JP4376693B2 - 露光方法および装置 - Google Patents
露光方法および装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4376693B2 JP4376693B2 JP2004135893A JP2004135893A JP4376693B2 JP 4376693 B2 JP4376693 B2 JP 4376693B2 JP 2004135893 A JP2004135893 A JP 2004135893A JP 2004135893 A JP2004135893 A JP 2004135893A JP 4376693 B2 JP4376693 B2 JP 4376693B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposure
- exposure light
- light source
- scanning direction
- head
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 21
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 64
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 3
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 20
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 15
- 238000003491 array Methods 0.000 description 9
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 3
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 3
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/435—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
- B41J2/465—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using masks, e.g. light-switching masks
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70275—Multiple projection paths, e.g. array of projection systems, microlens projection systems or tandem projection systems
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70283—Mask effects on the imaging process
- G03F7/70291—Addressable masks, e.g. spatial light modulators [SLMs], digital micro-mirror devices [DMDs] or liquid crystal display [LCD] patterning devices
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Printers Or Recording Devices Using Electromagnetic And Radiation Means (AREA)
Description
50 デジタル・マイクロミラー・デバイス(DMD)
51 拡大結像光学系
64 レーザモジュール
66 ファイバアレイ光源
80 光学フィルタ
81 光学素子
150 感光材料
152 ステージ
162 スキャナ
163 露光ヘッド列
166 露光ヘッド
164 センサ
166 露光ヘッド
168 露光エリア
170 露光済み領域
Claims (8)
- 露光光源から射出された露光光を受けて該露光光を照射する露光ヘッドが主走査方向に複数配置された露光ヘッド列を複数列有し、該複数列の露光ヘッド列が前記主走査方向にずらされて副走査方向に配列された露光部を、感光材料に対して前記副走査方向に相対的に移動させて前記感光材料を前記露光光で露光する露光方法において、
前記露光光を射出する露光光源の駆動制御により前記露光ヘッド列単位で各露光ヘッド列への前記露光光の射出を可能にし、
前記感光材料への露光開始の際、前記露光光を射出する露光光源の駆動制御により前記露光ヘッド列単位で前記副走査方向に並んだ順で前記露光光の照射を開始することを特徴とする露光方法。 - 露光光源から射出された露光光を受けて該露光光を照射する露光ヘッドが主走査方向に複数配置された露光ヘッド列を複数列有し、該複数列の露光ヘッド列が前記主走査方向にずらされて副走査方向に配列された露光部を、感光材料に対して前記副走査方向に相対的に移動させて前記感光材料を前記露光光で露光する露光方法において、
前記露光光を射出する露光光源の駆動制御により前記露光ヘッド列単位で各露光ヘッド列への前記露光光の射出の停止を可能にし、
前記感光材料への露光終了の際、前記露光光を射出する露光光源の駆動制御により前記露光ヘッド列単位で前記副走査方向に並んだ順で前記露光光の照射を停止することを特徴とする露光方法。 - 前記露光光を射出する露光光源の駆動制御により前記露光ヘッド単位で各露光ヘッドへの前記露光光の射出を可能にし、
前記露光光を射出する露光光源の駆動制御により前記感光材料の前記主走査方向の幅に対応する範囲における前記露光ヘッドのみにより前記露光光の照射を行うことを特徴とする請求項1または2記載の露光方法。 - 前記露光光源から射出された露光光を検出し、
該検出された露光光の光量に応じて該光量が所定量になるように前記露光光源の駆動電流を制御することを特徴とする請求項1から3いずれか1項記載の露光方法。 - 露光光源から射出された露光光を受けて該露光光を照射する露光ヘッドが主走査方向に複数配置された露光ヘッド列を複数列有し、該複数列の露光ヘッド列が前記主走査方向にずらされて副走査方向に配列された露光部と、該露光部と前記感光材料とを前記副走査方向に相対的に移動させて前記感光材料を前記露光光で露光する走査手段とを備えた露光装置において、
