JP4448683B2 - ヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩の製造方法 - Google Patents
ヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4448683B2 JP4448683B2 JP2003392499A JP2003392499A JP4448683B2 JP 4448683 B2 JP4448683 B2 JP 4448683B2 JP 2003392499 A JP2003392499 A JP 2003392499A JP 2003392499 A JP2003392499 A JP 2003392499A JP 4448683 B2 JP4448683 B2 JP 4448683B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acid
- salt
- general formula
- represented
- phenol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- RJQRAQUUKXSJCG-UHFFFAOYSA-O [OH2+]C(CC1)CCC1N=O Chemical compound [OH2+]C(CC1)CCC1N=O RJQRAQUUKXSJCG-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
本発明は、ヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩の製造方法、及びアシルオキシベンゼンスルホン酸又はその塩の製造方法に関する。さらに詳しくは、本発明は、原料として、工業的に製造された粗フェノール又はその誘導体を、還元剤と接触させてなるものを用いることにより、着色度の低いヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩を工業的に効率良く製造する方法、及びこの方法で得られたヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩から、漂白活性化剤などとして有用な着色度の低いアシルオキシベンゼンスルホン酸又はその塩を工業的に効率良く製造する方法に関する。
アシルオキシベンゼンスルホン酸塩は、過炭酸ナトリウム、過ホウ酸ナトリウムで代表される過酸化水素発生基質や過酸化水素と水中で接触させることにより、低温でも容易に有機過酸を発生し、衣類などの汚れ、シミ汚れなどに有効な漂白性能を発揮することから、漂白活性化剤として特に有用な化合物である（例えば、特許文献１参照）。
このアシルオキシベンゼンスルホン酸塩は、フェノールスルホン酸塩を原料とし、各種アシル化剤を反応させることにより得ることができるが、工業的に製造されたアシルオキシベンゼンスルホン酸塩は、一般に、衣料用洗剤に使用されているアニオン界面活性剤に比べると着色度が高い。したがって、工業的に有効な着色度の低いアシルオキシベンゼンスルホン酸塩を工業的に効率良くの製造する方法の開発が強く望まれている。
このアシルオキシベンゼンスルホン酸塩は、フェノールスルホン酸塩を原料とし、各種アシル化剤を反応させることにより得ることができるが、工業的に製造されたアシルオキシベンゼンスルホン酸塩は、一般に、衣料用洗剤に使用されているアニオン界面活性剤に比べると着色度が高い。したがって、工業的に有効な着色度の低いアシルオキシベンゼンスルホン酸塩を工業的に効率良くの製造する方法の開発が強く望まれている。
本発明者らは、このような状況下で、現行のアシルオキシベンゼンスルホン酸塩の工業的製造工程を検討した結果、アシルオキシベンゼンスルホン酸塩の着色が出発原料であるフェノール又はその誘導体中の不純物に起因していることを究明した。
前記アシルオキシベンゼンスルホン酸塩の原料として用いられるフェノールスルホン酸塩は、通常、フェノールに濃硫酸を反応させ、各種のアルカリで中和することにより得られる。そして、工業的にフェノールスルホン酸塩を製造する場合には、原料のフェノールとして、工業的に製造された粗フェノールが用いられる。
工業的なフェノールとしては、合成フェノール及びコールタール油から回収されるフェノールがあるが、合成フェノールが殆どである。合成フェノールの製造方法としては、（１）ベンゼンとプロピレンとから得られるキュメンを自動酸化してキュメンハイドロパーオキサイドを生成させ、それを分解してフェノールとアセトンを生成させるキュメン法、（２）トルエンを酸化して得られる安息香酸を縮合させて、安息香酸フェニルエステルを生成させ、これを加水分解してフェノールと安息香酸（循環使用）を生成させるトルエン法（ダウ法）、（３）ベンゼンのスルホン化、中和により得られるベンゼンスルホン酸ナトリウムをアルカリ溶融してフェノールと亜硫酸ナトリウムを生成させるアルカリフュージョン法などが知られている。現在、世界的には、キュメン法が主流であり、トルエン法も一部採用されているが、これらは、いずれも酸化プロセスを有しているため、製造されるフェノール中には、カルボニル化合物、カルボン酸、その他有機酸化物などの不純物が混入するのを避けられないのが実状である。
本発明者らの検討によれば、このような粗フェノールを原料とするフェノールスルホン酸塩は、一般に着色度が高く、また、該フェノールスルホン酸塩から誘導されるアシルオキシベンゼンスルホン酸塩は、着色度の高いものとなる。
工業的なフェノールとしては、合成フェノール及びコールタール油から回収されるフェノールがあるが、合成フェノールが殆どである。合成フェノールの製造方法としては、（１）ベンゼンとプロピレンとから得られるキュメンを自動酸化してキュメンハイドロパーオキサイドを生成させ、それを分解してフェノールとアセトンを生成させるキュメン法、（２）トルエンを酸化して得られる安息香酸を縮合させて、安息香酸フェニルエステルを生成させ、これを加水分解してフェノールと安息香酸（循環使用）を生成させるトルエン法（ダウ法）、（３）ベンゼンのスルホン化、中和により得られるベンゼンスルホン酸ナトリウムをアルカリ溶融してフェノールと亜硫酸ナトリウムを生成させるアルカリフュージョン法などが知られている。現在、世界的には、キュメン法が主流であり、トルエン法も一部採用されているが、これらは、いずれも酸化プロセスを有しているため、製造されるフェノール中には、カルボニル化合物、カルボン酸、その他有機酸化物などの不純物が混入するのを避けられないのが実状である。
