CN1766736A - 曝光方法及装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种用在副扫描方向上排列有多列曝光头列的曝光部进行曝光的曝光方法,通过延长曝光光源寿命、延长更换周期来实现成本降低,通过对射出曝光光线的激光模块的驱动控制,能够照射或停止曝光头列(163a、163b)单元的曝光光线,在感光材料(150)上不存在曝光头列(163b)所照射的曝光光线的照射范围的情况下,通过驱动控制激光模块来停止该曝光头列(163b)的曝光光线的照射。

Description

曝光方法及装置
技术领域
本发明涉及通过将由在主扫描方向配置的多个曝光头形成的曝光头列,在副扫描方向上配置多列而成的曝光部使得感光材料曝光的曝光方法及装置。
背景技术
以前,利用DMD(数字微反射镜器件)等空间光调制元件,对应图像数据调制激光,采用该被调制的激光将感光材料曝光的曝光装置已有各种提案。
而且,作为上述所述曝光装置,例如,在专利文件1等中提出的,通过设有所述空间调制元件的多个曝光头来扫描并曝光感光材料的曝光装置。具体地,已提出,将由在主扫描方向配置的多个上述所述曝光头形成的曝光头列,在副扫描方向配置多列,将配置了多列该曝光头列的曝光部,通过使之在副扫描方向上相对移动,来对感光材料进行曝光的曝光装置。
其中,通过上述所述曝光装置进行曝光时,例如可以将由激光二极管等曝光光源所射出的曝光光线入射到曝光头上,该曝光光线通过曝光头调制和成像,并照射到感光材料上,但是,由在副扫描方向排列所述多列曝光头列的曝光部进行曝光时,在曝光开始以及曝光结束时,存在在感光材料上没有曝光光线的照射范围的曝光头列。因此,现有技术中,在曝光开始及曝光结束时,用机械快门遮断入射在所述曝光头列的曝光光线,来停止该曝光头列的曝光光线照射,或者,在所述曝光头列中控制DMD,来防止从该曝光头列射出的曝光光线的照射。
[专利文件1]特开2001-338867号公报
发明内容
然而,如上所述,即使停止从所述曝光头列所照射的曝光光线,也会造成来自曝光光源的无用的曝光光线的射出,因此,使得那些曝光光源的工作时间增加而使得曝光光源寿命变短,曝光光源的更换周期变短,提高了成本。尤其,在用多个昂贵的激光二极管等构成曝光光源的情况下,上述成本提高的问题更加显著。
本发明的目的是为了解决上述问题,而提供一种曝光方法及装置,其由在副扫描方向上所排列的上述所述多个曝光头列形成的曝光部进行曝光,可通过延长曝光光源寿命、延缓更换周期实现成本的降低。
本发明的第1曝光方法,将曝光部对着感光材料,使之在副扫描方向相对移动由此将上述感光材料用上述曝光光线曝光,其中,上述曝光部具有多列由在主扫描方向上配置的多个接收并照射从曝光光源所射出的曝光光线的曝光头形成的曝光头列,该多列曝光头列在上述主扫描方向上错开并被排列在副扫描方向上,通过对射出上述曝光光线的曝光光源的驱动控制,能够以上述曝光头列单元,向各曝光头列射出上述曝光光线,向上述感光材料的曝光开始时,通过对射出上述曝光光线的曝光光源的驱动控制,以上述曝光头列单元在上述副扫描方向上并列的顺序,开始上述曝光光线的照射。
本发明的第2曝光方法,将曝光部对着感光材料,使之在副扫描方向相对移动由此将上述感光材料用上述曝光光线曝光,其中,曝光部具有多列由在主扫描方向上配置多个接收并照射从曝光光源所射出的曝光光线的曝光头形成的曝光头列,该多列曝光头列在上述主扫描方向上错开而被排列在副扫描方向上,通过对射出上述曝光光线的曝光光源的驱动控制,能够以上述曝光头列单元,停止向各曝光头列射出上述曝光光线,向上述感光材料的曝光结束时,通过对射出上述曝光光线的曝光光源的驱动控制,以上述曝光头列单元在上述副扫描方向上并列的顺序,停止上述曝光光线的照射。
另外,在第1及第2曝光方法中,通过对射出上述曝光光线的曝光光源的驱动控制,能够以上述曝光头单元,向各曝光头射出上述曝光光线,通过对射出上述曝光光线的曝光光源的驱动控制,仅通过对应于上述感光材料的上述主扫描方向的宽度的范围的上述曝光头,进行上述曝光光线的照射。
另外,可检测由上述曝光光源射出的曝光光线,对应该被检测的曝光光线的光量,控制上述曝光光源的驱动电流,使该光量成为预定量。