前記露光光源が、駆動制御されて前記露光ヘッド列単位で各露光ヘッド列への前記露光光の射出が可能なものであり、
前記感光材料への露光開始の際、前記露光ヘッド列単位で前記副走査方向に並んだ順で前記露光光の照射を開始するよう前記露光光源を駆動制御する露光光源制御手段を備えたことを特徴とする露光装置。 - 露光光源から射出された露光光を受けて該露光光を照射する露光ヘッドが主走査方向に複数配置された露光ヘッド列を複数列有し、該複数列の露光ヘッド列が前記主走査方向にずらされて副走査方向に配列された露光部と、該露光部と前記感光材料とを前記副走査方向に相対的に移動させて前記感光材料を前記露光光で露光する走査手段とを備えた露光装置において、
前記露光光源が、駆動制御されて前記露光ヘッド列単位で各露光ヘッド列への前記露光光の射出の停止が可能なものであり、
前記感光材料への露光終了の際、前記露光ヘッド列単位で前記副走査方向に並んだ順で前記露光光の照射を停止するよう前記露光光源を駆動制御する露光光源制御手段を備えたことを特徴とする露光装置。 - 前記露光光源が、駆動制御されて前記露光ヘッド単位で各露光ヘッドへの前記露光光の射出が可能なものであり、
前記露光光源制御手段が、前記感光材料の前記主走査方向の幅に対応する範囲における前記露光ヘッドのみにより前記露光光の照射を行うよう前記露光光源を駆動制御するものであることを特徴とする請求項5または6記載の露光装置。 - 前記露光光源から射出された露光光の光量を検出する露光光検出手段と、
該露光光検出手段により検出された露光光の光量に応じて該光量が所定量になるように前記露光光源の駆動電流を制御する駆動電流制御手段とを備えたことを特徴とする請求項5から7いずれか1項記載の露光装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004135893A JP4376693B2 (ja) | 2004-04-30 | 2004-04-30 | 露光方法および装置 |
TW094113606A TW200604757A (en) | 2004-04-30 | 2005-04-28 | Exposure method and device |
CNA2005100817973A CN1766736A (zh) | 2004-04-30 | 2005-04-29 | 曝光方法及装置 |
KR1020050035842A KR101112009B1 (ko) | 2004-04-30 | 2005-04-29 | 노광방법 및 장치 |
US11/118,771 US20050253922A1 (en) | 2004-04-30 | 2005-05-02 | Photolithography method and apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004135893A JP4376693B2 (ja) | 2004-04-30 | 2004-04-30 | 露光方法および装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005316269A JP2005316269A (ja) | 2005-11-10 |
JP4376693B2 true JP4376693B2 (ja) | 2009-12-02 |
Family
ID=35309022
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004135893A Expired - Lifetime JP4376693B2 (ja) | 2004-04-30 | 2004-04-30 | 露光方法および装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20050253922A1 (ja) |
JP (1) | JP4376693B2 (ja) |
KR (1) | KR101112009B1 (ja) |
CN (1) | CN1766736A (ja) |
TW (1) | TW200604757A (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008101664A1 (en) * | 2007-02-20 | 2008-08-28 | Carl Zeiss Smt Ag | Optical element with multiple primary light sources |
JP2009109550A (ja) * | 2007-10-26 | 2009-05-21 | Adtec Engineeng Co Ltd | 直描露光装置 |
JP5470236B2 (ja) * | 2010-12-22 | 2014-04-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 局所露光方法及び局所露光装置 |
CN103543615A (zh) * | 2013-10-29 | 2014-01-29 | 苏州德龙激光股份有限公司 | 激光成像加工装置 |
JP6668004B2 (ja) | 2015-06-09 | 2020-03-18 | カンタツ株式会社 | 回路パターン製造装置、回路パターン製造方法および回路パターン製造プログラム |
JP6839476B2 (ja) * | 2016-09-26 | 2021-03-10 | カンタツ株式会社 | パターン形成用シート |
JP2018182126A (ja) | 2017-04-17 | 2018-11-15 | カンタツ株式会社 | パターン形成用シート、パターン製造装置およびパターン製造方法 |
CN109597199A (zh) * | 2018-12-06 | 2019-04-09 | 金华飞光科技有限公司 | 一种基于多束点光源的数字图像产生方法 |
CN116931387B (zh) * | 2023-07-26 | 2024-05-10 | 无锡物联网创新中心有限公司 | 一种面向阵列化数字光刻机的光机电控制系统 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0786353B1 (en) * | 1994-10-05 | 2003-01-15 | Rohm Co., Ltd. | Led printing head |
JPH08321929A (ja) * | 1995-05-25 | 1996-12-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光走査記録装置 |
