JP4451331B2

JP4451331B2 - 電子写真感光体の製造方法

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Publication number: JP4451331B2
Application number: JP2005047420A
Authority: JP
Inventors: 謙治 ▲高▼木; 康寛山▲崎▼
Original assignee: Orient Chemical Industries Ltd
Current assignee: Orient Chemical Industries Ltd
Priority date: 2005-02-23
Filing date: 2005-02-23
Publication date: 2010-04-14
Anticipated expiration: 2025-02-23
Also published as: JP2006235079A

Description

本発明は電子写真感光体の製造に用いられる感光層形成用塗布液およびその製造方法に関する。

電子写真技術を応用した複写機やプリンター等の画像形成装置においては、当該装置の光源の波長領域に感度を有する電子写真感光体が多く使用されている。電子写真感光体としては、適当な結着樹脂からなる薄膜中に電荷発生材と電荷輸送材とを分散した単層型の感光層を備えた単層型感光体や、電荷発生材を含む電荷発生層と電荷輸送材を含む電荷輸送層とを積層した積層型感光体が知られている。

電荷発生物質（ＣＧＭ）としては、半導体レーザーの発信波長域である７８０ｎｍ付近に感度を有する有機光導電性物質が注目されている。このような有機光導電性物質を電荷発生物質とする有機感光体（ＯＰＣ）は多数提案されており、例えば、チタニルフタロシアニン化合物を電荷発生物質として用いた有機感光体が実用化されている。この種の有機感光体には、複写機やプリンターのデジタル化、高速化に伴い高感度、高安定性、及び耐久性が強く要求される。

このような電荷発生物質を用いて電子写真感光体を製造する場合は、一般に電荷発生物質を、溶媒、バインダーとともに分散して、感光層形成用塗布液を調製する。この塗布液の調製の際に用いられる溶媒としては、一般に、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等のエーテル類、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒、メタノール、エタノール等のアルコール類、クロロホルム、塩化メチレン等のハロゲン系溶媒等の揮発性溶媒が挙げられる。この感光層形成用塗布液を導電性支持体上に塗布することによって、感光層が形成され、電子写真感光体を製造することができる。

一方、この感光層形成用塗布液は長期間保存されることも想定されることから、初期の電子写真特性だけでなく、凝集、沈降等を起こさないといった塗布液の分散安定性も要求される。そのため、上記に示した溶媒の選択においても分散安定性の良い塗布液が作製される溶媒を選択することが重要である。特にフタロシアニン化合物を電荷発生物質として用いる場合は、長期保存により顔料の沈降、結晶変換等が生じやすく、そのため分散安定性の向上が切望されている。

これらの感光層形成用塗布液の調製においては、分散安定性の良い塗布液を調製することができる溶媒を選択することだけでなく、分散助剤等を添加して安定化させる方法も検討されている。例えば、α型オキシチタニルフタロシアニンを用いた電荷発生層形成用塗布液にポリジメチルシロキサンオイル（東芝シリコーン（株）製ＴＳＦ４５１）等の分散助剤を添加して、塗膜ムラ（顔料の凝集）の抑制する報告がなされている（非特許文献１）。

また、特開平１０−１１５９４０号公報（特許文献１）には、オキシチタニルフタロシアニンを用いた電荷発生層形成用塗布液に脂肪族アルコールまたは水を添加して分散し、凝集を抑制し、液の分散安定性を得る方法が開示されている。しかしアルコールや水を添加する方法は、電子写真特性を悪化させるような結晶変換を起こしてしまう電荷発生物質を用いる場合には適用できない。

特開２００３−２０７９１１号公報（特許文献２）では、導電性支持体上に少なくとも感光層を有する電子写真感光体の製造方法において、前記感光層に用いられる電荷発生物質を含有する感光層形成用塗布液はＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを含有することを特徴とする電子写真感光体の製造方法が提供されている。ここでは、電荷発生物質としてヒドロキシガリウムフタロシアニンが用いられており、長期保存可能な感光層形成用塗布液を提供できると記載されている。

電荷発生物質として例えば特許第３２２７０９４号または特開２００４−２１２７２５号公報に記載のμ−オキソ架橋型金属フタロシアニン化合物を用いて、一般的に用いられる分散溶剤で分散し、感光層形成用塗布液を調製した電子写真感光体を製造したところ、分散安定性が悪く、長期保存可能な感光層形成用塗布液を得ることができないという問題が明らかとなった。

日本画像学会誌（旧電子写真学会誌１２６号、Ｖｏｌ．３７、Ｎｏ．４、１９９８）特開平１０−１１５９４０号公報特開２００３−２０７９１１号公報

本発明は、前記課題を解決するためになされたものであり、電荷発生材料としてμ−オキソ架橋型金属フタロシアニン化合物を用いた場合において、電荷発生物質の凝集、沈降等を起こさない長期保存に適した感光層形成用塗布液の提供およびその塗布液の製造方法を提供することを目的とする。

本発明は、
（ａ）μ−オキソ架橋型金属フタロシアニン化合物である電荷発生物質、
（ｂ）シクロヘキサノン、および
（ｃ）１，４−ジオキサン
を、（ｂ）シクロヘキサノンと（ｃ）１，４−ジオキサンとの重量組成比（ｂ）：（ｃ）が２５：７５〜１：９９の範囲で混合する工程、
を包含する、
導電性支持体上に感光層を有する電子写真感光体の製造に用いられる感光層形成用塗布液の製造方法、を提供するものであり、これにより上記目的が達成される。

