JP2002536702A - 欠陥を低減する面を有する光学フィルムおよびそのような光学フィルムの作製方法 - Google Patents
欠陥を低減する面を有する光学フィルムおよびそのような光学フィルムの作製方法Info
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Abstract
Description
、欠陥の発生を減少させるフィルムに関する。
ックライト式ディスプレイにおいて、輝度強化フィルムは、視軸に沿って光を指
向するためのプリズム構造を利用しているため、使用者によって認識される光の
輝度を増強する。別の実施形態として、一定の選択した方向において均一に高い
輝度を維持すると同時に他の方向においてより低い輝度を維持している間に、高
いコントラストおよび高い全体の輝度を有するスクリーンを製作するために、バ
ックライト式コンピュータディスプレイスクリーンには多数の異なるフィルムを
利用することができる。このようなスクリーンは、プリズム状のフィルムまたは
レンチキュラーフィルムを組合せた拡散フィルムなど複数のタイプのフィルムを
用いることができる。
する必要条件がきわめて高いことである。これは、このようなディスプレイが長
時間近い距離で見られるため、ごくわずかな欠陥であっても裸眼で検出される可
能性があり、使用者の注意力を散漫にする原因となる。このような欠陥を排除す
ることは、検査時間および材料にきわめてコストがかかる可能性がある。
どの物理的欠陥があり、光学現象である欠陥もある。最も一般的な光学現象の中
には、「ウェットアウト((wet−out)」やニュートンリングがある。2
つの面が互いに光学的に接触するときに、「ウェットアウト」が生じるため、1
つのフィルムから次のフィルムに伝搬する光の場合には、屈折率における変化を
効率的に除去する。これは、構造面の屈折特性が無効になるため、光学的欠陥の
ために構造面を用いたフィルムの場合には特に問題となる。「ウェットアウト」
の影響は、スクリーンにまだらに変化する外観を形成することである。ニュート
ンリングは、2つのフィルムの間でゆっくり変化するエアギャップの結果であり
、2つのフィルムの間で塵の粒子によって形成される可能性がある。ニュートン
リングは、透過または反射において形成される可能性がある。ニュートンリング
の結果、使用者は、乱れる恐れがあるスクリーンにおける輪郭パターンを認識す
る。
複数の解決策が取られてきた。1つの解決策は、従来の作製工程によって作製さ
れる許容可能なディスプレイアセンブリの低い歩留りを許容するだけである。こ
れは競争市場において明らかに許容することができない。第2の解決策は、きわ
めて清潔かつ慎重な作製手順を採用し、強固な品質制御標準を負わせることであ
る。これは歩留りを改善する可能性があり、作製コストは清浄ツールおよび点検
のコストを含めて増大される。
拡散体またはバルク拡散体のいずれかを導入することがである。このような拡散
体は、多くの欠点を隠すことができ、低い追加コストで製造の歩留りを増大する
ことができる。しかし、拡散体は光を散乱し、使用者によって認識される光の軸
上の輝度を減少させるため、性能を劣化する。
に、引き続きディスプレイにおける欠陥の発生を低減する必要がある。
低減するために用いることができるようなフィルムの面に関する。さらに詳細に
は、このような面は、ウェットアウト、ニュートンリング、モアレ縞の影響など
の欠陥を低減する無作為に抽出された特性を有する。本発明はまた、フィルムの
作製方法、フィルムを作製するために用いられるツールおよびツールの製作方法
に関する。
1の面は複数の高さの局所極大点を含み、第1の面の特性測定値は所定の範囲内
にランダムな値を有する。フィルムはまた、第1の面に対向する第2の面を有す
る。光学フィルムの作製方法は、フィルムの第1の面の上に規則的な構造を含ま
ないパターンを型押することを含み、第1の面は複数の高さの局所極大点を備え
、第1の面の特性測定値は所定の範囲内にランダムな値を有する。特性測定値は
、フィルム面の実際の高さと公称高さとの差、面における高さの局所極大点間の
平均離隔距離または高さの局所極大点に最も近い第1の面の傾き角であってもよ
い。
の上にあるウェットアウト防止面と、第1の面に対向する第2の面と、を有する
フィルムを含む。別の実施形態において、フィルムは、第1の面、第1の面と別
の光学面との間のウェットアウトを低減するために、第1の面の上に配置される
ウェットアウト低減手段と、を含む
を含まない第1の面の上にあるウェットアウト防止面を有するフィルムを含む。
第2の光学素子は、第1の面に対向する第2の面を備え、光源からの光学フィル
ムおよび第2の光学素子を通過する。
第1の面にウェットアウト防止面を形成することを含む。
する方法は、所定の範囲内で不規則に存在する特性の変化を形成するために、特
性の切削ツールに対して回転軸を中心にしてドラムを回転することと、切削ツー
ルを用いてドラムの面を切削することと、切削ツールの切削特性を不規則に変化
させることと、を含む。フィルムの上に面を型押するためのドラムは、規則的な
構造を含まず、かつ複数の高さの局所極小点を有する面を含み、面の特性測定値
は、所定の範囲内にランダムな値を含む。
装を示すことを目的としたものではない。図面および以下の詳細な説明は、これ
らの実施形態をさらに具体的に例示する。
たはモニタなどに用いられる液晶ディスプレイに関して利用するための光フィル
ムに特に適していると思われる。本発明はまた、背面映写スクリーンおよびオー
バヘッド映写ディスプレイなど、複数の光学処理フィルムが用いられる他の領域
においても有用である。本発明の利点の1つは、表示領域における欠陥の強度を
低減することによって、製造の歩留りを増大することである。
用途について以下に説明される。本発明の利用はきわめて制限されたものではな
く、本発明が有用であると思われる複数の光学処理フィルムを有する幅広い用途
があることを十分に理解されたい。
原因である光学現象である。図1Aおよび図1Bは、多層フィルム100におけ
るウェットアウトの問題を示している。多層フィルム100は、少なくとも2つ
の層102,104を有することが示されている。第2のフィルム104の上面
103は、光学接触部分106で上部フィルム102に光学的に接触する。光学
接触が生じる場合には、光学的に接触する領域106を通過する光は、屈折の影
響が低減された状態で1つのフィルムから次のフィルムに通過する。上部フィル
ム102および下部フィルム104の屈折率が同一である場合には、屈折の影響
は生じない。それに反して、たとえば、光線110に示されているように、光が
1つのフィルムから光学接触のない他のフィルムに通過する場合には、光はそれ
ぞれのフィルムと空気の境界で屈折される。その結果、使用者は、ウェットアウ
ト領域106を透過特性が周囲の領域と異なる領域であると検知するため、異常
または欠陥と見なす。
ニュートンリングの形成である。ニュートンリングは、少なくとも2つのフィル
ム202,204を有する多層ディスプレイ200に形成される可能性がある。
塵206の粒子が、2つのフィルム202,204の間に閉じ込められる可能性
があるため、上部フィルム202の下面203と下部フィルム204の上面20
