JP4420659B2 - 投影型エンコーダ - Google Patents
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Description
光源と、
所定ピッチで配列されたAB相用反射格子と、
所定ピッチで配列されたZ相用反射格子と、
前記AB相用反射格子および前記Z相用反射格子を備えたスケール板と、
所定ピッチで配列されたAB相用透過格子と、
Z相用透過窓と、
前記光源から射出され、前記AB相用透過格子を通り、前記AB相用反射格子で反射された光を受光する所定ピッチで配列されたAB相用受光素子と、
前記光源から射出され前記Z相用透過窓を通り前記Z相用反射格子で反射された光を受光する所定ピッチで配列されたZ相用受光素子と、
前記AB相用透過格子、前記Z相用透過窓、前記AB相用受光素子および前記Z相用受光素子を備えた半導体基板とを有し、
前記AB相用受光素子および前記Z相用受光素子のうち、少なくとも前記AB相用受光素子の間には、所定深さのトレンチ溝が形成されており、
前記半導体基板は、前記AB相用透過格子および前記Z相用透過窓を形成した部分が、前記半導体基板を裏面からエッチングすることにより形成した薄膜部分であり、前記トレンチ溝を形成した部分が前記薄膜部分よりも厚く形成されており、
前記AB相用透過格子および前記Z相用透過窓は、前記薄膜部分を表面からエッチングすることにより形成したAB相用貫通格子およびZ相用貫通窓であり、
前記トレンチ溝は、前記薄膜部分に前記AB相用貫通格子および前記Z相用貫通窓を形成するエッチング工程において同時に形成されたものであり、
前記トレンチ溝は、前記受光素子における配線部以外の部分の間に形成されていることを特徴としている。
次に、AB相用ホトダイオード7、Z相用ホトダオード8を狭いピッチで半導体基板に作り込む場合や、波長の長い光源を用いる場合には、ホトダイオードの出力のコントラストが低下するという弊害が発生する。この弊害を回避するためには、ホトダイオード間にトレンチ溝を形成すればよい。
2 点光源
3 スケール板
4、4A 半導体基板
5 拡散板
6 制御回路部
7、71、72 AB相用ホトダイオード
8、81、82 Z相用ホトダイオード
9、91、92 AB相用貫通格子
10 Z相用貫通窓
11 AB相用反射格子
12 Z相用反射格子
21〜24 電極配線
41 薄膜部分
73、83 トレンチ溝
13 信号処理部
14 演算部
15 表示部
16 ランプ駆動部
Claims (3)
- 光源と、
所定ピッチで配列されたAB相用反射格子と、
所定ピッチで配列されたZ相用反射格子と、
前記AB相用反射格子および前記Z相用反射格子を備えたスケール板と、
所定ピッチで配列されたAB相用透過格子と、
Z相用透過窓と、
前記光源から射出され、前記AB相用透過格子を通り、前記AB相用反射格子で反射された光を受光する所定ピッチで配列されたAB相用受光素子と、
前記光源から射出され前記Z相用透過窓を通り前記Z相用反射格子で反射された光を受光する所定ピッチで配列されたZ相用受光素子と、
前記AB相用透過格子、前記Z相用透過窓、前記AB相用受光素子および前記Z相用受光素子を備えた半導体基板とを有し、
前記AB相用受光素子および前記Z相用受光素子のうち、少なくとも前記AB相用受光素子の間には、所定深さのトレンチ溝が形成されており、
前記半導体基板は、前記AB相用透過格子および前記Z相用透過窓を形成した部分が、前記半導体基板を裏面からエッチングすることにより形成した薄膜部分であり、前記トレンチ溝を形成した部分が前記薄膜部分よりも厚く形成されており、
前記AB相用透過格子および前記Z相用透過窓は、前記薄膜部分を表面からエッチングすることにより形成したAB相用貫通格子およびZ相用貫通窓であり、
前記トレンチ溝は、前記薄膜部分に前記AB相用貫通格子および前記Z相用貫通窓を形成するエッチング工程において同時に形成されたものであり、
前記トレンチ溝は、前記受光素子における配線部以外の部分の間に形成されている投影型エンコーダ。 - 請求項1において、
前記AB相用受光素子が一定の間隔をあけて二列配列されており、
これらAB相用受光素子の列の間に、これらの配列方向の中央部分に前記Z相用透過窓が形成されており、
前記Z相用透過窓と各AB相用受光素子の間に、それぞれAB相用透過格子が配列されており、
前記AB相用受光素子の配列方向における前記Z相用透過窓および前記AB相用透過格子の両側には、それぞれ、Z相用受光素子が配列されている投影型エンコーダ。 - 請求項1または2において、
前記光源は点光源であり、
当該点光源からの射出光を拡散光として前記AB相用透過格子に導くための拡散板を有している投影型エンコーダ。
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