また本発明は、
（ａ）μ−オキソ架橋型金属フタロシアニン化合物である電荷発生物質、
（ｂ）シクロヘキサノン、および
（ｄ）Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
を、（ｂ）シクロヘキサノンと（ｄ）Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドとの重量組成比（ｂ）：（ｄ）が４５：５５〜１：９９の範囲で混合する工程、
を包含する、
導電性支持体上に感光層を有する電子写真感光体の製造に用いられる感光層形成用塗布液の製造方法、も提供する。

上記（ａ）電荷発生物質が、下記構造式（Ｉ）

（Ｉ）
で示されるμ−オキソ−ガリウムフタロシアニンダイマーであり、
このμ−オキソ−ガリウムフタロシアニンダイマーが、Ｘ線回折スペクトルにおいてＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角度（２θ±０．２°）の７．４°、９．９°、１２．５°、１２．９°、１６．１°、１７．５°、１７．９°、１８．５°、２１．９°、２２．２°、２４．０°、２５．１°、２５．８°、２８．２°、２８．９°、３０．０°、３２．９°に回折ピークを示すのが好ましい。

また、上記（ａ）電荷発生物質が、下記構造式（II）

（II）
［式中、Ｘは対アニオンを表す。］
で示されるμ−オキソ架橋型異種金属フタロシアニン化合物であり、
このμ−オキソ架橋型異種金属フタロシアニン化合物が、Ｘ線回折スペクトルにおいてＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角度（２θ±０．２°）の７．６°、１０．１°、１２．６°、１３．０°、１６．３°、１７．７°、１８．６°、２２．３°、２４．２°、２５．３°、２５．８°、２８．５°、２９．７°、３３．０°に回折ピークを示すのも好ましい。

本発明は、上記の感光層形成用塗布液の製造方法により得られる、感光層形成用塗布液も提供する。

本発明はまた、上記の感光層形成用塗布液を塗布することにより得られる感光層を有する電子写真感光体も提供する。

本発明により、長期保存に適した感光層形成用塗布液が提供される。この感光層形成用塗布液は、長期保存後も電荷発生物質の凝集や沈降等を起こさず、また特性劣化を起こすこともない。さらにこの感光層形成用塗布液を用いて感光層を形成することにより、長期保存後も特性劣化を起こさない電子写真感光体を提供することができる。

本発明の感光層形成用塗布液は、導電性支持体上に感光層を有する電子写真感光体の製造に用いられるものである。そしてこの感光層形成用塗布液の１態様として、
（ａ）μ−オキソ架橋型金属フタロシアニン化合物である電荷発生物質、
（ｂ）シクロヘキサノン、および
（ｃ）１，４−ジオキサン、
を含有し、
（ｂ）シクロヘキサノンと（ｃ）１，４−ジオキサンとの重量組成比（ｂ）：（ｃ）が２５：７５〜１：９９の範囲である、感光層形成用塗布液が挙げられる。

また感光層形成用塗布液の他の１態様として、
（ａ）μ−オキソ架橋型金属フタロシアニン化合物である電荷発生物質、
（ｂ）シクロヘキサノン、および
（ｄ）Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
を含有し、（ｂ）シクロヘキサノンと（ｄ）Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドとの重量組成比（ｂ）：（ｄ）が４５：５５〜１：９９の範囲である、感光層形成用塗布液が挙げられる。

上記のように、（ｂ）シクロヘキサノンと（ｃ）１，４−ジオキサン、または（ｂ）シクロヘキサノンと（ｄ）Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを用いることにより、電子写真特性を悪化させるような結晶変換を起こすことなく、電荷発生物質の分散安定性を著しく向上させることができる。

感光層形成用塗布液が（ｂ）シクロヘキサノンと（ｃ）１，４−ジオキサンとを含む態様である場合、（ｂ）シクロヘキサノンと（ｃ）１，４−ジオキサンとの重量組成比（ｂ）：（ｃ）は、１０：９０〜１：９９であるのがより好ましい。この比率が２５：７５より小さい場合または１：９９より大きい場合には、感光層形成用塗布液の分散およびその安定性への効果が小さくなる恐れがある。

また感光層形成用塗布液が（ｂ）シクロヘキサノンと（ｄ）Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドとを含む態様である場合は、（ｂ）シクロヘキサノンと（ｄ）Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドとの重量組成比（ｂ）：（ｄ）は、３３：６７〜１：９９であるのがより好ましい。この比率が４５：５５より小さい場合または１：９９より大きい場合には、感光層形成用塗布液の分散およびその安定性への効果が小さくなる恐れがある。

（ａ）電荷発生物質
本発明において電荷発生物質として用いることができる材料として、μ−オキソ架橋型金属フタロシアニン化合物を挙げることができる。

μ−オキソ架橋型金属フタロシアニン化合物の中でも、下記構造式（Ｉ）：

で示されるμ−オキソ−ガリウムフタロシアニンダイマーを用いるのがより好ましい。

上記構造式（Ｉ）で示されるμ−オキソ−ガリウムフタロシアニンダイマーについて、Ｘ線回折スペクトルにおいてＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角度（２θ±０．２°）の７．４°、９．９°、１２．５°、１２．９°、１６．１°、１７．５°、１７．９°、１８．５°、２１．９°、２２．２°、２４．０°、２５．１°、２５．８°、２８．２°、２８．９°、３０．０°、３２．９°に回折ピークを示すμ−オキソ−ガリウムフタロシアニンダイマーを用いるのがさらに好ましい。