本発明者らの検討によれば、このような粗フェノールを原料とするフェノールスルホン酸塩は、一般に着色度が高く、また、該フェノールスルホン酸塩から誘導されるアシルオキシベンゼンスルホン酸塩は、着色度の高いものとなる。
以上の知見に基づき、本発明は、粗フェノール又はその誘導体を用い、着色度の低いヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩を、工業的に効率良く製造する方法、及びこの方法で得られたヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩から、着色度の低いアシルオキシベンゼンスルホン酸又はその塩を、工業的に効率良く製造する方法を提供することを目的とする。
本発明者らは、フェノール又はその誘導体を、スルホン化する前に還元剤と接触させる処理を行うことにより、着色度の低いヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩が得られ、ひいては着色度の低いアシルオキシベンゼンスルホン酸又はその塩が得られることを見出した。
すなわち、本発明は、
（１）一般式（１）
すなわち、本発明は、
（１）一般式（１）
（式中、Ｒ1は炭素数１〜１８の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基又はアルケニル基、ｎは０〜２の整数を示し、ｎが２の場合、２つのＲ1は同じでも異なっていてもよい。）
で表される粗フェノール又はその誘導体を、水素化ホウ素ナトリウム、ホスホン酸及びホスフィン酸から選ばれる少なくとも一種の還元剤と接触させたのち、硫酸を用いてスルホン化する、あるいはスルホン化後に塩に誘導する、一般式（２）
で表される粗フェノール又はその誘導体を、水素化ホウ素ナトリウム、ホスホン酸及びホスフィン酸から選ばれる少なくとも一種の還元剤と接触させたのち、硫酸を用いてスルホン化する、あるいはスルホン化後に塩に誘導する、一般式（２）
（式中、Ｍ1及びＭ2は、それぞれ独立に水素原子又は陽イオン基、ａ及びｂは、それぞれＭ1及びＭ2の価数を示し、Ｒ1及びｎは前記と同じである。）
で表されるヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩の製造方法、及び
（２）上記（１）の方法によって得られたヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩と、一般式（３）
Ｒ2−ＣＯＸ （３）
（式中、Ｒ2は炭素数１〜１７の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基又はアルケニル基を示し、ＸはＦ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩから選ばれるハロゲン原子を示す。）
で表されるカルボン酸ハライド、又は一般式（４）
で表されるヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩の製造方法、及び
（２）上記（１）の方法によって得られたヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩と、一般式（３）
Ｒ2−ＣＯＸ （３）
（式中、Ｒ2は炭素数１〜１７の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基又はアルケニル基を示し、ＸはＦ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩから選ばれるハロゲン原子を示す。）
で表されるカルボン酸ハライド、又は一般式（４）
で表されるカルボン酸無水物を反応させる、一般式（５）
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｍ1、a及びｎは前記と同じである。）
で表されるアシルオキシベンゼンスルホン酸又はその塩の製造方法、
を提供する。
で表されるアシルオキシベンゼンスルホン酸又はその塩の製造方法、
を提供する。
本発明によれば、原料として、粗フェノール又はその誘導体を、還元剤と接触させてなるものを用いることにより、着色度の低いヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩を工業的に効率よく製造することができる。また、この方法で得られたヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩から、漂白活性化剤などとして有用な着色度の低いアシルオキシベンゼンスルホン酸又はその塩を工業的に効率よく製造することができる。
本発明のヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩の製造方法においては、原料として、一般式（１）
（式中、Ｒ1は炭素数１〜１８の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基又はアルケニル基、ｎは０〜２の整数を示し、ｎが２の場合、２つのＲ1は同じでも異なっていてもよい。）
で表される粗フェノール又はその誘導体が用いられる。
前記一般式（１）において、Ｒ1で示される炭素数１〜１８の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基又はアルケニル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、各種ペンチル基、各種ヘキシル基、各種オクチル基、各種デシル基、各種ドデシル基、各種テトラデシル基、各種ヘキサデシル基、各種オクタデシル基、ビニル基、プロペニル基、アリル基、各種オクテニル基、各種デセニル基、各種ドデセニル基、各種ヘキサデセニル基、オレイル基などが挙げられるが、これらの中でメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基の中から選ばれる炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基が好ましい。ｎは０又は１が好ましく、さらに好ましくは０である。ｎが１以上の場合、Ｒ1のＯＨ基に対する導入位置は、パラ位以外であればよく、特に制限はない。
で表される粗フェノール又はその誘導体が用いられる。
