JP3045452B2 - 光電測長または測角装置 - Google Patents
光電測長または測角装置Info
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 18
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- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 2
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- G01D—MEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01D5/00—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable
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- G01D5/32—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light
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- G01D5/36—Forming the light into pulses
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、測定方向に間隔を設
けて配置された多数の発光領域を有する半導体光源と、
少なくとも一つの位置に依存する走査信号を発生するた
め、測定方向に間隔を設けて配置された多数の帯状の受
光領域を有する走査板とから成り、相対移動する二つの
格子の位置を求める光電測長または測角装置に関する。
けて配置された多数の発光領域を有する半導体光源と、
少なくとも一つの位置に依存する走査信号を発生するた
め、測定方向に間隔を設けて配置された多数の帯状の受
光領域を有する走査板とから成り、相対移動する二つの
格子の位置を求める光電測長または測角装置に関する。
【0002】
【従来の技術】この種の測定装置は、特に工作機械で加
工すべき加工品に対する工具の相対位置を測定するた
め、また座標測定装置で検査物体の位置と寸法を求める
のに採用される。
工すべき加工品に対する工具の相対位置を測定するた
め、また座標測定装置で検査物体の位置と寸法を求める
のに採用される。
【0003】製造を容易にするため、ドイツ公開特許第
4006789号明細書によれば、増分測定系の走査格
子を半導体基板の受光面に直接導入することが知られて
いる。この走査格子は平坦な受光面に直接印刷される
か、あるいは貼り付けられている。同様な装置はドイツ
公告特許第1905392号明細書にも開示されてい
る。
4006789号明細書によれば、増分測定系の走査格
子を半導体基板の受光面に直接導入することが知られて
いる。この走査格子は平坦な受光面に直接印刷される
か、あるいは貼り付けられている。同様な装置はドイツ
公告特許第1905392号明細書にも開示されてい
る。
【0004】増分測定装置の他の構成は、ドイツ公開特
許第3209043号明細書に開示されている。この走
査格子は、受光ストライプが受光素子として測定方向に
互いに間隔を開けて構成された半導体基板である。更
に、走査格子を受光ストライプの形状にして構成するこ
とがドイツ公告特許第1962099号明細書、および
英国特許第1311275号明細書に開示されている。
許第3209043号明細書に開示されている。この走
査格子は、受光ストライプが受光素子として測定方向に
互いに間隔を開けて構成された半導体基板である。更
に、走査格子を受光ストライプの形状にして構成するこ
とがドイツ公告特許第1962099号明細書、および
英国特許第1311275号明細書に開示されている。
【0005】同様に、増分式の目盛板を照明するため、
面状に発光する半導体光源を使用し、この発光面に互い
に間隔を置いた遮光ストライプを有する格子を装着する
ことも知られている。この種の測定装置は米国特許第
5,155,355号明細書に開示されていて、この発
明は前記明細書を前提としている。
面状に発光する半導体光源を使用し、この発光面に互い
に間隔を置いた遮光ストライプを有する格子を装着する
ことも知られている。この種の測定装置は米国特許第
5,155,355号明細書に開示されていて、この発
明は前記明細書を前提としている。
【0006】光電増分測定系で走査信号の質を高めるた
め、同じように種々の手段も知られ出いる。ドイツ公告
特許第1282988号明細書には、目盛板と走査ユニ
ットの格子を適当に構成して、走査信号の高調波を除去
できることが提示されている。できる限り多くの奇数次
の高調波を抑制するため、両方の格子のウェブと溝の比
を異なるように選ぶ。
め、同じように種々の手段も知られ出いる。ドイツ公告
特許第1282988号明細書には、目盛板と走査ユニ
ットの格子を適当に構成して、走査信号の高調波を除去
できることが提示されている。できる限り多くの奇数次
の高調波を抑制するため、両方の格子のウェブと溝の比
を異なるように選ぶ。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】この発明の課題は、走
査信号中の高調波を除去し、これにより高い測定精度を
保証する、簡単な構成の光電測長または測角装置を提供