μ−オキソ−ガリウムフタロシアニンダイマーは、一般に、以下に説明する方法により得ることができる。

まず、1-クロロナフタレン及びキノリンのような高沸点有機溶媒中、フタロニトリルもしくは1,3-ジイミノイソインドリンを塩化ガリウムと共に反応させ、クロロガリウムフタロシアニンを得る。反応物の精製は、熱時濾過後、熱ＤＭＦおよびＤＭＦにより洗浄して行う。

得られたクロロガリウムフタロシアニンを加水分解することによりヒドロキシガリウムフタロシアニンを得る。具体的な操作は公知である。

例えば、クロロガリウムフタロシアニンを酸性もしくはアルカリ性溶液中で加水分解するか、濃硫酸によりアシッドペースティングを行うことにより、ヒドロキシガリウムフタロシアニンを得る。これらの方法は、例えば、特開平１−２２１４５９号公報及び特開平５−２７９５９１号公報に記載されている、公知の方法である。

濃硫酸を用いるアシッドペースティングとは、顔料を濃硫酸、好ましくは濃度９０％以上の硫酸に溶解し、溶解物を氷水中に投入して、顔料を微細化及び精製する操作をいう。

次に、得られたヒドロキシガリウムフタロシアニンを水不混和性の高沸点有機溶媒中で加熱脱水することにより、μ−オキソ−ガリウムフタロシアニンダイマーを得ることができる。例えば、o-ジクロロベンゼンのような溶媒中、還流撹拌して、生成する水を反応系内から除去し、反応生成物を濾取し、ＤＭＦで洗浄し、ＤＭＦをメタノール等で置換後、乾燥、粉砕する。

但し、本発明では、以下のスキームに示すように、クロロガリウムフタロシアニン（Cl-GaPc）を濃硫酸を用いてアッシドペースティングを行い、その後、得られた青色固体を水不混和性の有機溶媒（例えばo-ジクロロベンゼン）中で加熱脱水する方法によってμ−オキソ−ガリウムフタロシアニンダイマー（PcGa-O-GaPc）を得る。

上記の方法によれば、特異な結晶変態を有するダイマーが得られる。

こうして得られたダイマーを乾式粉砕することにより、アモルホス型ダイマーが得られる。なお、本発明において、「乾式粉砕」とは、溶媒を用いないで粉砕する操作をいう。「粉砕」とは、固体に機械的な力を加えて細分化することをいう。粉砕は、一般にボールミル、サンドミル、ペイントシェーカー、アトライターおよび自動乳鉢のような粉砕装置を用いて行う。必要に応じてガラスビーズ、スチールビーズ、ジルコニアビーズおよびアルミナビーズのような粉砕媒体を用いることができる。

乾式粉砕は、結晶変態の変化が進行しなくなるまで行う。一般に、室温で２０〜１００時間、好ましくは４８〜７２時間行われる。乾式粉砕工程が２０時間を下回ると結晶変態の形成が不十分となり、１００時間を上回って行っても一般に有意な効果が得られない。

例えば、試験用分散器（所謂ペイントシェーカー）を用い、試料７ｇに５ｍｍφガラスビーズ８０ｇを充填するような場合は、４８〜７２時間乾式粉砕を行う。

本発明の他のμ−オキソ−ガリウムフタロシアニンダイマーの新規な結晶変態は、上記の方法で得られたアモルホス型ダイマーを、所定の溶媒中で、湿式粉砕、又は加熱もしくは室温下で単純分散して得られる。

本発明において、「湿式粉砕」とは、溶媒の存在下に粉砕する操作をいう。一般に上記「乾式粉砕」と同様な粉砕装置を用いて行う。必要に応じてガラスビーズ、スチールビーズおよびアルミナビーズのような粉砕媒体を用いうる。「単純分散」とは、粉体を溶媒の存在下に撹拌して溶媒中に細粒として浮遊させることをいう。

湿式粉砕もしくは単純分散で用いる溶媒は、μ−オキソ−ガリウムフタロシアニンダイマーを溶解しないものである。所望の結晶変態に応じて、ケトン系、アルコール系、グリコール系、（ホルム）アミド系、ピロリドン系、エーテル系、酢酸エステル系及び芳香族系から選ばれる。

ケトン系溶媒としては、例えば、シクロヘキサノン、ジイソプロピルケトン、メチルエチルケトン（MEK）及びメチルイソブチルケトン（MIBK）等；アルコール系溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノールおよびイソプロパノールのような低級アルコール、アミルアルコール、ヘキシルアルコール及びオクチルアルコールのような一価のアルコール；グリコール系溶媒としては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール及びプロピレングリコールのようなアルキレングリコール；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル及びプロピレングリコールモノメチルエーテルのようなアルキレングリコールモノアルキルエーテル（セロソルブ類）；モノグライム、ジグライム、トリグライム及びテトラグライムのようなエチレングリコールジアルキルエーテル；（ホルム）アミド系溶媒としては、ジメチルホルムアミド（DMF）、ジメチルアセトアミド及びN-メチルピロリドン等；エーテル系溶媒としては、テトラヒドロフラン（THF）、ジオキサン、エチルエーテル及びブチルエーテルのような鎖状または環状のエーテル系溶媒；酢酸エステル系溶媒としては、酢酸エチル及び酢酸ブチル等；芳香族系溶媒としては、トルエン、o-キシレン及びテトラリンのような炭化水素系溶媒、o-ジクロロベンゼン、クロロナフタレン、ブロモナフタレン及びキノリンのような高沸点の芳香族炭化水素系溶媒；等が挙げられる。