US5923825A (en) * | 1996-12-04 | 1999-07-13 | Eastman Kodak Company | Data transmission for a sparse array printhead |
US6184971B1 (en) * | 1997-09-26 | 2001-02-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus and image formation apparatus |
JP4543487B2 (ja) * | 2000-03-16 | 2010-09-15 | 富士ゼロックス株式会社 | 光プリンタヘッドの点灯方法 |
US6538682B2 (en) * | 2000-12-28 | 2003-03-25 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Exposure device |
JP4113418B2 (ja) * | 2002-11-15 | 2008-07-09 | 富士フイルム株式会社 | 露光装置 |
JP2005028656A (ja) * | 2003-07-09 | 2005-02-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | 露光ヘッドおよび露光装置 |
-
2004
- 2004-04-30 JP JP2004135893A patent/JP4376693B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2005
- 2005-04-28 TW TW094113606A patent/TW200604757A/zh unknown
- 2005-04-29 KR KR1020050035842A patent/KR101112009B1/ko active IP Right Grant
- 2005-04-29 CN CNA2005100817973A patent/CN1766736A/zh active Pending
- 2005-05-02 US US11/118,771 patent/US20050253922A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1766736A (zh) | 2006-05-03 |
KR101112009B1 (ko) | 2012-02-17 |
US20050253922A1 (en) | 2005-11-17 |
JP2005316269A (ja) | 2005-11-10 |
TW200604757A (en) | 2006-02-01 |
KR20060047614A (ko) | 2006-05-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101112009B1 (ko) | 노광방법 및 장치 | |
KR100986218B1 (ko) | 묘화헤드, 묘화장치 및 묘화방법 | |
JP2004009595A (ja) | 露光ヘッド及び露光装置 | |
KR101029262B1 (ko) | 묘화헤드 유닛, 묘화장치 및 묘화방법 | |
JP2004163814A (ja) | 露光装置 | |
US20090251676A1 (en) | Exposure apparatus and exposure method | |
JP2005022250A (ja) | 画像記録方法及び画像記録装置 | |
US20070291348A1 (en) | Tracing Method and Apparatus | |
US20090148172A1 (en) | Drawing device, exposure device, and drawing method | |
JP2004284236A (ja) | 画像記録装置 | |
US20080068695A1 (en) | Tracing Method And Apparatus | |
JP4874529B2 (ja) | 画像形成装置 | |
JP4209344B2 (ja) | 露光ヘッド並びに画像露光装置および画像露光方法 | |
JP2005202226A (ja) | 感光材料の感度検出方法および装置並びに露光補正方法 | |
TW201636738A (zh) | 曝光裝置及曝光方法 | |
JP2005022249A (ja) | 画像記録方法及び画像記録装置 | |
JP2007253380A (ja) | 描画装置及び描画方法 | |
JP2006227148A (ja) | 露光方法および装置 | |
JP2005202095A (ja) | マルチビーム露光装置 | |
JP2006251207A (ja) | 画像記録システム、画像記録方法、変換装置および変換方法 | |
JP2005022248A (ja) | 画像記録方法及び画像記録装置 | |
JP2006098730A (ja) | 画像露光装置および画像露光方法 | |
JP2005234007A (ja) | 照明光学系および露光方法 | |
JP2005202227A (ja) | 感光材料の感度検出方法および装置並びに露光補正方法 | |
JP2007004075A (ja) | 画像露光装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20061207 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070308 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090908 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090909 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4376693 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120918 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130918 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |