルムに関する。
【０００２】
ディスプレイのためにフィルムを利用することは、公知である。たとえば、バックライト式ディスプレイにおいて、輝度強化フィルムは、視軸に沿って光を指向するためのプリズム構造を利用しているため、使用者によって認識される光の輝度を増強する。別の実施形態として、一定の選択した方向において均一に高い輝度を維持すると同時に他の方向においてより低い輝度を維持している間に、高いコントラストおよび高い全体の輝度を有するスクリーンを製作するために、バックライト式コンピュータディスプレイスクリーンには多数の異なるフィルムを利用することができる。このようなスクリーンは、プリズム状のフィルムまたはレンチキュラーフィルムを組合せた拡散フィルムなど複数のタイプのフィルムを用いることができる。
【０００３】
ディスプレイにおいてフィルムを利用する場合の１つの問題には見た目をよくする必要条件がきわめて高いことである。これは、このようなディスプレイが長時間近い距離で見られるため、ごくわずかな欠陥であっても裸眼で検出される可能性があり、使用者の注意力を散漫にする原因となる。このような欠陥を排除することは、検査時間および材料にきわめてコストがかかる可能性がある。
【０００４】
欠陥は、複数の異なる点で明らかになる。斑点、リント、掻ききず、混入物などの物理的欠陥があり、光学現象である欠陥もある。最も一般的な光学現象の中には、「ウェットアウト（（ｗｅｔ−ｏｕｔ）」やニュートンリングがある。２つの面が互いに光学的に接触するときに、「ウェットアウト」が生じるため、１つのフィルムから次のフィルムに伝搬する光の場合には、屈折率における変化を効率的に除去する。これは、構造面の屈折特性が無効になるため、光学的欠陥のために構造面を用いたフィルムの場合には特に問題となる。「ウェットアウト」の影響は、スクリーンにまだらに変化する外観を形成することである。ニュートンリングは、２つのフィルムの間でゆっくり変化するエアギャップの結果であり、２つのフィルムの間で塵の粒子によって形成される可能性がある。ニュートンリングは、透過または反射において形成される可能性がある。ニュートンリングの結果、使用者は、乱れる恐れがあるスクリーンにおける輪郭パターンを認識する。
【０００５】
多重フィルムディスプレイアセンブリにおいて欠陥の問題を克服するために、複数の解決策が取られてきた。１つの解決策は、従来の作製工程によって作製される許容可能なディスプレイアセンブリの低い歩留りを許容するだけである。これは競争市場において明らかに許容することができない。第２の解決策は、きわめて清潔かつ慎重な作製手順を採用し、強固な品質制御標準を負わせることである。これは歩留りを改善する可能性があり、作製コストは清浄ツールおよび点検のコストを含めて増大される。
【０００６】
欠陥を削減するための別の解決策は、ディスプレイに拡散体、すなわち表表面拡散体またはバルク拡散体のいずれかを導入することがである。このような拡散体は、多くの欠点を隠すことができ、低い追加コストで製造の歩留りを増大することができる。しかし、拡散体は光を散乱し、使用者によって認識される光の軸上の輝度を減少させるため、性能を劣化する。
【０００７】
製造の歩留りがわずかな追加コストで改良されると同時に性能を維持するために、引き続きディスプレイにおける欠陥の発生を低減する必要がある。
【０００８】
発明の開示
主に、本発明は、フィルムを用いるディスプレイにおいて光学的欠陥の発生を低減するために用いることができるようなフィルムの面に関する。さらに詳細には、このような面は、ウェットアウト、ニュートンリング、モアレ縞の影響などの欠陥を低減する無作為に抽出された特性を有する。本発明はまた、フィルムの作製方法、フィルムを作製するために用いられるツールおよびツールの製作方法に関する。
【００１０】
別の実施形態において、本発明は、規則的に屈折する構造を含まない第１の面の上にあるウェットアウト防止面と、第１の面に対向する第２の面と、を有するフィルムを含む。別の実施形態において、フィルムは、第１の面、第１の面と別の光学面との間のウェットアウトを低減するために、第１の面の上に配置されるウェットアウト低減手段と、を含む
【００１１】
本発明の別の実施形態において、光学装置は、光源と、規則的に屈折する構造を含まない第１の面の上にあるウェットアウト防止面を有するフィルムを含む。第２の光学素子は、第１の面に対向する第２の面を備え、光源からの光学フィルムおよび第２の光学素子を通過する。
【００１２】
本発明の別の実施形態において、光学フィルムの作製方法は、光学フィルムの第１の面にウェットアウト防止面を形成することを含む。
【００１３】
本発明の別の実施形態において、フィルムに面を型押するためのドラムを作製する方法は、所定の範囲内で不規則に存在する特性の変化を形成するために、特性の切削ツールに対して回転軸を中心にしてドラムを回転することと、切削ツールを用いてドラムの面を切削することと、切削ツールの切削特性を不規則に変化させることと、を含む。フィルムの上に面を型押するためのドラムは、規則的な構造を含まず、かつ複数の高さの局所極小点を有する面を含み、面の特性測定値は、所定の範囲内にランダムな値を含む。
【００１４】
本発明の上記の開示は、本発明のそれぞれ示された実施形態またはすべての実装を示すことを目的としたものではない。図面および以下の詳細な説明は、これらの実施形態をさらに具体的に例示する。
【００１５】
発明の詳細
本発明は、光学処理フィルムに適用可能であり、コンピュータディスプレイまたはモニタなどに用いられる液晶ディスプレイに関して利用するための光フィルムに特に適していると思われる。本発明はまた、背面映写スクリーンおよびオーバヘッド映写ディスプレイなど、複数の光学処理フィルムが用いられる他の領域においても有用である。本発明の利点の１つは、表示領域における欠陥の強度を低減することによって、製造の歩留りを増大することである。
【００１６】
本発明は、図示のため、多重フィルム液晶コンピュータディスプレイの特定の用途について以下に説明される。本発明の利用はきわめて制限されたものではなく、本発明が有用であると思われる複数の光学処理フィルムを有する幅広い用途があることを十分に理解されたい。
【００１７】