5の間にエアギャップ208を生じる。2つの面203,205の間の離隔距離
は、塵粒子206からの距離によって変化する。ニュートンリングの形成に関し
て一般に理解されているように、エアギャップ208が光の半波長の複数倍であ
る場合には、干渉リングがディスプレイ200を通過する光によって形成される
。2つの面203,205の離隔距離が約1.5μm未満である場合には、白色
干渉縞が形成される可能性があるため、この影響は特に顕著である。面203,
205の隔たりが約1.5μmを超える場合には、干渉縞は色特有であり、白色
干渉縞でなく、白色干渉縞ほど使用者には認識されないため、この影響は目立た
ない。
およびニュートンリングをはじめとする複数の欠陥が生じることが観測されてい
る。このような欠陥を低減するための解決策は、フィルム面の少なくとも1つの
高さを不規則な態様で変化させることである。これは、たとえば、多層フィルム
ディスプレイ300が2つのフィルム302,304を有する場合が図3Aに示
されている。上部フィルム302は、上面306および下面308を有する。
る上面310を有する。面310は、上部フィルム302に接触するほど十分な
高さである一定の局所極大点312を有する。また、フィルム302に接触する
ほど十分な高さではない他の局所極大点314があってもよい。
。下部フィルム304は、ウェットアウトが生じる大きな領域ではなく、使用者
に見分けがつかない多数のごく小さな点でのみ上部フィルム302と接触する。
さらに、ニュートンリングパターンが小さすぎて使用者には認識されないような
局所極大点が互いに十分に接近した位置にある場合には、ニュートンリングの発
生は、高さが不規則に変化する面によって低減される可能性がある。たとえば、
隣接する局所極大点が約200ミクロンの平均離隔距離によって隔てられている
面を考えるものとする。約1.5ミクロンの2つのフィルム面を離てている距離
の変化は、約3波長の距離であり、6個の干渉縞に匹敵する。したがって、局所
極大点から100ミクロン(極大点の間の距離)の距離には、平均して6個の干
渉縞が存在する。結果として生じる特徴部の大きさは、約16μmであり、小さ
すぎて使用者によって認識されることはない。
の低減のほかに、多数の他の望ましくない結果および好ましい結果を生じる。第
一に、本発明によって作製されるフィルムは、高性能の透明光学フィルムの外観
を備えていない。その代わりに、フィルムの任意の構造において小さな欠陥の一
部を隠すことができるような見せかけのほとんど濁った外観を有する。これによ
り、作製工程の歩留りを著しく改善することができる。第二に、本発明のフィル
ムはまた、ディスプレイにおける異なるフィルム上の構造の間の干渉から生じる
モアレ縞パターンを排除するか、または隠すのにも作用することができる。別の
重要な結果は、フィルム積層における1つ以上のフィルム面における高さが不規
則である場合に、多層ディスプレイにおいて輝度強化、拡散またはコリメーショ
ンなどの異なるフィルムの光学的影響が、本質的に影響を及ぼさないようにする
ことができることである。
ること以上の働き、たとえばニュートンリングの低減などに働くことが理解され
ているが、このような面は、「ウェットアウト防止面」と呼ばれる。ウェットア
ウト防止面は、一般に使用者によって認識されることができるほど大きな領域に
おいて略平坦である。一般に使用者によって認識されることができないほど小さ
な領域では、面にピークまたは面における高さの局所極大点が数多くある。面に
おける高さの局所極大点と介在する面における高さの局所極小点との高さの平均
差は、一般に小さく、1ミクロンまたは2ミクロン程度である。したがって、ウ
ェットアウト防止面が別の滑らかな面に対して配置される場合には、ウェットア
ウト防止面の上の領域の大部分は、数ミクロン以下の距離で第2の面との接触部
から離れて保持される。ピークは第2の面と接触し、接触部の各点の領域は、任
意の1つのピークにおけるかなりのウェットアウトを防止するほど十分に小さい
。ピークは、たとえば、50μm〜500μm、好ましくは100μm〜250
μmの間の平均離隔距離で不規則に隔てられていてもよい。ピークは、局所極大
点と局所極小点との間の高さの平均差が約5μm未満、好ましくは約2μm未満
で、一定の範囲内の異なる高さであってもよい。高さの局所極小点と局所極大点
との平均離隔距離は、約1.5μmであってもよい。
。また、ピークの高さにおいて別の不規則度があってもよい。しかし、ピーク間
距離またはピーク高さにおける真の不規則性ではない。ピーク高さおよび/また
はピーク間距離の値はそれぞれ、ランダムまたは擬似ランダムに、予め選択され
た範囲内に存在する値を取ってもよい。ピーク間距離および/またはピーク高さ
に上界および下界を配置することによって、極値から生じるある種の欠陥が統計
上生じ得るが、ピーク間距離またはピーク高さは減少する可能性がある。
止面の別の特性は、局所極大点まで達する面の傾き角である。傾き角が大きい場
合には、大きな傾き角を有する面の部分を通過する光は、傾き角の小さい面の部
分を通過する光よりフィルムの垂直面に対して大きな角度で屈折される。傾き角
の大きな面を有するフィルムは、より大きな角度で光を分散するため、このこと
は、フィルムの分散の品質に影響を及ぼす可能性がある。さらに、ウェットアウ
ト防止面上のピークの傾きは、そのピークを中心にして対称である必要はなく、
たとえば、傾きが大きいため第1の軸に対して分散が大きくてもよく、傾きが小
さいため第1の軸に直交する第2の軸に対して分散が小さくてもよい。フィルム
面の所与の方向における面の傾きは、所定の制限内で不規則であってもよい。
ることもできる。多くの場合において、これは光学フィルムの性能を劣化する恐
れがあるが、本発明によるフィルムにバルク拡散材料を組込むこともできる。さ
らに、反射偏光などの特定の光学効果を形成するためにフィルムおよび材料の複
数の層が1つのフィルムに含まれてもよい。アクリル樹脂およびポリカーボネー
トからなる一体成形の押出フィルムは、フィルム材料の有力な候補である。また
、構造面が本発明による滑らかでかつ不規則な高さを有する基板に流延および硬
化される場合には、フィルムは、二液性構成であってもよい。たとえば、ポリエ
ステル基板に流延された紫外線硬化性アクリル樹脂を用いてもよい。ポリエチレ
ンテレフタレート(「PET」)のフィルムは、構造を硬化されることができる
基板としてうまく作用することが示されている。軸方向に延伸されることから、
PETは、その機械的および光学的特性に関して好ましいことがよくある。基板
として用いることができるポリエステルフィルムは、duPont ICI A
merica’s Inc.,Hopewell,Virginiaから商標名
MELINEXTM617の名で市場において入手可能である。ポリエチレンナ
フタレート(PEN)はまた、単独でもPETを有するコポリマー(CoPEN
として知られる)としても、光学フィルムを作製する場合のポリマー材料として
うまく作用することが示されている。
ことができる。たとえば、図4Aに示されているように、ウェットアウト防止面
である下面402に米国特許第5,056,892号に示されているようなプリ
