JP4458819B2 - アゾ置換インドール化合物及びこれを用いた光記録媒体 - Google Patents

アゾ置換インドール化合物及びこれを用いた光記録媒体 Download PDF

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本発明は、データ用大容量追記光ディスク(大容量追記型コンパクトディスク、DVD−R)に関し、大容量光カードに応用される。
(情報記録用)追記型記録媒体(WORM)の従来技術として、シアニン色素を記録材料として用いたものが、特許文献1〜8に開示されており、フタロシアニン色素を記録材料として用いたものが、特許文献9〜15に開示されている。
また、追記型コンパクトディスク(CD−R)の従来技術として、シアニン色素+金属反射層を記録材として用いたものが、特許文献16〜19に開示されており、フタロシアニン色素+金属反射層を記録材として用いたものが、特許文献20〜28に開示されており、アゾ金属キレート色素+金属反射層を記録材として用いたものが、特許文献29〜38に開示されている。
また、大容量追記型コンパクトディスク(DVD−R)の従来技術として、シアニン色素+金属反射層を記録材料として用いたものが、非特許文献1、特許文献39に開示されており、アゾメチン色素+金属反射層を記録材として用いたものが特許文献40〜43に開示されており、アゾ金属キレート色素+金属反射層を記録材として用いたものが、特許文献44〜92に開示されており、その他の色素+金属反射層を記録材として用いたものが、特許文献93〜101に開示されており、ホルマザン金属キレート色素+金属反射層を記録材として用いたものが、特許文献102〜110に開示されている。
現在、大容量光ディスクとしてDVD+RやDVD−Rが商品化されている。DVD系の光ディスクもまた、CD−Rに見られるような高速書き込みを市場より要求されると想定できるが、高速書き込みに対応した記録材料は未だ開発されていない。
特開昭57−82093号公報 特開昭58−56892号公報 特開昭58−112790号公報 特開昭58−114989号公報 特開昭59−85791号公報 特開昭60−83236号公報 特開昭60−89842号公報 特開昭61−25886号公報 特開昭61−150243号公報 特開昭61−177287号公報 特開昭61−154888号公報 特開昭61−24609号公報 特開昭62−39286号公報 特開昭63−37991号公報 特開昭63−39888号公報 特開平1−159842号公報 特開平2−42652号公報 特開平2−13656号公報 特開平2−168446号公報 特開平1−176585号公報 特開平3−215466号公報 特開平4−113886号公報 特開平4−226390号公報 特開平5−1272号公報 特開平5−171052号公報 特開平5−116456号公報 特開平5−96860号公報 特開平5−139044号公報 特開平4−46186号公報 特開平4−141489号公報 特開平4−361088号公報 特開平5−279580号公報 特開平7−51673号公報 特開平7−161069号公報 特開平7−37272号公報 特開平7−71867号公報 特開平8−231866号公報 特開平8−295811号公報 特開平10−235999号公報 特開平8−198872号公報 特開平8−209012号公報 特開平8−283263号公報 特開平10−273484号公報 特公平5−67438号公報 特開平7−161069号公報 特開平8−156408号公報 特開平8−231866号公報 特開平8−332772号公報 特開平9−58123号公報 特開平9−175031号公報 特開平9−193545号公報 特開平9−274732号公報 特開平9−277703号公報 特開平10−6644号公報 特開平10−6650号公報 特開平10−6651号公報 特開平10−36693号公報 特開平10−44606号公報 特開平10−58828号公報 特開平10−86519号公報 特開平10−149584号公報 特開平10−157293号公報 特開平10−157300号公報 特開平10−157301号公報 特開平10−157302号公報 特開平10−181199号公報 特開平10−181201号公報 特開平10−181203号公報 特開平10−181206号公報 特開平10−188340号公報 特開平10−188341号公報 特開平10−188358号公報 特開平10−208303号公報 特開平10−214423号公報 特開平10−228671号公報 特開平10−36693号公報 特開平11−12483号公報 特開平11−28865号公報 特開平11−42858号公報 特開平11−102537号公報 特開平11−116834号公報 