本发明的第1曝光装置,包括,具有多列由在主扫描方向上配置的多个接收并照射从曝光光源所射出的曝光光线的曝光头形成的曝光头列,且该多列曝光头列在上述主扫描方向上错开并被排列在副扫描方向上的曝光部;使该曝光部和上述感光材料在上述副扫描方向上相对移动并由此将上述感光材料用上述曝光光线曝光的扫描组件,其特征在于,上述曝光光源是可以用被驱动控制的上述曝光头列单元向各曝光头列射出上述曝光光线的设备,上述曝光装置还包括:在向上述感光材料的曝光开始时,驱动控制上述曝光光源,使以上述曝光头列单元在上述副扫描方向上并列的顺序,开始上述曝光光线的照射的曝光光源控制组件。
本发明的第2曝光装置,包括,具有多列由在主扫描方向上配置的多个接收并照射从曝光光源所射出的曝光光线的曝光头形成的曝光头列,且该多列曝光头列在上述主扫描方向上错开并被排列在副扫描方向上的曝光部;使该曝光部和上述感光材料在上述副扫描方向上相对移动并由此将上述感光材料用上述曝光光线曝光的扫描组件,其特征在于,上述曝光光源是可以用被驱动控制的上述曝光头列单元向各曝光头列射出上述曝光光线的设备,上述曝光装置还包括:在向上述感光材料的曝光结束时,驱动控制上述曝光光源,使以上述曝光头列单元在上述副扫描方向上并列的顺序,停止上述曝光光线的照射的曝光光源控制组件。
另外,在第1及第2曝光装置中,上述曝光光源是可以用被驱动控制的上述曝光头列单元向各曝光头列射出上述曝光光线的设备,以及上述曝光光源控制组件驱动控制上述曝光光源,仅通过对应于上述感光材料的上述主扫描方向的宽度范围的上述曝光头,进行上述曝光光线照射。
另外,可包括包括:检测从上述曝光光源射出的曝光光线的光量的曝光光线检测组件,以及根据该曝光光线检测组件所检测的曝光光线的光量,控制上述曝光光源的驱动电流,使该光量变为预定量的驱动电流控制组件。
根据本发明的第1及第2曝光方法及装置,因为在向感光材料的曝光开始或结束之际,通过对射出曝光光线的曝光光源的驱动控制,以曝光头列单元在副扫描方向上并列的顺序,进行了曝光光线照射的开始或停止,故不存在曝光光源的无效作业而可使那些曝光光源寿命延长,及使其更换周期延长,故可实现成本降低。
另外,与在所述曝光头列中通过控制DMD,从而防止从该曝光头列照射曝光光线的情况相比较,由于可缩短曝光光线到DMD反射镜面的照射时间,故可保护那些反射镜面,可延长DMD的寿命。
另外,在本发明的第1及第2曝光方法及装置中,在通过射出曝光光线的曝光光源的驱动控制,使得仅对与感光材料主扫描方向宽度范围对应的曝光头进行曝光光线的照射的情况下,例如,感光材料主扫描方向宽度比曝光头列主扫描方向宽度小的情况下,可防止与从感光材料露出的范围中的曝光头对应的曝光光源做无用功。
另外,例如,在将激光二极管等利用作为曝光光源的情况下,由于驱动之后光量不稳定,有必要等待曝光光线的照射直到光量稳定,然而,在上述曝光方法及装置中,检测曝光光源所射出的曝光光线,对应该被检测曝光光线的光量来控制曝光光源的驱动电流使其光量成为预定量的情况下,由于可以缩短上述等待时间,故可缩短那些曝光光源的作业时间,可延长曝光光源的寿命。
附图说明
图1表示本发明一实施形态曝光装置外观立体图。
图2表示图1所示曝光装置扫描器结构立体图。
图3(A)表示感光材料上所形成的已曝光区俯视图,(B)为各曝光头曝光区的排列示图,(C)为相邻的已曝光区部分重合的图。
图4表示图1所示曝光装置曝光头概略结构立体图。
图5表示数字微反射镜器件(DMD)结构局部放大图。
图6(A)及(B)为用于说明DMD操作的说明图。
图7表示光纤阵列光源结构立体图。
图8表示图1所示曝光装置电气结构块图。
图9图1所示曝光装置作用说明图。
图10图1所示曝光装置作用说明图。
图11用于说明现有技术激光模块操作图。
图12表示图4所示曝光头光学系统67的其他实施形态示图。
图13用于说明图1所示曝光装置激光模块的驱动方法的一个实施形态的图。
图中:30,31多模光纤,50数字微反射镜器件(DMD),51扩大成像光学系统,64激光模块,66光纤阵列光源,80滤光器,81光学元件,150感光材料,152载台,162扫描器,163曝光头列,166曝光头,164传感器,166曝光头,168曝光区,170已曝光区。