ウェットアウトおよびニュートンリングは、多層ディスプレイに関する欠陥の原因である光学現象である。図１Ａおよび図１Ｂは、多層フィルム１００におけるウェットアウトの問題を示している。多層フィルム１００は、少なくとも２つの層１０２，１０４を有することが示されている。第２のフィルム１０４の上面１０３は、光学接触部分１０６で上部フィルム１０２に光学的に接触する。光学接触が生じる場合には、光学的に接触する領域１０６を通過する光は、屈折の影響が低減された状態で１つのフィルムから次のフィルムに通過する。上部フィルム１０２および下部フィルム１０４の屈折率が同一である場合には、屈折の影響は生じない。それに反して、たとえば、光線１１０に示されているように、光が１つのフィルムから光学接触のない他のフィルムに通過する場合には、光はそれぞれのフィルムと空気の境界で屈折される。その結果、使用者は、ウェットアウト領域１０６を透過特性が周囲の領域と異なる領域であると検知するため、異常または欠陥と見なす。
【００１８】
欠陥の別の源は、透過または反射のいずれにおいても表示される可能性があるニュートンリングの形成である。ニュートンリングは、少なくとも２つのフィルム２０２，２０４を有する多層ディスプレイ２００に形成される可能性がある。塵２０６の粒子が、２つのフィルム２０２，２０４の間に閉じ込められる可能性があるため、上部フィルム２０２の下面２０３と下部フィルム２０４の上面２０５の間にエアギャップ２０８を生じる。２つの面２０３，２０５の間の離隔距離は、塵粒子２０６からの距離によって変化する。ニュートンリングの形成に関して一般に理解されているように、エアギャップ２０８が光の半波長の複数倍である場合には、干渉リングがディスプレイ２００を通過する光によって形成される。２つの面２０３，２０５の離隔距離が約１．５μｍ未満である場合には、白色干渉縞が形成される可能性があるため、この影響は特に顕著である。面２０３，２０５の隔たりが約１．５μｍを超える場合には、干渉縞は色特有であり、白色干渉縞でなく、白色干渉縞ほど使用者には認識されないため、この影響は目立たない。
【００１９】
異なるフィルムの隣接面が滑らかでかつ平坦である場合には、ウェットアウトおよびニュートンリングをはじめとする複数の欠陥が生じることが観測されている。このような欠陥を低減するための解決策は、フィルム面の少なくとも１つの高さを不規則な態様で変化させることである。これは、たとえば、多層フィルムディスプレイ３００が２つのフィルム３０２，３０４を有する場合が図３Ａに示されている。上部フィルム３０２は、上面３０６および下面３０８を有する。
【００２０】
下部フィルム３０４は、フィルム３０４の平面に沿って高さが不規則に変化する上面３１０を有する。面３１０は、上部フィルム３０２に接触するほど十分な高さである一定の局所極大点３１２を有する。また、フィルム３０２に接触するほど十分な高さではない他の局所極大点３１４があってもよい。
【００２１】
高さの不規則性は、図１に示したようなウェットアウト領域の形成を防止する。下部フィルム３０４は、ウェットアウトが生じる大きな領域ではなく、使用者に見分けがつかない多数のごく小さな点でのみ上部フィルム３０２と接触する。さらに、ニュートンリングパターンが小さすぎて使用者には認識されないような局所極大点が互いに十分に接近した位置にある場合には、ニュートンリングの発生は、高さが不規則に変化する面によって低減される可能性がある。たとえば、隣接する局所極大点が約２００ミクロンの平均離隔距離によって隔てられている面を考えるものとする。約１．５ミクロンの２つのフィルム面を離てている距離の変化は、約３波長の距離であり、６個の干渉縞に匹敵する。したがって、局所極大点から１００ミクロン（極大点の間の距離）の距離には、平均して６個の干渉縞が存在する。結果として生じる特徴部の大きさは、約１６μｍであり、小さすぎて使用者によって認識されることはない。
【００２２】
フィルム面の高さにおける不規則な変化は、ウェットアウトおよびニュートンの低減のほかに、多数の他の望ましくない結果および好ましい結果を生じる。第一に、本発明によって作製されるフィルムは、高性能の透明光学フィルムの外観を備えていない。その代わりに、フィルムの任意の構造において小さな欠陥の一部を隠すことができるような見せかけのほとんど濁った外観を有する。これにより、作製工程の歩留りを著しく改善することができる。第二に、本発明のフィルムはまた、ディスプレイにおける異なるフィルム上の構造の間の干渉から生じるモアレ縞パターンを排除するか、または隠すのにも作用することができる。別の重要な結果は、フィルム積層における１つ以上のフィルム面における高さが不規則である場合に、多層ディスプレイにおいて輝度強化、拡散またはコリメーションなどの異なるフィルムの光学的影響が、本質的に影響を及ぼさないようにすることができることである。
【００２３】
この説明の目的から、不規則な高さ部分を有する面はウェットアウトを低減すること以上の働き、たとえばニュートンリングの低減などに働くことが理解されているが、このような面は、「ウェットアウト防止面」と呼ばれる。ウェットアウト防止面は、一般に使用者によって認識されることができるほど大きな領域において略平坦である。一般に使用者によって認識されることができないほど小さな領域では、面にピークまたは面における高さの局所極大点が数多くある。面における高さの局所極大点と介在する面における高さの局所極小点との高さの平均差は、一般に小さく、１ミクロンまたは２ミクロン程度である。したがって、ウェットアウト防止面が別の滑らかな面に対して配置される場合には、ウェットアウト防止面の上の領域の大部分は、数ミクロン以下の距離で第２の面との接触部から離れて保持される。ピークは第２の面と接触し、接触部の各点の領域は、任意の１つのピークにおけるかなりのウェットアウトを防止するほど十分に小さい。ピークは、たとえば、５０μｍ〜５００μｍ、好ましくは１００μｍ〜２５０μｍの間の平均離隔距離で不規則に隔てられていてもよい。ピークは、局所極大点と局所極小点との間の高さの平均差が約５μｍ未満、好ましくは約２μｍ未満で、一定の範囲内の異なる高さであってもよい。高さの局所極小点と局所極大点との平均離隔距離は、約１．５μｍであってもよい。
【００２４】
したがって、ピーク間の距離における不規則性または不規則度があってもよい。また、ピークの高さにおいて別の不規則度があってもよい。しかし、ピーク間距離またはピーク高さにおける真の不規則性ではない。ピーク高さおよび／またはピーク間距離の値はそれぞれ、ランダムまたは擬似ランダムに、予め選択された範囲内に存在する値を取ってもよい。ピーク間距離および／またはピーク高さに上界および下界を配置することによって、極値から生じるある種の欠陥が統計上生じ得るが、ピーク間距離またはピーク高さは減少する可能性がある。
【００２５】