特開平11−166125号公報 特開平11−120616号公報 特開平11−130970号公報 特開平11−138999号公報 特開平11−134708号公報 特開平11−138999号公報 特開平11−151861号公報 特開平11−151862号公報 特開平11−208111号公報 特開平11−213442号公報 特開2000−36129号公報 特開平10−86517号公報 特開平10−93788号公報 特開平10−226172号公報 特開平10−244752号公報 特開平10−287819号公報 特開平10−297103号公報 特開平10−309871号公報 特開平10−309872号公報 特開平11−129624号公報 特許第02791944号公報 特開平8−295079号公報 特開平9−193546号公報 特開平10−152623号公報 特開平10−154350号公報 特開平10−337958号公報 特開2001−023235号公報 特開2002−011950号公報 特開2002−011953号公報 ISOM/ODS’96:High density of recording on Dye material Disc approach for 4.7G
従って、本発明は、光学特性及び熱分解挙動に優れた新規なアゾキレート化合物を開発し、高速書き込みに対応した追記型DVDディスクシステムにおける光記録媒体中の記録材料として提供することを目的とする。
本発明者等が検討した結果、特定の構造を有する色素を主成分とする記録層とすることにより、高速書き込みに対応した追記型DVDディスクシステムに適用可能なことを見い出し本発明に至った。
即ち、上記課題は、本発明の(1)「下記一般式(I)で表わされることを特徴とするアゾ置換インドール化合物;
Figure 0004458819
一般式(I)において、R 、R 、R 、R は水素原子、R は置換基を有するアミノ基、R は水素原子またはアルキル基、R 、R はシアノ基を表し、前記アミノ基の置換基は、アルキル基、ハロゲン置換アルキル基、水酸基置換アルキル基、アルキルカルボニル基から選択される基である。」により達成される。
また、上記課題は、本発明の(2)「前記第(1)項に記載のアゾ置換インドール化合物と2価の金属塩とからなるキレート化合物」により達成される。
また、上記課題は、本発明の(3)「基板上に記録層を設けてなる光記録媒体において、記録媒体中に前記第(2)項に記載のキレート化合物を少なくとも一種類含有することを特徴とする光記録媒体」、
(4)「金属原子がニッケルまたは銅より選ばれることを特徴とする前記第(3)に記載の光記録媒体」、
(5)「記録再生波長±10nmの波長領域の光に対する記録層単層の屈折率nが1.5≦n≦3.0であり、消衰係数kが0.02≦k≦0.2であることを特徴とする前記第(3)項または第(4)項の何れかに記載の光記録媒体」、
(6)「有機色素の熱重量分析で、主減量過程での温度に対する減量の傾きが2%/℃以上であることを特徴とする前記第(3)項乃至第(5)項の何れかに記載の光記録媒体」、
(7)「有機色素の熱重量分析で、主減量過程での総減量が30%以上で、かつ減量開始温度が350℃以下であることを特徴とする前記第(3)項乃至第(6)項の何れかに記載の光記録媒体」、
(8)「基板上のトラックピッチが0.7〜0.8μmであり、溝幅が半値幅で、0.18〜0.36μmであることを特徴とする前記第(3)項乃至第(7)項の何れかに記載の光記録媒体」により達成される。
ここで各項の構成を簡単に述べると、前記第(1)項は、安価且つ安定に化合物を供給し、光学特性を向上する新規アゾ置換インドール化合物の基本構成であり、前記第(2)項は、安価且つ安定に化合物を供給し、光学特性を向上するする新規アゾ置換インドールキレート化合物の基本構成であり、前記第(3)項は、前記第(2)項記載のアゾ金属キレート化合物を用いた光記録媒体の基本構成であり、前記第(4)項は、高い屈折率を達成する記録媒体の最適構造であり、前記第(5)項〜第(7)項は、低ジッタで高密度記録できる該アゾ金属キレート化合物の光学特性であり、前記第(8)項は、適用する追記型DVDメディア用基板案内溝条件である。
一般式(I)において、R〜Rはそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、カルボキシ基、アミノ基、置換もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換のアリール基、置換もしくは未置換のアルキルオキシ基、置換もしくは未置換のアリールオキシ基、置換もしくは未置換のアルキルアミノ基、置換もしくは未置換のアリールアミノ基、置換もしくは未置換のアルキルカルボニルアミノ基、置換もしくは未置換のアリールカルボニルアミノ基、カルバモイル基、置換もしくは未置換のアルキルカルバモイル基、置換もしくは未置換のアリールカルバモイル基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、置換もしくは未置換のアルキルカルボニル基、置換もしくは未置換のアリールカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基を表し、なお、RとR、RとR、RとRは、連結して環を形成していても良い。
