JP4448680B2 - アシルオキシベンゼンスルホン酸またはその塩の製造方法 - Google Patents
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Description
上記の方法で合成した反応物には種々の不純物が含まれており、この不純物を除去するため以下のような方法が提案されている。例えば特許文献1には、脂肪酸反応媒体が可溶でありかつ炭素数6〜18のアシルオキシベンゼンスルホン酸塩が不溶である溶媒に再分散され、目的物であるアシルオキシベンゼンスルホン酸塩を不溶解分として濾過/分離することにより精製する方法が記載されている。
また、ジメチルホルムアミド等の極性溶媒中でフェノールスルホン酸塩とカルボン酸無水物を反応させた後、反応生成物にアセトンを加えることによりアシルオキシベンゼンスルホン酸塩を析出させる方法(特許文献2)、フェノールスルホン酸塩、無水酢酸及びカルボン酸を反応させてアシルオキシベンゼンスルホン酸塩を合成し、反応物を炭素数1〜3のアルコール等の親水性溶剤で洗浄することにより、過剰のカルボン酸及び残存したアセトキシベンゼンスルホン酸塩を除去する方法(特許文献3)等がある。
すなわち、本発明は、
酸触媒の存在下、一般式(1)
一般式(1)において、R1で示される炭素数1〜18の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基又はアルケニル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、各種ペンチル基、各種ヘキシル基、各種オクチル基、各種デシル基、各種ドデシル基、各種テトラデシル基、各種ヘキサデシル基、各種オクタデシル基、ビニル基、プロペニル基、アリル基、各種オクテニル基、各種デセニル基、各種ドデセニル基、各種ヘキサデセニル基、オレイル基などが挙げられるが、これらの中でメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基の中から選ばれる炭素数1〜4の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基が好ましい。nは0又は1が好ましく、さらに好ましくは0である。nが1以上の場合、R1のOH基に対する導入位置はパラ位以外であればよく、特に制限はない。
なお、本発明において用いられるヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩は、該ヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩における前記一般式(1)で示されるパラ体の含有割合が70質量%以上、好ましくは80質量%以上のものである。
この反応においては、前記一般式(1)で表されるヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩は、実質的に無水の状態でエステル化に使用することが好ましい。ここで実質的に無水とは、原料自体に少量の水分を含む場合、例えば0.5質量%以下の水分量を含む場合を包含する。
前記一般式(1)で表されるヒドロキシベンゼンスルホン酸又はその塩と反応させるカルボン酸誘導体としては、前記一般式(3)で表されるカルボン酸無水物あるいは一般式(4)
R2−COX (4)
(式中、R2は前記と同じであり、Xは弗素、塩素、臭素及びヨウ素から選ばれるハロゲン原子を示す。)で表されるカルボン酸ハライドなどを用いることができる。
カルボン酸無水物としては、前記一般式(3)で表される化合物を用いることができる。
一般式(3)で表されるカルボン酸無水物としては、R2が炭素数5〜17のものが好ましく、その具体例としては、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、3,5,5−トリメチルカプロン酸、2−メチルカプリル酸、2−メチルカプリン酸、3,7−ジメチルカプロン酸、2−エチルヘキサン酸、イソステアリン酸などの各種カルボン酸の酸無水物などが挙げられる。
上記酸触媒の使用量は、反応系に応じてその量を決定すれば良く、例えば反応液100質量部に対し、0.1〜5質量部添加することができる。
用いられるカルボン酸ハライドとしては、前記一般式(4)で表される化合物を用いることができる。一般式(4)で表されるカルボン酸ハライドの具体例としては、前述の一般式(3)で表される無水カルボン酸の説明において例示したカルボン酸のクロライド、ブロマイド等が挙げられる。
なお、本発明において得られるアシルオキシベンゼンスルホン酸又はその塩は、該アシルオキシベンゼンスルホン酸又はその塩における前記一般式(2)のパラ体の含有割合が70質量%以上、好ましくは80質量%以上のものである。