ズム状の輝度強化フィルム400を設けてもよい。図4B〜図4Dの以下の図面
のように、図面は正確な縮尺率で示されたものでないことに留意すべきである。
連のプリズム構造404を有する。プリズム構造404は、使用者によってディ
スプレイを通じて表示される画像の輝度を増強する。たとえば、光線410また
は412などの光は、下面402を経て輝度強化フィルム400に入る。光線は
、フィルム400から射出するときに、フィルム面に対する法線方向に指向され
、これ以外のフィルムの法線に対してより大きな角度で透過された光は、フィル
ムの法線に向かって指向されるため、使用者にとってディスプレイが明るくなっ
たように見える。たとえば光線414などの一部の光は、プリズム構造404に
よって内部全反射され、光源に戻される。光源が適切な反射密閉箱に収容されて
いる場合には、反射光線414は、輝度強化フィルム400によって伝搬するた
めリサイクルされる。
ェットアウト防止面402における局所極大点と局所極小点との高さの変動δは
、0μm〜5μmの範囲にあるのが一般的であり、0μm〜2μmの範囲にあれ
ば好ましい。値δが約1.5μmであれば最も好ましい。この値で、色分解は、
ニュートンリングの鮮明度を低減する。ピークの高さ、すなわち局所極大点はま
た、実際の高さと公称高さとの差に関して表示される。たとえば、ピークには、
公称高さから差において5μmまでの範囲にある実際の高さがあってもよい。実
際の高さと公称高さとの差は、1.5μm未満であれば好ましい。局所極大点間
の平均離隔距離は、20μm〜400μmの範囲にあれば一般的であり、100
μm〜250μmの範囲であれば好ましい。
離隔距離に左右される。距離が大きくなればなるほど、ニュートンリングパター
ンが見えるようになる可能性が高くなる。したがって、平均極大点間距離を減少
させることが好都合である。他方、局所極大点の平均高さが一定である場合には
、平均極大点間距離の減少は面の傾き角を大きくする結果を生じる。より大きな
面の傾き角は、フィルム面を通過する光の拡散をより大きくする。いくつかの用
途では表面拡散度が許容可能であると思われるのに対し、表面拡散を最小限にし
なければならない別の用途もある。したがって、ウェットアウトおよびニュート
ンリングの問題を低減するほか、表面拡散も低減するために、約1.5μmの値
のδおよび150μm〜250μmの範囲にある局所極大点間の平均離隔距離を
用いることができる。これらの値は、提案された作動点としてのみ設けられ、本
発明を制限することを目的としていない。
止面を優先的に指向することができることである。たとえば、プリズム構造40
4のプリズムに垂直な方向において小さな面の傾きを有すると同時に、プリズム
に平行な方向において面402により大きな傾きを有するようにウェットアウト
防止面402を選択することができる。好都合なことに、このような構成は、プ
リズム構造と交差する方向における光の拡散を増大させることなく、プリズム構
造に平行な方向に光を拡散することができる。
形態が、図4Bに示されている。フィルム420は、上面424にレンチキュラ
ーパターン423を有する。たとえば、1次元、すなわちレンチキュラーパター
ン423のグルーブに直角の方向に光を拡散するために、レンチキュラーパター
ン423を用いてもよい。たとえば、光線426,428はレンチキュラー面4
24を射出するときに、図の平面の中の方向に屈折される。したがって、このフ
ィルム420を通過する光は、x方向に分散される。下面422は、光学的欠陥
を低減するために設けられたウェットアウト防止面である。レンチキュラーフィ
ルム420の平均厚さtは、一般に100μm〜500μmの範囲にあってもよ
い。
ムが、図4Cに示されている。フィルム440は、上面445にフレネル構造4
44を有するフレネルレンズである。下面442は、ウェットアウト防止面であ
る。
ェットアウト防止面を用いてもよいことを十分に理解されたい。たとえば、レン
ズまたは他の光屈折構造または光拡散構造などの他の構造が、フィルムの構造面
に存在してもよい。
ィルムなどの面構造がないフィルムに、ウェットアウト防止面を用いてもよい。
このようなフィルムの光学的な影響は一般に、構造面の屈折の影響に左右される
のではなく、フィルムのバルク内で生じる光学作用に基づく。下面464がウェ
ットアウト防止面である場合の偏光フィルム460が、図4Dに示されている。
屈折構造を持たないフィルムは各面462,464にウェットアウト防止面を備
えていてもよいことを十分に理解されたい。
通る仮想平面466を有するように示されている。各面462,464は、それ
ぞれの範囲δ1,δ2の中にある平面466からの高さにおいて、全体に変動す
るように示されている。δ1,δ2は0μm〜5μmの範囲内にあるのが一般的
であり、約1.5μmであればさらに一般的である。
けることは、ディスプレイにおける欠陥の低減のために利用されてもよいことを
十分に理解されたい。これは、多くの異なるタイプのフィルムに適用可能である
。このようなフィルムは、面に屈折構造を含んでもよく、フィルムを経た光の伝
搬を左右するバルク光学作用の影響に基づいてもよい。ウェットアウト防止面を
有するフィルムはまた、バルク効果および表面効果の組合せに基づいてもよい。
が、図5Aの分解立体図に示されている。液晶ディスプレイ(LCD)照明モジ
ュール500は、光を光導波路504の中に指向するため、光源として蛍光灯5
02および反射体503を用いる。光導波路は、下面507に拡散反射抽出ドッ
ト506を装備する。導波路504の上の任意の素子から再循環される任意の光
を反射するために、広帯域の拡散反射体508が、光導波路504の下に配置さ
れる。蛍光灯502からの光は、光導波路504の側面に入射し、導波路504
の面における内部反射によって光導波路504に沿って誘導される。多数の拡散
光線512を形成するために、抽出ドット506の1つに入射する光線510が
拡散反射される。
する。導波路504から抽出された光をさらに拡散し、LCDディスプレイ52
4の次の照明をさらに均一にするために、拡散体514が光導波路の上に配置さ
れてもよい。
プリズム構造と類似の上面にあるプリズム構造を有する下部輝度強化フィルム(
BEF)516を通ってもよい。下部BEF516は、(たとえば図面の平面か
ら)1次元に沿った光の発散を低減する。(たとえば、図面の平面内の)第2の
次元に沿った光の発散を低減するために、下部BEF516の上に配置された上
部BEF518は、下部BEF516のプリズム構造に対して約90°で指向さ
れるプリズム構造を有する。上部BEF518または下部BEF516のいずれ
によって反射される光は、反射体508によって再循環される。交差されるBE
Fフィルム516,518の組は、光導波路504から抽出された光の全体の発
散を低減する場合に効果的であると思われる。
は、1つの偏光の光を透過し、別の偏光の光を反射する。したがって、偏光フィ
ルム520を通過する光は偏光される。偏光フィルム520によって反射される
光は、反射体508によって再循環されてもよい。偏光フィルム520は、ウェ
ットアウト防止の上面522を装備する。
トリクスを通過する偏光が、たとえば、次に透過される画像の情報によって空間
変調される。ウェットアウト防止面522は、偏光フィルム520とLCDマト
