JP4369601B2 - コネクタ接点材料とその製造方法、そのコネクタ接点材料を用いたコネクタと接点 - Google Patents
コネクタ接点材料とその製造方法、そのコネクタ接点材料を用いたコネクタと接点 Download PDFInfo
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【発明の属する技術分野】
本発明はコネクタ接点材料とその製造方法、そのコネクタ接点材料を用いたコネクタと接点に関し、更に詳しくは、外観変色がほとんど起こらず、はんだ濡れ性に優れ、そして摺動性も優れているコネクタ接点材料とその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
Cuのような導電性基材の表面に、Snめっき層やSn−Pbはんだのめっき層を形成した材料は、コネクタ接点材料として広く実使用されている。しかしながら、これらSnめっき層やはんだ層は軟質であり、また摩擦抵抗も高いので、これらの材料をコネクタとして使用したときには挿入力が過大となり、また摺動接点として使用したときには相手材との間で凝着を起こして接点特性の劣化を招くことがある。
【0003】
更には、はんだ付けをするときに、基材のCu成分が表面に熱拡散してきて外観変色を起こすとともにはんだ付け性が悪化することもある。
しかも、Snめっき層の場合はめっき時にウィスカの発生があり、はんだめっき層の場合はPb公害の問題もある。
このようなことから、コネクタ材料の表面めっき層に関しては、上記したSnめっき層やはんだめっき層に代わるSn合金めっき層の検討が進められているが、現在までのところ、充分に満足のいくめっき層は開発されていない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、コネクタ接点材料の表面めっき層として使用されているSnめっき層やはんだめっき層における上記した問題を解決し、適度な硬さを備えるとともに、はんだ付け時の外観変色もほとんど起こらず、はんだ付け性も優れており、しかも低摩擦係数であるため摺動性も優れているめっき層を備えた新規なコネクタ材料と、その製造方法、更にはその材料を用いたコネクタと接点の提供を目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは上記した目的を達成するための研究過程で、Snやはんだに比べて硬質なSn−Cuから成るめっき層に着目した。しかしながら、このSn−Cuめっき層は、従来のめっき層に比べて高硬度であるとはいえ、Cu成分が存在するため、外観変色とそれに基づくはんだ付け性の悪化が発生しやすいという欠点がある。
【0006】
そこで、本発明者らは、この欠点の解消に関して鋭意研究を重ねた結果、後述する処理を施すことにより、外観変色とはんだ付け性の劣化の問題を解決し、更には摺動性を高めることに成功し、本発明のコネクタ接点材料とその製造方法を開発するに至った。
すなわち、本発明のコネクタ接点材料は、導電性基材の表面にCu含有Snめっき層が形成されていて、前記Cu含有Snめっき層の表面はベンゾトリアゾール(Benzotriazol:BTA)またはその誘導体による処理面を有したコネクタ接点材料において、前記処理面は、ベンゾトリアゾールまたはその誘導体の濃度が0.01〜1.0重量%となるように調製した溶液に浸漬することにより形成され、前記表面をAES分析(オージェ電子分光分析)したときに、Cとして測定される前記BTAまたはその誘導体の厚みが0.0003〜0.01μmになっており、かつ、動摩擦係数が0.36以下であることを特徴とする。
【0007】
また、本発明においては、上記した接点材料を用いて製造した接点とコネクタが提供される。
【0008】
【発明の実施の形態】
本発明のコネクタ接点材料は、図1で示したように、導電性基材1の表面にCu含有Snめっき層2が形成されていて、このCu含有Snめっき層2の表面に後述する処理が施されていることを特徴とする。
導電性基材1としては格別限定されるものではなく、例えば、銅、黄銅、リン青銅などの銅合金や、SUS、42アロイなどの鉄合金をあげることができる。
