JP4457933B2 - ハイブリッドレーザ加工装置 - Google Patents
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Description
このようなハイブリッドレーザ加工装置では、予め噴射ノズルより液柱を噴射させたのち、レーザ光を当該液柱内に導光するようになっており、このため、作業者は噴射ノズルから液柱が噴射されたのを目視により確認してから、レーザ発振器を作動させてレーザ光を液柱に導光させていた。
このような問題に鑑み、本発明は作業者の誤操作がなく、確実にレーザ光を液柱に導光することの可能なハイブリッドレーザ加工装置を提供するものである。
上記噴射ノズルより噴射される液柱の有無を検出する検出手段を設け、当該検出手段が液柱を検出したらレーザ光を液柱へ導光させることを特徴としている。
このハイブリッドレーザ加工装置1は、上記被加工物2を支持する加工テーブル3と、レーザ光Lを発振するレーザ発振器4と、水を供給する液体供給手段5と、被加工物2に向けて水を液柱Wとして噴射するとともに、レーザ光Lを上記液柱Wに導光する加工ヘッド6とを備え、これらは図示しない制御手段によって制御される。
上記加工テーブル3は従来公知であるので詳細な説明をしないが、上記被加工物2を加工ヘッド6に対して水平方向に移動させるようになっており、また上記加工ヘッド6は図示しない昇降手段によって垂直方向に移動するようになっている。
本実施例では、上記被加工物2として板厚の薄い半導体ウエハを切断加工し、この他にもエポキシ樹脂板や樹脂と金属からなる複合材料なども切断加工することができる。また、切断加工のほかにも、被加工物2表面に対して溝加工を行うことも可能である。
レーザ発振器4と加工ヘッド6との間には、レーザ光Lを遮断するシャッタ手段11と、レーザ光Lを加工ヘッド6に向けて反射させる反射ミラー12と、照射されたレーザ光Lを集光する集光レンズ13とが設けられている。
上記シャッタ手段11は上記制御手段によって制御され、図示しない駆動手段によりレーザ光Lの光路上と光路外とを往復動する反射ミラー11aと、当該反射ミラー11aによって反射したレーザ光Lのエネルキーを吸収するダンパ11bとを備えている。
上記反射ミラー11aをレーザ光Lの光路上に位置させると、レーザ光Lは当該反射ミラー11aに反射し、当該レーザ光のエネルギーが上記ダンパ11bに吸収される。
一方、反射ミラー11aをレーザ光Lの光路外に移動させると、レーザ光Lは上記反射ミラー12で反射した後、集光レンズ13を介して上記加工ヘッド6へと照射される。
なお、レーザ発振器4としてこの他にも半導体レーザやCO2レーザ等を用いることも可能であるが、CO2レーザのように照射されるレーザ光Lが水に吸収されやすい波長である場合には、加工ヘッド6より噴射される液体をレーザ光Lが吸収されないような液体にすればよい。
上記貯水タンク21は給水源24に接続されており、給水源24と貯水タンク21とを接続する導管23には、給水源24からの水の供給を制御する開閉弁25と、給水源24から供給される水に浮遊する異物を除去する余水フィルタ26とを備えている。
上記ポンプ22と加工ヘッド6との間には、上流側のポンプ22側から順に、ポンプ22への水の逆流を防止する逆止弁27、送液される水の脈動を防止し、加工ヘッド6内に高圧の水を供給するアキュムレータ28、水内の異物を除去するフィルタ29、上記制御手段によって開閉の制御される第1電磁弁30が設けられている。
また、給水源24から貯水タンク21までの導管23と、ポンプ22から加工ヘッド6までの導管23とは、平行する2本の導管23によって接続されており、一方の導管23には第2電磁弁31が、他方の導管23には圧力調整弁32が設けられている。
上記第2電磁弁31はハイブリッドレーザ加工装置1を停止させる際などに、ポンプ22からの液体を貯水タンク21に戻すために使用され、また圧力調整弁32はポンプ22から加工ヘッド6までの導管23内部の圧力を一定に保つために設けられている。
上記保持部材41の内周には円筒面41aが形成されており、当該円筒面41aの中心は上記集光レンズ13によって集光されたレーザ光Lの光軸と一致するように設けられている。
また、上記保持部材41の側面には上記液体供給手段5の導管23が接続され、上記円筒面41aの側部に形成された液体通路41bによって、円筒面41aと導管23とが連通するようになっている。
さらに、上記円筒面41aの上端には、透明なガラス板43がはめ込まれており、上記集光レンズ13によって集光されたレーザ光Lを透過させると共に、上記液体通路41bより流入した水の流出を防止するようになっている。
また、図2に示すように、上記ノズルホルダ42の下端部には、当該円錐面42aの最小径部よりも大径の円筒面42bが形成されており、この円筒面42bの上端部には、水を噴射する中央に噴射孔44aの形成された噴射ノズル44がはめ込まれている。
上記噴射ノズル44の噴射孔44aには、噴射ノズル44の表面から被加工物に向けて縮径する第1傾斜面44bと、当該第1傾斜面44bの最小径部44cから被加工物2に向けて拡径する第2傾斜面44dとが形成されており、上記第1傾斜面44bには、レーザ光Lを反射させるための鏡面加工が施されている。
このような構成により、上記液体供給手段5によって供給された液体は、始めに上記保持部材41及びノズルホルダ42に形成された円筒面41a及び円錐面42a内に充満し、その後噴射ノズル44に形成された噴射孔44aより、最小径部44cの径の液柱Wとなって噴射される。