具体实施方式
接下来,参照附图对实施本发明曝光方法的曝光装置的一实施形态进行说明。尽管本发明曝光装置在曝光光源驱动控制方法方面具有特点,但首先就曝光装置的总体结构进行说明。
本曝光装置包括,如图1所示,将片状感光材料150吸附保持在表面上的平板状移动载台152。在4根脚部154上所支持的厚板状的设置台156的上表面上,设置有沿着载台移动方向延伸的2条导轨158。载台152配置成使其长轴方向向着载台移动方向,同时通过导轨158可以往复移动的被支持。
在设置台156的中央部,设置有横跨载台152的移动路径的コ字状门160。每个コ字状门160的端部被固定在设置台156的两个侧面上。在夹持该门160的一侧设有扫描器162作为曝光部,另一侧设有多个(例如2个)用于检测感光材料150的前端及后端的传感器164。扫描器162及传感器164分别都安装在门160上,并被固定设置在载台152的移动路径的上方。扫描器162及传感器164被连接在未图示的控制它们的控制器上。
扫描器162,如图2及图3(B)所示,具有多列由在主扫描方向上配置的多个将曝光光线射出到感光材料150上的曝光头166形成的曝光头列163,且该多列曝光头列163在主扫描方向上被错开并被排列在副扫描方向上。曝光头166mn表示排列在第m行第n列的曝光头。
曝光头166的曝光区168是以副扫描方向作为短边的矩形。
因此,随着载台152的移动,在感光材料150上由每个曝光头166形成带状已曝光区170。此外,要表示由配置在第m行第n列的各个曝光头所造成的曝光区时,采用曝光区168mn表示。
另外,如图3(A)及图3(B)所示,为了使带状已曝光区170在主扫描方向上成无间隙并列,需要使得配置成线状的曝光头列163的每一个曝光头在主扫描方向上错开规定间隔(曝光区的长边的自然数倍,在本实施形态中为1倍)的进行配置。为此,第1行的曝光区16811不能曝光的部分可通过第2行曝光区16821曝光。严格来讲,如图3(C)所示,各曝光头列163的曝光头被排列在主扫描方向上,使相邻带状已曝光区170部分重合。
每个曝光头16611~166mn,如图4所示,作为根据图像数据对入射光束按照每个像素进行调制的空间光调制元件,包括数字微反射镜器件(DMD)50。
DMD50是,如图5所示,在SRAM单元(存储器单元)60上,将微小反射镜(微反射镜)62用支柱支撑来配置的器件,构成像素(pixel)的多个(例如1024×768个)微小反射镜排列成网格状,构成微反射镜器件。在各像素中,在最上部设置由支柱支撑的微反射镜62。
当向DMD50的SRAM单元60中写入数字信号时,由支柱支撑的微反射镜62,以对角线为中心相对于配置DMD50的基板侧在±α度(例如±10度)的范围倾斜。图6(A)表示微反射镜62处于ON状态倾斜了+α度时的状态,图6(B)表示微反射镜62处于OFF状态倾斜了-α度时的状态。因此,对应于像素信号,DMD50的各像素中微反射镜62的倾斜,通过按照图6所示那样控制,使得入射到DMD50的激光B分别向微反射镜62的倾斜方向反射。此外,微反射镜62的ON/OFF控制,由与DMD50连接的后述控制器302进行。
另外,DMD50,优选配置成其短边与副扫描方向形成规定角度θ(例如1°~5°)那样稍微有所倾斜的样子。通过使上述DMD50倾斜,由各微反射镜形成的曝光光束的扫描轨迹(扫描线)的间距,比DMD50不倾斜时的扫描线的间距要狭窄,可以大幅度提高分辨率。
另外,在DMD50的光入射侧依次配置,如图4所示,将由光纤阵列光源66射出的激光进行校正后聚光在DMD上的透镜系统67,使透过该透镜系统67的激光向DMD50反射的反射镜69。
另外,在DMD50的光反射侧,配置使由DMD50反射的激光在感光材料150上成像的成像光学系统51。