前記隣接する窒素原子と一緒になって環を形成する複素5員環の具体例は、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、オキサゾール、オキサジアゾール、チアゾール、チアジアゾール等が挙げられ、ベンズイミダゾール、ベンゾチアゾール等のようにベンゼン環が縮合していても良い。
前記ハロゲン原子の具体例は、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられる。
前記アルキル基の具体例は、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基等の一級アルキル基、イソブチル基、イソアミル基、2−メチルブチル基、2−メチルペンチル基、3−メチルペンチル基、4−メチルペンチル基、2−エチルブチル基、2−メチルヘキシル基、3−メチルヘキシル基、4−メチルヘキシル基、5−メチルヘキシル基、2−エチルペンチル基、3−エチルペンチル基、2−メチルヘプチル基、3−メチルヘプチル基、4−メチルヘプチル基、5−メチルヘプチル基、2−エチルヘキシル基、3−エチルヘキシル基、イソプロピル基、sec−ブチル基、1−エチルプロピル基、1−メチルブチル基、1,2−ジメチルプロピル基、1−メチルヘプチル基、1−エチルブチル基、1,3−ジメチルブチル基、1,2−ジメチルブチル基、1−エチル−2−メチルプロピル基、1−メチルヘキシル基、1−エチルヘプチル基、1−プロピルブチル基、1−イソプロピル−2−メチルプロピル基、1−エチル−2−メチルブチル基、1−エチル−2−メチルブチル基、1−プロピル−2−メチルプロピル基、1−メチルヘプチル基、1−エチルヘキシル基、1−プロピルペンチル基、1−イソプロピルペンチル基、1−イソプロピル−2−メチルブチル基、1−イソプロピル−3−メチルブチル基、1−メチルオクチル基、1−エチルヘプチル基、1−プロピルヘキシル基、1−イソブチル−3−メチルブチル基等の二級アルキル基、ネオペンチル基、tert−ブチル基、tert−ヘキシル基、tert−アミル基、tert−オクチル基等の三級アルキル基、シクロヘキシル基、4−メチルシクロヘキシル基、4−エチルシクロヘキシル基、4−tert−ブチルシクロヘキシル基、4−(2−エチルヘキシル)シクロヘキシル基、ボルニル基、イソボルニル基(アダマンタン基)等のシクロアルキル基等が挙げられる。
更に、これら一級及び二級アルキル基は、水酸基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシ基、シアノ基、置換又は未置換のアリール基、置換又は未置換の複素環残基等を以て置換されていてもよく、また酸素、硫黄、窒素等の原子を介して前記のアルキル基で置換されていてもよい。酸素を介して置換されているアルキル基としては、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシメチル基、エトキシエチル基、ブトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、フェノキシエチル基、メトキシプロピル基、エトキシプロピル基、ピペリジノ基、モルホリノ基等が、硫黄を介して置換されているアルキル基としては、メチルチオエチル基、エチルチオエチル基、エチルチオプロピル基、フェニルチオエチル基等が、窒素を介して置換されているアルキル基としては、ジメチルアミノエチル基、ジエチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル基等が挙げられる。複素環残基の具体例としては、インドリル基、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピペリジル基、キノリル基、イソキノリル基、ピペリジノ基、モルホリノ基、ピロリル基等が挙げられる。
前記アリール基の具体例は、フェニル基、ペンタレニル基、インデニル基、ナフチル基、アズレニル基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、フェナレニル基、フェナントレニル基、アントラセニル基、トリフェニレニル基、ピレニル基等が挙げられる。