また、当該液柱Wを囲繞するように上記第2傾斜面44d及び上記円筒面42bによってエアポケットPが形成されているので、上記液柱Wは拡散することなく被加工物2まで到達する。
この状態で上記レーザ発振器4によりレーザ光Lを発振すると、レーザ光Lは集光レンズ13によって収束されながらガラス板43を透過し、上記噴射ノズル44の第1傾斜面44bに照射される。
そしてレーザ光Lは第1傾斜面44bで1度だけ反射して上記液柱Wに導光され、その後レーザ光Lは液柱Wにおける外気との境界面で反射を繰り返しながら、被加工物2に照射される。
この検出手段45は発光素子45a及び受光素子45bを備え、これらは噴射ノズル44下方に形成された上記エアポケットPを介して、上記噴射ノズル44より噴射される液柱Wを挟むように設けられている。
なお、検出手段45は非接触式のセンサであるので、液柱Wを乱すことなく、また、発光素子45a及び受光素子45bは、エアポケットP内のエアの流れを妨げないように取付けられている。
上記受光素子45bは上記制御手段に接続されており、上記噴射孔44aより上記液柱Wが噴射されると、発光素子45aからの光の一部が当該液柱Wによって妨げられ、受光素子45bに受光される発光素子45aからの光量が減少する。
すると、制御手段は受光素子45bの受光量が減少したのを認識し、上記シャッタ手段11を制御して反射ミラー11aをレーザ光Lの光路外に移動させ、レーザ発振器4からのレーザ光Lが加工ヘッド6へと照射されるようになっている。
最初に、ハイブリッドレーザ加工装置1を始動させると、制御手段は液体供給手段5を制御し、上記ポンプ22によって貯水タンク21内の水を加工ヘッド6に向けて送液を開始する。なお、貯水タンク21には予め給水源24より十分な量の水が供給されている。
これと同時に、制御手段はレーザ発振器4を制御し、レーザ発振器4はレーザを励起してレーザ光Lの発振を開始する。このとき、上記シャッタ手段11の反射ミラー11aは発振されたレーザ光Lの光路上に位置しており、レーザ光Lは反射ミラー11aによってダンパ11bに案内され、レーザ光Lのエネルギーは吸収されている。
そして、上記ポンプ22によって送液された水は、逆止弁27を通過した後、アキュムレータ28内に流入し、アキュムレータ28が水で充満されると、さらにフィルタ29及び第1電磁弁30を通過し、上記加工ヘッド6における保持部材41の液体通路41bを介して上記円筒面41aおよび円錐面42aに流入する。
その後、水が円筒面41aおよび円錐面42aに充満されると、水は上記噴射ノズル44の噴射孔44aから噴射され、噴射された水は液柱Wとなって被加工物2に到達する。
そして上述したようにして噴射ノズル44より液柱Wが噴射されると、発光素子45aの光は液柱Wによって遮られ、受光素子45bに受光される光量が減少する。
すると、制御手段は直ちにシャッタ手段11を制御して反射ミラー11aをレーザ光Lの光路外に移動させ、これによりレーザ光Lは反射ミラー12に反射した後、集光レンズ13によって集光される。
集光されたレーザ光Lは、ガラス板43を通過して加工ヘッド6の円筒面41a及び円錐面42a内に進入し、上記噴射ノズル44の第1傾斜面44bで反射すると、噴射ノズル44より噴射されている液柱W内に導光され、その後液柱W内で反射を繰り返しながら、被加工物2に照射される。
そして被加工物2の切断作業が終了すると、制御手段は最初にシャッタ手段11の反射ミラー11aをレーザ光Lの光路上に移動させ、レーザ光Lが加工ヘッド6内に照射されなくなってから、第1電磁弁30を閉鎖して加工ヘッド6への水の供給を停止させる。
この場合、液柱Wが検出されるまでレーザ発振器4を停止状態とし、液柱Wが検出された時点でレーザ発振器4を作動させ、レーザ光Lを照射させるようにすればよい。
また、上記実施例では第1電磁弁30の開閉により液柱Wの噴射を制御しているが、この第1電磁弁30を省略して、上記ポンプ22の作動により液柱Wの噴射を制御してもよい。
この場合、ポンプ22が水の供給を停止していても、加工ヘッド6内の水が噴射孔44aから落下して、上記検出手段45の受光素子45bに受光される発光素子45aからの光量が減少してしまう場合があるが、所定期間連続的に光量の減少した状態を検出してから上記シャッタ手段11を作動させるようにすれば、液柱Wが噴射されていない状態で、レーザ光Lが照射されてしまうのを防止することができる。
5 液体供給手段 6 加工ヘッド
11 シャッタ手段 11a 反射ミラー
44 噴射ノズル 45 検出手段
45a 発光素子 45b 受光素子
Claims (2)
- 噴射ノズルと、当該噴射ノズルに高圧の液体を供給する液体供給手段と、上記噴射ノズル内にレーザ光を照射するレーザ発振器と、このレーザ発振器によるレーザ光の照射を制御する制御手段とを備え、上記液体供給手段から供給された液体を噴射ノズル内から液柱にして外部に噴射させると共に、上記レーザ発振器からのレーザ光を液柱に導光して被加工物の加工を行うハイブリッドレーザ加工装置において、
上記噴射ノズルより噴射される液柱の有無を検出する検出手段を設け、当該検出手段が液柱を検出したらレーザ光を液柱へ導光させることを特徴とするハイブリッドレーザ加工装置。 - 上記検出手段は、上記噴射ノズルよりも被加工物側に配設された1対の発光素子及び受光素子を備え、受光素子が受光する光量の変化を検出して液柱の有無を検出することを特徴とする請求項1に記載のハイブリッドレーザ加工装置。
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