することにある。
査信号中の高調波を除去し、これにより高い測定精度を
保証する、簡単な構成の光電測長または測角装置を提供
することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記の課題は、この発明
により、光源が測定方向に間隔を設けて配置された多数
の発光領域を有する半導体光源であり、走査板が測定方
向に間隔を設けて配置された多数の帯状の受光領域を有
し、光源と走査板の間の光路中でこの光源と走査板に対
して相対移動する目盛板を備えている光電測長または測
角装置にあって、光源1の発光領域61,18の間隔B
に対する幅Aの比が走査板2の受光領域141,19の
間隔Cに対する幅Dの比とは異なっていて、走査板2に
よりN次の高調波が、また光源1によりN+1次の高調
波が濾波されるように(N=1,2,3,・・・),両
方の比が選択されていることにより解決されている。
により、光源が測定方向に間隔を設けて配置された多数
の発光領域を有する半導体光源であり、走査板が測定方
向に間隔を設けて配置された多数の帯状の受光領域を有
し、光源と走査板の間の光路中でこの光源と走査板に対
して相対移動する目盛板を備えている光電測長または測
角装置にあって、光源1の発光領域61,18の間隔B
に対する幅Aの比が走査板2の受光領域141,19の
間隔Cに対する幅Dの比とは異なっていて、走査板2に
よりN次の高調波が、また光源1によりN+1次の高調
波が濾波されるように(N=1,2,3,・・・),両
方の比が選択されていることにより解決されている。
【0009】この発明による他の有利な構成は、特許請
求の範囲の従属請求項に記載されている。
求の範囲の従属請求項に記載されている。
【0010】
【実施例】以下では、図面に基づき、この発明の実施例
を更に詳しく説明する。図1は、この発明により形成さ
れた測長装置の機能原理図を示す。この測長装置は光源
1と位置に依存する少なくとも一つの走査信号を発生す
る走査板2とで構成されている。目盛板3は光源1と走
査板2の間にこの光源1と走査板2に対して測定方向X
に相対移動可能に配設されている。この種の測定装置は
三重格子測定系と称されている。目盛板3はガラス本体
であり、その表面に目盛周期T1で光透過領域と光非透
過領域を交互に有する増分目盛4が付けてある。
を更に詳しく説明する。図1は、この発明により形成さ
れた測長装置の機能原理図を示す。この測長装置は光源
1と位置に依存する少なくとも一つの走査信号を発生す
る走査板2とで構成されている。目盛板3は光源1と走
査板2の間にこの光源1と走査板2に対して測定方向X
に相対移動可能に配設されている。この種の測定装置は
三重格子測定系と称されている。目盛板3はガラス本体
であり、その表面に目盛周期T1で光透過領域と光非透
過領域を交互に有する増分目盛4が付けてある。
【0011】光源1は半導体基板であり、その発光表面
には遮光ウェブ6を有する格子5が付けてある。二つの
ウェブ6の間のスペースは有効な発光領域61である。
このような光源1の層状構造を図2に断面にして示す。
ガラス、金属あるいは半導体材料製の基本体7の上には
N型の第一半導体層8が付けてある。PN接合を発生さ
せるため、第一半導体層8の上にP型の他の半導体層9
を付ける。この広い面積の発光性の半導体光源1の上に
は測定方向Xに垂直に延びるウェブ6がリソグラフィー
法による周知の方法で形成されている。ウェブ6の幅B
は個々のウェブ6の間にある溝Aよりも広い。溝Aは帯
状の発光領域61を形成する。ウェブ6の幅Bに対する
溝61の幅の比は1:2に選択されている。
には遮光ウェブ6を有する格子5が付けてある。二つの
ウェブ6の間のスペースは有効な発光領域61である。
このような光源1の層状構造を図2に断面にして示す。
ガラス、金属あるいは半導体材料製の基本体7の上には
N型の第一半導体層8が付けてある。PN接合を発生さ
せるため、第一半導体層8の上にP型の他の半導体層9
を付ける。この広い面積の発光性の半導体光源1の上に
は測定方向Xに垂直に延びるウェブ6がリソグラフィー
法による周知の方法で形成されている。ウェブ6の幅B
は個々のウェブ6の間にある溝Aよりも広い。溝Aは帯
状の発光領域61を形成する。ウェブ6の幅Bに対する
溝61の幅の比は1:2に選択されている。
【0012】走査板2も、同じように、基本体10,N
型の第一半導体層11およびP型の他の半導体層12を
有する半導体基板である。このように構成されたPN接
合部により広い面積の受光面が形成され、この面の上に
走査格子13が直接装着されている。走査格子13は測
定方向Xに互いに間隔を置いた多数の遮光ウェブ14で
構成されている。ウェブ14の幅Cは溝141の幅Dに
等しい。これ等の溝は走査格子2の有効な受光領域14
1である。ウェブの幅Cに対する溝141の幅Dは1:
1である。
型の第一半導体層11およびP型の他の半導体層12を
有する半導体基板である。このように構成されたPN接
合部により広い面積の受光面が形成され、この面の上に
走査格子13が直接装着されている。走査格子13は測
定方向Xに互いに間隔を置いた多数の遮光ウェブ14で
構成されている。ウェブ14の幅Cは溝141の幅Dに
等しい。これ等の溝は走査格子2の有効な受光領域14
1である。ウェブの幅Cに対する溝141の幅Dは1:
1である。
【0013】走査格子13を上記の比にすると、全ての
偶数次の高調波が、また格子5を上記の比にすると、