制限内で不規則な態様で変化することができる可能性があるウェットアウト防止面の別の特性は、局所極大点まで達する面の傾き角である。傾き角が大きい場合には、大きな傾き角を有する面の部分を通過する光は、傾き角の小さい面の部分を通過する光よりフィルムの垂直面に対して大きな角度で屈折される。傾き角の大きな面を有するフィルムは、より大きな角度で光を分散するため、このことは、フィルムの分散の品質に影響を及ぼす可能性がある。さらに、ウェットアウト防止面上のピークの傾きは、そのピークを中心にして対称である必要はなく、たとえば、傾きが大きいため第１の軸に対して分散が大きくてもよく、傾きが小さいため第１の軸に直交する第２の軸に対して分散が小さくてもよい。フィルム面の所与の方向における面の傾きは、所定の制限内で不規則であってもよい。
【００２６】
本発明によって作製されるフィルムは、任意の実質的に透明な材料で作製されることもできる。多くの場合において、これは光学フィルムの性能を劣化する恐れがあるが、本発明によるフィルムにバルク拡散材料を組込むこともできる。さらに、反射偏光などの特定の光学効果を形成するためにフィルムおよび材料の複数の層が１つのフィルムに含まれてもよい。アクリル樹脂およびポリカーボネートからなる一体成形の押出フィルムは、フィルム材料の有力な候補である。また、構造面が本発明による滑らかでかつ不規則な高さを有する基板に流延および硬化される場合には、フィルムは、二液性構成であってもよい。たとえば、ポリエステル基板に流延された紫外線硬化性アクリル樹脂を用いてもよい。ポリエチレンテレフタレート（「ＰＥＴ」）のフィルムは、構造を硬化されることができる基板としてうまく作用することが示されている。軸方向に延伸されることから、ＰＥＴは、その機械的および光学的特性に関して好ましいことがよくある。基板として用いることができるポリエステルフィルムは、ｄｕＰｏｎｔ ＩＣＩ Ａｍｅｒｉｃａ’ｓ Ｉｎｃ．，Ｈｏｐｅｗｅｌｌ，Ｖｉｒｇｉｎｉａから商標名ＭＥＬＩＮＥＸ^ＴＭ６１７の名で市場において入手可能である。ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）はまた、単独でもＰＥＴを有するコポリマー（ＣｏＰＥＮとして知られる）としても、光学フィルムを作製する場合のポリマー材料としてうまく作用することが示されている。
【００２７】
さまざまな異なる種類の光学フィルムの上に、ウェットアウト防止面を設けることができる。たとえば、図４Ａに示されているように、ウェットアウト防止面である下面４０２に米国特許第５，０５６，８９２号に示されているようなプリズム状の輝度強化フィルム４００を設けてもよい。図４Ｂ〜図４Ｄの以下の図面のように、図面は正確な縮尺率で示されたものでないことに留意すべきである。
【００２８】
輝度強化フィルム４００は、構造面と呼ばれる１つの面に平行に配置される一連のプリズム構造４０４を有する。プリズム構造４０４は、使用者によってディスプレイを通じて表示される画像の輝度を増強する。たとえば、光線４１０または４１２などの光は、下面４０２を経て輝度強化フィルム４００に入る。光線は、フィルム４００から射出するときに、フィルム面に対する法線方向に指向され、これ以外のフィルムの法線に対してより大きな角度で透過された光は、フィルムの法線に向かって指向されるため、使用者にとってディスプレイが明るくなったように見える。たとえば光線４１４などの一部の光は、プリズム構造４０４によって内部全反射され、光源に戻される。光源が適切な反射密閉箱に収容されている場合には、反射光線４１４は、輝度強化フィルム４００によって伝搬するためリサイクルされる。
【００２９】
フィルム４００の厚さｔは一般に、１００μｍ〜２５０μｍの範囲にある。ウェットアウト防止面４０２における局所極大点と局所極小点との高さの変動δは、０μｍ〜５μｍの範囲にあるのが一般的であり、０μｍ〜２μｍの範囲にあれば好ましい。値δが約１．５μｍであれば最も好ましい。この値で、色分解は、ニュートンリングの鮮明度を低減する。ピークの高さ、すなわち局所極大点はまた、実際の高さと公称高さとの差に関して表示される。たとえば、ピークには、公称高さから差において５μｍまでの範囲にある実際の高さがあってもよい。実際の高さと公称高さとの差は、１．５μｍ未満であれば好ましい。局所極大点間の平均離隔距離は、２０μｍ〜４００μｍの範囲にあれば一般的であり、１００μｍ〜２５０μｍの範囲であれば好ましい。
【００３０】
上述したように、ニュートンリングパターンのサイズは、局所極大点間の平均離隔距離に左右される。距離が大きくなればなるほど、ニュートンリングパターンが見えるようになる可能性が高くなる。したがって、平均極大点間距離を減少させることが好都合である。他方、局所極大点の平均高さが一定である場合には、平均極大点間距離の減少は面の傾き角を大きくする結果を生じる。より大きな面の傾き角は、フィルム面を通過する光の拡散をより大きくする。いくつかの用途では表面拡散度が許容可能であると思われるのに対し、表面拡散を最小限にしなければならない別の用途もある。したがって、ウェットアウトおよびニュートンリングの問題を低減するほか、表面拡散も低減するために、約１．５μｍの値のδおよび１５０μｍ〜２５０μｍの範囲にある局所極大点間の平均離隔距離を用いることができる。これらの値は、提案された作動点としてのみ設けられ、本発明を制限することを目的としていない。
【００３１】
本発明の別の利点は、フィルムの別の側にある構造に対してウェットアウト防止面を優先的に指向することができることである。たとえば、プリズム構造４０４のプリズムに垂直な方向において小さな面の傾きを有すると同時に、プリズムに平行な方向において面４０２により大きな傾きを有するようにウェットアウト防止面４０２を選択することができる。好都合なことに、このような構成は、プリズム構造と交差する方向における光の拡散を増大させることなく、プリズム構造に平行な方向に光を拡散することができる。
【００３２】
ウェットアウト防止面に用いることができる構造を有するフィルムの別の実施形態が、図４Ｂに示されている。フィルム４２０は、上面４２４にレンチキュラーパターン４２３を有する。たとえば、１次元、すなわちレンチキュラーパターン４２３のグルーブに直角の方向に光を拡散するために、レンチキュラーパターン４２３を用いてもよい。たとえば、光線４２６，４２８はレンチキュラー面４２４を射出するときに、図の平面の中の方向に屈折される。したがって、このフィルム４２０を通過する光は、ｘ方向に分散される。下面４２２は、光学的欠陥を低減するために設けられたウェットアウト防止面である。レンチキュラーフィルム４２０の平均厚さｔは、一般に１００μｍ〜５００μｍの範囲にあってもよい。
【００３３】
ウェットアウト防止面に用いることができる構造を有する別のタイプのフィルムが、図４Ｃに示されている。フィルム４４０は、上面４４５にフレネル構造４４４を有するフレネルレンズである。下面４４２は、ウェットアウト防止面である。
【００３４】