前記一般式（１）において、Ｒ1で示される炭素数１〜１８の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基又はアルケニル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、各種ペンチル基、各種ヘキシル基、各種オクチル基、各種デシル基、各種ドデシル基、各種テトラデシル基、各種ヘキサデシル基、各種オクタデシル基、ビニル基、プロペニル基、アリル基、各種オクテニル基、各種デセニル基、各種ドデセニル基、各種ヘキサデセニル基、オレイル基などが挙げられるが、これらの中でメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基の中から選ばれる炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基が好ましい。ｎは０又は１が好ましく、さらに好ましくは０である。ｎが１以上の場合、Ｒ1のＯＨ基に対する導入位置は、パラ位以外であればよく、特に制限はない。
なお、粗フェノールは、商業用プラントで製造されたフェノールのことであり、その製造プロセスについては特に制限はなく、例えばキュメン法、トルエン法、アルカリフュージョン法などのプロセスによって製造された合成フェノール、及びコールタール油から回収されたフェノールのいずれであってもよい。このような粗フェノールは、その製造プラントにおいて、精留などの精製処理が施されているが、微量の不純物の混入は避けられない。
本発明においては、前記一般式（１）で表される粗フェノール又はその誘導体は、スルホン化する前に還元剤と接触させる処理が施される。この際、用いる還元剤としては特に制限はなく、無機還元剤及び有機還元剤のいずれであってもよいが、水素化ホウ素ナトリウム（ＮａＢＨ4）、ホスホン酸（ＨＰＯ(ＯＨ)2）及びホスフィン酸（Ｈ2ＰＯ(ＯＨ)）などの無機還元剤が好ましく、特に水素化ホウ素ナトリウムが好ましい。
本発明においては、前記一般式（１）で表される粗フェノール又はその誘導体は、スルホン化する前に還元剤と接触させる処理が施される。この際、用いる還元剤としては特に制限はなく、無機還元剤及び有機還元剤のいずれであってもよいが、水素化ホウ素ナトリウム（ＮａＢＨ4）、ホスホン酸（ＨＰＯ(ＯＨ)2）及びホスフィン酸（Ｈ2ＰＯ(ＯＨ)）などの無機還元剤が好ましく、特に水素化ホウ素ナトリウムが好ましい。
これらの還元剤は、一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。また、その使用量については特に制限はないが、粗フェノール又はその誘導体を還元処理する場合、その後に続くスルホン化で得られるヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩の色相改善効果及び経済性などの点から、フェノール又はその誘導体１００質量部に対し、還元剤を好ましくは０．００１〜１質量部、より好ましくは０．００５〜０．８質量部、さらに好ましくは０．０１〜０．５質量部の割合で用いるのが有利である。処理温度については特に制限はないが、フェノールを処理する場合には、フェノールの融点以上、１００℃以下が好ましい。
なお、フェノール誘導体の場合、その原料となる粗フェノールを、前記のようにして還元処理したのち、所望のフェノール誘導体に導いてもよく、あるいはフェノール誘導体自体を、前記のように還元処理してもよい。
本発明においては、このようにして、前記一般式（１）で表される粗フェノール又はその誘導体を還元処理したのち、スルホン化し、ヒドロキシベンゼンスルホン酸を生成させ、次いで所望によりアルカリを加えて、スルホン酸基又はスルホン酸基とヒドロキシル基を塩とし、一般式（２）
なお、フェノール誘導体の場合、その原料となる粗フェノールを、前記のようにして還元処理したのち、所望のフェノール誘導体に導いてもよく、あるいはフェノール誘導体自体を、前記のように還元処理してもよい。
本発明においては、このようにして、前記一般式（１）で表される粗フェノール又はその誘導体を還元処理したのち、スルホン化し、ヒドロキシベンゼンスルホン酸を生成させ、次いで所望によりアルカリを加えて、スルホン酸基又はスルホン酸基とヒドロキシル基を塩とし、一般式（２）
（式中、Ｍ1及びＭ2は、それぞれ独立に水素原子又は陽イオン基、ａ及びｂは、それぞれＭ1及びＭ1の価数を示し、Ｒ1及びｎは前記と同じである。）
で表されるヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩を製造する。
前記一般式（２）において、Ｍ1及びＭ2のうちの陽イオン基としては、ナトリウム、カリウム、リチウムなどのアルカリ金属；カルシウム、バリウム、マグネシウムなどのアルカリ土類金属；アンモニウム；ジエタノールアンモニウム、トリエタノールアンモニウム等の置換アンモニウム；テトラメチルアンモニウム、ジデシルジメチルアンモニウム等の四級アンモニウムなどがあるが、アルカリ金属が好ましく、特に工業的な面からナトリウムが好ましい。また、Ｍ1及びＭ2は、たがいに同一でも異なっていてもよいが、製造上の操作性の面から、同一であることが好ましい。
なお、本発明におけるヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩は、ヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩における前記一般式（２）のパラ体の含有割合が７０質量％以上、好ましくは８０質量％以上含まれているものであり、また、前記一般式（２）で表されるように、ベンゼン環上にアルキル基やアルケニル基が導入されたものも包含する。
で表されるヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩を製造する。
前記一般式（２）において、Ｍ1及びＭ2のうちの陽イオン基としては、ナトリウム、カリウム、リチウムなどのアルカリ金属；カルシウム、バリウム、マグネシウムなどのアルカリ土類金属；アンモニウム；ジエタノールアンモニウム、トリエタノールアンモニウム等の置換アンモニウム；テトラメチルアンモニウム、ジデシルジメチルアンモニウム等の四級アンモニウムなどがあるが、アルカリ金属が好ましく、特に工業的な面からナトリウムが好ましい。また、Ｍ1及びＭ2は、たがいに同一でも異なっていてもよいが、製造上の操作性の面から、同一であることが好ましい。
なお、本発明におけるヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩は、ヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩における前記一般式（２）のパラ体の含有割合が７０質量％以上、好ましくは８０質量％以上含まれているものであり、また、前記一般式（２）で表されるように、ベンゼン環上にアルキル基やアルケニル基が導入されたものも包含する。