3,6,9,・・・次(3の整数倍の次数)の全ての高
調波が抑制される。
偶数次の高調波が、また格子5を上記の比にすると、
3,6,9,・・・次(3の整数倍の次数)の全ての高
調波が抑制される。
【0014】ドイツ特許第12821988号明細書に
開示されている処置とは異なり、高調波を抑制するため
目盛板3を特別に形成する必要はない。これには、濾波
を行うのに必要な格子5,13を測定方向Xにかなり短
く形成するだけでよく、この点に精度を高め、作製を単
純化すると言う利点がある。更に、ドイツ特許第128
21988号明細書と比べて、この発明には格子5ある
いは13の一方を形成して偶数次の高調波が抑制される
と言う利点がある。ドイツ特許第12821988号明
細書の電気的なプッシュプル回路により偶数次の高調波
が実際上完全に抑制できないことが知られている。これ
に対して、この発明によれば3次の高調波の整数倍の外
に、偶数次の高調波も格子5,13の一方によって濾波
される。その外、この発明により、上記の特に乱れた高
調波を濾波することは光源1の格子5と走査板2の格子
13に配分されるので、変調度が特に大きくなる。
開示されている処置とは異なり、高調波を抑制するため
目盛板3を特別に形成する必要はない。これには、濾波
を行うのに必要な格子5,13を測定方向Xにかなり短
く形成するだけでよく、この点に精度を高め、作製を単
純化すると言う利点がある。更に、ドイツ特許第128
21988号明細書と比べて、この発明には格子5ある
いは13の一方を形成して偶数次の高調波が抑制される
と言う利点がある。ドイツ特許第12821988号明
細書の電気的なプッシュプル回路により偶数次の高調波
が実際上完全に抑制できないことが知られている。これ
に対して、この発明によれば3次の高調波の整数倍の外
に、偶数次の高調波も格子5,13の一方によって濾波
される。その外、この発明により、上記の特に乱れた高
調波を濾波することは光源1の格子5と走査板2の格子
13に配分されるので、変調度が特に大きくなる。
【0015】ウェブの幅Bに対する溝Aの比、あるいは
ウェブの幅Cに対する溝Dの比はこれ以外にも選択でき
る。格子5,13の寸法を決める場合、この発明によれ
ば、一方の格子5あるいは13は他方の格子13あるい
は5よりも走査信号の少なくとも一つの他の高調波を抑
制することに注意する必要がある。この場合、以下のよ
うな状況が可能である。即ち、
ウェブの幅Cに対する溝Dの比はこれ以外にも選択でき
る。格子5,13の寸法を決める場合、この発明によれ
ば、一方の格子5あるいは13は他方の格子13あるい
は5よりも走査信号の少なくとも一つの他の高調波を抑
制することに注意する必要がある。この場合、以下のよ
うな状況が可能である。即ち、
【0016】 B=m1*P/n A=m2*P/n ここで、P=対応する格子5または13の目盛周期 n=消去すべき走査信号の高調波の次数 m1,m2=m1+m2=nの整数 である。
【0017】格子5,13の一方で決まる高調波を抑制
するため他の処置も可能である。図4に他の例を示す。
図4には走査格子16を備えた走査板15が平面図にし
て示してある。この走査格子16は二つの部分16.1
と16.2から成り、両方の部分の間に90°の位相差
Vがある。両方の格子部分16.1と16.2は共通の
半導体基板の上に付けてあるので、両方の部分16.1
と16.2を通過して入射する光流の加算が行われる。
これは偶数次の乱れた高調波がプッシュプルに接続され
ているため消えることを意味する。他の位相差Vを選ぶ
と、他の高調波も抑制できる。遮光ウェブ17の幅Cに
対する溝171の幅Dの比を一例として1:2に選ぶ
と、更に走査格子16で次数3,6,9・・・の奇数次
の高調波が抑制される。この走査格子15を図1の測長
装置に使用する場合、光源1の格子5は更に5次の高調
波の整数倍を抑制するように構成されていると有利であ
る。ウェブ6の幅Bに対する溝141の幅Aの比は、こ
れには、例えば2:3に選択できる。
するため他の処置も可能である。図4に他の例を示す。
図4には走査格子16を備えた走査板15が平面図にし
て示してある。この走査格子16は二つの部分16.1
と16.2から成り、両方の部分の間に90°の位相差
Vがある。両方の格子部分16.1と16.2は共通の
半導体基板の上に付けてあるので、両方の部分16.1
と16.2を通過して入射する光流の加算が行われる。
これは偶数次の乱れた高調波がプッシュプルに接続され
ているため消えることを意味する。他の位相差Vを選ぶ
と、他の高調波も抑制できる。遮光ウェブ17の幅Cに
対する溝171の幅Dの比を一例として1:2に選ぶ
と、更に走査格子16で次数3,6,9・・・の奇数次
の高調波が抑制される。この走査格子15を図1の測長
装置に使用する場合、光源1の格子5は更に5次の高調
波の整数倍を抑制するように構成されていると有利であ
る。ウェブ6の幅Bに対する溝141の幅Aの比は、こ
れには、例えば2:3に選択できる。
【0018】走査格子16および/または光源1の格子
5は欧州公告特許第0106951号明細書、あるいは
欧州公告特許第0157177号明細書、あるいは欧州
公開特許第0541828号明細書に従っても形成でき
る。
5は欧州公告特許第0106951号明細書、あるいは
欧州公告特許第0157177号明細書、あるいは欧州
公開特許第0541828号明細書に従っても形成でき
る。
【0019】光源1および/または走査板2は、図3に