図４Ａ〜図４Ｃに示されているような別の構造を有するフィルムにおいて、ウェットアウト防止面を用いてもよいことを十分に理解されたい。たとえば、レンズまたは他の光屈折構造または光拡散構造などの他の構造が、フィルムの構造面に存在してもよい。
【００３５】
さらに、本質的に偏光子、バルク拡散体、散乱フィルム、リターディションフィルムなどの面構造がないフィルムに、ウェットアウト防止面を用いてもよい。このようなフィルムの光学的な影響は一般に、構造面の屈折の影響に左右されるのではなく、フィルムのバルク内で生じる光学作用に基づく。下面４６４がウェットアウト防止面である場合の偏光フィルム４６０が、図４Ｄに示されている。屈折構造を持たないフィルムは各面４６２，４６４にウェットアウト防止面を備えていてもよいことを十分に理解されたい。
【００３６】
フィルム４６０は、面４６２，４６４に略平行であるフィルム４６０の中心を通る仮想平面４６６を有するように示されている。各面４６２，４６４は、それぞれの範囲δ１，δ２の中にある平面４６６からの高さにおいて、全体に変動するように示されている。δ１，δ２は０μｍ〜５μｍの範囲内にあるのが一般的であり、約１．５μｍであればさらに一般的である。
【００３７】
したがって、別の滑らかなフィルム面に対してウェットアウト防止特徴部を設けることは、ディスプレイにおける欠陥の低減のために利用されてもよいことを十分に理解されたい。これは、多くの異なるタイプのフィルムに適用可能である。このようなフィルムは、面に屈折構造を含んでもよく、フィルムを経た光の伝搬を左右するバルク光学作用の影響に基づいてもよい。ウェットアウト防止面を有するフィルムはまた、バルク効果および表面効果の組合せに基づいてもよい。
【００３８】
ウェットアウト防止面を有するフィルムを用いた装置の１つの特定の実施形態が、図５Ａの分解立体図に示されている。液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）照明モジュール５００は、光を光導波路５０４の中に指向するため、光源として蛍光灯５０２および反射体５０３を用いる。光導波路は、下面５０７に拡散反射抽出ドット５０６を装備する。導波路５０４の上の任意の素子から再循環される任意の光を反射するために、広帯域の拡散反射体５０８が、光導波路５０４の下に配置される。蛍光灯５０２からの光は、光導波路５０４の側面に入射し、導波路５０４の面における内部反射によって光導波路５０４に沿って誘導される。多数の拡散光線５１２を形成するために、抽出ドット５０６の１つに入射する光線５１０が拡散反射される。
【００３９】
抽出ドット５０６から上側に伝搬する光は、導波路５０４の上面５１３を通過する。導波路５０４から抽出された光をさらに拡散し、ＬＣＤディスプレイ５２４の次の照明をさらに均一にするために、拡散体５１４が光導波路の上に配置されてもよい。
【００４０】
次に、下方向に延びている光は、図４Ａの輝度強化フィルムに関して示されたプリズム構造と類似の上面にあるプリズム構造を有する下部輝度強化フィルム（ＢＥＦ）５１６を通ってもよい。下部ＢＥＦ５１６は、（たとえば図面の平面から）１次元に沿った光の発散を低減する。（たとえば、図面の平面内の）第２の次元に沿った光の発散を低減するために、下部ＢＥＦ５１６の上に配置された上部ＢＥＦ５１８は、下部ＢＥＦ５１６のプリズム構造に対して約９０°で指向されるプリズム構造を有する。上部ＢＥＦ５１８または下部ＢＥＦ５１６のいずれによって反射される光は、反射体５０８によって再循環される。交差されるＢＥＦフィルム５１６，５１８の組は、光導波路５０４から抽出された光の全体の発散を低減する場合に効果的であると思われる。
【００４１】
反射偏光フィルム５２０は、上部ＢＥＦ５１８の上に配置される。反射偏光子は、１つの偏光の光を透過し、別の偏光の光を反射する。したがって、偏光フィルム５２０を通過する光は偏光される。偏光フィルム５２０によって反射される光は、反射体５０８によって再循環されてもよい。偏光フィルム５２０は、ウェットアウト防止の上面５２２を装備する。
【００４２】
ＬＣＤマトリクス５２４が、偏光フィルム５２０の上に配置される。ＬＣＤマトリクスを通過する偏光が、たとえば、次に透過される画像の情報によって空間変調される。ウェットアウト防止面５２２は、偏光フィルム５２０とＬＣＤマトリクス５２４との間のウェットアウトおよびニュートンリングの形成を低減するため、使用者によって見られる画像の品質が向上される。ウェットアウト防止面５２２の利用は、偏光フィルム５２０とＬＣＤマトリクス５２４との間にウェットアウト低減カバーシートを含む必要性を回避する。
【００４３】
上部ＢＥＦ５１８と偏光フィルム５２０との間のカバーシートなどの別の素子が、モジュール５００に備えられてもよい。
【００４４】
図５Ｂは、本発明による光再指向フィルムを用いた別のタイプのディスプレイ５５０を示している。照明素子５５２からの光は、反射体５５４によって光導波路５５６の中に指向される。照明素子５５２は、他のタイプの素子を用いてもよいが、一般に蛍光管である。光導波路５５６は、楔形であるが、擬似楔形などの別の形状を用いることも可能である。光導波路５５６は、透明であってもよく、またはバルク拡散体を含んでもよい。
【００４５】
小さな角度またはかすめ角で光導波路５５６から射出する光は、光再指向フィルム５５８に入射する。光再指向フィルム５５８は、線形プリズム５６２などの複数の線形プリズムを有する構造面の側面５６０を有する。線形プリズム５６２は、第１の側面５６４および第２の側面５６６を有する。光導波路５５６からの光は一般に、線形プリズム５６２の第１の側面５６４を経て再指向フィルム５５８に入射し、図５Ｃの光線５６５に関して示されるように、第２の側面５６４によって内部全反射される。内部全反射の後、光は、射出面５６８を通って再指向フィルム５５８から射出する。次に、光は、液晶ディスプレイなどの光ゲーティング装置５７０を通過してもよい。光学的欠陥が再指向フィルム５６８と光ゲーティング装置５７０との間に生じることを防止するために、再指向フィルム５６８の射出面５６８は、ウェットアウト防止面であってもよい。
【００４６】
モジュール５００，５５０の詳細は例示のために示されているに過ぎず、いかなる方式においてもウェットアウト防止面を有するフィルムの利用を制限することを目的としているわけではないことを十分に理解されたい。２つの光学面が互いに別の方法で接触し、ウェットアウトまたはニュートンリングを形成する場合に、さまざまな異なるタイプの光学系においてウェットアウト防止面を有するフィルムを用いることができる。
【００４７】