前記アルキルオキシ基の具体例は、酸素原子に直接置換又は未置換のアルキル基が結合されているものであればよく、アルキル基の具体例としては前述の具体例を挙げることができる。
前記アリールオキシ基の具体例は、酸素原子に直接置換又は未置換のアリール基が結合されているものであればよく、アリール基の具体例としては前述の具体例を挙げることができる。
前記アルキルアミノ基の具体例は、窒素原子に直接置換又は未置換のアルキル基が結合されているものであればよく、アルキル基の具体例としては前述の具体例を挙げることができる。
前記アリールアミノ基の具体例は、窒素原子に直接置換又は未置換のアリール基が結合されているものであればよく、アリール基の具体例としては前述の具体例を挙げることができる。
前記アルキルカルボニルアミノ基の具体例は、カルボニルアミノ基の炭素原子に直接置換又は未置換のアルキル基が結合されているものであればよく、アルキル基の具体例としては前述の具体例を挙げることができる。
前記アリールカルボニルアミノ基の具体例は、カルボニルアミノ基の炭素原子に直接置換又は未置換のアリール基が結合されているものであればよく、アリール基の具体例としては前述の具体例を挙げることができる。
前記アルキルカルバモイル基の具体例は、カルバモイル基の窒素原子に直接それぞれ独立して水素原子、置換又は未置換のアルキル基が結合されているものであればよく、アルキル基の具体例としては前述の具体例を挙げることができる。
前記アリールカルバモイル基の具体例は、カルバモイル基の窒素原子に直接それぞれ独立して水素原子、置換又は未置換のアリール基が結合されているものであればよく、アリール基の具体例としては前述の具体例を挙げることができる。
アルキルスルホニルアミノ基の具体例は、硫黄原子に直接置換もしくは未置換のアルキル基が結合されているものであればよく、アルキルキの具体例としては前述の具体例を挙げることができる。
アリールスルホニルアミノ基の具体例は、硫黄原子に直接置換又は未置換のアリール基が結合されているものであればよく、アリールの具体例としては前述の具体例を挙げることができる。
請求項1に示したアゾ置換インドール化合物は、4位に置換若しくは未置換のアミノ基を有するインドール類と、2位に未置換のアミノ基を有するイミダゾール類とを、常法のアゾカップリングにより容易に得ることができるため、Rはアミノ基、置換もしくは未置換のアルキルアミノ基、置換もしくは未置換のアリールアミノ基、置換もしくは未置換のアルキルカルボニルアミノ基、置換もしくは未置換のアリールカルボニルアミノ基、カルバモイル基、置換もしくは未置換のアルキルカルバモイル基、置換もしくは未置換のアリールカルバモイル基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基であることが望ましい。
塩酸、硫酸、酢酸、りん酸等の酸に2にアミノ基を有するイミダゾール類を加熱溶解し、氷浴にて急冷する。その後、適当な温度にて亜硝酸を作用させジアゾ化する。次に、4位に置換若しくは未置換のアミノ基を有するインドール類とカップリングすることで目的のアゾ置換インドール化合物を得ることができる。
請求項1に示したアゾ置換キノリン化合物は、2価の金属塩等と作用させることで容易にキレート化合物を生成する。これらのキレート化合物は、追記型DVD用の記録材料として使用でき、且つ、高線速記録に対応できる物理特性を有していることが明らかとなった。
キレート化合物の生成には、アルコール、DMF、グリセリン等の溶剤中に、請求項1に示したアゾ置換キノリン化合物と、2価の金属塩等を加える。場合により、水酸化ナトリウム溶液、アンモニア水等のアルカリ成分を加えたり、室温〜溶剤の沸点の温度に加温する場合もある。
2価の金属原子の具体例は、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛等が挙げられる。
特にニッケル、銅のキレート化合物は、光記録材料として耐光性、屈折率等の光学特性が優れている。
次に、記録媒体の構成について、記録層を構成するのに必要な項目として、光学特性と熱的特性が挙げられる。
光学特性に必要な条件は、記録再生波長である630nm〜690nmに対して短波長側に大きな吸収帯を有し、かつ記録再生波長が該吸収帯の長波長端近傍にあることが必要である。これは、記録再生波長である630nm〜690nmで大きな屈折率と消衰係数を有することを意味するものである。
具体的には、記録再生波長近傍の長波長近傍の波長域光に対する記録層単層の屈折率nが1.5以上3.0以下であり、消衰係数kが0.02以上0.2以下の範囲にあることが好ましい。nが1.5未満の場合には、充分な光学的変化得られにくいため、記録変調度が低くなるため好ましくなく、nが3.0を越える場合には、波長依存性が高くなり過ぎるため、記録再生波長領域であってもエラーとなってしまうため好ましくない。また、kが0.02未満の場合には、記録感度が悪くなるため好ましくなく、kが0.2を越える場合には、50%以上の反射率を得ることが困難となるので好ましくない。