示すようにも形成できる。光源1はN型半導体層8を有
する基本体7で構成される。測定方向Xに間隔を設けて
配置された個別部材の形状をした表面発光領域18はこ
の半導体層8の中に直接形成されている。従って、遮光
ウェブを使用する必要はない。P型領域18を形成して
この帯状領域18をPN接合部に形成できるので、これ
自体格子を形成する。
示すようにも形成できる。光源1はN型半導体層8を有
する基本体7で構成される。測定方向Xに間隔を設けて
配置された個別部材の形状をした表面発光領域18はこ
の半導体層8の中に直接形成されている。従って、遮光
ウェブを使用する必要はない。P型領域18を形成して
この帯状領域18をPN接合部に形成できるので、これ
自体格子を形成する。
【0020】走査格子2も同じようにただ一つの半導体
基板で構成され、この基板では基本体の上にN型半導体
層が付けてある。ドーピングにより、この半導体層の中
で測定方向Xに互いに間隔を設けたP型領域19がPN
接合部を形成するために導入されている。PN接合部の
各々は受光領域19であるため、ここでも遮光ウェブを
使用する必要はない。この場合でも、格子はPN接合部
とその間にある領域自体で構成されている。
基板で構成され、この基板では基本体の上にN型半導体
層が付けてある。ドーピングにより、この半導体層の中
で測定方向Xに互いに間隔を設けたP型領域19がPN
接合部を形成するために導入されている。PN接合部の
各々は受光領域19であるため、ここでも遮光ウェブを
使用する必要はない。この場合でも、格子はPN接合部
とその間にある領域自体で構成されている。
【0021】発光領域18と受光領域19の寸法は、図
2の例のように設定される。この場合、発光領域18の
間隔はウェブの幅Bに一致し、発光領域18の幅は溝A
に一致する。
2の例のように設定される。この場合、発光領域18の
間隔はウェブの幅Bに一致し、発光領域18の幅は溝A
に一致する。
【0022】受光領域19の間隔はウェブの幅Cに一致
し、受光領域の幅は溝Dに一致する。既に説明したよう
に、この発明は三重格子測定系に特に有利に使用でき
る。しかし、この発明はそれに限定するものではなく、
二重格子測定系にも採用できる。この系では、一方の格
子が光源1で、これに対して測定方向Xに相対的に移動
する格子が走査板2である。つまり、両方の格子の一方
が目盛板として働く。
し、受光領域の幅は溝Dに一致する。既に説明したよう
に、この発明は三重格子測定系に特に有利に使用でき
る。しかし、この発明はそれに限定するものではなく、
二重格子測定系にも採用できる。この系では、一方の格
子が光源1で、これに対して測定方向Xに相対的に移動
する格子が走査板2である。つまり、両方の格子の一方
が目盛板として働く。
【0023】更に、この発明は測長装置や測角装置に採
用できる。位相のずれた走査信号を求めるために、光源
および/または走査板の互いに位相のずれた多数の格子
を使用できる。
用できる。位相のずれた走査信号を求めるために、光源
および/または走査板の互いに位相のずれた多数の格子
を使用できる。
【0024】どの実施例でも、光源と走査板には共通の
半導体基板を使用でき、光源と走査板の格子は一つの共
通面内にある。これに対する例を図5〜8に示す。図5
の三重格子測定系は、帯状に発光する光源1と帯状に受
光感度のある走査板2を組み込んだ半導体基板で構成さ
れている。
半導体基板を使用でき、光源と走査板の格子は一つの共
通面内にある。これに対する例を図5〜8に示す。図5
の三重格子測定系は、帯状に発光する光源1と帯状に受
光感度のある走査板2を組み込んだ半導体基板で構成さ
れている。
【0025】図6には、それぞれ互いに90°位相のず
れた4つの走査信号を発生するため、光源1が走査格子
13.1〜13.4に対して中心に配設されいる。図7
には、走査格子13.1〜13.4が測定方向Xに見て
光源1の両側に配設されている。この場合、走査格子1
3.1,13.3および13.2,13.4はそれぞれ
一方の側で互いに180°位相がずれている。走査格子
13.1,13.3および13.2,13.4が互いに
入れ違いに配置されていると、特に有利である。
れた4つの走査信号を発生するため、光源1が走査格子
13.1〜13.4に対して中心に配設されいる。図7
には、走査格子13.1〜13.4が測定方向Xに見て
光源1の両側に配設されている。この場合、走査格子1
3.1,13.3および13.2,13.4はそれぞれ
一方の側で互いに180°位相がずれている。走査格子
13.1,13.3および13.2,13.4が互いに
入れ違いに配置されていると、特に有利である。
【0026】図8には、交差格子の目盛板を照明するた
めパターン構造化された光源1が示してある。発光領域
61は交差している遮光ウェブ6の間に形成されてい
る。X方向に対して0°と90°の走査信号を発生する
走査格子13.1と13.3は光源1の一方の側に配置
され、X方向に対して270°と180°の走査信号を
発生する走査格子13.2と13.4は他方の側に配置
されている。
めパターン構造化された光源1が示してある。発光領域
61は交差している遮光ウェブ6の間に形成されてい
る。X方向に対して0°と90°の走査信号を発生する
走査格子13.1と13.3は光源1の一方の側に配置
され、X方向に対して270°と180°の走査信号を
発生する走査格子13.2と13.4は他方の側に配置
されている。
【0027】Y方向に対する走査格子13.5〜13.
8は光源1の上下に配置されている。交差格子の測定系
の機能原理自体はドイツ公開特許第4041584号明
細書に開示されているので、これ以上の説明を省く。
8は光源1の上下に配置されている。交差格子の測定系
の機能原理自体はドイツ公開特許第4041584号明
細書に開示されているので、これ以上の説明を省く。
【0028】
【発明の効果】以上、説明したように、この発明で得ら
れる利点は、半導体製造方法で周知の簡単な方法によ
り、光源と走査板をパターン構造化できるので、ほぼ高
調波のない走査信号を発生させることができる点にあ
る。
れる利点は、半導体製造方法で周知の簡単な方法によ
り、光源と走査板をパターン構造化できるので、ほぼ高
調波のない走査信号を発生させることができる点にあ
る。
【図1】 この発明による光電測長装置の模式図、
【図2】 図1の測長装置の断面図、
【図3】 他の構成の測長装置の断面図、
【図4】 この発明による走査板の平面図、
【図5】 この発明の他の構成を示す図面、
【図6】 半導体基板上に光源と走査板を形成した図
面、
面、
【図7】 半導体基板上に光源と走査板を形成した図
面、
面、
【図8】 半導体基板上に光源と走査板を形成した図面
を示す。
を示す。
1 光源 2,15 走査板 3 目盛板 4 増分目盛 5 格子(光源の) 6,14 遮光ウェブ(格子5
の) 7,10 基本体 8,9,11,12 半導体層 13,16,13.1〜13.8 走査格子 141,171 溝 16.1,16.2 走査格子の一部 18,61 発光領域 19 PN接合部領域
の) 7,10 基本体 8,9,11,12 半導体層 13,16,13.1〜13.8 走査格子 141,171 溝 16.1,16.2 走査格子の一部 18,61 発光領域 19 PN接合部領域
フロントページの続き (72)発明者 ヴオルフガング・ホルツアプフェル ドイツ連邦共和国、83119 オービング、 ブルーメンストラーセ、24 (72)発明者 アンドレアス・フランツ ドイツ連邦共和国、83308 トロストベ ルク、ヘルツオーク−ルートヴイッヒ− ストラーセ、31 (56)参考文献 特開 昭63−215916(JP,A) 欧州特許出願公開333929(EP,A 1) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01D 5/26 - 5/38 G01B 11/00 - 11/30
Claims (8)
- 【請求項1】 光源が測定方向に間隔を設けて配置され
た多数の発光領域を有する半導体光源であり、走査板が
測定方向に間隔を設けて配置された多数の帯状の受光領
域を有し、光源と走査板の間の光路中でこの光源と走査
板に対して相対移動する目盛板を備えている光電測長ま
たは測角装置において、光源(1)の発光領域(61,
18)の間隔(B)に対する幅(A)の比が走査板
(2)の受光領域(141,19)の間隔(C)に対す
る幅(D)の比とは異なっていて、走査板(2)により
N次の高調波が、また光源(1)により(N+1)次の
高調波が濾波されるように(N=1,2,3,・・
・),両方の比が選択されていることを特徴とする光電
測長または測角装置。 - 【請求項2】 走査板(2,15)は半導体基板を有
し、この基板の受光面の上に測定方向Xに互いに間隔を
設けて配置された遮光ウェブ(14,17)から成る走
査格子(13,16)が付けてあり、これ等のウェブの
間にある領域が帯状の受光領域(141,171)であ
ることを特徴とする請求項1に記載の光電測長または測
角装置。 - 【請求項3】 光源(1)は半導体基板を有し、この基
板の発光面上に測定方向Xに互いに間隔を設けて配置さ
れた遮光ウェブ(6)を有する格子(5)が付けてあ
り、これ等のウェブの間にある領域が帯状の発光領域
(61)であることを特徴とする請求項1に記載の光電
測長または測角装置。 - 【請求項4】 走査板(2)は互いに間隔を設けて配置
された帯状のPN接合部(19)である受光領域を付け
た半導体基板であることを特徴とする請求項1に記載の
光電測長または測角装置。 - 【請求項5】 光源(1)は互いに間隔を設けて配置さ
れた帯状のPN接合部(18)である発光領域を付けた
半導体基板であることを特徴とする請求項1に記載の光
電測長または測角装置。 - 【請求項6】 光源(1)と走査板(2)は発光領域
(61,18)と受光領域(141,19)が共通の面
内にあるようにただ一つの基板上に形成されていること
を特徴とする請求項1〜5の何れか1項に記載の光電測
長または測角装置。 - 【請求項7】 光源(1)は走査板の多数の走査領域
(13.1〜13.4)に対して中心に配置されている
ことを特徴とする請求項1〜6の何れか1項に記載の光
電測長または測角装置。 - 【請求項8】 目盛板は交差格子を有し、光源(1)は
複数の測定方向(X,Y)に互いに間隔を設けて配置さ
れた発光領域(61)を有し、走査板は互いに直交して
延びる受光領域を有することを特徴とする請求項1〜7
の何れか1項に記載の光電測長または測角装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4323712A DE4323712C2 (de) | 1993-07-15 | 1993-07-15 | Lichtelektrische Längen- oder Winkelmeßeinrichtung |
DE4323712:6 | 1993-07-15 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07146160A JPH07146160A (ja) | 1995-06-06 |
JP3045452B2 true JP3045452B2 (ja) | 2000-05-29 |
Family
ID=6492879
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6145025A Expired - Lifetime JP3045452B2 (ja) | 1993-07-15 | 1994-06-27 | 光電測長または測角装置 |
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EP (1) | EP0638784B1 (ja) |
JP (1) | JP3045452B2 (ja) |
AT (1) | ATE173334T1 (ja) |
DE (2) | DE4323712C2 (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6263261B1 (en) | 1999-12-21 | 2001-07-17 | Ford Global Technologies, Inc. | Roll over stability control for an automotive vehicle |
US6324446B1 (en) | 1999-12-21 | 2001-11-27 | Ford Global Technologies, Inc. | Roll over stability control for an automotive vehicle |
US6332104B1 (en) | 1999-12-21 | 2001-12-18 | Ford Global Technologies, Inc. | Roll over detection for an automotive vehicle |