光学フィルムは、型押、押出、流延および硬化、圧縮成形および射出成形をはじめとするさまざまな異なる方法によって一般に作製される。これらの方法は、フィルムにウェットアウト防止面を形成する場合に適している。たとえば、フィルム６０２が押出ローラ６０４によってダイ６００を通って、貯槽６０１から引っ張り出される場合には、フィルムは、図６に示されているように、一定の寸法だけ離隔された１組のローラの間で流延されてもよい。フィルム６０２は、押出ローラ６０４と第２のローラ６０６の間で挟み込まれる。フィルム６０２が面構造を有する場合には、第２のローラ６０６は、フィルム６０２の上にパターンを型押しするための規定の面を備えたパターンローラであってもよい。たとえば、フィルム６０２は、図４Ａに示されているように輝度強化フィルムとして作製される場合に、第２のローラ６０６はその面の周囲に、フィルム６０２の上面６１２に相補的なくぼみを形成する複数のプリズム構造６０８を具備する。パターンローラの直径の値は１５ｃｍ〜６０ｃｍの範囲にあってもよい。押出ローラ６０４はまた、フィルムの下面６１８の上にパターンを型押しするために用いられる型押しパターンを具備してもよい。ローラ６０４，６０６の間を通過した後、フィルム６０２は、たとえば冷却気６２０の中で冷却され、ローラ６０４，６０６によってその上に型押しされたパターンを保持する。示された特定の実施形態において、フィルム６１８の下面にウェットアウト防止面を型押しするために、押出ローラ６０４は、高さが不規則に変化する面６１６を有する。
【００４８】
上部ローラ６０６は、さまざまな異なるタイプの型押しパターンを具備することができる。上部ローラ６０６に用いられることができる型押しパターンの例には、輝度強化フィルム用のプリズムパターン、レンチキュラーフィルム用のレンチキュラーパターン、フレネルレンズ用のフレネルパターンが挙げられる。さらに、上部ローラ６０６にあるプリズム構造は、図６に示されているような回転方向に平行な方向ではなく、ローラ６０６の外周の回りに回転方向に垂直な方向に配置されることもできる。上部ローラ６０６はまた、平坦なフィルム面を形成するために滑らかであってもよく、またはフィルム６０２の上面６１２にウェットアウト防止パターンを型押しするための面を具備してもよい。これは必要条件ではないが、ウェットアウト防止面を形成するために、押出ローラ６０４の面は、不規則な型押しパターンを含んでもよい。両方のローラ６０４，６０６が不規則な型押しパターンを有する場合には、結果として生じるフィルムは２つのウェットアウト防止面を有する。
【００４９】
１つ以上のウェットアウト防止面を有するフィルムの作製するために、シートを型押しする射出成形および圧縮成形をはじめとする別の解決策を取ってもよい。ある特定の解決策では、ウェブにかけられる型押し可能な材料のフィルムは、フィルムの上にパターン面の片割れを型押しするために、パターン面に対して圧縮するように保たれる。型押し可能な材料は、熱可塑性材料であってもよく、このようなフィルムは、その上に型押しされるパターンを有する材料を固体化させるために、パターン面に対して保持している間に冷却されることができるフィルムであってもよい。この解決策の変形において、型押し可能な材料は、パターン面に対する適切な場所、またはパターン面を除去した後に硬化される、または部分的に硬化される硬化性ポリマーであってもよい。
【００５０】
ウェットアウト防止面を形成するための別の解決策において、フィルムは、その上にある不規則なパターンを有する母型を用いて射出成形されてもよい。結果として生じる射出成形フィルムは、母型の不規則なパターンと対になった片割れであるウェットアウト防止面を有する。別の解決策において、フィルムは、圧縮成形されてもよい。成形ツールは、成形される部分の上にウェットアウト防止面を形成する不規則な面を具備していてもよい。
【００５１】
フィルムが型押しされた後、たとえば、反射防止コーティングなどを形成するためのコーティングなど、追加的な後処理の処置が施されてもよい。
【００５２】
フィルムはまた、作製後、１つ以上のさまざまな異なる方法を用いて、延伸されてもよい。たとえば、１つの可能な方法は、ウェブが２組のローラの間に挟み込まれ、下流の組のローラが上流の組のローラより高速で回転する場合には、長さ延伸である。別の方法は、幅出しであり、たとえば、ウェブの両側にコンベヤーベルトのような方式で配置された連続クランプを用いて、フィルムのエッジを把持することを含む。クランプが前進するとき、連続クランプは離れるように移動し、規定の距離全体にフィルムを延伸する。下ウェブの方向に延伸しないのに対して、幅出しは一般に、一方向にのみ、たとえばウェブを横切るようにフィルムを延伸するために行われる。ウェブは一般に、フィルムにおいて所望の厚さまたは所望の分子配向を実現するのに十分な程度まで延伸される。フィルムの幅は、幅出し工程の２〜１０倍の範囲にある係数によって増大されることができ、３〜８倍の範囲にある係数であればさらに一般的である。シートのエッジがフレームの側面に接着され、フレームの側面が引張られる場合には、フィルムはまた、延伸フレームにおいてウェブではなく、シートとして延伸されてもよい。
【００５３】
延伸のときにはフィルム材料の体積が依然として本質的に一定のままであるため、フィルムの断面形状は、相当明確に定義された態様において変化する。フィルムはＸ倍だけ横延伸される場合には、断面積が同一であるため、フィルムの高さはＸ倍減少する。したがって、延伸されていないフィルムが一方の面に型押しされたウェットアウト防止パターンを有し、局所極大点と局所極小点との間の高さの平均差がＹである場合には、延伸されたフィルムの局所極大点と局所極小点との間の高さの平均差は約Ｙ／Ｘである。たとえば、延伸されていないフィルムが、局所極大点と局所極小点との間の高さの平均差が８μｍであるウェットアウト防止面を有し、フィルムが４倍に延伸される場合には、フィルムが延伸された後、局所極大点と局所極小点との間の高さの平均差は、約２μｍである。
【００５４】
したがって、ウェットアウト防止面は、フィルムが延伸されるかどうかに応じて選択されるたとえば、平均ピーク高さ、平均ピーク間距離などの寸法を有するフィルムに形成される。延伸が行われない場合には、フィルムに形成される面は、所望のピーク高さおよび平均離隔距離を有する。しかし、たとえば、１次元において、フィルムが延伸されることになっている場合には、面に形成されるピーク高さは、所望の最終的なピーク高さのＸ倍である。尚、Ｘは延伸係数である。さらに、フィルム面に形成される延伸方向における平均ピーク間距離は、延伸方向における所望の最終的なピーク間郷里の１／Ｘ倍である。延伸が１次元にのみ行われる場合には、延伸方向に垂直な方向における平均ピーク間距離は変化しない。したがって、垂直方向における平均ピーク間距離は、延伸後、所望の値と同一の値を有するようにフィルムに形成される。これに関しては、以下に示される実施形態の詳細でさらに説明する。