熱的に必要な条件は、熱重量分析に於ける主減量過程での重量減量が、温度に対して急であることが必要である。主減量過程により有機材料膜は分解し、膜厚の減少と光学定数の変化を起こし、光学的な意味での記録部が形成されるからである。したがって、主減量過程の重量減量が温度に対して穏やかな場合、これは広い温度範囲にわたって形成されてしまうため、高密度の記録部を形成させる場合は極めて不利となる。同様な理由で重量減量の過程が複数存在する材料を用いた場合も高密度対応には不利である。
本発明ではいくつかの重量減量過程のうちで、減量率が最大のものを主減量過程と呼ぶ。
本発明において重量減量の傾きは下記のように求める。
図1に示すように、質量m0の有機材料を窒素雰囲気下中で、10℃/minで昇温させる。この昇温に従って、質量は微量づつ減少し、ほぼ直線a−bの重量減量線を示し、ある温度に達すると急激な重量減少を起こし、ほぼ直線c−dに沿って重量減量を起こす。さらに温度を上げ続けると質量の急激な減量が終了し、ほぼ直線e−fに沿った重量減少を起こす。今直線a−bと直線c−dとの交点に於ける温度をT1(℃)、初期質量m0に対する残存重量をm1(%)、直線c−dと直線e−fとの交点に於ける温度をT2(℃)、初期質量m0に対する残存重量をm2(%)とする。
原料開始温度はT1、減量終了温度はT2となり、重量減量の傾きは、
Figure 0004458819
で示される値で、初期重量に対する重量減量率は、(m1−m2)(%)で示される。
上記定義に基づくと光情報記録媒体に用いる記録材料としては、主減量過程に於ける重量減量の傾きが2%/℃以上であることが好ましい。この重量減量の傾きが2%/℃未満である記録材料を用いると、記録部の広がりが大きくなり、また短い記録部を形成することが困難となるため、情報記録媒体には不向きである。
また、主減量過程に於ける重量減少率は、30%以上であることが好ましい。30%未満であると、良好な記録変調度、記録感度が得られない可能性がある。
更に、熱的特性に必要な条件は、重量開始温度T1が、ある温度範囲にあることが必要である。具体的には減量開始温度が350℃以下であり、好ましくは200〜350℃の範囲にあることが望ましい。減量開始温度が350℃以上であると、記録レーザ光のパワーが高くなり実用的でなく、200℃以下であると再生劣化を起こすなど記録安定性が悪化する。
基板形状に必要な条件は、基板上のトラックピッチが0.7〜0.8μmであり、溝幅が半値幅で、0.18〜0.36μmである。
基板は通常、深さ1000〜2500Åの案内溝を有している。トラックピッチは、通常、0.7〜1.0μmであるが、高容量化の用途には0.7〜0.8μmが好ましい。溝幅は、半値幅で0.18〜0.36μmが好ましい。0.18μm未満には充分なトラッキングエラー信号強度を得ることが困難となる恐れがある。また、0.36μmを越える場合には、記録したときに記録部が横に広がりやすくなるので好ましくない。
記録体の構成
本発明の記録体は、通常の追記型光ディスクである図3の構造(図3を2枚貼合わせたいわゆるエアーサンドイッチ、または密着貼合わせ構造としてもよい)と図4からなるCD−R用メディアの構造としてもよい。
各層の必要特性及び構成材料例
本発明の記録媒体の構成としては、第1基板と第2基板とを記録層を介して接着剤で張り合わせた構造を基本構造とする。記録層は有機色素層単層でもよく、反射率を高めるため有機色素層と金属反射層との積層でも良い。記録層と基板間は下引き層あるいは保護層を介して層成してもよく、機能向上のためそれらを積層化した構成でも良い。最も通常に用いられるのは、第1基板/有機色素層/金属反射層/保護層/接着層/第2基板構造である。
<基板>
基板の必要特性としては基板側より記録再生を行なう場合のみ使用レーザ光に対して透明でなければならず、記録層側から記録、再生を行なう場合基板は透明である必要はない。したがって、本発明では、基板を1層しか用いない場合は、請求項に記載の第2の基板のみが透明であれば、第1の透明、不透明は問わない。
基板材料としては例えば、ポリエステル、アクリル樹脂、ポリアミド、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド等のプラスチック、ガラス、セラミックあるいは金属等を用いることができる。なお、基板を1層しか用いない場合、あるいは基板2枚をサンドイッチ状で用いる場合は請求項に記載の第1の基板の表面にトラッキング用の案内溝や案内ピットが形成されていても良い。
<中間層>