これらの溶媒のうち、上記構造式（Ｉ）で示されるμ−オキソ−ガリウムフタロシアニンダイマーについて、Ｘ線回折スペクトルにおいてＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角度（２θ±０．２°）の７．４°、９．９°、１２．５°、１２．９°、１６．１°、１７．５°、１７．９°、１８．５°、２１．９°、２２．２°、２４．０°、２５．１°、２５．８°、２８．２°、２８．９°、３０．０°、３２．９°に回折ピークを示すμ−オキソ−ガリウムフタロシアニンダイマーを得るのに用いられる溶媒としては、ＤＭＦ、トルエン、酢酸エチル、トリグライム、特に好ましくはＤＭＦのようなアミド系溶媒が挙げられる。

また、μ−オキソ架橋型金属フタロシアニン化合物の中でも、下記構造式（II）：

（II）
［式中、Ｘは対アニオンを表す。］

で示されるμ−オキソ架橋型異種金属フタロシアニン化合物を用いるのも、より好ましい。

このμ−オキソ架橋型異種金属化合物は、中心金属原子であるＴｉの原子価に対応して正電荷（ｎ^＋）を帯びることがある。そのため、溶液中では通常、適当な対アニオン（Ｘ）を伴う形態で存在する。対アニオン（Ｘ）としては、例えばヒドロキシイオン（ＯＨ⁻）、ハロゲンイオン（例えばＣｌ⁻）、硫酸水素イオン（ＨＳＯ_４ ⁻）等の１価の無機アニオン、あるいは硫酸イオン等の２価の無機アニオンが挙げられる。好ましくは、ヒドロキシイオン（ＯＨ⁻）である。

そして、上記構造式（II）で示されるμ−オキソ架橋型異種金属フタロシアニン化合物について、Ｘ線回折スペクトルにおいてＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角度（２θ±０．２°）の７．６°、１０．１°、１２．６°、１３．０°、１６．３°、１７．７°、１８．６°、２２．３°、２４．２°、２５．３°、２５．８°、２８．５°、２９．７°、３３．０°に回折ピークを示すμ−オキソ架橋型異種金属フタロシアニン化合物を用いるのがさらに好ましい。

μ−オキソ架橋型異種金属フタロシアニン化合物のうち、構造式（II）で示されるＰｃＧａ−Ｏ−ＴｉＰｃ［μ−オキソ架橋型ガリウムフタロシアニン／チタニウムフタロシアニン化合物］は、次のようにして合成することができる。すなわち、濃硫酸中に、ハロゲン化金属フタロシアニンであるクロロガリウムフタロシアニン（ＣｌＧａＰｃ）１ｍｏｌとオキシ金属フタロシアニンであるチタニルフタロシアニン（Ｏ＝ＴｉＰｃ）１ｍｏｌの混合物を加えて、５℃で２〜３時間反応させる。次いでこれを氷水中に分散した後、濾過、洗浄してウエットケーキを得る。得られたウエットケーキを再度水中に分散して、濾過、洗浄しウエットケーキを得、さらに酸根を除去するためにウエットケーキを水と２５％アンモニア水に加えて精製することにより、［｛ＰｃＧａ−Ｏ−ＴｉＰｃ｝^＋ＯＨ⁻］を得ることができる。

上記の方法により、本発明の電子写真感光体に含まれるμ−オキソ架橋型異種金属化合物を簡便且つ選択的に高収率で得ることができる。

上記の方法により得られるμ−オキソ架橋型異種金属化合物は、通常はアモルファスの形態で得られる。アモルファスの形態のμ−オキソ架橋型異種金属化合物を電荷発生材（ＣＧＭ）として電子写真感光体に用いる場合、この化合物の形態を変換させて、Ｘ線回折スペクトルにおいて特定の回折ピークを示す結晶変態を有する化合物にして用いるのが好ましい。μ−オキソ架橋型異種金属化合物を、Ｘ線回折スペクトルにおいて特定の回折ピークを示す結晶変態（結晶形）を有する化合物に変換することによって、電荷発生材としての機能を有効に発揮させることができるからである。Ｘ線回折スペクトルの測定方法として、例えばＸ線回折（ＸＲＤ）装置で、ＣｕＫα線源を用いてスペクトルを測定することができる。

このような形態の変換方法として、例えば、所定の有機溶媒中で、湿式粉砕する方法、又は加熱もしくは室温下で単純分散する方法が含まれる。これらの具体的な方法は上記と同様である。

湿式粉砕で用いる溶媒としては、上記した各種溶媒を用いることができる。そしてこれらの溶媒のうち、上記構造式（II）で示されるμ−オキソ架橋型異種金属フタロシアニン化合物について、Ｘ線回折スペクトルにおいてＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角度（２θ±０．２°）の７．６°、１０．１°、１２．６°、１３．０°、１６．３°、１７．７°、１８．６°、２２．３°、２４．２°、２５．３°、２５．８°、２８．５°、２９．７°、３３．０°に回折ピークを示すμ−オキソ架橋型異種金属フタロシアニン化合物を得るのに用いられる溶媒としては、ＤＭＦ、トルエン、酢酸エチル、トリグライム、特に好ましくはＤＭＦのようなアミド系溶媒が挙げられる。

感光層形成用塗布液の製造方法および電子写真感光体
本発明の感光層形成用塗布液の製造方法の１態様として、
（ａ）μ−オキソ架橋型金属フタロシアニン化合物である電荷発生物質、
（ｂ）シクロヘキサノン、および
（ｃ）１，４−ジオキサン
を、（ｂ）シクロヘキサノンと（ｃ）１，４−ジオキサンとの重量組成比（ｂ）：（ｃ）が２５：７５〜１：９９の範囲で混合する方法が挙げられる。