【００５５】
フィルムが２次元、たとえばウェブを横切る方向およびウェブに沿った方向に延伸される場合には、フィルムに形成される面の寸法は、延伸後のウェットアウト防止面の寸法が所望の制限内にあるように選択される。
【００５６】
プリズム状フィルム、レンチキュラーフィルム、フレネルレンズを有するフィルムなどの構造を備えたフィルムを作製するために用いられるツールの原型は、ダイヤモンドターニング技術によって製作されることができる。これらの原型は、押出工程または流延および硬化工程によってフィルムを作製するために用いることができる。一般に、直線パターン用のツールは、ダイヤモンドターニングによってロールなどで知られる円筒ブランクに製作される。他の材料も用いることができるが、ロールの面は一般に、硬質銅から構成される。構造は、ロールの外周に連続パターンで形成される。特定の一実施形態において、ダイヤモンドツールがターニングロールを横断する方向に移動している間に、構造は、単独の連続切削がロールに施されるねじ切りとして公知である技術によって機械加工されることができる。形成されるべき構造が一定のピッチを備えている場合には、ツールは、ロールに沿って一定の速度で移動する。一般的なダイヤモンドターニング機は、ツールがロールを貫通する深さ、ツールがロールに対して形成する水平方向ならびに垂直方向の角度、ツールの横断速度の独立制御を行ってもよい。さらに、ダイヤモンドターニング機は、ロールの回転速度を制御することができる。同様の技術は、ウェットアウト防止型押ロールを製作するために適応させることができる。
【００５７】
ウェットアウト防止面を型押しするためのロールを製作する方法が、図７に示されている。ドラム７００は、ドラムドライブ７０４によって軸７０２を中心にして回転される。コンピュータ７０６は、ドラムドライブ７０４を制御し、ドラム７００の現在の角度位置Ψを監視することもできる。制御コンピュータ７０６はまた、ダイヤモンド切削ツール７０８の移動および動作を制御する。コンピュータ７０６は、軸７０２に平行なｚ方向および軸７０２に向かって放射方向に向けられるｘ方向における移動のために切削ツールホルダに制御信号を送信する。コンピュータ７０６はまた、ツール７０８とドラム７００の面との間の角度Πのための制御信号を送信することもできる。切削ツールのサイズおよび形状は、ロール７００が作製に用いられる特定のタイプのフィルムに応じて選択される。
【００５８】
一般に、コンピュータ７０６は、回転ドラム７００に沿って移動するために、ｚ方向に裁断ツール７０８を移動させる。ｘ方向における切削ツール７０８の制御は、ドラム７００の面に切削される深さを制御する。ダイヤモンド切削ツール７０８は、マウント７１２に接着される高速サーボ装置７１０に保持されることができる。マウント７１２は一般に、コンピュータ７０６による制御下で、ｘ方向およびｚ方向に並進可能である。高速サーボ装置７１０はまた、ｘ方向に切削ツール７０８を並進する。しかし、切削ツール７０８は、通常の機械加工ツールマウントでは通常得ることができない周波数で作動する。高速サーボ装置の応答の上限周波数は、数ｋＨｚ〜数十ｋＨｚの範囲にある可能性があるが、通常の機械加工ツールマウントは一般に５Ｈｚ以下である。高速サーボ装置７１０がｘ方向に生じるストロークの長さは一般に短く、５０μｍ未満であり、２０μｍ未満である場合もある。ストロークの長さと上限周波数応答との間に相殺関係があってもよいことを十分に理解されたい。一般に、高速サーボ装置７１０は、ｘ方向において切削ツール７０８の短距離の高速の往復運動を行うために用いられるのに対し、マウント７１２は、ｘ方向において切削ツール７０８の長めの距離であるが、低速の往復運動を行うために用いられる。ウェットアウト防止面パターンは、ドラムに浅い溝をねじ切りすることによってドラムに切削される。すなわち、ドラム７００の面に切削が施されている間に、切削ツール７０８はｚ方向に並進する。マウント７１２は、高速サーボ装置７１０より低い周波数帯に作動する第２のサーボ装置であってもよい。
【００５９】
ドラム７００において面の切削を制御するために、複数の異なる解決策を用いてもよい。図７に示される１つの解決策において、コンピュータ７０６は、ｚおよびオプションでΠに関する制御信号を発生する。コンピュータ７０６はまた、２つの成分を有する切削ツール７０８のための制御信号ｘも発生する。第１の成分ｘ_０は、高速サーボ装置７１０をｘ方向に並進するために、マウント７１２に向けられる徐々に変化する関数である。徐々に変化する関数は、たとえば正弦波または不規則であってもよい。第２の成分ｘ_１は、コンピュータによって生成される雑音関数であり、高速サーボ装置７０８をｘ方向において小さな高速かつ独立な不規則な時間の移動を行わせる。
【００６０】
ロール７００の面に結果と生じる不規則な切削点は、カッター７０８に対するロールの面の速度に左右されるロール外周の局所極小点の間の平均間隔と、ｘ方向において切削ツール７０８の不規則な時間の往復運動の平均期間を有する。ドラム７００の面は、フィルムの相補面を形成するため、ロール面の上の局所極小点は、フィルム面の局所極大点に対応する。ロール面の高さにおいて局所極小点の間の平均離隔距離が約１５０μｍであり、ロール７０８の往復運動の間の平均時間が２００μｓ（切削ツールの平均作動周波数５ｋＨｚに対応する）であるように選択される場合には、ロールの面の速度は、約０．７５ｍｓ^−１であるように選択される。
【００６１】
さらに、高速サーボ装置７１０による高速のｘ方向の並進によって、切削ツール７０８のｘ位置の変更に関して、切削ツール７０８のｘ位置は、ｘ_０信号成分の制御下で、マウント７１２の低速のｘ方向の並進によって変更されてもよい。ｘ_０信号が、ロール７００の回転速度の高調波または低調波のいずれでもない速度で変化する場合には、切削面の周期性における規則性は、避けられたように見える。マウント７１２の低速のｘ方向の並進は、高速サーボ装置７１０のストローク長より大きい距離だけロール７００に切削される面の高さを変化させるために用いられてもよい。
【００６２】
図８Ａ〜図８Ｃは、ロール７００の面の上にランダムパターンまたは擬似ランダムパターンを切削するために、コンピュータ７０６が高速サーボ装置７１０に送信することができる異なるタイプの制御信号の例を、時間に対してプロットされた電圧の関数として示している。
【００６３】