向曝光头166射出激光的光纤阵列光源66,在该光纤的出射端部(发光点)沿着与曝光区168的长边方向对应的方向成一列配置。光纤阵列光源66,如图7所示,包括多个(例如14个)激光模块64,在各激光模块64,与多模光纤30的一端连接。在多模光纤30的另一端上,连接了纤芯直径和多模光纤30的相同而包层直径比多模光纤30小的光纤31。另外,光纤阵列光源66对应各曝光头166设置,通过后述的LD驱动回路303驱动控制,能够以上述曝光头列163单元射出或停止向各曝光头列163的激光。另外,在本实施形态中,上述所述光纤阵列光源66对应各曝光头166而设置的,但也可以采用能够以上述所述曝光头列163单元射出或停止向各曝光头列163的激光的任何结构。
接下来,参照图8,对本曝光装置电气结构进行说明,如图8所示,全部控制部300与调制回路301连接,该调制回路301与控制DMD50的控制器302连接。另外,全部控制部300连接着,驱动光纤阵列光源66的激光模块64、并作为曝光光源控制组件的LD驱动回路303。另外,本实施形态的LD驱动回路303在由曝光头列163射出的激光在感光材料150上没有照射范围的情况下,驱动控制光纤阵列光源66,使基于该曝光头列163的激光照射停止。全部控制部300连接有驱动载台152的载台驱动装置304。
接下来,对本曝光装置的操作进行说明。
首先,将感光材料吸附在表面上的载台152,通过图8所示的载台驱动装置304,沿着导轨158以一定速度从门160的上游侧向下游侧移动。载台152在通过门160下时,由安装在门160的传感器164检测到感光材料150的前端,根据该检测,对应曝光头列163的第1列163a设置的光纤阵列光源66的激光模块64(以下称为第1激光模块组)由LD驱动回路303驱动控制,从第1激光模块组射出激光,该激光入射到曝光头列163a,基于曝光头列163a的曝光光线照射开始。另外,在感光材料150前端被检测时的曝光头列163a的位置相对感光材料150的位置设定为如图9(A)所示的位置。图9(A)所示的距离L优选根据激光模块64中激光二极管的发光量稳定的时间与载台152的移动速度设定。
另外曝光头列163为如图9(A)所示的位置时,对应曝光头列163的第2列163b设置的光纤阵列光源66的激光模块64(以下称为第2激光模块组)由LD驱动回路303驱动控制,使其不射出激光,曝光头列163b的曝光光线的照射尚未开始。
而且,载台152进一步移动,曝光头列163a为如图9(B)所示的位置时,曝光头列163a开始对感光材料150曝光,载台152进一步移动,曝光头列163b相对感光材料150为如图9(C)所示的位置时,即,到感光材料150的前端距离为L的位置时,第2激光模块组由LD驱动回路303驱动控制,由第2激光模块组中射出激光,该激光入射到曝光头列163b,曝光头列163b的曝光光线照射开始。而且,载台152进一步移动,曝光头列163a为如图9(D)所示的位置时,曝光头列163b开始对感光材料150曝光。
另一方面,在向上述曝光头列163入射激光的同时,顺次读出帧存储器中所存储的图像数据,基于该图像数据,相对各曝光头166输出控制信号。
光纤阵列光源66出来的激光一入射到曝光头166的DMD50上,DMD50的微反射镜处于ON状态时所反射的激光通过透镜系统54、58在感光材料150上成像,OFF状态时反射的激光在感光材料150上没有成像。通过上述方式,从光纤阵列光源66所射出的激光相对每个像素被ON/OFF,使得感光材料150以预定图样被曝光。
另外,进一步使感光材料150与载台152一起以一定速度移动,感光材料150通过扫描器162在与载台移动方向相反的方向被副扫描,利用每个曝光头166形成带状已曝光区170。
而且,随着曝光结束的临近采用传感器164检测感光材料150的后端,此时,曝光头列163a设定成相对感光材料150来到如图10(A)所示位置。而且,上述所述传感器164一检测到感光材料150的后端,第1激光模块组出射的激光由LD驱动回路303驱动控制被停止。而且,载台152进一步移动,曝光头列163b来到如图10(B)所示位置时,第2激光模块组出射的激光由LD驱动回路303驱动控制被停止。
另外,当扫描器162对感光材料150的副扫描结束时,载台152通过载台驱动装置304,沿着导轨158返回到门160的最上游侧的原来的位置,再次沿导轨158以一定速度从门160的上游侧向下游侧移动。