リクス524との間のウェットアウトおよびニュートンリングの形成を低減する
ため、使用者によって見られる画像の品質が向上される。ウェットアウト防止面
522の利用は、偏光フィルム520とLCDマトリクス524との間にウェッ
トアウト低減カバーシートを含む必要性を回避する。
が、モジュール500に備えられてもよい。
550を示している。照明素子552からの光は、反射体554によって光導波
路556の中に指向される。照明素子552は、他のタイプの素子を用いてもよ
いが、一般に蛍光管である。光導波路556は、楔形であるが、擬似楔形などの
別の形状を用いることも可能である。光導波路556は、透明であってもよく、
またはバルク拡散体を含んでもよい。
ルム558に入射する。光再指向フィルム558は、線形プリズム562などの
複数の線形プリズムを有する構造面の側面560を有する。線形プリズム562
は、第1の側面564および第2の側面566を有する。光導波路556からの
光は一般に、線形プリズム562の第1の側面564を経て再指向フィルム55
8に入射し、図5Cの光線565に関して示されるように、第2の側面564に
よって内部全反射される。内部全反射の後、光は、射出面568を通って再指向
フィルム558から射出する。次に、光は、液晶ディスプレイなどの光ゲーティ
ング装置570を通過してもよい。光学的欠陥が再指向フィルム568と光ゲー
ティング装置570との間に生じることを防止するために、再指向フィルム56
8の射出面568は、ウェットアウト防止面であってもよい。
なる方式においてもウェットアウト防止面を有するフィルムの利用を制限するこ
とを目的としているわけではないことを十分に理解されたい。2つの光学面が互
いに別の方法で接触し、ウェットアウトまたはニュートンリングを形成する場合
に、さまざまな異なるタイプの光学系においてウェットアウト防止面を有するフ
ィルムを用いることができる。
じめとするさまざまな異なる方法によって一般に作製される。これらの方法は、
フィルムにウェットアウト防止面を形成する場合に適している。たとえば、フィ
ルム602が押出ローラ604によってダイ600を通って、貯槽601から引
っ張り出される場合には、フィルムは、図6に示されているように、一定の寸法
だけ離隔された1組のローラの間で流延されてもよい。フィルム602は、押出
ローラ604と第2のローラ606の間で挟み込まれる。フィルム602が面構
造を有する場合には、第2のローラ606は、フィルム602の上にパターンを
型押しするための規定の面を備えたパターンローラであってもよい。たとえば、
フィルム602は、図4Aに示されているように輝度強化フィルムとして作製さ
れる場合に、第2のローラ606はその面の周囲に、フィルム602の上面61
2に相補的なくぼみを形成する複数のプリズム構造608を具備する。パターン
ローラの直径の値は15cm〜60cmの範囲にあってもよい。押出ローラ60
4はまた、フィルムの下面618の上にパターンを型押しするために用いられる
型押しパターンを具備してもよい。ローラ604,606の間を通過した後、フ
ィルム602は、たとえば冷却気620の中で冷却され、ローラ604,606
によってその上に型押しされたパターンを保持する。示された特定の実施形態に
おいて、フィルム618の下面にウェットアウト防止面を型押しするために、押
出ローラ604は、高さが不規則に変化する面616を有する。
とができる。上部ローラ606に用いられることができる型押しパターンの例に
は、輝度強化フィルム用のプリズムパターン、レンチキュラーフィルム用のレン
チキュラーパターン、フレネルレンズ用のフレネルパターンが挙げられる。さら
に、上部ローラ606にあるプリズム構造は、図6に示されているような回転方
向に平行な方向ではなく、ローラ606の外周の回りに回転方向に垂直な方向に
配置されることもできる。上部ローラ606はまた、平坦なフィルム面を形成す
るために滑らかであってもよく、またはフィルム602の上面612にウェット
アウト防止パターンを型押しするための面を具備してもよい。これは必要条件で
はないが、ウェットアウト防止面を形成するために、押出ローラ604の面は、
不規則な型押しパターンを含んでもよい。両方のローラ604,606が不規則
な型押しパターンを有する場合には、結果として生じるフィルムは2つのウェッ
トアウト防止面を有する。
を型押しする射出成形および圧縮成形をはじめとする別の解決策を取ってもよい
。ある特定の解決策では、ウェブにかけられる型押し可能な材料のフィルムは、
フィルムの上にパターン面の片割れを型押しするために、パターン面に対して圧
縮するように保たれる。型押し可能な材料は、熱可塑性材料であってもよく、こ
のようなフィルムは、その上に型押しされるパターンを有する材料を固体化させ
るために、パターン面に対して保持している間に冷却されることができるフィル
ムであってもよい。この解決策の変形において、型押し可能な材料は、パターン
面に対する適切な場所、またはパターン面を除去した後に硬化される、または部
分的に硬化される硬化性ポリマーであってもよい。
の上にある不規則なパターンを有する母型を用いて射出成形されてもよい。結果
として生じる射出成形フィルムは、母型の不規則なパターンと対になった片割れ
であるウェットアウト防止面を有する。別の解決策において、フィルムは、圧縮
成形されてもよい。成形ツールは、成形される部分の上にウェットアウト防止面
を形成する不規則な面を具備していてもよい。
ためのコーティングなど、追加的な後処理の処置が施されてもよい。
れてもよい。たとえば、1つの可能な方法は、ウェブが2組のローラの間に挟み
込まれ、下流の組のローラが上流の組のローラより高速で回転する場合には、長
さ延伸である。別の方法は、幅出しであり、たとえば、ウェブの両側にコンベヤ
ーベルトのような方式で配置された連続クランプを用いて、フィルムのエッジを
把持することを含む。クランプが前進するとき、連続クランプは離れるように移
動し、規定の距離全体にフィルムを延伸する。下ウェブの方向に延伸しないのに
対して、幅出しは一般に、一方向にのみ、たとえばウェブを横切るようにフィル
ムを延伸するために行われる。ウェブは一般に、フィルムにおいて所望の厚さま
たは所望の分子配向を実現するのに十分な程度まで延伸される。フィルムの幅は
、幅出し工程の2〜10倍の範囲にある係数によって増大されることができ、3
〜8倍の範囲にある係数であればさらに一般的である。シートのエッジがフレー
ムの側面に接着され、フレームの側面が引張られる場合には、フィルムはまた、
延伸フレームにおいてウェブではなく、シートとして延伸されてもよい。
め、フィルムの断面形状は、相当明確に定義された態様において変化する。フィ
ルムはX倍だけ横延伸される場合には、断面積が同一であるため、フィルムの高
さはX倍減少する。したがって、延伸されていないフィルムが一方の面に型押し
されたウェットアウト防止パターンを有し、局所極大点と局所極小点との間の高
さの平均差がYである場合には、延伸されたフィルムの局所極大点と局所極小点
との間の高さの平均差は約Y/Xである。たとえば、延伸されていないフィルム
が、局所極大点と局所極小点との間の高さの平均差が8μmであるウェットアウ