US6654674B2 (en) | 2001-11-21 | 2003-11-25 | Ford Global Technologies, Llc | Enhanced system for yaw stability control system to include roll stability control function |
US6799092B2 (en) | 2001-02-21 | 2004-09-28 | Ford Global Technologies, Llc | Rollover stability control for an automotive vehicle using rear wheel steering and brake control |
JP2007064664A (ja) * | 2005-08-29 | 2007-03-15 | Canon Inc | 変位測定方法およびその方法を用いた装置 |
US7877199B2 (en) | 2004-10-15 | 2011-01-25 | Ford Global Technologies | System and method for dynamically determining vehicle loading and vertical loading distance for use in a vehicle dynamic control system |
EP2295940A2 (en) | 2009-09-11 | 2011-03-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical encoder for obtaining displacement information of object |
US8346433B2 (en) | 2004-12-13 | 2013-01-01 | Ford Global Technologies | System for dynamically determining vehicle rear/trunk loading for use in a vehicle control system |
US9162656B2 (en) | 2003-02-26 | 2015-10-20 | Ford Global Technologies, Llc | Active driven wheel lift identification for an automotive vehicle |
Families Citing this family (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19508700C1 (de) * | 1995-03-02 | 1996-08-14 | Huebner Elektromasch Ag | Vorrichtung zum Gewinnen weitgehend oberwellenfreier periodischer Signale |
DE19507613C2 (de) * | 1995-03-04 | 1997-01-23 | Heidenhain Gmbh Dr Johannes | Längen- oder Winkelmeßeinrichtung |
DE19527287C2 (de) * | 1995-07-26 | 2000-06-29 | Heidenhain Gmbh Dr Johannes | Fotoelektrisches Weg- und Winkelmeßsystem zum Messen der Verschiebung zweier Objekte zueinander |
JPH09196705A (ja) * | 1996-01-23 | 1997-07-31 | Mitsutoyo Corp | 変位測定装置 |
JP3631551B2 (ja) * | 1996-01-23 | 2005-03-23 | 株式会社ミツトヨ | 光学式エンコーダ |
DE19652562C2 (de) * | 1996-12-17 | 1999-07-22 | Heidenhain Gmbh Dr Johannes | Positionsmeßeinrichtung |
DE19754595B4 (de) | 1997-12-10 | 2011-06-01 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Lichtelektrische Positionsmeßeinrichtung |
JPH11183199A (ja) * | 1997-12-25 | 1999-07-09 | Merutekku:Kk | フォトセンサー用スケール |
DE19811105C2 (de) * | 1998-03-13 | 2002-11-07 | Robert Rohrbach | Axial-Meßtaster |
DE19859670A1 (de) * | 1998-12-23 | 2000-06-29 | Heidenhain Gmbh Dr Johannes | Abtastkopf und Verfahren zu dessen Herstellung |
EP1028309B1 (de) * | 1999-02-04 | 2003-04-16 | Dr. Johannes Heidenhain GmbH | Optische Positionsmesseinrichtung |
DE60033075T3 (de) † | 1999-04-16 | 2012-08-30 | Canon K.K. | Kodierer |
DE19921309A1 (de) * | 1999-05-07 | 2000-11-09 | Heidenhain Gmbh Dr Johannes | Abtasteinheit für eine optische Positionsmeßeinrichtung |
GB9928483D0 (en) * | 1999-12-03 | 2000-02-02 | Renishaw Plc | Opto-electronic scale reading apparatus |
US6512222B2 (en) * | 2000-02-03 | 2003-01-28 | Mitutoyo Corporation | Displacement measuring apparatus |
US6660997B2 (en) | 2001-04-26 | 2003-12-09 | Creo Srl | Absolute position Moiré type encoder for use in a control system |
JP4880132B2 (ja) * | 2001-05-11 | 2012-02-22 | 株式会社ミツトヨ | 光電式エンコーダ |
JP2003279383A (ja) * | 2002-03-27 | 2003-10-02 | Fuji Electric Co Ltd | 光学式エンコーダ |
US7186969B2 (en) * | 2003-02-12 | 2007-03-06 | Mitutoyo Corporation | Optical configuration for imaging-type optical encoders |
US6905258B2 (en) * | 2003-08-27 | 2005-06-14 | Mitutoyo Corporation | Miniature imaging encoder readhead using fiber optic receiver channels |