由于采用了本曝光装置,在对感光材料150的曝光开始或结束时,因为驱动控制第1激光模块组及第2激光模块组以使以曝光头列单元在副扫描方向上并列的顺序,进行在处的曝光光线的照射的开始或停止,故可不存在激光模块64的浪费作业可延长激光模块64的寿命,并可延长更换周期以期实现成本降低。
具体地讲,例如,在感光材料150的曝光区副扫描距离为600mm,载台152的移动速度为(或扫描器162副扫描速度)30mm/s、曝光头166中心间隔为120mm,同时驱动以及停止上述第1激光模块组和第2激光模块组的情况下,其作业时间为(600+120)/30=24s,然而,采用本发明曝光装置,驱动控制第1激光模块组及第2激光模块组的场合,第1激光模块组及第2激光模块组作业时间为600/30=20s,可消减16.7%的作业时间。另外,在感光材料150的曝光区的副扫描距离为300mm的较短的情况下是(300+120)/30=14s,而如上述驱动控制第1激光模块组及第2激光模块组的场合为300/30=10,可消减28.6%的作业时间,效果进一步显著。而且,为了提高副扫描方向的分辨率,在上述移动速度放慢的场合还可得到进一步显著的效果。
另外,例如,如特开2002-202442号公报所公开,在使用多个通过聚光光学系统在多模光纤中合成由多个激光二极管射出的激光的激光模块的情况等中,由于昂贵的激光二极管数很庞大,上述成本降低的效果会更显著。
另外,在上述实施形态的曝光装置中,在曝光开始及结束之际,像上述那样驱动控制第1激光模块组和第2激光模块组,但是,也可以仅在曝光开始之际或仅在曝光结束之际对第1激光模块组和第2激光模块组进行驱动控制。
另外,在上述实施形态的曝光装置中,虽然利用了激光模块64作为曝光光源,但激光模块64中的激光二极管,如图11(A)、(B)所示,由于驱动后光量不稳定,需要等待曝光光线的照射直到光量稳定的时间t1。因此,在本曝光装置中,也可以检测由激光模块64射出的曝光光线,并控制激光模块64的驱动电流,以对应该检测的曝光光线光量使该光量成为预定量。在上述情况下,由于可缩短上述等待时间,故可缩短那些曝光光源的作业时间,可延长曝光光源寿命。
具体地,在曝光头166的透镜系统67中,如图12所示,设有使从光纤阵列光源66射出并通过聚光透镜71的光透过的同时将其部分反射的滤光器80,以及检测由滤光器80反射的光的光学元件81,基于该光学元件81中所光电转换的电气信号的大小,例如可以通过LD驱动回路303控制流过激光模块64的驱动电流以使该电气信号大小达到规定值。就驱动电流的控制方法,如果是,例如,如图13(B)所示,驱动电流逐步的逼近规定电流值I样控制的话,如图13(A)所示,由于激光模块64驱动后光量稳定,因此可将上述等待时间缩短为时间t2。另外,图示光学系统67由,将光纤阵列光源66射出的激光B聚光的聚光透镜71、通过该聚光透镜71的光的光路上所插入的杆状的光学积分器72以及该杆状积分器72前方即反射镜69侧所配置的成像透镜74构成,聚光透镜71、杆状积分器72以及成像透镜74将光纤阵列光源66射出的激光近似成平行光,并使其成为光束截面强度均一化的光束,然后使其入射到DMD50上。另外,基于进一步缩短上述等待时间方面的考虑,优选采用专利申请JP2003-083225号所示的复合波模块光源。具体地,如果采用将从多个激光二极管射出的激光准直并将该激光合成耦合到光纤的、其合成激光束径大致为光纤芯径1/2的复合模块光源的话,则可使速度迅速提高1秒左右,使上述等待时间降到1秒以下。因此,可进一步缩短驱动后光量稳定时间,可进一步消减曝光光源的作业时间。
另外,如上述实施形态的曝光装置,光纤阵列光源66对应各曝光头166设置的情况下,也可以驱动控制光纤阵列光源66以使仅对与感光材料150主扫描方向宽度方向对应的范围的曝光头166进行曝光光线的照射。在驱动控制上述光纤阵列光源66的情况中,就感光材料150主扫描方向宽度,可以由事先预定的输入组件输入,也可以用光学传感器等自动检测。

Claims (8)

1、一种曝光方法,将曝光部对着感光材料,使之在副扫描方向相对移动由此将上述感光材料用上述曝光光线曝光,其中,上述曝光部具有多列由在主扫描方向上配置的多个接收并照射从曝光光源所射出的曝光光线的曝光头形成的曝光头列,该多列曝光头列在上述主扫描方向上错开并被排列在副扫描方向上,其特征在于:
通过对射出上述曝光光线的曝光光源的驱动控制,能够以上述曝光头列单元,向各曝光头列射出上述曝光光线,
向上述感光材料的曝光开始时,通过对射出上述曝光光线的曝光光源的驱动控制,以上述曝光头列单元在上述副扫描方向上并列的顺序,开始上述曝光光线的照射。
2、一种曝光方法,将曝光部对着感光材料,使之在副扫描方向相对移动由此将上述感光材料用上述曝光光线曝光,其中,曝光部具有多列由在主扫描方向上配置多个接收并照射从曝光光源所射出的曝光光线的曝光头形成的曝光头列,该多列曝光头列在上述主扫描方向上错开而被排列在副扫描方向上,其特征在于:
通过对射出上述曝光光线的曝光光源的驱动控制,能够以上述曝光头列单元,停止向各曝光头列射出上述曝光光线,
向上述感光材料的曝光结束时,通过对射出上述曝光光线的曝光光源的驱动控制,以上述曝光头列单元在上述副扫描方向上并列的顺序,停止上述曝光光线的照射。
3、如权利要求1或2所述的曝光方法,其特征在于,
通过对射出上述曝光光线的曝光光源的驱动控制,能够以上述曝光头单元,向各曝光头射出上述曝光光线,
通过对射出上述曝光光线的曝光光源的驱动控制,仅通过对应于上述感光材料的上述主扫描方向的宽度的范围的上述曝光头,进行上述曝光光线的照射。
4、如权利要求1-3任一项所述曝光方法,其特征在于,
检测由上述曝光光源射出的曝光光线,
根据该检测出的曝光光线光量,控制上述曝光光源的驱动电流使该光量成为预定量。
5、一种曝光装置,包括,具有多列由在主扫描方向上配置的多个接收并照射从曝光光源所射出的曝光光线的曝光头形成的曝光头列,且该多列曝光头列在上述主扫描方向上错开并被排列在副扫描方向上的曝光部;使该曝光部和上述感光材料在上述副扫描方向上相对移动并由此将上述感光材料用上述曝光光线曝光的扫描组件,其特征在于,
上述曝光光源是可以用被驱动控制的上述曝光头列单元向各曝光头列射出上述曝光光线的设备,
上述曝光装置还包括:在向上述感光材料的曝光开始时,驱动控制上述曝光光源,使以上述曝光头列单元在上述副扫描方向上并列的顺序,开始上述曝光光线的照射的曝光光源控制组件。
6、一种曝光装置,包括,具有多列由在主扫描方向上配置的多个接收并照射从曝光光源所射出的曝光光线的曝光头形成的曝光头列,且该多列曝光头列在上述主扫描方向上错开并被排列在副扫描方向上的曝光部;使该曝光部和上述感光材料在上述副扫描方向上相对移动并由此将上述感光材料用上述曝光光线曝光的扫描组件,其特征在于,
上述曝光光源是可以用被驱动控制的上述曝光头列单元向各曝光头列射出上述曝光光线的设备,
上述曝光装置还包括:在向上述感光材料的曝光结束时,驱动控制上述曝光光源,使以上述曝光头列单元在上述副扫描方向上并列的顺序,停止上述曝光光线的照射的曝光光源控制组件。
7、如权利要求5或6所述的曝光装置,其特征在于,
上述曝光光源是可以用被驱动控制的上述曝光头列单元向各曝光头列射出上述曝光光线的设备,以及
上述曝光光源控制组件驱动控制上述曝光光源,仅通过对应于上述感光材料的上述主扫描方向的宽度范围的上述曝光头,进行上述曝光光线照射。
8、如权利要求5-7任一项所述曝光装置,其特征在于,包括:
检测从上述曝光光源射出的曝光光线的光量的曝光光线检测组件,以及
根据该曝光光线检测组件所检测的曝光光线的光量,控制上述曝光光源的驱动电流,使该光量变为预定量的驱动电流控制组件。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102566307A (zh) * 2010-12-22 2012-07-11 东京毅力科创株式会社 局部曝光方法和局部曝光装置
CN101419410B (zh) * 2007-10-26 2013-12-04 株式会社阿迪泰克工程 直接图像曝光装置
CN103543615A (zh) * 2013-10-29 2014-01-29 苏州德龙激光股份有限公司 激光成像加工装置