ト防止面を有し、フィルムが4倍に延伸される場合には、フィルムが延伸された
後、局所極大点と局所極小点との間の高さの平均差は、約2μmである。
て選択されるたとえば、平均ピーク高さ、平均ピーク間距離などの寸法を有する
フィルムに形成される。延伸が行われない場合には、フィルムに形成される面は
、所望のピーク高さおよび平均離隔距離を有する。しかし、たとえば、1次元に
おいて、フィルムが延伸されることになっている場合には、面に形成されるピー
ク高さは、所望の最終的なピーク高さのX倍である。尚、Xは延伸係数である。
さらに、フィルム面に形成される延伸方向における平均ピーク間距離は、延伸方
向における所望の最終的なピーク間郷里の1/X倍である。延伸が1次元にのみ
行われる場合には、延伸方向に垂直な方向における平均ピーク間距離は変化しな
い。したがって、垂直方向における平均ピーク間距離は、延伸後、所望の値と同
一の値を有するようにフィルムに形成される。これに関しては、以下に示される
実施形態の詳細でさらに説明する。
延伸される場合には、フィルムに形成される面の寸法は、延伸後のウェットアウ
ト防止面の寸法が所望の制限内にあるように選択される。
ルムなどの構造を備えたフィルムを作製するために用いられるツールの原型は、
ダイヤモンドターニング技術によって製作されることができる。これらの原型は
、押出工程または流延および硬化工程によってフィルムを作製するために用いる
ことができる。一般に、直線パターン用のツールは、ダイヤモンドターニングに
よってロールなどで知られる円筒ブランクに製作される。他の材料も用いること
ができるが、ロールの面は一般に、硬質銅から構成される。構造は、ロールの外
周に連続パターンで形成される。特定の一実施形態において、ダイヤモンドツー
ルがターニングロールを横断する方向に移動している間に、構造は、単独の連続
切削がロールに施されるねじ切りとして公知である技術によって機械加工される
ことができる。形成されるべき構造が一定のピッチを備えている場合には、ツー
ルは、ロールに沿って一定の速度で移動する。一般的なダイヤモンドターニング
機は、ツールがロールを貫通する深さ、ツールがロールに対して形成する水平方
向ならびに垂直方向の角度、ツールの横断速度の独立制御を行ってもよい。さら
に、ダイヤモンドターニング機は、ロールの回転速度を制御することができる。
同様の技術は、ウェットアウト防止型押ロールを製作するために適応させること
ができる。
されている。ドラム700は、ドラムドライブ704によって軸702を中心に
して回転される。コンピュータ706は、ドラムドライブ704を制御し、ドラ
ム700の現在の角度位置Ψを監視することもできる。制御コンピュータ706
はまた、ダイヤモンド切削ツール708の移動および動作を制御する。コンピュ
ータ706は、軸702に平行なz方向および軸702に向かって放射方向に向
けられるx方向における移動のために切削ツールホルダに制御信号を送信する。
コンピュータ706はまた、ツール708とドラム700の面との間の角度Πの
ための制御信号を送信することもできる。切削ツールのサイズおよび形状は、ロ
ール700が作製に用いられる特定のタイプのフィルムに応じて選択される。
z方向に裁断ツール708を移動させる。x方向における切削ツール708の制
御は、ドラム700の面に切削される深さを制御する。ダイヤモンド切削ツール
708は、マウント712に接着される高速サーボ装置710に保持されること
ができる。マウント712は一般に、コンピュータ706による制御下で、x方
向およびz方向に並進可能である。高速サーボ装置710はまた、x方向に切削
ツール708を並進する。しかし、切削ツール708は、通常の機械加工ツール
マウントでは通常得ることができない周波数で作動する。高速サーボ装置の応答
の上限周波数は、数kHz〜数十kHzの範囲にある可能性があるが、通常の機
械加工ツールマウントは一般に5Hz以下である。高速サーボ装置710がx方
向に生じるストロークの長さは一般に短く、50μm未満であり、20μm未満
である場合もある。ストロークの長さと上限周波数応答との間に相殺関係があっ
てもよいことを十分に理解されたい。一般に、高速サーボ装置710は、x方向
において切削ツール708の短距離の高速の往復運動を行うために用いられるの
に対し、マウント712は、x方向において切削ツール708の長めの距離であ
るが、低速の往復運動を行うために用いられる。ウェットアウト防止面パターン
は、ドラムに浅い溝をねじ切りすることによってドラムに切削される。すなわち
、ドラム700の面に切削が施されている間に、切削ツール708はz方向に並
進する。マウント712は、高速サーボ装置710より低い周波数帯に作動する
第2のサーボ装置であってもよい。
てもよい。図7に示される1つの解決策において、コンピュータ706は、zお
よびオプションでΠに関する制御信号を発生する。コンピュータ706はまた、
2つの成分を有する切削ツール708のための制御信号xも発生する。第1の成
分x0は、高速サーボ装置710をx方向に並進するために、マウント712に
向けられる徐々に変化する関数である。徐々に変化する関数は、たとえば正弦波
または不規則であってもよい。第2の成分x1は、コンピュータによって生成さ
れる雑音関数であり、高速サーボ装置708をx方向において小さな高速かつ独
立な不規則な時間の移動を行わせる。
ロールの面の速度に左右されるロール外周の局所極小点の間の平均間隔と、x方
向において切削ツール708の不規則な時間の往復運動の平均期間を有する。ド
ラム700の面は、フィルムの相補面を形成するため、ロール面の上の局所極小
点は、フィルム面の局所極大点に対応する。ロール面の高さにおいて局所極小点
の間の平均離隔距離が約150μmであり、ロール708の往復運動の間の平均
時間が200μs(切削ツールの平均作動周波数5kHzに対応する)であるよ
うに選択される場合には、ロールの面の速度は、約0.75ms−1であるよう
に選択される。
ル708のx位置の変更に関して、切削ツール708のx位置は、x0信号成分
の制御下で、マウント712の低速のx方向の並進によって変更されてもよい。
x0信号が、ロール700の回転速度の高調波または低調波のいずれでもない速
度で変化する場合には、切削面の周期性における規則性は、避けられたように見
える。マウント712の低速のx方向の並進は、高速サーボ装置710のストロ
ーク長より大きい距離だけロール700に切削される面の高さを変化させるため
に用いられてもよい。
ダムパターンを切削するために、コンピュータ706が高速サーボ装置710に
送信することができる異なるタイプの制御信号の例を、時間に対してプロットさ
れた電圧の関数として示している。
の振幅および幅を有する一連のパルスを含む。図8Bにおいて、制御信号802
は、一定の振幅およびパルス間距離を有するが、幅が不規則に変化する一連のパ
ルスを含む。図8Cにおいて、制御信号804は、一定の幅およびパルス間距離
を有するが振幅が不規則に変化する一連のパルスを含む。
は、高速サーボ装置710によって、ロール700の面の上に切削される不規則
に分散された局所極小点のそれぞれの匹敵するパターンに変換される。高速サー
ボ装置710に供給される制御信号における一連のパルスは、不規則に変化する
パルス振幅、パルス幅、パルス間距離の任意の組合せを含むことができる。コン
ピュータ706から高速サーボ装置710にランダムまたは擬似ランダムに変化
する制御信号を供給することの利点は、1つのロールに切削される不規則に生成
されたパターンは、コンピュータ706でプログラムされ、別のロールで反復す
ることができることである。
ることができること、ロール切削速度がよりたやすく増大することができること
、設計者が切削工程を理解しモデルを製作することがよりたやすいことが挙げら
れる。
、高速サーボ装置710に別のタイプの信号を送信してもよい。尚、図8A〜図
8Cの例は、本発明を制限することを目的としたものではない。
な方向に面を傾斜することなど、ウェットアウト防止面の特性を一定の方向に対
する特定の値であるように選択することができることであることは、上記で述べ
た。ウェットアウト防止面の延伸に関する別の実施形態において、ドラムを切削
している間、局所極小点間の「上ねじ山(across−thread)」の離
隔距離には何ら制限を加えないのに対し、面における局所極小点間の「下ねじ山
(down−thread)」の離隔距離の範囲が、たとえば150μm〜20
0μmであるように選択することができる。不規則な特性のこのような延伸の選
択は、たとえば、線形モアレ縞パターンなどの一次効果を避けるために有用であ
ると思われる。
ている。図7の構成要素と同一である構成要素は、同一の識別数字がつけられて
いる。ドラム700が軸702を中心にして回転するとき、ドラム700の角度
Ψの制御および監視を行うために、切削動作を制御するコンピュータ900は、
ドラムドライブ704に接続される。コンピュータ900は、y方向における切
削ツール708の移動を制御するための制御信号およびx方向における切削ツー
ル708の比較的低速の移動用の低速x信号をマウント712に送信する。コン
ピュータ900はまた、切削ツール708とロール700の面との間の角度θを
制御するために、制御信号を供給することができる。
生する。x方向における切削ツール708の不規則かつ高速移動を実現するため
に、必要な場合には、フィルタリングされた雑音信号は、増幅器907で増幅さ
れ、高速サーボ装置710に高速x信号として印加される。
通過帯域を調整することができる。たとえば、通過帯域は幅数kHzのウィンド
ウを超えて広がっていてもよく、1kHzまたは2kHz〜数十kHzの範囲の
中心に合わせられていてもよい。周波数帯の中心は、ドラムの切削面の上の局所
極小点の所望の平均間隔に応じて選択され、選択された通過帯域の幅は、局所極
小点間の離隔距離の所望の隔たりに左右される。周波数帯の中心の選択は、高速
サーボ装置710の必要なストローク長に左右されてもよい。一般に、作動周波
数が増大すると、高速サーボ装置のストローク長は減少する。
に印加される信号は正確にランダムではないが、擬似ランダムであることを理解
されたい。しかし、雑音信号の周波数を制限することは、高速x信号において統
計的に最大周波数の偏位の発生を避ける。このような偏位は、極小点間の間隔が
比較的長い部分に隣接する極小点間の間隔の比較的短い部分を有するロールにお
いて生じる可能性があり、使用者に認識され得るディスプレイにおける欠陥を生
じる恐れがある。
ダイヤモンドを有する切削ツール708が切削ピッチ40μmで用いられる。ド
ラム700の一回転中に、切削ピッチは、z方向に切削ツール708によって移
動される距離である。切削ツールの深さは、ドラムの1.69回転ごとに約6μ
mの低速のx方向の並進を用いて変化がつけられる。これは、特にわずか1回転
未満およびそれに近いサイクルを用いるときに見られるような周期性の問題に陥
ることなく、深さが変化する一定のパターンを形成するために選択された比であ
る。低速のx方向の並進に加えて、フィルタ付きのランダム雑音発生器を用いて
発生された3ミクロンのランダム信号を印加する。フィルタは、4kHz〜5.
6kHzの通過帯域で、雑音を通過させた。ドラムの面の速度は、ドラム面にお
けるピーク間の公称間隔または平均間隔が約170ミクロンであるように選択さ
れた。
示されている。高速サーボ装置1000は、壁1006および背面1008を有
するケース1004から延在する切削ツール1002を含む。切削ツール100
2は、両面に圧電素子1010のスタックによって支持される。圧電スタック1
010が高速に変化する電気信号によって励起されるとき、切削ツール1002
は、ケース1004から延在する距離がわずかだけ変化するように移動させられ
る。圧電スタック1010は、一定のプログラムされた周波数の信号または不規
則な周波数の信号によって励起されることができる。しかし、高さが不規則に変
化するロール800に面を形成するために、圧電スタック1010に印加される
信号は一般に、ランダムまたは擬似ランダムである。本願明細書で用いられるよ
うに、ランダムなる語は、擬似ランダムを含むことを理解されたい。
形成されたロールを用いて作製された。ロールは、面の速度約0.8ms−1で
回転された。高速サーボ装置は、4kHz〜5.6kHzの範囲にある周波数を
有する雑音源からの信号によって作動された。高速サーボ装置のストローク長は
、約7μmであった。ロールの約1.69回転に等しい周期で約3μmの低速の
x方向の並進が、高速サーボ装置に施された。半径約50μmのダイヤモンドツ
ールは、約22μm〜28μmのピッチでロールの面に溝を切削した。切削の平
均凹みは、約2μmであった。したがって、深さにおけるピークから谷までの最
大の差は、約12μm(7+3+2μm)であった。隣接する溝間のピークのz
の大きさは、ロールの周囲では滑らかに変化するのではなく、ピークの両側にあ
る谷の相対切削深さに応じて幾分急速にz方向に変動した。しかし、z方向にお
ける局所極小点間の平均離隔距離は、zのピッチ、すなわち22μm〜28μm
に等しかった。局所極小点間の平均離隔距離は、溝に沿った外周方向において約
175μmであった。
を形成するために用いられた。フィルムは、たとえば、開示された国際特許出願
番号第WO95/17303号、第WO96/19347号、第WO95/17
699号、第WO95/17692号、第WO95/17691号に記載されて
いるようなPENおよびCoPENからなる交互の層から形成される多層反射偏
光子フィルムであった。尚、これらの特許は本願明細書に引用によって参照され
たものとする。フィルムが作製された後、フィルムは、約6倍横延伸された。し
たがって、延伸されたフィルムにおけるピークから谷までの最大高さは、約2μ
m(12÷6)であり、延伸方向における平均ピーク間距離は、132μm〜1
68μmであった。溝に沿った方向における平均ピーク間距離は、延伸の影響を
受けず、依然として約175μmであった。
示されている。フィルムは、25μmのピッチを用いて半径50μmのダイヤモ
ンドツールを用いて切削されたドラムに形成された。切削ツールは、7μmの高
周波ランダム動作および3μmの低周波数のx方向の動作を備えていた。フィル
ムは、作製後に約5倍延伸された。フィルムの断面積1.81mm(z軸)×1
.36mm(y軸)の場合のウェットアウト防止面の3次元図が、図11Aに示