前記一般式（１）で表されるフェノール又はその誘導体のスルホン化は、従来公知の方法を用いて行うことができる。例えば、フェノール又はその誘導体と、化学量論的量より若干過剰量の濃硫酸（濃度９８質量％程度）を、好ましくは窒素などの不活性ガス雰囲気下に、５０〜１５０℃程度の温度で加熱し、スルホン化することにより、対応するヒドロキシベンゼンスルホン酸が得られる。本発明においては、このようにして得られたヒドロキシベンゼンスルホン酸におけるパラ体の含有割合が、７０質量％以上、好ましくは８０質量％以上となるように、反応条件を選定する。
また、得られたヒドロキシベンゼンスルホン酸の色相は、還元処理しない粗フェノール又はその誘導体を用いた場合に比べて着色度が低く、例えば還元処理しないフェノール又はその誘導体から得られたスルホン酸の色相がガードナー（Ｇ）７である場合、還元処理したフェノール又はその誘導体から得られたスルホン酸の色相は、通常ガードナー（Ｇ）６以下となる。
また、得られたヒドロキシベンゼンスルホン酸の色相は、還元処理しない粗フェノール又はその誘導体を用いた場合に比べて着色度が低く、例えば還元処理しないフェノール又はその誘導体から得られたスルホン酸の色相がガードナー（Ｇ）７である場合、還元処理したフェノール又はその誘導体から得られたスルホン酸の色相は、通常ガードナー（Ｇ）６以下となる。
本発明においては、このようにして得られたヒドロキシベンゼンスルホン酸は、所望により、スルホン酸基又はスルホン酸基とヒドロキシル基が塩に変換される。この塩としては、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、置換アンモニウム塩、四級アンモニウム塩などがあるが、ナトリウム塩やカリウム塩などのアルカリ金属塩が好ましく、特にナトリウム塩が好ましい。
前記ヒドロキシベンゼンスルホン酸におけるスルホン酸基又はスルホン酸基とヒドロキシル基を塩に変換する方法については特に制限はなく、従来公知の方法を用いることができる。具体的には、ヒドロキシベンゼンスルホン酸１質量部に対し、水１〜１０質量部程度を加えたものと、実質的に化学量論的量のアルカリ水溶液とを、例えば、４０〜１００℃程度の温度で接触処理させることにより、目的の塩を得ることができる。前記アルカリ水溶液としては、アルカリ金属水酸化物、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウムの水溶液が好ましく、特に水酸化ナトリウム水溶液が好ましい。なお、本発明において、実質的に化学量論的量とは、化学量論的量の０．９５〜１．０５倍程度の量を指す。
前記ヒドロキシベンゼンスルホン酸におけるスルホン酸基又はスルホン酸基とヒドロキシル基を塩に変換する方法については特に制限はなく、従来公知の方法を用いることができる。具体的には、ヒドロキシベンゼンスルホン酸１質量部に対し、水１〜１０質量部程度を加えたものと、実質的に化学量論的量のアルカリ水溶液とを、例えば、４０〜１００℃程度の温度で接触処理させることにより、目的の塩を得ることができる。前記アルカリ水溶液としては、アルカリ金属水酸化物、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウムの水溶液が好ましく、特に水酸化ナトリウム水溶液が好ましい。なお、本発明において、実質的に化学量論的量とは、化学量論的量の０．９５〜１．０５倍程度の量を指す。
このようにして得られた前記一般式（２）で表されるヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩は着色度が低く、後述のアシルオキシベンゼンスルホン酸又はその塩の原料などとして好適に用いられる。
次に、本発明のアシルオキシベンゼンスルホン酸又はその塩の製造方法においては、前述の方法によって得られた前記一般式（２）で表されるヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩と、一般式（３）
Ｒ2−ＣＯＸ （３）
（式中、Ｒ2は炭素数１〜１７の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基又はアルケニル基を示し、ＸはＦ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩから選ばれるハロゲン原子を示す。）
で表されるカルボン酸ハライド、又は一般式（４）
次に、本発明のアシルオキシベンゼンスルホン酸又はその塩の製造方法においては、前述の方法によって得られた前記一般式（２）で表されるヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩と、一般式（３）
Ｒ2−ＣＯＸ （３）
（式中、Ｒ2は炭素数１〜１７の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基又はアルケニル基を示し、ＸはＦ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩから選ばれるハロゲン原子を示す。）
で表されるカルボン酸ハライド、又は一般式（４）
で表されるカルボン酸無水物を反応させることにより、一般式（５）
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｍ1、a及びｎは前記と同じである。）
で表されるアシルオキシベンゼンスルホン酸又はその塩を製造する。
なお、本発明におけるアシルオキシベンゼンスルホン酸又はその塩は、アシルオキシベンゼンスルホン酸又はその塩における前記一般式（５）のパラ体の含有割合が７０質量％以上、好ましくは８０質量％以上含まれているものであり、また、前記一般式（５）で表されるように、ベンゼン環上にアルキル基やアルケニル基が導入されたものも包含する。
この反応においては、前記一般式（２）で表されるヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩は、実質的に無水の状態でエステル化に使用することが好ましい。ここで実質的に無水とは、完全な無水状態をいうのではなく、原料自体に含まれる少量の水分、例えば０．５質量％程度以下の水分量であれば実質的に無水という。なお、０．５質量％程度を超える水が存在すれば、アシル化剤の加水分解が起こり、反応収率が低下するおそれがある。
で表されるアシルオキシベンゼンスルホン酸又はその塩を製造する。
なお、本発明におけるアシルオキシベンゼンスルホン酸又はその塩は、アシルオキシベンゼンスルホン酸又はその塩における前記一般式（５）のパラ体の含有割合が７０質量％以上、好ましくは８０質量％以上含まれているものであり、また、前記一般式（５）で表されるように、ベンゼン環上にアルキル基やアルケニル基が導入されたものも包含する。
この反応においては、前記一般式（２）で表されるヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩は、実質的に無水の状態でエステル化に使用することが好ましい。ここで実質的に無水とは、完全な無水状態をいうのではなく、原料自体に含まれる少量の水分、例えば０．５質量％程度以下の水分量であれば実質的に無水という。なお、０．５質量％程度を超える水が存在すれば、アシル化剤の加水分解が起こり、反応収率が低下するおそれがある。
前記ヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩を実質的に無水の状態にするために、脱水処理を施す場合には、例えば一般式（２）で表されるヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩を、１１０〜２００℃程度の温度で０．０１〜６０ｋＰａ程度の減圧下に乾燥させるか、又は該ヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩１質量部に対し、ベンゼンやトルエンなどの水と共沸する溶剤０．０５〜２０質量部程度を加え、共沸脱水を行えばよい。このような脱水処理により、水分０．５質量％程度以下のものが容易に得られる。
本発明において、前記一般式（２）で表されるヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩と、前記一般式（３）で表されるカルボン酸ハライドを反応させて、前記一般式（５）で表されるアシルオキシベンゼンスルホン酸又はその塩を製造するプロセスにおいては、前記一般式（２）で表されるヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩として、Ｍ1及びＭ2が共にナトリウムやカリウムなどのアルカリ金属であるものが好ましく、特に工業的な面からナトリウムであるものが好ましい。
本発明において、前記一般式（２）で表されるヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩と、前記一般式（３）で表されるカルボン酸ハライドを反応させて、前記一般式（５）で表されるアシルオキシベンゼンスルホン酸又はその塩を製造するプロセスにおいては、前記一般式（２）で表されるヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩として、Ｍ1及びＭ2が共にナトリウムやカリウムなどのアルカリ金属であるものが好ましく、特に工業的な面からナトリウムであるものが好ましい。
前記一般式（３）で表されるカルボン酸ハライドの具体例としては、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、３，５，５−トリメチルカプロン酸、２−メチルカプリル酸、２−メチルカプリン酸、３，７−ジメチルカプロン酸、２−エチルヘキサン酸、イソステアリン酸などのカルボン酸のクロライド、ブロマイド等が挙げられる。
反応方法については特に制限はなく、従来公知の方法を採用することができる。例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドなどの反応に不活性な溶媒中において、実質的に無水のヒドロキシベンゼンスルホン酸のモノ又はジアルカリ金属塩と、実質的に化学量論的量の前記カルボン酸ハライドを、３０〜１５０℃、好ましくは８０〜１２０℃程度の温度で反応させることにより、目的のアシルオキシベンゼンスルホン酸アルカリ金属塩が得られる。
一方、前記一般式（２）で表されるヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩と、前記一般式（４）で表されるカルボン酸無水物を反応させて、前記一般式（５）で表されるアシルオキシベンゼンスルホン酸又はその塩を製造するプロセスにおいては、前記一般式（２）で表されるヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩として、Ｍ1がナトリウムやカリウムなどのアルカリ金属で、Ｍ2が水素原子であるものが好ましく、特に工業的な面から、Ｍ1がナトリウムで、Ｍ2が水素原子であるものが好ましい。
一方、前記一般式（２）で表されるヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩と、前記一般式（４）で表されるカルボン酸無水物を反応させて、前記一般式（５）で表されるアシルオキシベンゼンスルホン酸又はその塩を製造するプロセスにおいては、前記一般式（２）で表されるヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩として、Ｍ1がナトリウムやカリウムなどのアルカリ金属で、Ｍ2が水素原子であるものが好ましく、特に工業的な面から、Ｍ1がナトリウムで、Ｍ2が水素原子であるものが好ましい。
前記一般式（４）で表されるカルボン酸無水物の具体例としては、前述の一般式（３）で表されるカルボン酸ハライドの説明において例示した各種カルボン酸の酸無水物などが挙げられる。
反応方法については特に制限はなく、従来公知の方法を採用することができる。例えばトルエンなどの反応に不活性な溶媒中において、硫酸などの酸触媒の存在下に、実質的に無水のヒドロキシベンゼンスルホン酸アルカリ金属塩と、実質的に化学量論的量の前記カルボン酸無水物を５０〜１１０℃程度の温度で反応させることにより、目的のアシルオキシベンゼンスルホン酸アルカリ金属塩が得られる。
反応方法については特に制限はなく、従来公知の方法を採用することができる。例えばトルエンなどの反応に不活性な溶媒中において、硫酸などの酸触媒の存在下に、実質的に無水のヒドロキシベンゼンスルホン酸アルカリ金属塩と、実質的に化学量論的量の前記カルボン酸無水物を５０〜１１０℃程度の温度で反応させることにより、目的のアシルオキシベンゼンスルホン酸アルカリ金属塩が得られる。
また、本発明においては、前記一般式（２）で表されるヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩と、無水酢酸とを反応させて、アセトキシベンゼンスルホン酸又はその塩を生成させ、次いで一般式（６）
Ｒ2−ＣＯＯＨ （６）
（式中、Ｒ2は前記と同じである。）
で表されるカルボン酸とエステル交換反応を行うことにより、前記一般式（５）で表されるアシルオキシベンゼンスルホン酸又はその塩を製造することもできる。