DE10357654A1 (de) * | 2003-12-10 | 2005-07-14 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Abtastkopf für optische Positionsmeßsysteme |
US20080202862A1 (en) * | 2004-07-27 | 2008-08-28 | Frank Dudde | Signal Strip And System For Determining A Movement Status Of A Moving Body |
JP5154072B2 (ja) * | 2005-12-06 | 2013-02-27 | 株式会社ミツトヨ | 光電式エンコーダ |
US7485845B2 (en) * | 2005-12-06 | 2009-02-03 | Mitutoyo Corporation | Photoelectric encoder capable of effectively removing harmonic components |
US7460009B2 (en) * | 2006-03-03 | 2008-12-02 | Capella Microsystems Corp. | Light source of testing light sensor, test apparatus and method |
GB0613902D0 (en) * | 2006-07-13 | 2006-08-23 | Renishaw Plc | Scale and readhead |
CN201498575U (zh) * | 2009-08-06 | 2010-06-02 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 谐波抑制装置 |
EP3339811B1 (de) * | 2016-12-20 | 2019-03-20 | Dr. Johannes Heidenhain GmbH | Optische positionsmesseinrichtung |
US11713983B2 (en) | 2021-06-30 | 2023-08-01 | Mitutoyo Corporation | Sensing winding configuration for inductive position encoder |
US12072212B2 (en) | 2022-08-31 | 2024-08-27 | Mitutoyo Corporation | Inductive position encoder utilizing transmissive configuration |
US12072213B2 (en) | 2022-08-31 | 2024-08-27 | Mitutoyo Corporation | Inductive position encoder utilizing slanted scale pattern |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1282988B (de) * | 1965-05-28 | 1968-11-14 | Zeiss Carl Fa | Einrichtung zum Messen von Lageaenderungen zweier zueinander beweglicher Teile unterVerwendung einer inkohaerenten Strahlung |
US3578979A (en) * | 1968-04-23 | 1971-05-18 | Tajima Seisakusho Kk | Electrical signal generating apparatus having a scale grid |
GB1231029A (ja) * | 1968-12-13 | 1971-05-05 | ||
GB1311275A (en) * | 1969-06-04 | 1973-03-28 | Ferranti Ltd | Measuring apparatus employing optical gratings |
DE3209043C2 (de) * | 1981-03-12 | 1986-09-25 | Mitutoyo Mfg. Co., Ltd., Tokio/Tokyo | Fotoelektrische Bewegungs-Meßeinrichtung |
DD206424A1 (de) * | 1982-04-15 | 1984-01-25 | Franz Klapper | Einrichtung zur messung von verschiebungen und verdrehungen eines koerpers |
DE3239108A1 (de) * | 1982-10-22 | 1984-04-26 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh, 8225 Traunreut | Positionsmessverfahren und einrichtungen zur durchfuehrung des verfahrens |
DE3412128C1 (de) * | 1984-03-31 | 1985-05-09 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh, 8225 Traunreut | Positionsmesseinrichtung |
US4680466A (en) * | 1984-04-20 | 1987-07-14 | Yokogawa Hokushin Electric Corporation | Displacement transducer which simultaneously extracts signals via sequential switching |
US4618214A (en) * | 1984-10-26 | 1986-10-21 | Itek Corporation | Method of fabricating a controlled harmonic binary grating |
DE3616144A1 (de) * | 1986-05-14 | 1987-11-19 | Heidenhain Gmbh Dr Johannes | Fotoelektrische messeinrichtung |
IN168444B (ja) * | 1986-08-15 | 1991-04-06 | Mitutoyo Mfg Co Ltd | |
JPH07888Y2 (ja) * | 1988-02-22 | 1995-01-11 | 株式会社ミツトヨ | 光学式変位検出器 |
DE4006789A1 (de) * | 1990-03-03 | 1991-09-05 | Zeiss Carl Fa | Optisches abtastsystem fuer rasterteilungen |
ATE100194T1 (de) * | 1990-10-20 | 1994-01-15 | Heidenhain Gmbh Dr Johannes | Interferentielle messeinrichtung fuer wenigstens eine messrichtung. |
US5155355A (en) * | 1991-04-25 | 1992-10-13 | Mitutoyo Corporation | Photoelectric encoder having a grating substrate with integral light emitting elements |
EP0541828B1 (de) * | 1991-11-04 | 1995-02-01 | Dr. Johannes Heidenhain GmbH | Vorrichtung zur Erzeugung oberwellenfreier periodischer Signale |
-
1993
- 1993-07-15 DE DE4323712A patent/DE4323712C2/de not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-06-27 JP JP6145025A patent/JP3045452B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1994-07-02 AT AT94110325T patent/ATE173334T1/de not_active IP Right Cessation
- 1994-07-02 EP EP94110325A patent/EP0638784B1/de not_active Revoked
- 1994-07-02 DE DE59407263T patent/DE59407263D1/de not_active Revoked
- 1994-07-07 US US08/271,641 patent/US5576537A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6324446B1 (en) | 1999-12-21 | 2001-11-27 | Ford Global Technologies, Inc. | Roll over stability control for an automotive vehicle |
US6332104B1 (en) | 1999-12-21 | 2001-12-18 | Ford Global Technologies, Inc. | Roll over detection for an automotive vehicle |
US6338012B2 (en) | 1999-12-21 | 2002-01-08 | Ford Global Technologies, Inc. | Roll over stability control for an automotive vehicle |
US6496758B2 (en) | 1999-12-21 | 2002-12-17 | Ford Global Technologies, Inc. | Rollover stability control for an automotive vehicle using front wheel actuators |
US6529803B2 (en) | 1999-12-21 | 2003-03-04 | Ford Global Technologies, Inc. | Roll over stability control for an automotive vehicle having rear wheel steering |
US6263261B1 (en) | 1999-12-21 | 2001-07-17 | Ford Global Technologies, Inc. | Roll over stability control for an automotive vehicle |
US6799092B2 (en) | 2001-02-21 | 2004-09-28 | Ford Global Technologies, Llc | Rollover stability control for an automotive vehicle using rear wheel steering and brake control |
US6654674B2 (en) | 2001-11-21 | 2003-11-25 | Ford Global Technologies, Llc | Enhanced system for yaw stability control system to include roll stability control function |
US9162656B2 (en) | 2003-02-26 | 2015-10-20 | Ford Global Technologies, Llc | Active driven wheel lift identification for an automotive vehicle |
US7877199B2 (en) | 2004-10-15 | 2011-01-25 | Ford Global Technologies | System and method for dynamically determining vehicle loading and vertical loading distance for use in a vehicle dynamic control system |
US8346433B2 (en) | 2004-12-13 | 2013-01-01 | Ford Global Technologies | System for dynamically determining vehicle rear/trunk loading for use in a vehicle control system |
JP2007064664A (ja) * | 2005-08-29 | 2007-03-15 | Canon Inc | 変位測定方法およびその方法を用いた装置 |
EP2295940A2 (en) | 2009-09-11 | 2011-03-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical encoder for obtaining displacement information of object |
US8422025B2 (en) | 2009-09-11 | 2013-04-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical encoder for obtaining displacement information of object |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0638784B1 (de) | 1998-11-11 |
US5576537A (en) | 1996-11-19 |
JPH07146160A (ja) | 1995-06-06 |
DE4323712A1 (de) | 1995-01-19 |
ATE173334T1 (de) | 1998-11-15 |
EP0638784A3 (de) | 1996-10-16 |
DE59407263D1 (de) | 1998-12-17 |
DE4323712C2 (de) | 1997-12-11 |
EP0638784A2 (de) | 1995-02-15 |
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---|---|---|
JP3045452B2 (ja) | 光電測長または測角装置 | |
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Legal Events
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