されている。延伸方向は、y軸に沿った方向であった。図面は、サンプリングさ
れた面領域全体にわたって、約1.2μmの高さの変動を示している。図11B
は、z軸に平行な面に沿ったラインに関する面の外形を示している。ラインの外
形の長さに沿った高さにおける変動は、約0.3μmであった。
ックライト式ディスプレイおよび背面映写スクリーンなどの複数の光学処理フィ
ルムを有するディスプレイおよびスクリーンにおける見かけ上の欠陥を低減する
のに特に有用であると考えられている。したがって、本発明は、上述した特定の
実施形態に制限されると考えるべきではなく、添付の請求項に関して十分に説明
されるように、本発明のすべての態様を網羅すると理解すべきである。本発明が
適用可能であると思われるさまざまな修正、等価な工程のほか、さまざまな構造
については、本発明が本願明細書の説明において狙いとしている当業者にはたや
すく理解されるであろう。請求項は、このような修正および装置を網羅すること
を目的としている。
な説明を考慮されば、さらに十分に理解されると思われる。
している。
している。
示している。
示している。
を示している。
を示している。
を示している。
している。
形態を示している。
形態を示している。
示している。
いる。
方法を概略的に示している。
いる。
いる。
いる。
方法を示している。
めのツールを示している。
示している。
示している。 本発明は、さまざまな変形および代替形態に修正されることが可能であるが、
本明細書は、図面の一例として示され、詳細に説明される。しかし、記載された
特定の実施形態に本発明を制限することを目的としていないことは理解されるべ
きである。別の見方をすれば、添付の請求項によって定義されているように、本
発明の精神および範囲を逸脱することなく、すべての変形物、等価物および代替
物を網羅しようとするものである。
Claims (67)
- 【請求項1】 規則的な構造を含まない第1の面と、前記第1の面が複数の
高さの局所極大点を備え、前記第1の面の特性測定値が所定の範囲内にランダム
な値を有するようになっていることと、 前記第1の面に対向する第2の面と、を具備する光学フィルム。 - 【請求項2】 前記高さの局所極大点が実際の高さを有し、前記特性測定値
が前記実際の高さと公称高さとの間の差である請求項1に記載の光学フィルム。 - 【請求項3】 前記所定の範囲が5ミクロンである請求項1に記載の光学フ
ィルム。 - 【請求項4】 前記所定の範囲が1.5ミクロンである請求項1に記載の光
学フィルム。 - 【請求項5】 前記特性測定値が前記高さの局所極大点間の平均離隔距離で
ある請求項1に記載の光学フィルム。 - 【請求項6】 前記第1の面における高さの局所極大点間の平均離隔距離が
、50μm〜500μmの範囲にある請求項1に記載の光学フィルム。 - 【請求項7】 前記第1の面における高さの局所極大点間の平均離隔距離が
、100μm〜250μmの範囲にある請求項5に記載の光学フィルム。 - 【請求項8】 前記特性測定値が、高さの局所極大点に最も近い前記第1の
面の傾き角である請求項1に記載の光学フィルム。 - 【請求項9】 前記特性測定値が、前記フィルムの第2の側面における屈折
構造の好ましい方向に対する方向において、高さの局所極大点に最も近い前記第
1の面の傾き角である請求項8に記載の光学フィルム。 - 【請求項10】 前記第2の面が規則的な屈折構造を含む請求項1に記載の
光学フィルム。 - 【請求項11】 前記規則的な屈折構造が、輝度強化プリズム構造、レンチ
キュラー構造およびフレネルレンズ構造を含む請求項10に記載の光学フィルム
。 - 【請求項12】 前記特性測定値が、前記第2の面の上にある前記屈折構造
の好ましい方向に関連する請求項10に記載の光学フィルム。 - 【請求項13】 前記第2の面が、略平坦であり、かつ規則的な屈折構造を
含まない請求項1に記載の光学フィルム。 - 【請求項14】 前記第2の面の部分の実際の高さが、前記所定の範囲内に
あるランダムな値を有する値だけ前記公称高さとは異なる値を有する請求項1に
記載の光学フィルム。 - 【請求項15】 前記フィルムが、偏光を感知するフィルムである請求項1
に記載の光学フィルム。 - 【請求項16】 前記第1の面に接触可能な第2の光学処理フィルムと、前
記第1の面および前記第2のフィルムに入射する光を発生するための光源と、前
記第1の面および前記第2のフィルムに透過される光を受光するために配置され
た光ゲーティング装置と、をさらに具備する請求項1に記載の光学フィルム。 - 【請求項17】 規則的に屈折しない構造を有する第1の面の上のウェット
アウト防止面と、 前記第1の面に対向する第2の面と、を具備する光学フィルム。 - 【請求項18】 前記ウェットアウト防止面が、多数の高さの局所極大点お
よび高さの局所極小点を含み、前記高さの局所極大点と前記高さの局所極小点と
の間の高さの平均差が第1の値より小さい請求項17に記載のフィルム。 - 【請求項19】 前記第1の値が5μm未満である請求項18に記載のフィ
ルム。 - 【請求項20】 前記第1の値が約1.5μm未満である請求項19に記載
のフィルム。 - 【請求項21】 前記第2の面が、ウェットアウト防止面でもある請求項1
7に記載のフィルム。 - 【請求項22】 前記ウェットアウト防止面が複数の高さの局所極大点を含
み、それぞれの高さの局所極大点が予め選択された離隔距離範囲内のランダムな
離隔距離の値によって、隣接する高さの局所極大点から隔てられる請求項17に
記載のフィルム。 - 【請求項23】 前記高さの局所極大点と隣接する高さの局所極大点との間
のラインが、選択された方向に略平行である請求項22に記載のフィルム。 - 【請求項24】 前記ウェットアウト防止面が複数の高さの局所極大点を含
み、前記高さの局所極大点に最も近い前記第1の面の部分が関連する面の傾き角
を含み、前記面の傾き角が所定の範囲内の値にある請求項17に記載のフィルム
。 - 【請求項25】 特定の方向に沿って測定される前記面の傾き角が、前記所
定の範囲内にある請求項24に記載のフィルム。 - 【請求項26】 前記特定の方向が、前記フィルムの前記第2の面に規則的
な屈折構造の好ましい方向に関連する請求項25に記載のフィルム。 - 【請求項27】 前記第2の面が、規則的な構造を有する屈折面を含む請求
項17に記載のフィルム。 - 【請求項28】 第1の面と、 前記第1の面と別の光学面との間のウェットアウトを低減するために、前記第
1の面に配置されたウェットアウト低減手段と、を具備する光学フィルム。 - 【請求項29】 前記第2の面に配置されたウェットアウト低減手段をさら
に具備する請求項28に記載の光学フィルム。 - 【請求項30】 前記第2の面を通過する光を屈折するために、前記第2の
面の上に規則的な構造の屈折手段をさらに具備する請求項28に記載の光学フィ
ルム。 - 【請求項31】 光源と、 規則的に屈折しない構造を有する第1の面の上にウェットアウト防止面を有す
るフィルムと、 前記第1の面に対向する第2の面を有する第2の光学素子と、を具備する光学
装置であって、 前記光源からの光が、前記フィルムおよび前記第2の光学素子を通過する光学
装置。 - 【請求項32】 前記光源からの光を受光するために配置された光導波路お