また、本発明の感光層形成用塗布液の製造方法の他の１態様として、
（ａ）μ−オキソ架橋型金属フタロシアニン化合物である電荷発生物質、
（ｂ）シクロヘキサノン、および
（ｄ）Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
を、（ｂ）シクロヘキサノンと（ｄ）Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドとの重量組成比（ｂ）：（ｄ）が４５：５５〜１：９９の範囲で混合する方法が挙げられる。

（ａ）電荷発生物質を分散させる方法としては、ボールミル、サンドミル、ペイントシェーカー等を用いる通常の分散法を採用することができる。混合時の温度は、通常室温下で行われる。

こうして得られる感光層形成用塗布液を塗布することによって、電子写真感光体を製造することができる。

本発明における電子写真感光体の層構成は、導電性支持体上に電荷発生物質と電荷輸送材を同時に含有する単一層からなる感光層を有する層構成、または導電性支持体上に電荷発生物質を含有する層と電荷輸送材を含有する層を積層してなる感光層を有する層構成がある。

導電性支持体の基材としては、アルミニウム、ニッケル等の金属、金属蒸着フィルム等を用いることができ、ドラム状、シート状またはベルト状の形態で作製される。

感光体の製造方法を以下に説明する。単一層構造または積層構造からなる感光体、いずれの場合も、電荷発生物質を含む層を導電性支持体上に薄膜状に形成する。一般に、この時、結着樹脂を含む溶液に電荷発生物質を分散させた塗布液を調整し、それを支持体上に塗布、乾燥することにより電荷発生層を形成する。

電荷発生層の塗工手段としては、特に限定されることはなく、例えば、バーコーター、ディップコーター、スピンコーター、ローラーコーター等を適宜使用することができる。乾燥は、２００〜３０℃の温度で５分〜２時間、静止又は送風下で行うことができる。

結着樹脂は、広範な絶縁性樹脂から選択することができる。好ましい樹脂としては、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアミド、ポリアリレート等の縮合系樹脂；ポリスチレン、ポリアクリレート、スチレン−アクリル共重合体、ポリアクリルアミド、ポリメタクリレート、ポリビニルブチラール、ポリアクリルニトリル、ポリアクリル−ブタジエン共重合体、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体等の付加重合体；ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン等の有機光導電性樹脂；ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、シリコン樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂等が挙げられる。これらは適宜混合して用いることができる。

本発明の電子写真感光体が、電荷発生層と電荷輸送層とを有する積層型感光体である場合は、電荷発生層における上記結着樹脂は、電荷発生物質１重量部に対して、０．０１〜１０重量部、好ましくは０．１〜３重量部で用いられる。結着樹脂が１０重量部以上で用いられると、電荷発生層における電荷発生物質の濃度が小さくなり光感度が悪くなる恐れがある。電荷発生層の膜厚は一般に１０μｍ以下であり、好ましくは０．０５〜５．０μｍである。

本発明の電子写真感光体が、感光層が１つの層でなる単層型感光体である場合は、この感光層は結着樹脂と電荷発生物質と電荷輸送材とを有する。この感光層における結着樹脂は、電荷発生物質１重量部に対して、０．０２〜２０重量部、好ましくは０．０５〜５重量部で用いられる。電荷輸送材は、電荷発生物質１重量部に対して、０．０２〜２０重量部、好ましくは０．０５〜５重量部で用いられる。感光層の膜厚は一般に１００μｍ以下であり、好ましくは１０〜５０μｍである。

本発明の電子写真感光体が積層型感光体である場合は、次に電荷発生層の上部に、電荷輸送材を含む電荷輸送層を薄膜状に形成する。この薄膜形成法としては、電荷発生層と同様な塗工法が用いられ、電荷輸送材を、必要に応じて結着樹脂と共に溶媒に溶解し、電荷発生層の上部に均一に塗布し、その後乾燥させればよい。

本発明の電子写真感光体に用いることができる電荷輸送材としては、公知の、トリアリールアミン系化合物、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾリン誘導体、ヒドラゾン誘導体、ヒドラジン誘導体、トリアジン誘導体、キナゾリン誘導体、スチリル系化合物、スチリルトリフェニールアミン系化合物、ブタジエン系化合物、カルバゾール系化合物、さらに、ベンゾフラン誘導体（化合物）等が挙げられる。

具体的には下記構造の電荷輸送材料が挙げられる。

（富士写真フィルム社製のＣＴ−５０４）

（富士写真フィルム社製のＣＴ−５０１）

電荷輸送層を形成する結着樹脂としては、前記電荷発生層に使用されるものと同様なものが使用できる。電荷輸送層を形成する塗布液用の溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール等のアルコール系溶媒；トルエン、キシレン、テトラリン等の芳香族系溶媒；ジクロルメタン、クロロホルム、トリクロルエチレン、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒；酢酸エチル、酢酸プロピル等のエステル系溶媒；エチレングリコールモノエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒；ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。

電荷輸送層における上記結着樹脂は、電荷輸送材１重量部に対して、０．１〜５重量部で用いられる。５重量部以上で用いられると、電荷輸送層における電荷輸送材の濃度が小さくなり光感度が悪くなる。電荷発生層の膜厚は、５〜１００μｍであり、好ましくは５〜７０μｍである。

なお、上記電荷発生層または電荷発生層の上に、必要に応じて表面保護層を形成してもよい。また、電荷発生層、電荷発生層および／または表面保護層には、従来公知の増感剤；アミン系、フェノール系の酸化防止剤、ベンゾフェノン系等の紫外線吸収剤などの劣化防止剤；等の種々の添加剤を含有させることができる。