本発明においては、上記中和処理を行った後に晶析及び固液分離を行う。この固液分離については、その手段は限定されず、濾過、遠心分離、吸着等公知の方法がいずれも使用できる。また、必要に応じ、洗浄、回収などの各々の工程を含む。上記濾過等の工程における目的物の回収効率等を考慮すると、本発明においては、上記中和度は酸1当量に対する中和剤当量数で0.3〜5.0当量、更に0.3〜4.0当量、特に0.5〜2.0当量の範囲にあることが好ましい。また、中和後のpH値は0.8〜5.0、更には0.8〜4.8であることが好ましい。
冷却による場合は、所定量の水を添加した後、反応温度から、例えば0.05〜10℃/分、好ましくは 0.1〜5℃/分の速度で冷却し、所定温度とすることにより行うことができる。また、水及び有機溶媒で晶析させる方法としては前記従来技術の欄において述べた特許文献1〜4の各々に記載された方法をいずれも使用することができ、有機溶媒としては、例えばN,N −ジメチルホルムアミド、N,N −ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒を、必要に応じ、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、アセトン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトニトリル等の比較的低沸点の溶媒と組み合わせて用いることができる。
実施例1
攪拌機付きの1Lの四つ口フラスコにフェノールを400g(4.25モル)入れ、窒素雰囲気下で撹拌しながら50℃に昇温した。その後、98質量%硫酸446g(純度約98質量%、4.46モル)を50〜100℃で滴下し、100℃で1時間撹拌した。液体クロマトグラフィー分析により得られた生成物中のフェノールスルホン酸のパラ体の収率は88%(パラ体の純度は80質量%)であった。
さらに攪拌機付きの1Lの四つ口フラスコに得られたフェノールスルホン酸100g(パラ体:0.46モル)と水155.6gを加え、48質量%の水酸化ナトリウム水溶液44.9gを40〜60℃で滴下し、30質量%のフェノールスルホン酸ナトリウム水溶液を得た。その後、100〜120℃で水を留去し、フェノールスルホン酸ナトリウム水溶液を約1/2の質量にした後、トルエン270gを加え110℃で共沸脱水を行い、水分含量を0.2質量%未満にした。
エステル化反応終了品250gに80℃にて水15gを添加し、硫酸当量中和分の48質量%の水酸化ナトリウム水溶液1.7g(0.020モル)を加えた。水酸化ナトリウム水溶液添加後のpHは2.8であった。その後、80℃で2時間攪拌し、1.5時間かけ50℃まで冷却し、晶析を行った。晶析後のラウロイルオキシベンゼンスルホン酸ナトリウムの分解率は4%,平均粒径は43μmであった。
その後、80℃、13.3kPaで12時間乾燥し、ラウロイルオキシベンゼンスルホン酸ナトリウムの粉末を得た。
なお、ラウロイルオキシベンゼンスルホン酸ナトリウムの平均粒径は以下のように測定した。
HORIBA社製レーザー回折/散乱式粒度分布測定装置LA−920を用いて、分散溶媒(2−プロパノール)をセルに満たし、循環させた後、ラウロイルオキシベンゼンスルホン酸ナトリウムのトルエン懸策液を加え、超音波処理を1分間行った後、相対屈折率1.3にて測定した。
また、晶析後のラウロイルオキシベンゼンスルホン酸ナトリウムの分解率は、晶析前後でのラウロイルオキシベンゼンスルホン酸ナトリウム量の減少量と晶析前の量との測定値の比で示し、濾過速度は、単位時間、単位面積当りの濾液の濾材通過量を示し、洗浄速度も同様である。濾過等時のラウロイルオキシベンゼンスルホン酸ナトリウムの回収率は、濾過前後のラウロイルオキシベンゼンスルホン酸ナトリウム量の測定値の比で示す。
ラウロイルオキシベンゼンスルホン酸ナトリウムの定量:
カラム:GL Science Inc. Inertsil ODS-3V(5μm)、150mm×4.6mmφ
溶離液:水/メタノール=600mL/2400mL中にテトラブチルアンモニウムブロミド 17.3g, 酢酸 5mL含有
検出器:RI
p−フェノールスルホン酸ナトリウムの定量:
カラム:関東化学株式会社製リクロスファー100 PR−18(5μm)、250mm×4mmφ
溶離液:以下のA液、B液を用いるグラジェント法
A液:0.1モル/リットル NaClO4 含有 CH3CN/水質量比=15/85溶液
B液:CH3CN 100%
検出器:UV 260nm
エステル化反応終了品250gに水15gを加えた後の48質量%水酸化ナトリウム添加量を表1に示すように変えた以外は実施例1と同様に行った。結果を表1に示す。
比較例1
エステル化反応終了品に晶析を行わずに濾過および洗浄を行った以外は実施例1と同様に行った。結果を表1に示す。
Claims (4)
- 酸触媒の存在下、一般式(1)
- 中和処理を行う際の中和度が、反応混合物中の酸1当量に対し中和剤当量で0.3〜5.0当量である請求項1記載の製造方法。
- 固液分離が少なくとも濾過工程を含む請求項1〜3のいずれかに記載の製造方法。
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