このプロセスにおいては、前記一般式（２）で表されるヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩として、Ｍ1がナトリウムやカリウムなどのアルカリ金属で、Ｍ2が水素原子であるものが好ましく、特に工業的な面から、Ｍ1がナトリウムで、Ｍ2が水素原子であるものが好ましい。
Ｒ2−ＣＯＯＨ （６）
（式中、Ｒ2は前記と同じである。）
で表されるカルボン酸とエステル交換反応を行うことにより、前記一般式（５）で表されるアシルオキシベンゼンスルホン酸又はその塩を製造することもできる。
このプロセスにおいては、前記一般式（２）で表されるヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩として、Ｍ1がナトリウムやカリウムなどのアルカリ金属で、Ｍ2が水素原子であるものが好ましく、特に工業的な面から、Ｍ1がナトリウムで、Ｍ2が水素原子であるものが好ましい。
また、前記一般式（６）で表されるカルボン酸の具体例としては、前述の一般式（３）で表されるカルボン酸ハライドの説明において例示した各種カルボン酸などが挙げられる。
このプロセスにおいて、ヒドロキシベンゼンスルホン酸アルカリ金属塩と無水酢酸との反応、及び次いで行われるカルボン酸とのエステル交換反応の方法については特に制限はなく、従来公知の方法を採用することができる。
これらの３種のプロセスの中で、無機塩が生成せず、かつプロセスの簡易さなどの点から、一般式（２）で表されるヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩と、一般式
（４）で表されるカルボン酸無水物とを反応させるプロセスが好ましい。
このプロセスにおいて、ヒドロキシベンゼンスルホン酸アルカリ金属塩と無水酢酸との反応、及び次いで行われるカルボン酸とのエステル交換反応の方法については特に制限はなく、従来公知の方法を採用することができる。
これらの３種のプロセスの中で、無機塩が生成せず、かつプロセスの簡易さなどの点から、一般式（２）で表されるヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩と、一般式
（４）で表されるカルボン酸無水物とを反応させるプロセスが好ましい。
このようにして製造された一般式（５）で表されるアシルオキシベンゼンスルホン酸又はその塩は、原料として、粗フェノール又はその誘導体を還元処理してなるものを用いていることから、従来のものに比べて着色度が低い。
このアシルオキシベンゼンスルホン酸又はその塩、特にアルカリ金属塩は、過炭酸ナトリウム、過ホウ酸ナトリウムなどの過酸化水素発生基質や過酸化水素と水中で接触させることにより、低温でも容易に有機過酸を発生し、衣類などの汚れ、シミ汚れなどに有効な漂白性能を発揮することから、漂白活性化剤として、洗浄剤組成物などに用いることができる。
このアシルオキシベンゼンスルホン酸又はその塩、特にアルカリ金属塩は、過炭酸ナトリウム、過ホウ酸ナトリウムなどの過酸化水素発生基質や過酸化水素と水中で接触させることにより、低温でも容易に有機過酸を発生し、衣類などの汚れ、シミ汚れなどに有効な漂白性能を発揮することから、漂白活性化剤として、洗浄剤組成物などに用いることができる。
比較例１
攪拌機付きの１Ｌの四つ口フラスコに工業用フェノール（三井化学株式会社製）を４００ｇ（４.２５モル）加え、窒素雰囲気下で撹拌しながら５０℃に昇温した。その後、精製硫酸（テイカ株式会社製）４４６ｇ（純度約９８質量％、４.４６モル）を５０〜１００℃で滴下し、１００℃で１時間撹拌した。反応生成物の色をガードナー標準液と比較することによって色相を測定した結果、Ｇ７であった。液体クロマトグラフィー分析により得られたフェノールスルホン酸のパラ体の収率は８８モル％（パラ体の純度は８０質量％）であった。
さらに攪拌機付きの１Ｌの四つ口フラスコに得られたフェノールスルホン酸１００ｇ（パラ体：０.４６モル）と水１５５.６ｇを加え、４８質量％の水酸化ナトリウム水溶液４４.９ｇを４０〜６０℃で滴下し、３０質量％のフェノールスルホン酸ナトリウム水溶液を得た。その後、１００〜１２０℃で水を留去し、フェノールスルホン酸ナトリウム水溶液を約１／２質量にした後、トルエン２７０ｇを加え１１０℃で共沸脱水を行い、水分含有量を０．２質量％未満にした。さらに８０℃まで冷却し、硫酸２．３ｇ（０.０２３モル）を加え、無水ラウリン酸１７６ｇ（０.４６モル）を滴下し、さらに８０℃で８時間攪拌した。液体クロマトグラフィー分析により得られたラウロイルオキシベンゼンスルホン酸ナトリウムのパラ体の収率は８８％であった。得られた反応混合物を６０℃でろ過し、トルエン１５０ｇで２回洗浄処理した後、８０℃、１３.３ｋＰａで１２時間乾燥した。得られた乾燥物はラウロイルオキシベンゼンスルホン酸ナトリウムの純度が８５質量％であった。この得られた乾燥物を、アセトニトリル：水質量比＝１：１の溶液を加えて溶解させ、ラウロイルオキシベンゼンスルホン酸ナトリウム濃度が１０質量％の溶液を作り、溶液の色をＡＰＨＡ標準液と比較することによって色相を測定した結果、ＡＰＨＡ４０であった。
なお、反応物の分析は液体クロマトグラフィーにより、以下のカラム、溶離液及び検出器を用いて行った。
攪拌機付きの１Ｌの四つ口フラスコに工業用フェノール（三井化学株式会社製）を４００ｇ（４.２５モル）加え、窒素雰囲気下で撹拌しながら５０℃に昇温した。その後、精製硫酸（テイカ株式会社製）４４６ｇ（純度約９８質量％、４.４６モル）を５０〜１００℃で滴下し、１００℃で１時間撹拌した。反応生成物の色をガードナー標準液と比較することによって色相を測定した結果、Ｇ７であった。液体クロマトグラフィー分析により得られたフェノールスルホン酸のパラ体の収率は８８モル％（パラ体の純度は８０質量％）であった。
さらに攪拌機付きの１Ｌの四つ口フラスコに得られたフェノールスルホン酸１００ｇ（パラ体：０.４６モル）と水１５５.６ｇを加え、４８質量％の水酸化ナトリウム水溶液４４.９ｇを４０〜６０℃で滴下し、３０質量％のフェノールスルホン酸ナトリウム水溶液を得た。その後、１００〜１２０℃で水を留去し、フェノールスルホン酸ナトリウム水溶液を約１／２質量にした後、トルエン２７０ｇを加え１１０℃で共沸脱水を行い、水分含有量を０．２質量％未満にした。さらに８０℃まで冷却し、硫酸２．３ｇ（０.０２３モル）を加え、無水ラウリン酸１７６ｇ（０.４６モル）を滴下し、さらに８０℃で８時間攪拌した。液体クロマトグラフィー分析により得られたラウロイルオキシベンゼンスルホン酸ナトリウムのパラ体の収率は８８％であった。得られた反応混合物を６０℃でろ過し、トルエン１５０ｇで２回洗浄処理した後、８０℃、１３.３ｋＰａで１２時間乾燥した。得られた乾燥物はラウロイルオキシベンゼンスルホン酸ナトリウムの純度が８５質量％であった。この得られた乾燥物を、アセトニトリル：水質量比＝１：１の溶液を加えて溶解させ、ラウロイルオキシベンゼンスルホン酸ナトリウム濃度が１０質量％の溶液を作り、溶液の色をＡＰＨＡ標準液と比較することによって色相を測定した結果、ＡＰＨＡ４０であった。