以下の実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。尚、特に断らない限り、「部」は重量部を表す。尚、本発明では、マックスサイエンス社製の自動Ｘ線回折システム「ＭＸＰ３」を用いて、ＣｕＫα線によるＸ線回折スペクトルを測定した。

合成例１ μ−オキソ架橋型異種金属フタロシアニン化合物の合成
１−１ＰｃＧａ−Ｏ−ＴｉＰｃの合成
濃硫酸３５８ｇを５℃以下に冷却し、温度を保ちながらクロロガリウムフタロシアニン６．１ｇ（０．０１０ｍｏｌ）及びチタニルフタロシアニン５．７ｇ（０．０１０ｍｏｌ）の混合物を加え、５℃で２時間攪拌した。水０．６Ｌ（リットル）、氷１．４Ｌに１０℃以下で滴下し、２時間分散した。静置後、減圧濾過し、水道水２．０Ｌで振りかけ洗浄した。ウエットケーキと水道水０．２Ｌを３Ｌビーカーに仕込み、２時間室温分散した。減圧濾過後、水道水２．０Ｌで振りかけ洗浄した。ウエットケーキ、水０．２Ｌ、２５％アンモニア水０．１５Ｌを１Ｌセパラブルフラスコに仕込み、２時間分散した。減圧濾過後、湯２．０Ｌ、イオン交換水１．０Ｌで振りかけ洗浄した。ウエットケーキを７０℃で乾燥し、下記構造の青色固体［化１８］１０．７ｇ（収率９１．０％）を得た。

１−２特定の回折ピークを示すμ−オキソ架橋型異種金属フタロシアニン化合物の合成
合成例１にて作成した上記構造の化合物１．５０ｇを、ＤＭＦ２０ｍｌ中で、室温下２０時間撹拌した後、濾取、洗浄、乾燥して、図１に示すＸＲＤスペクトルを示す結晶変態を有する青色固体１．２８ｇを得た。この化合物は、Ｘ線回折スペクトルにおいてＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角度（２θ±０．２°）の７．６°、１０．１°、１２．６°、１３．０°、１６．３°、１７．７°、１８．６°、２２．３°、２４．２°、２５．３°、２５．８°、２８．５°、２９．７°、３３．０°に回折ピークを示した。

合成例２ μ−オキソ−ガリウムフタロシアニンダイマーの結晶変態
２−１クロロガリウムフタロシアニンの合成
撹拌器、塩化カルシウム管などの必要器具を備えた１０００ｍｌのガラス製４口フラスコにフタロニトリル１７７．２ｇと１−クロルナフタレン８２０ｍｌ及び塩化ガリウム５０．０ｇを仕込み、１０時間還流下撹拌した。その後、還流を停止し、２００℃程度まで放冷後熱時濾過して、熱ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）３５００ｍｌ、ＤＭＦ３０００ｍｌを用いて振りかけ洗浄した。得られたウエットケーキをＤＭＦ８００ｍｌに再度分散し、５時間撹拌還流した後、熱濾過後、熱ＤＭＦ２５００ｍｌ、ＤＭＦ２０００ｍｌを用いて振りかけ洗浄し、メタノール置換後乾燥して青色固体のクロロガリウムフタロシアニン１２５．０ｇ（収率７３．５％）を得た。

２−２ダイマーの合成
こうして得られたクロロガリウムフタロシアニン１０．０ｇを濃硫酸３００ｇに温度を０〜５℃に保ちながら徐々に溶解させ、この温度で１時間撹拌した。これを氷水１５００ｍｌへ、温度が５℃を越えないように撹拌しながら注加し、注加終了後さらに２時間撹拌した。濾過、水洗後、１５００ｍｌのイオン交換水へ再分散し、再度濾過した。水洗後ウエットケーキを４％アンモニア水６００ｍｌに再分散して、６時間還流下撹拌した。濾過後、ケーキをイオン交換水で念入りに洗浄した後、減圧下、５０℃で乾燥し、粉砕して８．７２ｇ（収率８９．８％）の青色固体を得た。

次いで、ｏ−ジクロロベンゼン１３０ｍｌに得られた青色固体７．７ｇを加え、１７０〜１８０℃で撹拌した。予め付属させたリービッヒコンデンサーから、生成する水を煮沸により反応系内より除去した。水の生成が少なくなったらリービッヒコンデンサーを空冷コンデンサーに替え、３時間還流下、撹拌した。熱時濾過し、ＤＭＦによる振りかけ洗浄に引続き、メタノールによってケーキ中のＤＭＦを置換した。乾燥、粉砕して、Ｘ線回析スペクトルにおいて結晶変態を有するμ−オキソ−ガリウムフタロシアニンダイマー７．１ｇ（収率９３．６％）を得た。

２−３アモルホス型ダイマーの合成
こうして得られたμ−オキソ−ガリウムフタロシアニンダイマー７．０ｇと５ｍｍφガラスビーズ８０ｇを広口瓶に仕込み、試験用分散器（所謂ペイントシェーカー）を用いて２〜３日間乾式粉砕を行った。一部サンプリングし、結晶変態の変化が止まったところで、ふるいを用いてガラスビーズを分離し、６．８ｇのアモルホス型μ−オキソ−ガリウムフタロシアニンダイマーを青色固体として得た。