CN107870506A (zh) * 2016-09-26 2018-04-03 康达智株式会社 图案形成片、图案制造装置、图案制造方法及图案制造程序
CN109597199A (zh) * 2018-12-06 2019-04-09 金华飞光科技有限公司 一种基于多束点光源的数字图像产生方法

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5218994B2 (ja) * 2007-02-20 2013-06-26 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 複数の1次光源を有する光学要素
JP6668004B2 (ja) 2015-06-09 2020-03-18 カンタツ株式会社 回路パターン製造装置、回路パターン製造方法および回路パターン製造プログラム
JP2018182126A (ja) 2017-04-17 2018-11-15 カンタツ株式会社 パターン形成用シート、パターン製造装置およびパターン製造方法
CN116931387B (zh) * 2023-07-26 2024-05-10 无锡物联网创新中心有限公司 一种面向阵列化数字光刻机的光机电控制系统

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0786353B1 (en) * 1994-10-05 2003-01-15 Rohm Co., Ltd. Led printing head
JPH08321929A (ja) * 1995-05-25 1996-12-03 Fuji Photo Film Co Ltd 光走査記録装置
US5923825A (en) * 1996-12-04 1999-07-13 Eastman Kodak Company Data transmission for a sparse array printhead
US6184971B1 (en) * 1997-09-26 2001-02-06 Canon Kabushiki Kaisha Exposure apparatus and image formation apparatus
JP4543487B2 (ja) * 2000-03-16 2010-09-15 富士ゼロックス株式会社 光プリンタヘッドの点灯方法
US6538682B2 (en) * 2000-12-28 2003-03-25 Fuji Photo Film Co., Ltd. Exposure device
JP4113418B2 (ja) * 2002-11-15 2008-07-09 富士フイルム株式会社 露光装置
JP2005028656A (ja) * 2003-07-09 2005-02-03 Fuji Photo Film Co Ltd 露光ヘッドおよび露光装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101419410B (zh) * 2007-10-26 2013-12-04 株式会社阿迪泰克工程 直接图像曝光装置
CN102566307A (zh) * 2010-12-22 2012-07-11 东京毅力科创株式会社 局部曝光方法和局部曝光装置
CN102566307B (zh) * 2010-12-22 2015-01-21 东京毅力科创株式会社 局部曝光方法和局部曝光装置
CN103543615A (zh) * 2013-10-29 2014-01-29 苏州德龙激光股份有限公司 激光成像加工装置
CN107870506A (zh) * 2016-09-26 2018-04-03 康达智株式会社 图案形成片、图案制造装置、图案制造方法及图案制造程序
CN109597199A (zh) * 2018-12-06 2019-04-09 金华飞光科技有限公司 一种基于多束点光源的数字图像产生方法

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