図８Ａにおいて、制御信号８００は、パルス間の距離が不規則に変化する一定の振幅および幅を有する一連のパルスを含む。図８Ｂにおいて、制御信号８０２は、一定の振幅およびパルス間距離を有するが、幅が不規則に変化する一連のパルスを含む。図８Ｃにおいて、制御信号８０４は、一定の幅およびパルス間距離を有するが振幅が不規則に変化する一連のパルスを含む。
【００６４】
信号８００，８０２，８０４において生じる不規則に現れるパルスのパターンは、高速サーボ装置７１０によって、ロール７００の面の上に切削される不規則に分散された局所極小点のそれぞれの匹敵するパターンに変換される。高速サーボ装置７１０に供給される制御信号における一連のパルスは、不規則に変化するパルス振幅、パルス幅、パルス間距離の任意の組合せを含むことができる。コンピュータ７０６から高速サーボ装置７１０にランダムまたは擬似ランダムに変化する制御信号を供給することの利点は、１つのロールに切削される不規則に生成されたパターンは、コンピュータ７０６でプログラムされ、別のロールで反復することができることである。
【００６５】
パルス制御信号の別の利点には、高速サーボ装置７１０に発生する熱を低減することができること、ロール切削速度がよりたやすく増大することができること、設計者が切削工程を理解しモデルを製作することがよりたやすいことが挙げられる。
【００６６】
ロール７００を切削するために、切削ツール７０８の適切な並進を行うために、高速サーボ装置７１０に別のタイプの信号を送信してもよい。尚、図８Ａ〜図８Ｃの例は、本発明を制限することを目的としたものではない。
【００６７】
本発明の利点は、たとえばプリズム状フィルムにおけるプリズムの方向に平行な方向に面を傾斜することなど、ウェットアウト防止面の特性を一定の方向に対する特定の値であるように選択することができることであることは、上記で述べた。ウェットアウト防止面の延伸に関する別の実施形態において、ドラムを切削している間、局所極小点間の「上ねじ山（ａｃｒｏｓｓ−ｔｈｒｅａｄ）」の離隔距離には何ら制限を加えないのに対し、面における局所極小点間の「下ねじ山（ｄｏｗｎ−ｔｈｒｅａｄ）」の離隔距離の範囲が、たとえば１５０μｍ〜２００μｍであるように選択することができる。不規則な特性のこのような延伸の選択は、たとえば、線形モアレ縞パターンなどの一次効果を避けるために有用であると思われる。
【００６８】
ドラムにウェットアウト防止面を切削するための別の解決策は、図９に示されている。図７の構成要素と同一である構成要素は、同一の識別数字がつけられている。ドラム７００が軸７０２を中心にして回転するとき、ドラム７００の角度Ψの制御および監視を行うために、切削動作を制御するコンピュータ９００は、ドラムドライブ７０４に接続される。コンピュータ９００は、ｙ方向における切削ツール７０８の移動を制御するための制御信号およびｘ方向における切削ツール７０８の比較的低速の移動用の低速ｘ信号をマウント７１２に送信する。コンピュータ９００はまた、切削ツール７０８とロール７００の面との間の角度θを制御するために、制御信号を供給することができる。
【００６９】
雑音源９０４は、一般に帯域通過フィルタ９０６を通過する雑音信号Ｉ_ｎを発生する。ｘ方向における切削ツール７０８の不規則かつ高速移動を実現するために、必要な場合には、フィルタリングされた雑音信号は、増幅器９０７で増幅され、高速サーボ装置７１０に高速ｘ信号として印加される。
【００７０】
雑音周波数の所望の範囲内にある周波数を通過するように、フィルタ９０６の通過帯域を調整することができる。たとえば、通過帯域は幅数ｋＨｚのウィンドウを超えて広がっていてもよく、１ｋＨｚまたは２ｋＨｚ〜数十ｋＨｚの範囲の中心に合わせられていてもよい。周波数帯の中心は、ドラムの切削面の上の局所極小点の所望の平均間隔に応じて選択され、選択された通過帯域の幅は、局所極小点間の離隔距離の所望の隔たりに左右される。周波数帯の中心の選択は、高速サーボ装置７１０の必要なストローク長に左右されてもよい。一般に、作動周波数が増大すると、高速サーボ装置のストローク長は減少する。
【００７１】
雑音源９０４からの信号はフィルタリングされるため、高速サーボ装置７１０に印加される信号は正確にランダムではないが、擬似ランダムであることを理解されたい。しかし、雑音信号の周波数を制限することは、高速ｘ信号において統計的に最大周波数の偏位の発生を避ける。このような偏位は、極小点間の間隔が比較的長い部分に隣接する極小点間の間隔の比較的短い部分を有するロールにおいて生じる可能性があり、使用者に認識され得るディスプレイにおける欠陥を生じる恐れがある。
【００７２】
図８に示されるようなシステムの特定の一実施形態において、半径６４μｍのダイヤモンドを有する切削ツール７０８が切削ピッチ４０μｍで用いられる。ドラム７００の一回転中に、切削ピッチは、ｚ方向に切削ツール７０８によって移動される距離である。切削ツールの深さは、ドラムの１．６９回転ごとに約６μｍの低速のｘ方向の並進を用いて変化がつけられる。これは、特にわずか１回転未満およびそれに近いサイクルを用いるときに見られるような周期性の問題に陥ることなく、深さが変化する一定のパターンを形成するために選択された比である。低速のｘ方向の並進に加えて、フィルタ付きのランダム雑音発生器を用いて発生された３ミクロンのランダム信号を印加する。フィルタは、４ｋＨｚ〜５．６ｋＨｚの通過帯域で、雑音を通過させた。ドラムの面の速度は、ドラム面におけるピーク間の公称間隔または平均間隔が約１７０ミクロンであるように選択された。
【００７３】
切削ツールを保持するための高速サーボ装置の特定の一実施形態が、図１０に示されている。高速サーボ装置１０００は、壁１００６および背面１００８を有するケース１００４から延在する切削ツール１００２を含む。切削ツール１００２は、両面に圧電素子１０１０のスタックによって支持される。圧電スタック１０１０が高速に変化する電気信号によって励起されるとき、切削ツール１００２は、ケース１００４から延在する距離がわずかだけ変化するように移動させられる。圧電スタック１０１０は、一定のプログラムされた周波数の信号または不規則な周波数の信号によって励起されることができる。しかし、高さが不規則に変化するロール８００に面を形成するために、圧電スタック１０１０に印加される信号は一般に、ランダムまたは擬似ランダムである。本願明細書で用いられるように、ランダムなる語は、擬似ランダムを含むことを理解されたい。
【００７４】
実施形態