下引き層等を含め基板、記録層、反射層、保護層以外に設けられた層をここでは中間層と呼ぶことにする。この中間層は、(a)接着性の向上、(b)水、またはガス等のバリアー、(c)記録層の保存安定性の向上、(d)反射率の向上、(e)溶剤からの基板や記録層の保護、(f)案内溝・案内ピット・プレフォーマット等の形成等を目的として使用される。(a)の目的に対しては高分子材料、例えばアイオノマー樹脂、ポリアミド樹脂、ビニル系樹脂、天然樹脂、天然高分子、シリコーン、液状ゴム等の種々の高分子物質、およびシランカップリング剤等を用いることができ、(b)及び(c)の目的に対しては、前記高分子材料以外に無機化合物、例えばSiO2、MgF2、SiO、TiO2、ZnO、TiN、SiN等金属、または半金属、例えばZn、Cu、Ni、Cr、Ge、Se、Au、Ag、Al等を用いることができる。また(d)の目的に対しては金属、例えばAl、Ag等や、金属光沢を有する有機薄膜、例えばメチン染料、キサンテン系染料等を用いることができ、(e)及び(f)の目的に対しては紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂、熱可塑性樹脂等を用いることができる。下引き層の膜厚は0.01〜30μm、好ましくは0.05〜10μmが適当である。
用いる基板としては基板側より記録、再生を行なう場合のみ使用レーザに対して透明でなければならず、記録層側から記録、再生を行なう場合基板は透明である必要はない。基板材料としては例えば、ポリエステル、アクリル樹脂、ポリアミド、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド等のプラスチック又は、ガラス、セラミックあるいは、金属等を用いることができる。尚、基板の表面にトラッキング用の案内溝や、案内ピット、さらにアドレス信号等のプレフォーマット等が形成されていても良い。
<記録層>
記録層はレーザ光の照射により何らかの光学的変化を生じさせ、その変化により情報を記録できるものであって、この記録層中には本発明の色素混合物が含有されていることが必要で、記録層の形成にあたって本発明の色素を1種ずつ、または複数の組合せで用いてもよい。さらに、本発明の前記色素は光学特性、記録感度、信号特性等の向上の目的で他の有機色素及び金属、金属化合物と混合または積層化しても良い。有機色素の例としては、ポリメチン色素、ナフタロシアニン系、フタロシアニン系、スクアリリウム系、クロコニウム系、ピリリウム系、ナフトキノン系、アントラキノン(インダンスレン)系、キサンテン系、トリフェニルメタン系、アズレン系、テトラヒドロコリン系、フェナンスレン系、トリフェノチアジン系染料、および金属キレート化合物等が挙げられ、前記の色素を単独で用いてもよいし、2種以上の組合せにしてもよい。
また、前記色素中に金属、金属化合物、例えば、In、Te、Bi、Se、Sb、Ge、Sn、Al、Be、TeO2、SnO、As、Cd等を分散混合あるいは積層の形態で用いることもできる。さらに、前記色素中に高分子材料、例えば、アイオノマー樹脂、ポリアミド系樹脂、ビニル系樹脂、天然高分子、シリコーン、液状ゴム等の種々の材料もしくはシランカップリング剤等を分散混合して用いてもよいし、あるいは特性改良の目的で安定剤(例えば遷移金属錯体)、分散剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、界面活性剤、可塑剤等と一緒に用いることができる。
記録層の形成は蒸着、スパッタリング、CVDまたは溶液塗布等の通常の手段によって行なうことができる。塗布法を用いる場合には前記染料等を有機溶媒等に溶解してスプレー、ローラーコーティング、ディッピングおよび、スピンコーティング等の慣用のコーティング法によって行なわれる。
用いられる有機溶剤としては一般にメタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、四塩化炭素、トリクロロエタン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、あるいはベンゼン、キシレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族類、メトキシエタノール、エトキシエタノール等のセロソルブ類、ヘキサン、ペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素類等を用いることができる。
記録層の膜厚は100Å〜10μm好ましくは200Å〜2000Åが適当である。
<金属反射層>
反射層は単体で高反射率の得られる腐食されにくい金属、半金属等が挙げられ、材料例としてはAu、Ag、Cr、Ni、Al、Fe、Sn、Cu等が挙げられるが、反射率、生産性の点からAu、Ag、Al、Cuが最も好ましく、これらの金属、半金属は単独で使用しても良く、2種以上の合金としても良い。
