JP4408294B2 - 塗布装置 - Google Patents
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Description
以下、本発明を貼り合わせ基板製造装置のシール描画装置に具体化した第1実施形態を図面に従って説明する。
図3(b)には、下基板W1の上面W1aに設定された開始点Aから時計回りに下基板W1の外縁に沿って長方形状に1周してシール材Rを塗布する場合を示す。また、長方形状の実線は塗布ノズル22先端の移動軌跡53を示し、シール材Rはこの移動軌跡53上に塗布される。塗布ノズル22及び距離センサ31の一体移動中においてライン光Lの少なくとも一部が下基板W1の上面W1aに常時照射されるように、塗布するパターン及び塗布を開始する点の位置を考慮してライン光Lが照射する箇所(スポット52)が適宜設定される。詳述すると、塗布ノズル22先端を下基板W1の上面W1aに対して垂直方向に投影した点(以下、塗布点51)に対するスポット52の相対的位置及び、塗布ノズル22及び距離センサ31の移動方向に対するスポット52の角度が適宜設定される。図3(a)には、移動軌跡53上にシール材Rを塗布する場合のスポット52の設定における一例を示す。
まず、制御装置41は、塗布ノズル22先端を開始点A上に配置するとともに、塗布ノズル22をz方向に昇降させて下基板W1の上面W1aと塗布ノズル22先端との距離を所定の基準距離に合わせる。尚、この「所定の基準距離」は、予め設定された値であり、下基板W1の上面W1aに塗布するシール材Rが所望の高さ且つ幅となるように考慮して設定された距離である。
(1)測定手段を構成する距離センサ31は、光軸と直交する面におけるスポット形状が直線状のライン光Lの少なくとも一部が下基板W1の上面W1aに常時照射されるように、シール材Rを塗布するパターン及び塗布を開始する点の位置を考慮して設定される。そして、測定手段を構成する制御装置41は、ライン光Lの反射光を受光する2次元撮像素子としてのCCDイメージセンサ35から電気信号として出力された画像データから下基板W1の上面W1aからの反射光のデータを抽出して、下基板W1の上面W1aと塗布ノズル22先端との距離の測定をする。これにより塗布ノズル22のx方向及びy方向への移動中において、ライン光Lが既に塗布したシール材R上に照射された場合でも、そのシール材Rからの反射光のデータは測定に反映されずに下基板W1の上面W1aからの反射光のデータが抽出されるため、下基板W1の上面W1aと塗布ノズル22先端との距離を常時正確に測定することができる。
以下、本発明を具体化した第2実施形態を図面に従って説明する。
本実施形態のシール描画装置は、前記第1実施形態のシール描画装置1と比べて、塗布点51とライン光Lのスポット61との位置関係及び、画像データから下基板W1の上面W1aからの反射光のデータを抽出する方法が中心に変更されている。従って、以下には、それらについて中心に説明し、前記第1実施形態と同様の構成については同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
・上記各実施形態では、下基板W1に対して塗布ノズル22が移動したが、これ以外にも例えば、塗布ノズル22に対して下基板W1が移動する構成としてもよい。
・上記各実施形態では、距離センサ31の光源にレーザ光源32を用いたが、これ以外に例えば、一般の光を出射する光源を用いてもよい。
・上記第1実施形態では、判別手段としての制御装置41は、下基板W1の上面W1aに塗布されたシール材Rの高さを考慮して設定された所定位置によって下基板W1の上面W1aからの反射光とシール材R表面からの反射光とを判別するようになっているが、これ以外にも例えば、図5や図6に示すような方法で判別してもよい。図5(a)は、ライン光Lがシール材R表面に照射されたときにCCDイメージセンサ35の受光面35aで受光されたライン光Lの反射光の画像データを示し、図5(b)はそのライン光Lのスポットに沿うシール材R及び下基板W1の断面図である。制御装置41は画像データからピークPを検出し、そのピークPの値と所望のシール材Rの高さを考慮して設定された閾値と比較する。ピークPの値がその閾値を越えたとき、このピークPを中心として所望のシール材Rの幅に対応する左右方向の幅b1の反射光のデータをシール材R表面からの反射光のデータとし、幅b1を除いた幅b2の画像データを下基板W1の上面W1aからの反射光のデータとする。こうして、制御装置41は下基板W1の上面W1aからの反射光とシール材R表面からの反射光とを判別する。