ウェットアウト防止面を有する反射偏光子フィルムは、その面が以下の態様で形成されたロールを用いて作製された。ロールは、面の速度約０．８ｍｓ^−１で回転された。高速サーボ装置は、４ｋＨｚ〜５．６ｋＨｚの範囲にある周波数を有する雑音源からの信号によって作動された。高速サーボ装置のストローク長は、約７μｍであった。ロールの約１．６９回転に等しい周期で約３μｍの低速のｘ方向の並進が、高速サーボ装置に施された。半径約５０μｍのダイヤモンドツールは、約２２μｍ〜２８μｍのピッチでロールの面に溝を切削した。切削の平均凹みは、約２μｍであった。したがって、深さにおけるピークから谷までの最大の差は、約１２μｍ（７＋３＋２μｍ）であった。隣接する溝間のピークのｚの大きさは、ロールの周囲では滑らかに変化するのではなく、ピークの両側にある谷の相対切削深さに応じて幾分急速にｚ方向に変動した。しかし、ｚ方向における局所極小点間の平均離隔距離は、ｚのピッチ、すなわち２２μｍ〜２８μｍに等しかった。局所極小点間の平均離隔距離は、溝に沿った外周方向において約１７５μｍであった。
【００７５】
ロールは、図６に示された工程と同様の押出工程において、フィルムの上に面を形成するために用いられた。フィルムは、たとえば、開示された国際特許出願番号第ＷＯ９５／１７３０３号、第ＷＯ９６／１９３４７号、第ＷＯ９５／１７６９９号、第ＷＯ９５／１７６９２号、第ＷＯ９５／１７６９１号に記載されているようなＰＥＮおよびＣｏＰＥＮからなる交互の層から形成される多層反射偏光子フィルムであった。尚、これらの特許は本願明細書に引用によって参照されたものとする。フィルムが作製された後、フィルムは、約６倍横延伸された。したがって、延伸されたフィルムにおけるピークから谷までの最大高さは、約２μｍ（１２÷６）であり、延伸方向における平均ピーク間距離は、１３２μｍ〜１６８μｍであった。溝に沿った方向における平均ピーク間距離は、延伸の影響を受けず、依然として約１７５μｍであった。
【００７６】
フィルム上のウェットアウト防止面の実施形態は、図１１Ａおよび図１１Ｂに示されている。フィルムは、２５μｍのピッチを用いて半径５０μｍのダイヤモンドツールを用いて切削されたドラムに形成された。切削ツールは、７μｍの高周波ランダム動作および３μｍの低周波数のｘ方向の動作を備えていた。フィルムは、作製後に約５倍延伸された。フィルムの断面積１．８１ｍｍ（ｚ軸）×１．３６ｍｍ（ｙ軸）の場合のウェットアウト防止面の３次元図が、図１１Ａに示されている。延伸方向は、ｙ軸に沿った方向であった。図面は、サンプリングされた面領域全体にわたって、約１．２μｍの高さの変動を示している。図１１Ｂは、ｚ軸に平行な面に沿ったラインに関する面の外形を示している。ラインの外形の長さに沿った高さにおける変動は、約０．３μｍであった。
【００７７】
上述したように、本発明は、ディスプレイシステムに適用することができ、バックライト式ディスプレイおよび背面映写スクリーンなどの複数の光学処理フィルムを有するディスプレイおよびスクリーンにおける見かけ上の欠陥を低減するのに特に有用であると考えられている。したがって、本発明は、上述した特定の実施形態に制限されると考えるべきではなく、添付の請求項に関して十分に説明されるように、本発明のすべての態様を網羅すると理解すべきである。本発明が適用可能であると思われるさまざまな修正、等価な工程のほか、さまざまな構造については、本発明が本願明細書の説明において狙いとしている当業者にはたやすく理解されるであろう。請求項は、このような修正および装置を網羅することを目的としている。
【図面の簡単な説明】
本発明は、添付の図面に関連して、本発明のさまざまな実施形態の以下の詳細な説明を考慮されば、さらに十分に理解されると思われる。
【図１Ａ】 隣接するフィルムの間で生じる「ウェットアウト」の問題を示している。
【図１Ｂ】 隣接するフィルムの間で生じる「ウェットアウト」の問題を示している。
【図２Ａ】 隣接するフィルムの間で形成されるニュートンリングの問題を示している。
【図２Ｂ】 隣接するフィルムの間で形成されるニュートンリングの問題を示している。
【図３Ａ】 本発明の実施形態によるフィルム構造物を示している。
【図３Ｂ】 本発明の実施形態によるフィルム構造物を示している。
【図４Ａ】 本発明によるウェットアウト低減面を備えた面構造のフィルムを示している。
【図４Ｂ】 本発明によるウェットアウト低減面を備えた面構造のフィルムを示している。
【図４Ｃ】 本発明によるウェットアウト低減面を備えた面構造のフィルムを示している。
【図４Ｄ】 本発明によるウェットアウト低減面を有する平面フィルムを示している。
【図５Ａ】 本発明によるウェットアウト低減面を組込んだ照射装置の実施形態を示している。
【図５Ｂ】 本発明によるウェットアウト低減面を組込んだ照明装置の実施形態を示している。
【図５Ｃ】 図５Ｂに示された照明装置の光再指向フィルムを通過する光を示している。
【図６】 本発明によるフィルムを作製するための１工程を概略的に示している。
【図７】 本発明によるフィルムを作製するためのドラムを製作する第１の方法を概略的に示している。
【図８Ａ】 本発明による切削ツールを制御するランダム制御信号を示している。
【図８Ｂ】 本発明による切削ツールを制御するランダム制御信号を示している。
【図８Ｃ】 本発明による切削ツールを制御するランダム制御信号を示している。
【図９】 本発明によるフィルムを作製するためのドラムを製作する第２の方法を示している。
【図１０】 図７および図９に示されたドラムを製作する方法に利用するためのツールを示している。
【図１１Ａ】 本発明によって形成される面を有するフィルムの実施形態を示している。
【図１１Ｂ】 本発明によって形成される面を有するフィルムの実施形態を示している。
本発明は、さまざまな変形および代替形態に修正されることが可能であるが、本明細書は、図面の一例として示され、詳細に説明される。しかし、記載された特定の実施形態に本発明を制限することを目的としていないことは理解されるべきである。別の見方をすれば、添付の請求項によって定義されているように、本発明の精神および範囲を逸脱することなく、すべての変形物、等価物および代替物を網羅しようとするものである。

Claims (2)

1. 線形に配置された一連のプリズムを有する第１の面と、前記第１の面に対向し、規則的な構造を含まない第２の面と、を具備し、前記第２の面が複数の高さの局所極大点を備え、
   高さの局所極大点に直近の前記第２の面の、前記線形配置のプリズムに対して垂直方向及び／又は水平方向の傾斜角が所定の範囲内においてランダムな値を有し、
   前記線型配置のプリズムに対して垂直方向の傾斜角は、前記線型配置のプリズムに対して水平方向の傾斜角よりも小さいことを特徴とする光学フィルム。
2. 前記複数の高さの局所極大点間の平均離間距離は２０μｍ〜４００μｍである、請求項１に記載の光学フィルム。

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