２−４特定の回折ピークを示すμ−オキソ−ガリウムフタロシアニンダイマーの合成
こうして得られたアモルホス型μ−オキソ−ガリウムフタロシアニンダイマー１．０ｇにＤＭＦ３０ｍｌを加え、室温で、１０〜１２時間撹拌分散した。フタロシアニンダイマーを濾取し、酢酸エチルで置換後、減圧下乾燥し、０．８４ｇのＧ型μ−オキソ−ガリウムフタロシアニンダイマーを青色固体として得た。この化合物のＸＲＤスペクトルを図１に、ＦＤ−ＭＳの結果を図２に示す。また、この化合物の元素分析の結果を表１に示す。

以上より、本化合物は、μ−オキソ−ガリウムフタロシアニンダイマーであることを確認した。また、Ｘ線回析スペクトルから、ブラッグ角度（２θ±０．２゜）の７．４°、９．９°、１２．５°、１２．９°、１６．１°、１７．５°、１７．９°、１８．５°、２１．９°、２２．２°、２４．０°、２５．１°、２５．８°、２８．２°、２８．９°、３０．０°、３２．９°に回折ピークを示す結晶変態であることが確認された。

参考例１
合成例１で得られたμ−オキソ架橋型異種金属フタロシアニン化合物結晶０．２部とポリビニルブチラール樹脂（商品名：エスレックＢＨ−３、積水化学工業社製）０．２部、３ｍｍφガラスビーズ５０部、シクロヘキサノン６部および１，４−ジオキサン５８部を広口瓶に加え、ペイントシェーカーで３時間ミリングし、感光層形成用塗布液を調製した。これをアルミニウム板上に膜厚が０．５μｍになるようバーコーダーを用いて製膜し、風乾させて電荷発生層を形成した。

次に電荷輸送材料としてｐ−（Ｎ，Ｎ’−ジフェニルアミノ）ベンズアルデヒド−Ｎ’−メチル−Ｎ’−フェニルヒドラゾン（富士フィルム社製ＣＴ−５０１）４．５部、ポリカーボネート樹脂（帝人社製パンライトＬ−１２５０）４．５部および塩化メチレン５１部を広口瓶に入れ、超音波分散により均一な溶液を調製した。これを電荷発生層の上にバーコーダーを用いて塗布し、８０℃で３時間乾燥して、膜厚６０μｍの電荷輸送層を形成した積層型有機感光体（片）を作製した。

参考例２
シクロヘキサノンおよび１，４−ジオキサンの添加量をシクロヘキサノン３部および１，４−ジオキサン６０部とした以外は参考例１に従って感光体片を作製した。

参考例３
シクロヘキサノンおよび１，４−ジオキサンの添加量をシクロヘキサノン２部および１，４−ジオキサン６３部とした以外は参考例１に従って感光体片を作製した。

実施例４
１，４−ジオキサンをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドとし、その添加量をシクロヘキサノン２０部およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４０部とした以外は参考例１に従って感光体片を作製した。

実施例５
１，４−ジオキサンをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドとし、その添加量をシクロヘキサノン１１部およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４８部とした以外は参考例１に従って感光体片を作製した。

実施例６
１，４−ジオキサンをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドとし、その添加量をシクロヘキサノン６部およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５３部とした以外は参考例１に従って感光体片を作製した。

参考例７
μ−オキソ架橋型異種金属フタロシアニン化合物結晶を合成例２で得られたμ−オキソ−ガリウムフタロシアニンダイマー結晶とした以外は参考例１に従って感光体片を作製した。

参考例８
μ−オキソ架橋型異種金属フタロシアニン化合物結晶を合成例２で得られたμ−オキソ−ガリウムフタロシアニンダイマー結晶とし、さらにシクロヘキサノンおよび１，４−ジオキサンの添加量をシクロヘキサノン３部および１，４−ジオキサン６０部とした以外は参考例１に従って感光体片を作製した。

実施例９
μ−オキソ架橋型異種金属フタロシアニン化合物結晶を合成例２で得られたμ−オキソ−ガリウムフタロシアニンダイマー結晶とし、さらに１，４−ジオキサンをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドとし、その添加量をシクロヘキサノン２０部およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４０部とした以外は参考例１に従って感光体片を作製した。

比較例１
シクロヘキサノンおよび１，４−ジオキサンの添加量をシクロヘキサノン２９部および１，４−ジオキサン３２部とした以外は参考例１に従って感光体片を作製した。

比較例２
シクロヘキサノンおよび１，４−ジオキサンの添加量をシクロヘキサノン１９部および１，４−ジオキサン４４部とした以外は参考例１に従って感光体片を作製した。

比較例３
１，４−ジオキサンをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドとし、その添加量をシクロヘキサノン３０部およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３０部とした以外は参考例１に従って感光体片を作製した。

比較例４
１，４−ジオキサンもしくはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドの添加量を無添加とし、シクロヘキサノン５９部とした以外は参考例１に従って感光体片を作製した。

比較例５
シクロヘキサノンの添加量を無添加とし、１，４−ジオキサン６５部とした以外は参考例１に従って感光体片を作製した。

比較例６
シクロヘキサノンの添加量を無添加とし、１，４−ジオキサンをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドとし、その添加量を５９部とした以外は参考例１に従って感光体片を作製した。

比較例７
μ−オキソ架橋型異種金属フタロシアニン化合物結晶をμ−オキソ−ガリウムフタロシアニンダイマー結晶とし、さらにシクロヘキサノンの添加量を無添加とし、１，４−ジオキサン６５部とした以外は参考例１に従って感光体片を作製した。

比較例８
μ−オキソ架橋型異種金属フタロシアニン化合物結晶をμ−オキソ−ガリウムフタロシアニンダイマー結晶とし、さらにシクロヘキサノンの添加量を無添加とし、１，４−ジオキサンをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドとし、その添加量を５９部とした以外は参考例１に従って感光体片を作製した。

