JP4404621B2 - 石英ガラスの表面改質方法 - Google Patents
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Description
しかしながら、石英ガラスは、弗化水素酸(HF)溶液やフッ素(F)系のガスに対しては非常に不安定であり、これらと接触することにより石英ガラスは著しく腐食される。
石英ガラス製の治具は半導体熱処理工程の使用サイクルに応じて、弗化水素酸やフッ素系のガスを用いて石英ガラス治具の洗浄をおこなうため、洗浄頻度により石英ガラスの治具の腐食が進行して強度低下を引き起こし、石英ガラス製治具の交換を余儀なくされる。
本発明は、石英ガラスが軟化することのない比較的低温で石英ガラスの表面に窒化珪素(Si3N4)層を形成させるものである。
加熱温度は、650℃以上、900℃以下であり、脱酸素するためにカルシウムシリコン等の脱酸素剤を使用し、(反応)雰囲気の酸素分圧を1×10-29atm以下で窒化をおこなわせる。
表層に形成された窒化珪素層により石英ガラスの耐弗化水素酸性並びに硬度が向上し、半導体製造用の治具に使用した場合、長時間交換することなく安定的に使用することができるのである。
窒化処理する石英ガラスの形状は、板状のものはもちろん、曲面を有する形状にも適用可能であり、また、平面と曲面が組み合わされている製品形状であっても均一な厚さに表面窒化でき、製品の寸法精度に影響を及ぼすことはない。
Nb、Mg、Tiは、酸素を吸収するが、窒素も吸収するので窒化反応において好ましくなく、また、Vは酸素を吸収すると表面が酸化物でコーティングされた状態になって脱酸素力が急激に落ちてしまう欠点がある。
Caは酸素を吸って酸化カルシウムになりやすく、窒素の吸収が殆どなく窒化カルシウムにはなりにくいため、窒化反応における脱酸素剤として適している。また、Caは酸素を中に送りこんでいく作用があるため、酸素吸収能力が低下せず、安定的に酸素を吸収する特徴がある。しかし、Caを単体として脱酸素剤として使用した場合、300〜400℃の加熱状態で溶融するので、融点が高いCaの化合物であるSiCa(カルシウムシリコン)を脱酸素剤として使用することが好ましい。
アルゴン雰囲気中に石英ガラスを保持すると、石英ガラス(SiO2)の表面は、ガラス組成のSi−Oの結合が解離してSi−になり、解離した酸素原子(O)は脱酸素剤と反応して吸着され、雰囲気は低酸素状態になる。
実施例により本発明を説明するが、本発明は、これら実施例に限定されるものでない。
同様に、窒素ガスボンベ2が電気炉8に流量計4、切替弁6を介して接続してある。電気炉8には熱電対7及び排気のための排気管81が取り付けてある。
表面処理をおこなう高純度透明石英ガラス10を電気炉内に入れ、周囲に脱酸素剤のカルシウムシリコン9を充填した。
ステンレス製の配管を施すのは、大気中の酸素が配管系に混入するのを防止 するためである。
窒化される表面層の厚みは窒化温度及び時間により制御可能であり、必要に応じてその厚みを変えることができ、この結果より本発明によれば、少なくとも10μmまでの窒化処理が可能である。
表面窒化処理後のESCA(X線光電子分光)分析スペクトルを図3に示す。窒化処理後の石英ガラス表面のESCA分析スペクトルにはSi3N4に起因する2つのピーク(a)Siピークと(b)Nピークが観測された。これらピークから窒化珪素(Si3N4)が石英ガラス表面に形成されていることが確認できた。
窒素に代えてアンモニアガスを流量8cc/分で7時間供給したところ、同様の結果が得られた。
また、従来方法である高温、アンモニアにより窒化したTiの表面光沢は、窒化によりゴールド色になることが知られており、これとの比較を行ったところ、Tiの表面はゴールド色を示し、従来法と同様の色合いおよび光沢であった。
図4のESCA分析結果およびチタンの表面がゴールド色に変化したことより、装置内の酸素分圧は、石英ガラスが窒化される酸素分圧に到達していることが確認された。
図5に評価結果を示す。結果より明らかなように窒化未処理品は約80μm腐食したのに対して、窒化処理品は約60μm程度に抑えることができた。
窒化処理前後の硬度(マイクロビッカース硬度)を測定した結果を表1に示す。窒化処理前に比べて硬度は2割程度増加しており、硬度の観点からの表面改質を確認できた。
窒素に代えてアンモニアガスを流量8cc/分で6時間供給したところ、同様の結果が得られた。
プラズマエッチングは、投入電力300Wであり、エッチングガスとしては、CF4/O2/Arガスを使用した。
7時間のエッチング後、エッチング量を比較した結果、表面窒化処理をおこなっていない石英ガラスは約36nmエッチングされた。一方、表面窒化処理をおこなった石英ガラスのエッチング量は23nmであり、処理前の約60%となった。この結果より表面改質処理により耐プラズマ性が向上したことが確認できた。
弗化水素酸およびプラズマエッチングに対する耐性が改善され、表面硬度が向上しているので、半導体製造装置の治具用の石英ガラスとして有用である。
2 窒素ガスボンベ
3 アルゴンガス用流量計
4 窒素ガス用流量計
5 アルゴンガス切替バルブ
6 窒素ガス切替バルブ
7 熱電対
8 電気炉
9 脱酸素剤(カルシウムシリコン)
10 石英ガラス(高純度透明石英ガラス)
Claims (4)
- ヘリウム(He)、ネオン(Ne)、アルゴン(Ar)のいずれか、または、それらの混合物の不活性ガス雰囲気において、酸素分圧を1×10-29atm以下としつつ石英ガラスを加熱することによって表面から酸素を除去し、窒素ガス(N2)、または、アンモニアガス(NH3)を供給して表層に窒化珪素層を形成する石英ガラスの表面改質方法。
- 請求項1において、加熱温度が650〜900℃である石英ガラスの表面改質方法。
- 請求項1または2において、酸素の除去をシリコン(Si)、ゲルマニウム(Ge)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、チタン(Ti)、ジルコニウム(Zr)、バナジウム(V)、ニオブ(Nb)、タンタル(Ta)、ニッケル(Ni)、パラジウム(Pd)、クロム(Cr)、モリブデン(Mo)、タングステン(W)の元素及び化合物のいずれか、または、それらの混合物からなる脱酸素剤でおこなう石英ガラスの表面改質方法。
- 請求項1または2において、酸素の除去をカルシウムシリコン(SiCa)からなる脱酸素剤でおこなう石英ガラスの表面改質方法。
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