・上記第2実施形態では、スポット61は長さ方向中央でx軸線と交差しているが、これ以外に例えば、y軸線と交差してもよく、また長さ方向中央以外でx軸線又はy軸線と交差してもよい。
・上記第2実施形態では、第1照射領域61a及び第2照射領域61bの両方にライン光Lが照射されたが、ライン光Lの光路途中でシャッタ等によって第1照射領域61a及び第2照射領域61bのいずれか一方にライン光Lが照射されないように構成してもよい。
Claims (7)
- 上面に基板が固定されるステージと、
前記基板の上方に配置され該基板と相対移動する塗布ノズルと、
前記塗布ノズルと一体的に相対移動し前記基板と前記塗布ノズル先端との間の距離を測定する測定手段と
を備え、前記塗布ノズルの先端から吐出させた液体材料を前記基板上に塗布するとともに前記測定手段の測定結果に基づく前記塗布ノズルの昇降変位により前記距離を一定に保ちつつ前記基板と前記塗布ノズルとを相対的に移動させて前記基板上面の液体材料を所望の形状に形成する塗布装置であって、
前記測定手段は、光軸と直交する面におけるスポット形状が直線状であるライン光を前記基板に向けて照射するとともに前記基板との相対移動中において前記ライン光の少なくとも一部が前記基板上面に常時照射されるように設定された投光部と、前記基板における前記ライン光の反射光を受光しその受光位置に応じた画像データを電気信号として出力する2次元撮像素子と、を備え、前記画像データから前記基板上面に塗布された前記液体材料表面からの反射光のデータを除外し、前記基板上面からの反射光のデータを抽出して前記基板と前記塗布ノズル先端との間の距離を測定する、ことを特徴とする塗布装置。 - 請求項1に記載の塗布装置において、
前記基板と前記塗布ノズルとは、該基板上面と平行な面方向における互いに直交する2方向に相対移動し、
前記測定手段は、前記基板上面に現れる前記ライン光のスポットの形状が前記2方向に対して斜めとなるように該ライン光を照射する、ことを特徴とする塗布装置。 - 請求項1又は2に記載の塗布装置において、
前記測定手段は、前記2次元撮像素子から出力された前記ライン光の反射光の画像データに基づき、前記基板上面からの反射光のデータと前記基板上面に塗布された前記液体材料表面からの反射光のデータとを判別する判別手段を備えた、
ことを特徴とする塗布装置。 - 請求項3に記載の塗布装置において、
前記判別手段は、前記ライン光の反射光を受光した画像データと予め設定された閾値とを比較し、該比較結果に基づいて前記基板上面からの反射光のデータと前記基板上面に塗布された前記液体材料表面からの反射光のデータとを判別する、
ことを特徴とする塗布装置。 - 請求項1に記載の塗布装置において、
前記基板と前記塗布ノズルとは、該基板上面と平行な面方向における互いに直交する2方向に相対移動し、
前記測定手段は、前記塗布ノズル先端を前記基板上面に対して垂直方向に投影した点を通り前記2方向にそれぞれ直線状に延びる2つの軸線のどちらか一方と前記基板上面に現れる前記ライン光のスポットとが互いに交差するように該ライン光を照射し、その交差部分によって分割される前記ライン光の第1照射領域及び第2照射領域の少なくとも一方からの反射光のデータに基づき前記基板と前記塗布ノズル先端との間の距離を測定する、
ことを特徴とする塗布装置。 - 請求項5に記載の塗布装置において、
前記測定手段は、前記基板と前記塗布ノズルとの相対的な移動方向に応じて前記第1照射領域及び前記第2照射領域の少なくとも一方からの反射光のデータに基づき前記基板と前記塗布ノズル先端との間の距離を測定する、
ことを特徴とする塗布装置。 - 請求項5又は6に記載の塗布装置において、
前記第1照射領域と前記第2照射領域との間には、塗布した前記液体材料の幅よりも大きい間隔が設定された、ことを特徴とする塗布装置。
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