感光体の評価
上記実施例４、５、６、９、参考例１、２、３、７、８及び比較例１〜８において作製した感光体片につき、電子写真特性の測定を行った。測定は、静電気試験測定装置ペーパーアナライザーＥＰＡ−８２００（川口電機社製）を用い、まず−８．０ＫＶでＳＴＡＴ３モードにて帯電し、２秒間暗所放置後、５．０ｌｘの白色光を１０秒間照射して、帯電電位（Ｖｍａｘ）、暗減衰率（％）、残留電位（Ｖｒｅ．）半減露光量感度（Ｅ１／２）について測定し、評価した。さらに分散安定性について目視にて評価した結果も併せて評価した。以上の測定結果を表２にまとめた。

暗減衰率の測定は、帯電直後の表面電位（Ｖ_０＝Ｖｍａｘ）及び２秒間暗所放置後の表面電位（Ｖ_２）を測定し、次の式より暗減衰率を求めた。

暗減衰率＝１００×（Ｖ_０−Ｖ_２）／Ｖ_０

さらにバンドパス干渉フィルターを用いて４５０〜９００ｎｍの間において５０ｎｍ間隔で照射光の波長を変化させること以外は上述の感光体特性測定と同様にして、分光感度測定を行った。露光エネルギーは１．００μＷとした。それぞれの波長における初期帯電量（Ｖ_ｍａｘ [Ｖ]）および半減露光感度（Ｅ_１／２ [μＪ／ｃｍ^２]）を測定した。

なお、実施例４と比較例４について分光感度測定を行った結果を図３に示す。図３からも分かるとおり、実施例においては明らかに分光感度特性の向上がみられた。

分散安定性については、実施例および比較例に記載した方法により感光層形成用塗布液を調製した後、概ね数時間で固液の分離を確認できた場合を×とし、１ヶ月以上に渡って均一な分散状態を示した場合を◎とし、２週間〜１ヶ月で固液の分離が確認できた場合を○とし、５日〜２週間で固液の分離が確認できた場合を△とした。

感光特性評価については、電荷発生剤が同一のものを基準として評価した。この基準として、分散液が単一成分（１００％）のものであって、分散性は悪いが感光特性は良好な比較例のものを基準とした。μ−オキソ架橋型異種金属フタロシアニン化合物を含む感光層形成用塗布液においては、比較例４を基準として評価した。また、μ−オキソ−ガリウムフタロシアニンダイマーを含む感光層形成用塗布液においては、比較例７を基準として評価した。半減露光量感度が同等なものを○、向上したものを◎、劣化したものを×とした。

総合評価について、以下の基準に従って評価した：
分散安定性および感光特性いずれも◎の時を、総合評価◎とした。
分散安定性および感光特性いずれも○の時を、総合評価○とした。
分散安定性または感光特性のどちらかが△の時を、総合評価△とした。
分散安定性または感光特性のどちらかに×がある時を、総合評価×とした。

＊表中、対アニオン「Ｘ」は「ＯＨ⁻」である。

本発明によれば、電荷発生物質としてμ−オキソ架橋型金属フタロシアニン化合物を用いた場合、１，４−ジオキサン／シクロヘキサノン混合液もしくはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド／シクロヘキサノン混合液で分散させた感光層形成用塗布液は、分散安定性が著しく向上し、そして長期保存する場合においても安定に保存することができた。

合成例１および合成例２で得られた化合物のＸＲＤスペクトルを示す。合成例２で得られた化合物のＦＤ−ＭＳスペクトルを示す。実施例４と比較例４について分光感度測定を行った結果を示すグラフである。

Claims

（ａ）μ−オキソ架橋型金属フタロシアニン化合物である電荷発生物質、
（ｂ）シクロヘキサノン、および
（ｄ）Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを、
（ｂ）シクロヘキサノンと（ｄ）Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドとの重量組成比（ｂ）：（ｄ）が３３：６７〜１：９９の範囲で混合する工程、
を包含する、
導電性支持体上に感光層を有する電子写真感光体の製造に用いられる感光層形成用塗布液の製造方法。
前記（ａ）電荷発生物質が、下記構造式（Ｉ）

（Ｉ）
で示されるμ−オキソ−ガリウムフタロシアニンダイマーであり、
該μ−オキソ−ガリウムフタロシアニンダイマーが、Ｘ線回折スペクトルにおいてＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角度（２θ±０．２°）の７．４°、９．９°、１２．５°、１２．９°、１６．１°、１７．５°、１７．９°、１８．５°、２１．９°、２２．２°、２４．０°、２５．１°、２５．８°、２８．２°、２８．９°、３０．０°、３２．９°に回折ピークを示す、
請求項１記載の感光層形成用塗布液の製造方法。
前記（ａ）電荷発生物質が、下記構造式（II）

（II）
［式中、Ｘは対アニオンを表す。］
で示されるμ−オキソ架橋型異種金属フタロシアニン化合物であり、
該μ−オキソ架橋型異種金属フタロシアニン化合物が、Ｘ線回折スペクトルにおいてＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角度（２θ±０．２°）の７．６°、１０．１°、１２．６°、１３．０°、１６．３°、１７．７°、１８．６°、２２．３°、２４．２°、２５．３°、２５．８°、２８．５°、２９．７°、３３．０°に回折ピークを示す、
請求項１記載の感光層形成用塗布液の製造方法。
請求項１〜３いずれかに記載の感光層形成用塗布液の製造方法により得られる、感光層形成用塗布液。