【0009】
また、Cu含有Snめっき層2は、Snを主体としこれにCuが含有されているめっき層である。この場合のCu含有量は、被膜融点やはんだ濡れ性など考慮して適宜決めればよいが、概ね、1〜10重量%程度に設定される。
このCu含有Snめっき層は、例えば所定組成のCu−Sn合金の電気めっきや溶融めっきで形成してもよく、また最初にSnめっきを行い、その上にSn−Cu合金めっきを行って形成してもよく、更には最初にSnめっきを行い、ついで薄くCuめっきを行ったのち全体を加熱することによりCuをSnに拡散して形成してもよい。なお、基材1とCu合金Snめっき層2の間には、CuやNiなどを用いて下地層を形成してもよい。
【0010】
ついで、このCu合金Snめっき層2に対しては次のような表面処理が行われる。
まず、BTAまたはその誘導体を、水や、トルエンのような有機溶剤に溶解して所定濃度の溶液が調製される。そして、この溶液とCu含有Snめっき層の表面を接触させる。具体的には、Cu含有Snめっき層の表面に上記溶液を塗布したり、または、導電性基材におけるCu含有Snめっき層の表面を除いた他の箇所をマスキングした状態で上記溶液に浸漬する。
【0011】
用いるBTAとしては、例えばベンゾトリアゾール、メチルベンゾトリアゾール、エチルベンゾトリアゾール、トリルトリアゾールなどをあげることができ、またその誘導体としては、上記BTAとメチルアミン、エチルアミンのような有機アミンとの反応生成物や、プロピオン酸、安息香酸、アジピン酸のような有機カルボン酸との反応生成物をあげることができる。
【0012】
このような処理を行うと、Cu含有Snめっき層2の摩擦係数は低下し、しかも耐食性が向上する。これはBTAまたはその誘導体とCu含有Snめっき層のCu成分との間で吸着反応が起こって、当該Cu含有Snめっき層の表面には、BTAまたはその誘導体を主体とする化学吸着層3が形成されるためであると考えられる。
【0013】
その場合、上記した化学吸着層3の厚みと摩擦係数や耐食性との間に相関関係がある。
具体的には、表面処理後のCu合金Snめっき層の表面にAES分析を行って、化学吸着層として表面に存在しているBTAやその誘導体をCとして測定したときに、表面から0.0003μmより深い箇所ではCが検出されないような表面処理の場合、すなわち上記した化学吸着層の厚みが0.0003μmより薄い場合には、Cu含有Snめっき層の表面摩擦係数は大きく、しかも外観変色を起こしやすくなる。また、表面から0.01μmより深い箇所でもCが検出されるような表面処理の場合、すなわち上記した化学吸着層の厚みが0.01μmより厚い場合には、摩擦係数は小さくなるが、他方では、Cu含有Snめっき層に表面ムラが生じ、しかもはんだ付け性が悪くなる。
【0014】
このようなことから、本発明においては、表面処理後のCu含有Snめっき層の表面はAES分析を行ったときに、Cの検出される最大深さが0.0003〜0.01μmとなるように前記した表面処理が行われる。
具体的には、前記した溶液として、BTAまたはその誘導体の濃度が0.01〜1.0重量%となるように調整したものを用いればよい。上記濃度が0.01重量%より低い場合は、処理後のCu含有Snめっき層の耐食性の向上効果や摩擦係数の低減効果は不充分であり、また1.0重量%より高濃度である場合は、処理後の乾燥時にBTAやその誘導体の粉が発生するようになる。
【0015】
【実施例】
実施例1〜3、比較例1〜3
厚み0.64mmの黄銅条に、アルカリ脱脂、電解脱脂、酸洗を順次行ったのち、厚み1.5μmのCu下地めっき層を形成し、更にその上に厚み1.2μmのSn−1%Cu合金めっき層を形成した。上記した各工程の条件を表1に示す。
【0016】
【表1】
【0017】
ついで、上記めっき処理した黄銅条に中和処理、湯洗処理を充分に行い、更に温風乾燥を行った。
一方、表2で示した濃度のベンゾトリアゾールのエタノール溶液を調製し、その溶液に室温下において上記めっき黄銅条を10秒間浸漬したのち取り出してSn−1%Cu合金めっき層に対する表面処理を行った。