膜形成法としては蒸着、スッパタリング等が挙げられ、膜圧としては50〜5000Å、好ましくは100〜3000Åである。
<保護層、基板表面ハードコート層>
保護層、または基板面ハードコート層は(a)記録層(反射吸収層)を傷、ホコリ、汚れ等から保護する、(b)記録層(反射吸収層)の保存安定性の向上、(c)反射率の向上等を目的として使用される。これらの目的に対しては、前記下引層のような中間層に示した材料を用いることができる。また、無機材料としてSiO、SiO2等も用いることができ、有機材料としてポリメチルアクリレート、ポリカーボネート、エポキシ樹脂、ポリスチレン、ポリエステル樹脂、ビニル樹脂、セルロース、脂肪族炭化水素樹脂、芳香族炭化水素樹脂、天然ゴム、スチレンブタジエン樹脂、クロロプレンゴム、ワックス、アルキッド樹脂、乾性油、ロジン等の熱軟化性、熱溶融性樹脂も用いることができる。
前記材料のうち保護層、または基板表面ハードコート層に最も好ましい例としては生産性に優れた紫外線硬化樹脂である。保護層または基板面ハードコート層の膜圧は0.01〜30μm、好ましくは0.05〜10μmが適当である。本発明において、前記下引き層、保護層、及び基板面ハードコート層には記録層の場合と同様に、安定剤、分散剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、界面活性剤、可塑剤等を含有させることができる。
前記のとおり、本発明によれば、請求項1により、安価且つ簡便に合成でき、光学特性及び熱分解挙動の優れた新規なアゾ置換インドール化合物の提供ができた。
また、請求項2により、追記型DVDシステムの記録材料として使用できるアゾ置換金属キレートインドール化合物の提供ができた。
また、請求項3の記録媒体により、690nm以下の波長域のレーザー光で記録、再生が可能で、耐光性、保存安定性に優れた情報記録媒体が提供できた。
また、請求項4の記録媒体により、安定した高反射率かつ高変調度で記録再生できる情報記録媒体が提供できた。
また、請求項5〜7の記録媒体により、低ジッタで高密度記録できる情報記録媒体が提供できた。
また、請求項8の記録媒体により、安定した記録及び再生のできる情報記録媒体が提供できた。
以下に実施例を示すが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。
(合成例1)
1−エチル−2−アミノ−4,5−ジシアノイミダゾール1.61gを塩酸酸性水溶液(3倍モル比)中0℃で、1.1倍モル比の亜硝酸水溶液を滴下し、ジアゾ化を行なった。過剰の亜硝酸をアミド硫酸にて分解しジアゾ液を調整した。次ぎに、4−ジエチルアミノインドール1.88gをエタノール中に溶解し、先のジアゾ液を加え作用させた。析出した粗結晶を炉取し、エタノールから再結晶し、目的化合物A−1を2.71g得た。
A−1化合物の分析結果
Figure 0004458819
(合成例2〜6)
上記合成例1の合成法に準じ、合成例2において表15記載の化合物A−2を、合成例3において化合物A−3を、合成例4において化合物A−4を、合成例5において化合物A−5を、合成例6において化合物A−6を、それぞれ合成し、元素分析により目的化合物であることを同定した。
A−2化合物の分析結果
Figure 0004458819
A−3化合物の分析結果
Figure 0004458819
A−4化合物の分析結果
Figure 0004458819
A−5化合物の分析結果
Figure 0004458819
A−6化合物の分析結果
Figure 0004458819
(合成例7)
A−7化合物1.22gをエタノールに溶解し、希水酸化ナトリウム水溶液を加え反応系を弱塩基性にした。この溶液に酢酸ニッケル(II)四水和物0.50gのエタノール溶液を加えた。60℃に昇温し、1時間攪拌した。反応液を濃縮乾燥後、水洗し、MEKから再結晶し、目的化合物C−1を1.33g得た。
C−1化合物の分析結果
Figure 0004458819
(合成例8)
A−8化合物1.33g及び酢酸銅(II)一水和物0.40gをDMFに懸濁した。これを100℃に昇温し、1時間攪拌した。反応溶液を水に排出し、析出した粗製物をMEKから再結晶し、目的化合物C−2を1.47g得た。
Figure 0004458819
(合成例9〜13)
上記合成例7〜8の合成法に準じ、合成例9において表15記載の化合物C−3を、合成例10において化合物C−4を、合成例11において化合物C−5を、合成例12において化合物C−11を、合成例13において化合物C−13を、それぞれ合成し、元素分析により目的化合物であることを同定した。
C−3化合物の分析結果
Figure 0004458819
C−4化合物の分析結果
Figure 0004458819
C−5化合物の分析結果