よび前記フィルムに向かう方向に前記光導波路からの光を抽出するための抽出器
をさらに具備する請求項31に記載の光学装置。 - 【請求項33】 前記光導波路と前記フィルムとの間に配置された少なくと
も1つの輝度強化フィルムをさらに具備する請求項32に記載の光学装置。 - 【請求項34】 前記光源から通過する光を変調するために配置された液晶
ディスプレイマトリクスをさらに具備する請求項31に記載の光学装置。 - 【請求項35】 前記光学フィルムの第1の面にウェットアウト防止面を形
成することを具備する光学フィルムの作製方法。 - 【請求項36】 前記ウェットアウト防止面を形成することは、高さの局所
極大点を所定の範囲内で不規則な高さの差だけ公称値から高さを変化させるため
に、前記フィルムの前記第1の面に型押しすることを含む請求項35に記載の方
法。 - 【請求項37】 前記所定の範囲が0〜5μmである請求項36に記載の方
法。 - 【請求項38】 前記ウェットアウト防止面を形成することは、不規則に離
隔された高さの局所極大点を有するために、前記フィルムの前記第1の面に型押
しすることを含み、隣接する極大点間の間隔が所定の離隔距離の範囲に入る請求
項35に記載の方法。 - 【請求項39】 前記第1の面に予備のウェットアウト防止パターンを型押
しし、前記第1の面の上に前記予備のウェットアウト防止パターンを型押しした
後、少なくともひとつの方向に前記光学フィルムを延伸することをさらに含み、
延伸後、前記ウェットアウト防止面が不規則に離隔された高さの局所極大点を含
み、前記高さの局所極大点と前記高さの局所極小点との間の高さの平均差が所定
の範囲内である請求項35に記載の方法。 - 【請求項40】 不規則に離隔された高さの局所極大点の平均間隔が250
μm未満であり、前記所定の範囲が0〜5μmである請求項39に記載の方法。 - 【請求項41】 フィルムの第1の面の上に規則的な構造を含まないパター
ンを型押しすることを含み、前記第1の面が複数の高さの局所極大点を含み、前
記第1の面の特性測定値が所定の範囲内にランダムな値を有する光学フィルムの
作製方法。 - 【請求項42】 前記フィルムの前記第2の面に規則的な屈折構造を型押し
することをさらに含み、前記特性測定値が選択された方向に関連し、前記選択さ
れた方向が前記規則的な屈折構造の好ましい方向に略平行である請求項41に記
載の方法。 - 【請求項43】 前記特性測定値が高さの局所極大点と高さの局所極小点と
の間の高さの最大の差であり、前記所定の範囲が0〜5μmである請求項41に
記載の方法。 - 【請求項44】 前記所定の範囲が0〜1.5μmである請求項43に記載
の方法。 - 【請求項45】 前記特性測定値が隣接する高さの局所極大点間の離隔距離
であり、前記所定の範囲が100〜250μmである請求項41に記載の方法。 - 【請求項46】 型押しすることが、2つのドラムの間のフィルムを圧延す
ることを含み、前記ドラムの少なくとも1つが、所定の範囲にあるランダムな値
だけ公称値から実際の高さを変化させる部分を有する型押しパターンを具備する
請求項41に記載の方法。 - 【請求項47】 前記フィルムに対する圧延方向に略垂直である方向におい
て、2〜10倍の範囲の距離だけ前記フィルムを延伸することをさらに含む請求
項46に記載の方法。 - 【請求項48】 規則的な構造を含まないパターンを型押しすることにより
、前記第1の面の上に、公称値から値が、延伸後、前記第1の面の上の高さの局
所極大点が前記第1の面の上の局所極小点から高さの平均差を有し、前記高さの
平均差が第2の所定の範囲内にあるように選択された第1の所定の範囲内にある
ランダムな値だけ変化する実際の高さの部分を生じる請求項47に記載の方法。 - 【請求項49】 前記第2の所定の範囲が0〜1.5μmである請求項48
に記載の方法。 - 【請求項50】 前記フィルムの第2の面の上に、規則的な構造を有するパ
ターンを型押しすることをさらに含む請求項41に記載の方法。 - 【請求項51】 前記フィルムの第2の面の上に、規則的な構造を含まない
パターンを型押しすることをさらに含み、前記第2の面は、その値が前記所定の
範囲内にあるランダムな値だけ公称値から変化する実際の高さの部分を有する請
求項41に記載の方法。 - 【請求項52】 前記フィルムに平坦な第2の面を形成することをさらに含
む請求項41に記載の方法。 - 【請求項53】 原型複製ドラムの製作方法であって、 切削ツールに対して回転軸を中心にしてドラムを回転することと、 前記切削ツールを用いて前記ドラムの面を切削することと、 前記切削ツールの切削特性を不規則に変化させて、所定の範囲内に不規則に存
在する特性の変化を形成することと、を含む方法。 - 【請求項54】 切削特性を不規則に変化させることは、前記所定の範囲内
で切削深さを変化させることを含む請求項53に記載の方法。 - 【請求項55】 切削特性を不規則に変化させることは、5μmまでの範囲
内で前記切削深さを変化させることをさらに含む請求項54に記載の方法。 - 【請求項56】 切削特性を不規則に変化させることは、1.5μmまでの
範囲内で前記切削深さを変化させることをさらに含む請求項54に記載の方法。 - 【請求項57】 前記ドラムの面を切削することは、前記ドラムの面をねじ
切りすることを含む請求項53に記載の方法。 - 【請求項58】 前記切削特性を不規則に変化させることは、前記所定の範
囲内の値を有する連続的に切削される極小点間の離隔距離によって、前記ドラム
の面に面の極小点を切削することである請求項53に記載の方法。 - 【請求項59】 前記距離は100μm〜250μmの範囲の値を有する請
求項58に記載の方法。 - 【請求項60】 前記切削深さを不規則に変化させることは、雑音信号の発
生、前記雑音信号のフィルタリングおよび前記フィルタリングされた雑音信号を
用いた前記切削特性の制御を含む請求項53に記載の方法。 - 【請求項61】 前記切削深さを不規則に変化させることは、ランダムなデ
ィジタル信号の発生および前記ランダムなディジタル信号を用いた前記切削特性
の制御を含む請求項53に記載の方法。 - 【請求項62】 ランダムなディジタル信号を発生させることは、メモリか
ら格納されたランダムな信号を呼出すことを含む請求項61に記載の方法。 - 【請求項63】 規則的な構造を含まず、複数の高さの局所極小点を有する
面と、所定の範囲内にランダムな値を有する前記面の特性測定値と、 を含むフィルムに面を型押しするためのドラム。 - 【請求項64】 前記高さの局所極小点が実際の高さを備え、前記特性測定
値が前記実際の高さと公称高さとの差である請求項63に記載のドラム。 - 【請求項65】 前記特性測定値が高さの局所極小点の間の平均離隔距離で
ある請求項63に記載のドラム。 - 【請求項66】 前記特性測定値が高さの局所極小点に最も近い面の傾き角
である請求項63に記載のドラム。 - 【請求項67】 前記特性測定値が、前記ドラムによって長手方向の軸に対
する方向において、高さの局所極大点に最も近い前記第1の面の傾き角である請
求項63に記載のドラム。
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