なお、反応物の分析は液体クロマトグラフィーにより、以下のカラム、溶離液及び検出器を用いて行った。
＜ラウロイルオキシベンゼンスルホン酸ナトリウム、ラウリン酸、及びトルエンの定量＞
カラム：ＧＬ Ｓｃｉｅｎｃｅ Ｉｎｃ. Ｉｎｅｒｔｓｉｌ ＯＤＳ−３Ｖ（５μｍ）、１５０ｍｍ×４.６ｍｍΦ
溶離液：水／メタノール＝６００ｍＬ／２４００ｍＬ中にテトラブチルアンモニウムブロミド１７.３ｇ, 酢酸５ｍＬ含有
検出器：ＲＩ
＜ｐ−フェノールスルホン酸ナトリウムの定量＞
カラム：関東化学株式会社製 リクロスファー１００ ＲＰ−１８（５μｍ）、２５０ｍｍ×４ｍｍΦ
溶離液：以下のＡ液、Ｂ液を用いるグラジェント法
Ａ液：０.１モル／リットルＮａＣｌＯ4含有ＣＨ3ＣＮ／水質量比＝１５／８５溶液
Ｂ液：ＣＨ3ＣＮ １００％
検出器：ＵＶ ２６０ｎｍ
カラム：ＧＬ Ｓｃｉｅｎｃｅ Ｉｎｃ. Ｉｎｅｒｔｓｉｌ ＯＤＳ−３Ｖ（５μｍ）、１５０ｍｍ×４.６ｍｍΦ
溶離液：水／メタノール＝６００ｍＬ／２４００ｍＬ中にテトラブチルアンモニウムブロミド１７.３ｇ, 酢酸５ｍＬ含有
検出器：ＲＩ
＜ｐ−フェノールスルホン酸ナトリウムの定量＞
カラム：関東化学株式会社製 リクロスファー１００ ＲＰ−１８（５μｍ）、２５０ｍｍ×４ｍｍΦ
溶離液：以下のＡ液、Ｂ液を用いるグラジェント法
Ａ液：０.１モル／リットルＮａＣｌＯ4含有ＣＨ3ＣＮ／水質量比＝１５／８５溶液
Ｂ液：ＣＨ3ＣＮ １００％
検出器：ＵＶ ２６０ｎｍ
実施例１
攪拌機付きの１Ｌの四つ口フラスコに工業用フェノール（三井化学株式会社製）を４００ｇ（４.２５モル）、ＮａＢＨ4を１ｇ加え、窒素雰囲気下で撹拌しながら８０℃に昇温した。その後８０℃で１時間攪拌した。さらに５０℃まで冷却し精製硫酸（テイカ株式会社製）４４６ｇ（純度約９８質量％、４.４６モル）を５０〜１００℃で滴下し、その後１００℃で１時間撹拌した。反応生成物の色をガードナー標準液と比較することによって色相を測定した結果、Ｇ５であった。
その後、比較例１と同様にラウロイルオキシベンゼンスルホン酸ナトリウムを製造した。ラウロイルオキシベンゼンスルホン酸ナトリウム濃度が１０質量％の溶液の色をＡＰＨＡ標準液と比較することによって色相を測定した結果、ＡＰＨＡ３０であった。
実施例２〜６
還元剤の種類、その添加量を表１に示すように変えた以外は比較例１と同様にフェノールスルホン酸及びラウロイルオキシベンゼンスルホン酸ナトリウムを製造した結果を表１に示す。
攪拌機付きの１Ｌの四つ口フラスコに工業用フェノール（三井化学株式会社製）を４００ｇ（４.２５モル）、ＮａＢＨ4を１ｇ加え、窒素雰囲気下で撹拌しながら８０℃に昇温した。その後８０℃で１時間攪拌した。さらに５０℃まで冷却し精製硫酸（テイカ株式会社製）４４６ｇ（純度約９８質量％、４.４６モル）を５０〜１００℃で滴下し、その後１００℃で１時間撹拌した。反応生成物の色をガードナー標準液と比較することによって色相を測定した結果、Ｇ５であった。
その後、比較例１と同様にラウロイルオキシベンゼンスルホン酸ナトリウムを製造した。ラウロイルオキシベンゼンスルホン酸ナトリウム濃度が１０質量％の溶液の色をＡＰＨＡ標準液と比較することによって色相を測定した結果、ＡＰＨＡ３０であった。
実施例２〜６
還元剤の種類、その添加量を表１に示すように変えた以外は比較例１と同様にフェノールスルホン酸及びラウロイルオキシベンゼンスルホン酸ナトリウムを製造した結果を表１に示す。
本発明の方法で得られたヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩は着色度が低く、アシルオキシベンゼンスルホン酸又はその塩の原料などとして好適に用いられる。
また、前記ヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩を用いて得られたアシルオキシベンゼンスルホン酸又はその塩は着色度が低く、漂白活性化剤などとして、洗浄剤組成物などに用いられる。
また、前記ヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩を用いて得られたアシルオキシベンゼンスルホン酸又はその塩は着色度が低く、漂白活性化剤などとして、洗浄剤組成物などに用いられる。
Claims (3)
- 一般式（１）
で表される粗フェノール又はその誘導体を、水素化ホウ素ナトリウム、ホスホン酸及びホスフィン酸から選ばれる少なくとも一種の還元剤と接触させたのち、硫酸を用いてスルホン化する、あるいはスルホン化後に塩に誘導する、一般式（２）
で表されるヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩の製造方法。 - 粗フェノール又はその誘導体１００質量部に対して、還元剤０．００１〜１質量部を用いる請求項１に記載のヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩の製造方法。
- 請求項１又は２に記載の方法によって得られたヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩と、一般式（３）
Ｒ2−ＣＯＸ （３）
（式中、Ｒ2は炭素数１〜１７の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基又はアルケニル基を示し、ＸはＦ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩから選ばれるハロゲン原子を示す。）
で表されるカルボン酸ハライド、又は一般式（４）
で表されるカルボン酸無水物を反応させる、一般式（５）
で表されるアシルオキシベンゼンスルホン酸又はその塩の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003392499A JP4448683B2 (ja) | 2003-11-21 | 2003-11-21 | ヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003392499A JP4448683B2 (ja) | 2003-11-21 | 2003-11-21 | ヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2005154308A JP2005154308A (ja) | 2005-06-16 |