Figure 0004458819
C−8化合物の分析結果
Figure 0004458819
C−11化合物の分析結果
Figure 0004458819
C−13化合物の分析結果
Figure 0004458819
表15に本発明の実施例で使用する化合物例について示す。
Figure 0004458819
Figure 0004458819
Figure 0004458819
(実施例1)
厚さ0.6mmの射出成形ポリカーボネート基板上に、フォトポリマーにて深さ1750Å、半値幅0.25μm、トラックピッチ0.74μmの案内溝を形成し、C−1化合物の1,1,2,2−テトラフルオロプロパノール溶液をスピンナー塗布し、厚さ900Åの記録層を形成し、ついでスパッタ法により金1200Åの反射層を設け、さらにその上にアクリル系フォトポリマーにて7μmの保護層を設けた後、厚さ0.6mmの射出成形ポリカーボネート平面基板をアクリル系フォトポリマーにて接着し、記録媒体とした。
(実施例2〜14)
実施例1でC−1化合物の代わりにC−2〜C−14を用い実施例1と全く同様に記録媒体を形成した。
<記録条件>
この記録体にレーザー発振波長658nm、ビーム径1.0μmの半導体レーザー光を用い、トラッキングしながらEFM信号(線速14m/sec.)を記録し、発振波長670nmの半導体レーザーの連続光(再生パワー0.7mW)で再生し、再生波形を観察した。
<耐候テスト条件>
耐光テスト :5万Lux、Xe光、20時間連続照射
保存テスト :60℃ 90% 600時間放置
Figure 0004458819
本発明に関する有機材料の主減量過程、重量減量率を求める方法を説明する図である。 本発明の通常の追記型光記録媒体を表わす図である。 本発明のCD−R用光記録媒体の構成を表わす図である。 本発明のDVD−R用光記録媒体の構成を表わす図である。 本発明の化合物例C−1の吸収スペクトル図である。 本発明の化合物例C−15の吸収スペクトル図である。 本発明の化合物例C−22の吸収スペクトル図である。 本発明の化合物例C−23の吸収スペクトル図である。 本発明のA−1化合物のIRスペクトル図である。 本発明のA−2化合物のIRスペクトル図である。 本発明のA−3化合物のIRスペクトル図である。 本発明のA−4化合物のIRスペクトル図である。 本発明のA−5化合物のIRスペクトル図である。 本発明のA−6化合物のIRスペクトル図である。 本発明のC−1化合物のIRスペクトル図である。 本発明のC−2化合物のIRスペクトル図である。 本発明のC−3化合物のIRスペクトル図である。 本発明のC−4化合物のIRスペクトル図である。 本発明のC−5化合物のIRスペクトル図である。 本発明のC−8化合物のIRスペクトル図である。 本発明のC−11化合物のIRスペクトル図である。 本発明のC−13化合物のIRスペクトル図である。
符号の説明
1 基板
2 記録層
3 下引き層
4 保護層
5 ハードコート層
6 金属反射層
7 保護基板
8 接着層


Claims (8)

  1. 下記一般式(I)で表わされることを特徴とするアゾ置換インドール化合物。
    Figure 0004458819
    一般式(I)において、R 、R 、R 、R は水素原子、R は置換基を有するアミノ基、R は水素原子またはアルキル基、R 、R はシアノ基を表し、前記アミノ基の置換基は、アルキル基、ハロゲン置換アルキル基、水酸基置換アルキル基、アルキルカルボニル基から選択される基である。
  2. 請求項1に記載のアゾ置換インドール化合物と2価の金属塩とからなるキレート化合物。
  3. 基板上に記録層を設けてなる光記録媒体において、記録媒体中に請求項2に記載のキレート化合物を少なくとも一種類含有することを特徴とする光記録媒体。
  4. 金属原子がニッケルまたは銅より選ばれることを特徴とする請求項3に記載の光記録媒体。
  5. 記録再生波長±10nmの波長領域の光に対する記録層単層の屈折率nが1.5≦n≦3.0であり、消衰係数kが0.02≦k≦0.2であることを特徴とする請求項3または4の何れかに記載の光記録媒体。
  6. 有機色素の熱重量分析で、主減量過程での温度に対する減量の傾きが2%/℃以上であることを特徴とする請求項3乃至5の何れかに記載の光記録媒体。
  7. 有機色素の熱重量分析で、主減量過程での総減量が30%以上で、かつ減量開始温度が350℃以下であることを特徴とする請求項3乃至6の何れかに記載の光記録媒体。
  8. 基板上のトラックピッチが0.7〜0.8μmであり、溝幅が半値幅で、0.18〜0.36μmであることを特徴とする請求項3乃至7の何れかに記載の光記録媒体。




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