【0018】
得られた処理品につき、下記仕様の各種の試験を行った。
(1)AES分析
処理品の表面をアルゴンイオンビームによりスパッタし、表層からC強度とSn強度が交わる部分を有機被覆層とした。なお、厚み0.01μmの有機被膜を塗布した銅板を標準試料とした。
【0019】
(2)はんだ付け性試験
温度230℃のSn−36%Pbはんだ浴に、ロジン25%/IPAを塗布した幅10mmの処理品(試片)を、浸漬速度10mm/min、浸漬深さ10mmの条件で10秒間浸漬したのち取り出し、はんだで濡れた部分の面積を測定し、その値を試片の浸漬面積で除算してその百分率(%)を求めた。この値が大きいほどはんだ濡れ性に優れ、はんだ付け性が優れていることを表す。
【0020】
(3)加速劣化変色試験
試片を、温度60℃、相対湿度95%の大気中に72時間放置し、めっき表面の変色の有無を目視観察した。
(4)動摩擦係数の測定
同種のめっき黄銅条を先端5mmRに張り出し加工して相手材とし、これを摺動片として、摺動距離10mm、摺動速度100mm/min、加重200gfの条件下で測定した。
【0021】
(5)めっき表面ムラの観察
上記した処理品の表面を目視観察し、白い模様が現れた場合をムラあり、現れない場合をムラなしとした。
以下の結果を一括して表2に示した。
【0022】
【表2】
【0023】
表2から明らかなように、AES分析によるCの検出された最大深さが深すぎる比較例2の材料は、動摩擦係数が小さくなるとはいえ、外観にムラが生じているとともにそのはんだ付け性は悪い。また、AES分析によるCの検出された最大深さが浅すぎる比較例1や比較例3の材料は、外観、加速劣化変色、はんだ付け性は良好であるものの動摩擦係数は大きく摺動性に劣る。
【0024】
このようなことから、AES分析によるCの検出された最大深さが0.0003〜0.01μmとなるような表面処理を行うこと、そのためには表面処理に用いる溶液におけるBTA濃度を0.01〜1.0重量%に設定することの有用性が明らかである。
【0025】
実施例4〜6、比較例4〜6
厚み0.2mmの黄銅条を用いたことを除いては、実施例1〜3と同様にして厚み1.2μmのSn−1%Cu合金めっき層が形成されるめっき黄銅条を製造した。
そして、このめっき黄銅条に対しても、実施例1〜3と同様の表面処理を行い、各試験を行った。その結果を表3に示した。
【0026】
【表3】
【0027】
表3から明らかなように、実施例1〜3と全く同様の結果が得られた。
【0028】
【発明の効果】
以上の説明で明らかなように、本発明のコネクタ接点材料は、劣化後の外観変色が起こらず、はんだ付け性が優れ、しかも摺動性も優れている。
これは、めっき層をCu含有Snめっき層とし、しかもその表面を濃度が0.01〜1.0重量%となるように調製したBTA含有溶液で処理することにより、耐食性の向上効果と動摩擦係数が0.36以下という摩擦係数の低減効果を発揮する化学吸着層を形成したことによって得られる効果である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のコネクタ接点材料の1例を示す断面図である。
【符号の説明】
1 導電性基材
2 Cu含有Snめっき層
3 AES分析でBTAがCとして検出される化学吸着層
Claims (3)
- 導電性基材の表面にCu含有Snめっき層が形成されていて、前記Cu含有Snめっき層の表面はベンゾトリアゾールまたはその誘導体による処理面を有したコネクタ接点材料において、前記処理面は、ベンゾトリアゾールまたはその誘導体の濃度が0.01〜1.0重量%となるように調製した溶液に浸漬することにより形成され、前記表面をAES分析したときに、Cとして測定される前記ベンゾトリアゾールまたはその誘導体の厚みが0.0003〜0.01μmになっており、かつ、動摩擦係数が0.36以下であることを特徴とするコネクタ接点材料。
- 請求項1のコネクタ接点材料を用いた接点。
- 請求項1のコネクタ接点材料を用いたコネクタ。
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