| JP4448683B2 true JP4448683B2 (ja) | 2010-04-14 |
Family
ID=34719179
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003392499A Expired - Fee Related JP4448683B2 (ja) | 2003-11-21 | 2003-11-21 | ヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4448683B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2560183C1 (ru) * | 2014-08-08 | 2015-08-20 | Общество с ограниченной ответственностью "Научно-производственное объединение ЕВРОХИМ" | Способ получения катализатора для разложения алкилароматических гидропероксидов |
-
2003
- 2003-11-21 JP JP2003392499A patent/JP4448683B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2005154308A (ja) | 2005-06-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA1254581A (en) | Peracid and bleach activator compounds and use thereof in cleaning compositions | |
| JP3981430B2 (ja) | 純粋なアルカンスルホン酸の製造方法 | |
| CZ291279B6 (cs) | Způsob přípravy fenolsulfonátových esterů | |
| WO2011022588A1 (en) | Sulfonation of polyhydroxyaromatics | |
| JP4398706B2 (ja) | アシルオキシベンゼンスルホン酸塩の製造方法 | |
| JP4448683B2 (ja) | ヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩の製造方法 | |
| JP2780774B2 (ja) | アシル酸窒素過酸先駆物質 | |
| EP0719249A1 (en) | Synthesis of amido acids from carboxylic acid esters and amino acid salts | |
| JPS6136509B2 (ja) | ||
| EP0168204A2 (en) | Alkyl monoperoxysuccinic acid bleaching compositions and synthesis and use thereof | |
| JP4369209B2 (ja) | カルボン酸無水物の製造方法 | |
| JP4448682B2 (ja) | ヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩の製造方法 | |
| US2223364A (en) | Method of producing higher alkyl aromatic sulphonates | |
| JP4386341B2 (ja) | カルボン酸の回収方法 | |
| JP3515195B2 (ja) | アシルオキシベンゼンスルホン酸又はその塩の製造法 | |
| JPS61100560A (ja) | 置換ジペルオキシコハク酸の製造方法 | |
| JP4448680B2 (ja) | アシルオキシベンゼンスルホン酸またはその塩の製造方法 | |
| EP1208076B1 (en) | Process for the preparation of alkanoyloxy-benzenesulfonic acids and salts thereof | |
| JP4448684B2 (ja) | アシルオキシベンゼンスルホン酸又はその塩の製造方法 | |
| JP2006213656A (ja) | 安息香酸フェニルエステル誘導体スルホン化物又はその塩の製造方法 | |
| US4906416A (en) | Preparation of perfluoroalkanecarboxylic acids and novel perfluoroalkanedichloroethylenes obtained | |
| US5470493A (en) | Process for softening fabrics by contacting them with a thiodiglycol derivative | |
| JP3515196B2 (ja) | 新規なスルホン酸又はその塩、並びにその製造法 | |
| JPS62223140A (ja) | ２−クロロ−４−フルオロフエノ−ルの製法 | |
| JP2005171137A (ja) | α−スルホ脂肪酸アルキルエステル塩の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060908 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091013 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091201 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100119 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100125 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130129 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130129 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140129 Year of fee payment: 4 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |