JP4360797B2 - 有機エレクトロルミネセンスディスプレーの製造方法およびこの種のディスプレー - Google Patents
有機エレクトロルミネセンスディスプレーの製造方法およびこの種のディスプレー Download PDFInfo
- Publication number
- JP4360797B2 JP4360797B2 JP2002342610A JP2002342610A JP4360797B2 JP 4360797 B2 JP4360797 B2 JP 4360797B2 JP 2002342610 A JP2002342610 A JP 2002342610A JP 2002342610 A JP2002342610 A JP 2002342610A JP 4360797 B2 JP4360797 B2 JP 4360797B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- printing
- electrode
- layer
- functional layer
- electrode layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 87
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 63
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 59
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims description 30
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 claims description 28
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 27
- 239000004821 Contact adhesive Substances 0.000 claims description 15
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 9
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 claims description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 7
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 claims description 7
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 claims description 5
- 229920000172 poly(styrenesulfonic acid) Polymers 0.000 claims description 5
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 claims description 5
- 229940005642 polystyrene sulfonic acid Drugs 0.000 claims description 5
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 claims description 4
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 4
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 claims description 4
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000007644 letterpress printing Methods 0.000 claims description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 3
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 claims description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 3
- 238000010023 transfer printing Methods 0.000 claims description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 7
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 6
- PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M lithium fluoride Chemical compound [Li+].[F-] PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- -1 glycol ether Chemical compound 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 2
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 239000010406 cathode material Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012769 display material Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 229920001002 functional polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910000042 hydrogen bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- RNWHGQJWIACOKP-UHFFFAOYSA-N zinc;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Zn+2] RNWHGQJWIACOKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/60—Forming conductive regions or layers, e.g. electrodes
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1343—Electrodes
- G02F1/13439—Electrodes characterised by their electrical, optical, physical properties; materials therefor; method of making
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/17—Passive-matrix OLED displays
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/17—Passive-matrix OLED displays
- H10K59/173—Passive-matrix OLED displays comprising banks or shadow masks
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/18—Deposition of organic active material using non-liquid printing techniques, e.g. thermal transfer printing from a donor sheet
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/10—Organic polymers or oligomers
- H10K85/111—Organic polymers or oligomers comprising aromatic, heteroaromatic, or aryl chains, e.g. polyaniline, polyphenylene or polyphenylene vinylene
- H10K85/113—Heteroaromatic compounds comprising sulfur or selene, e.g. polythiophene
- H10K85/1135—Polyethylene dioxythiophene [PEDOT]; Derivatives thereof
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、有機エレクトロルミネセンスディスプレーの製造方法および有機エレクトロルミネセンスディスプレーに関する。
【0002】
【従来の技術】
平面テレビ画面の市場では現在広い範囲でいわゆる液晶ディスプレー(LC−ディスプレー)が支配的である。LCディスプレーは費用のかからない製造能力、少ない電気出力、少ない質量および少ない場所の必要により際立っている。しかしLCディスプレーはこれと並んで、特にこの画面が自己発光性でなく、従って周囲の光の関係に適合する場合にのみ読み取れるかまたは認識できるという欠点を有する。
【0003】
1987年以降有機発光ダイオード(OLED)を基礎とするディスプレーが知られている。これは原則的に2つの電極の間に配置されたエレクトロルミネセンス有機層からなる。電極に電位をかけると、電子と有機層に注入される正孔の再結合により発光する。OLEDの自己発光性によりLCディスプレーにしばしば必要である背後の照明の必要性がなくなる。これによりOLEDの場所の必要および電気出力がかなり減少する。切り替え時間はマイクロ秒の範囲であり、温度依存性が少なく、これはビデオの適用の使用を可能にする。読み取り角度はほぼ180℃である。LCディスプレーに必要であるような偏光フィルムは多くの場合に省かれ、ディスプレー部品のより高い輝度が達成可能である。他の利点は柔軟であり、平坦でない基板を使用できることである。
【0004】
OLEDにおいては、第1電極(アノード)として、多くの場合にインジウム−錫−酸化物(ITO)からなる透明な電極を使用する。ITOは一般に大きな面積で、多くの場合に透明である基板に付着し、引き続きフォトリソグラフィー法および引き続くHBrを使用するエッチングにより構造化し、これにより好ましい電極の形が得られる。パッシブ−マトリックス−ディスプレーとして使用するために、一般に電極を平行な電極条片の形で構造化する。
【0005】
特別な使用のために、例えばフルカラーディスプレーの場合に、基板とITO電極条片の間になお付加的な層、例えばカラーフィルターが存在してもよい。引き続き構造化されたアノードに機能性有機層を付着する。例えばヒドロキシキノリン−アルミニウム−III塩のような低分子系からなる層においては、これは一般に真空下の熱蒸着法により行われる。エレクトロルミネセンスポリマーを使用する場合に、溶液から大きな面積の被覆法、例えばドクター塗布、スピンコーティングまたは特別な印刷法、例えばスクリーン印刷またはインキジェット印刷により機能層を付着することができる。無接触のインキジェット印刷法を使用して画素を明らかに示す窓層の窓に機能性ポリマーを付着することが公知である(特許文献1参照)。この無接触の印刷法を使用して多層の機能層を実現することができる。エレクトロルミネセンスポリマーを付着するための多くの標準的印刷法、例えばロール印刷法、オフセット印刷法およびスクリーン印刷法が公知である(例えば特許文献2参照)。
【0006】
引き続き有機エレクトロルミネセンス層に、第2の層、カソードを、典型的にはシャドーマスクを通過させて蒸着により付着することができる。このマスクの取り扱い能力により製造可能なカソード構造はその大きさ、その形およびその間隔が制限される。この問題を回避するために、種々の使用、例えばパッシブ−マトリックス−ディスプレーのためにフォトラックからなるはぎ取り縁部を有する平行な列の条片状ウェブを第1電極条片上に形成する(例えば特許文献3参照)。この条片状ウェブの形状および位置により、金属層を大きな面積で蒸着し、引き続き条片状ウェブのはぎ取り縁部ではぎ取り、カソード条片を作製することによりアノード条片に対して垂直に、決められた幅および間隔を有する平行なカソード通路を作製することができる。この方法は、付加的な処理工程、すなわち条片状ウェブの構造化が必要であるという欠点を有する。
【0007】
無接触のインキジェット印刷法を使用して電極を製造することは公知である(特許文献4および5参照)。しかしこの方法はきわめて遅く、従ってきわめて費用がかかる。更にインキジェット印刷法を使用して決められた層厚を有する均一な電極層を製造することはきわめて困難である。
【0008】
【特許文献1】
欧州特許(EP−A2)第0892028号明細書
【特許文献2】
WO99/07189号明細書
【特許文献3】
欧州特許(EP−A2)第0910128号明細書
【特許文献4】
WO99/39373号明細書
【特許文献5】
WO99/43031号明細書
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、前記の欠点が回避される有機発光ダイオード、特にディスプレーの製造方法を提供することである。
【0010】
【課題を解決するための手段】
前記課題は請求項1に記載される方法により解決される。この方法の有利な構成およびこの方法により製造されるディスプレーは従属請求項の対象である。
【0011】
本発明の製造方法において、第1処理工程A)において基板上に第1電極層を作製する。処理工程B)において第1電極層上に少なくとも1つの機能性有機層を作製する。処理工程C)において機能層上に第2電極層を作製し、その際電極層の少なくとも一方または2つの電極層を接触接着印刷法のみを使用して電極条片の形で構造化して大きな面積で基板上に作製する。
【0012】
本発明の方法は、ただ1つの処理工程で接触接着印刷法(kontaktbehafteten Druckverfahren)を使用して電極層を構造化して製造できるという利点を有する。従って電極層を蒸着しなければならない時間と費用がかかる高真空工程はもはや必要でない。更に接触接着印刷法を使用して短い時間内に基板上に大きな面積を電極層で構造化して印刷することが可能である。
【0013】
接触接着印刷法とは、この場合に、電極層の被覆に当てはまる印刷装置の部品、従って例えば印刷ローラーまたはスクリーンが印刷すべき平面と接触する、すべての大きな面積の印刷法であると理解される。第1電極層を印刷する場合に、印刷装置のこの部品が基板と接触する。これに対して第2電極層を印刷する場合は、印刷装置がエレクトロルミネセンス層と接触する。無接触のインキジェット印刷法を除いてすべての印刷法が該当する。例えばゴムまたはプラスチックからなる柔軟性の印刷板を使用することができるフレキソ印刷が挙げられる。更にスクリーン印刷法、例えばスクリーン印刷法または色透過性材料からなるステンシルからなる版型を通過させて印刷するステンシル印刷を使用することができる。
【0014】
電気信号を熱に変換し、熱が再び印刷すべき構造を表示材料に作製するタンポン印刷および熱転写印刷も可能である。更に平版印刷、凸版印刷および凹版印刷が該当する。平版印刷、例えばオフセット印刷の場合は、印刷する部分および印刷しない部分が事実上1つの平面に存在する版型、例えばローラーから印刷される。凹版印刷または凸版印刷の場合は、印刷する部分がローラーの残りの部分に比べてより低いかまたは高くなっている版型から印刷される。
【0015】
その際第1および第2の電極層は本発明の方法を使用して互いに横に延びる電極条片の形で構造化して付着することができ、パッシブ−マトリックスディスプレーに適した電極を印刷することができる。本発明の方法のこの変形の利点は、前記接触接着印刷法を使用して電極条片の製造および構造化を特に有利に1つの処理工程で行うことができるか、または別の構造化がもはや必要でないことである。更にシャドーマスクを通過する費用のかかる蒸着工程がもはや必要でない。
【0016】
その際機能層は液晶マトリックスまたは有機エレクトロルミネセンス材料を有することができ、それというのも本発明の方法は液晶ディスプレーを製造するために、およびただ1つの発光面を有する有機発光ダイオードおよび画素からなるマトリックスを有するOLEDディスプレーを製造するために使用できるからである。
【0017】
電極層のための印刷可能な材料として、本発明の方法において多くの金属ペースト、金属酸化物ペーストまたは導電性ポリマーを使用することができる。金属ペーストとして、例えば錫、鉛または銀を有するろうペーストを使用することができ、このペーストは粘度を適合するためにフラックス、例えばグリコールエーテルのような高級アルコールを含有する。他の成分、例えば樹脂は同様に印刷能力に影響を与えることができる。金属酸化物ペーストとして、例えばインジウム−錫−酸化物を基礎とするペーストが該当する。錫をドーピングしたインジウム酸化物だけでなく亜鉛をドーピングしたインジウム酸化物(IZO)も使用することができる。導電性ポリマーとして、例えばポリアニリン(PANI)、ポリエチレンジオキシチオフェン(PEDOT)またはPEDOTとポリスチレンスルホン酸(PSS)の混合物を使用することができる。一般にこの導電性ポリマーおよび任意の有機溶剤、例えばキシレンまたはトルエンのようなメチルベンゼンを含有する液相または粘性の相を印刷可能な材料として使用し、その際印刷後に溶剤を蒸発する。
【0018】
本発明の方法の他の変形は、処理工程A)のみで接触接着印刷法を使用して第1電極層または第1電極条片を作製することである。引き続き処理工程C)で第2の導電性層または第2の電極条片をシャドーマスクを通過させて蒸着する。この変形は、機械的に敏感なエレクトロルミネセンス層に他の電極層を印刷せず、特に温和に蒸着するという利点を有する。
【0019】
本発明の方法の他の変形において、処理工程C)および/またはB)の前に別の処理工程B1)において距離スペーサーを作製する。その際距離スペーサーは、処理工程C)でエレクトロルミネセンス層上に第2電極層を被覆するために当てはまる印刷装置の部品が距離スペーサーのみと接触することができ、すでに付着した機械的に損傷しやすいエレクトロルミネセンス層に接触しないように取り付けられる。その際距離スペーサーを、機能層の付着の前に基板および第1電極層上に作製するかまたは処理工程B)の後に直接機能層に作製することが可能である。距離スペーサーは、その最大距離が電極材料の被覆に当てはまる印刷機の部品の最も小さい水平方向の寸法より小さくなるように有利に構造化される。このやり方で、例えば印刷ローラーが場合により栓状に形成される距離スペーサーの間に降下し、これによりすでに付着した機能層に押し込まれ、これを損傷することを避けることができる。距離スペーサーは、例えば栓の形または条片状ウェブの形で構造化することができる。
【0020】
距離スペーサーは多くの標準的印刷法を使用して構造化して印刷することができるかまたはポジ形またはネガ形のフォトラックから構造化することができる。この場合にフォトラックを大きな面積で付着し、引き続きマスクを通過させて感光し、その後現像する。
【0021】
更に本発明の方法の他の構成において、処理工程B)で印刷法を使用して機能層を作製することもできる。その際前記の接触接着印刷法および例えばインキジェット印刷法のような無接触の印刷法が該当する。特に接触接着印刷法が、短い時間で大きな面積を、機能層を有して、特に簡単に、安い費用で印刷できるという利点を有する。更に機能層を、例えばスピンコーティングを使用して回転塗布することが可能である。
【0022】
本発明の方法の他の有利な構成において、処理工程A)で接触接着印刷法を使用して基板に第1電極条片を作製する。引き続き処理工程B)および/またはC)の前に別の処理工程B2)で第1電極条片に対して横に延びる、張り出した縁の形を有する条片状ウェブを構造化する。引き続き処理工程C)で、例えば蒸着によりディスプレーに大きな面積で金属層を塗布することができ、この場合にこの金属層はウェブの張り出した縁の形の所ではぎ取られ、第2電極条片が形成される。
【0023】
第2電極条片を、張り出した縁部を有する条片状ウェブによりまたはシャドーマスクを通過する蒸着により付着し、構造化する場合に、電極条片の材料として金属を使用することができる。特に卑金属、例えばカルシウム、バリウムまたはマグネシウムが該当する。これらの金属は約3電子ボルト(eV)のかなり低い仕事関数を有し、エレクトロルミネセンスポリマーへの電荷の特に有効な注入を可能にする。
【0024】
更に、例えばガラスまたはプラスチックからなる透明な基板を使用し、引き続き処理工程A)で透明な導電性の第1の電極層または電極条片を印刷することが可能である。この場合にエレクトロルミネセンスにより発生した光を透明な第1電極および透明な基板を通過させて放射する。その場合にこの電極の材料として、特にインジウム−錫−酸化物ペーストおよび導電性ポリマー、例えばPEDOTが該当する。
【0025】
すでに記載した距離スペーサーを取り付ける場合は、この領域は後で光らず、それというのもこの場合にエレクトロルミネセンス層は両方の電極との接点を持たなくてよいのである。この理由から画素からなるマトリックスでなく、唯一の貫通するダイオードを有する大きな面積の発光ダイオードの場合は、有利には光が放射する場合に、透明な基板および基板上に配置された透明な第1電極により、基板を観察者に向けられた面で少なくとも部分領域でつや消しすることができる。つや消しは表面内の顕微鏡的に小さい窪みにより生じる。それぞれの窪みはそれ自体発光する光の散乱中心として作用する。光の拡散分布およびこれと結びついた光の放射の均一化により薄い距離スペーサーは製造したディスプレーの観察者にはいわば不可視となることがある。透明な基板として、例えばガラス板を使用する場合は、これをサンドブラストにより粗面化し、これによりつや消しすることができる。つや消しは本発明の方法の間のそれぞれの時点で行うことができる。
【0026】
【実施例】
以下に本発明の方法を図面および実施例により詳細に説明する。
【0027】
図1〜7は本発明の方法の特に有利な変形の種々の処理工程を示す。
【0028】
図1には基板1上にローラー6を使用して構造化された第1電極条片5が付着していることが示される(処理工程A)。その際印刷ローラー6の印刷する領域は、例えば高くなっていてもよい(凸版印刷法)。
【0029】
図2には処理工程A)の後の第1電極条片5を有する基板1が示される。
【0030】
図3は距離スペーサー15が第1電極条片5に対して垂直に付着している付加的な処理工程B1)を示す。すでに記載されたように、この距離スペーサーは印刷するかまたはポジ形またはネガ形フォトラックから、例えばマスクを通過する感光により構造化することができる。距離スペーサー15は、基板1から更に離れたその領域が小さくなる横断面を有し、従って張り出した縁部の形を示さないように有利に構造化される。これは、第2電極条片を大きな面積でシャドーマスクを通過させて蒸着し、電極条片が距離スペーサーではぎ取られないことにより可能であるという利点を有する。第2電極条片がこの距離スペーサーの間に印刷される、ここに示される本発明の方法の変形において、距離スペーサーが張り出した構造を有しないことは必ずしも重要でない。
【0031】
図4には処理工程B)が示される。その際ローラー6を使用して印刷可能なエレクトロルミネセンス層20Aのための溶剤を有する材料を基板に大きな面積で印刷する。被覆の直後に、例えば5μmの機能層の層厚は一般に2μmであってもよい距離スペーサーの最大高さより大きいので、距離スペーサーの隆起はなお乾燥されていない機能層から完全に覆われ、基板に平坦な平面が形成される。
【0032】
図5には、乾燥後の機能層20、例えばエレクトロルミネセンス層を有する配置が示される。印刷可能な機能層がきわめて高い割合の溶剤(99%まで)を含有するので、この層は乾燥工程中に溶剤の蒸発によりかなり収縮する。従って乾燥中のエレクトロルミネセンス層の層厚が、例えば5μmから約75nmに減少する。これにより、距離スペーサーがすでに被覆した機能層より大きい高さを有し、従って処理工程C)で第2電極条片の被覆中にその機能が満たされることが保証される。
【0033】
図6にはローラー6を使用して第2電極条片25を距離スペーサー15の間に構造化して第1電極条片1に対して垂直に印刷する、処理工程C)が示される。その際距離スペーサー15は、ローラー6がエレクトロルミネセンス層20と直接接触し、これが損傷することを阻止する。しかし同時にローラー6上に被覆すべき第2の電極条片の厚さが距離スペーサー15の高さより大きいので、依然としてエレクトロルミネセンス層20上の電極材料の被覆が生じる。
【0034】
図7には処理工程C)の後のOLEDディスプレーが示される。その際第2電極条片25は距離スペーサー15の間に存在する。
【0035】
実施例1
パッシブ−マトリックスディスプレー
透明な基板上に、スクリーン印刷を使用して、幅300μmおよび間隔30μmおよび高さ1μmを有する平行な第1電極条片が生じるようにポリアニリンを印刷する。引き続き第1電極条片に機能性エレクトロルミネセンスポリマーからなる2個の層を回転塗布または印刷する。引き続き第1電極条片に対して垂直に幅300μmおよび間隔30μmで、低い仕事関数の金属、例えば亜鉛の平行な2個の電極条片を印刷する。その際印刷可能な材料として亜鉛ペーストを使用する。第1電極条片と第2電極条片の交点は露光画素を表わす(画素面積約300×300μm2)。
【0036】
実施例2
カラーフィルターを有するフルカラーディスプレー
透明な基板上にカラーフィルターを構造化して付着する。その際赤、緑および青の3個の異なる色のカラーフィルターを、カラーフィルターが1個の色画素に対して3個のサブピクセルを表わすように配置する。3個のサブピクセルはそれぞれ1個の画素を形成し、その色は付加的にサブピクセルの色から構成され、すべての製造可能な混合色を製造することができる。タンポン印刷を使用してカラーフィルターにPEDOTおよびPSSの混合物を、幅70μmおよび間隔30μmを有する平行な第1電極条片が生じるように印刷することができる。本発明により、第1電極条片の構造化された印刷により、カラーフィルターを損傷する、例えば臭化水素(HBr)のような反応性化学物質を使用する第1電極条片の従来の構造化を特に有利に回避することができる。
【0037】
第1電極条片上に、小さなエレクトロルミネセンス分子、例えばアルミニウム−ヒドロキシキノリン−III塩からなる複数の層を真空で蒸着する。引き続きフッ化リチウムからなる約1nmの厚さの薄い層を蒸着する。
【0038】
引き続き第1電極条片に対して垂直に、スクリーン印刷を使用して、カソードとして銀導電性ペーストの平行な第2電極条片を幅270μmおよび間隔30μmで印刷する。
【0039】
第1電極条片、アノードと第2電極条片、カソードの交点はディスプレーのフルカラー露光画素を表わす(面積約270×270μm2、サブピクセルそれぞれ70×270μm2)。その際フッ化リチウムからなる中間層は、高い仕事関数のカソード材料、例えばアルミニウムまたは銀と結びついてエレクトロルミネセンスポリマーに関するきわめて良好な電子注入特性を示す。その際フッ化リチウムからなる中間層はきわめて薄く、構造化されずに蒸着することができ、構造化して印刷されるカソードの特性に影響しない。
【0040】
本発明の方法はここで具体的に記載された実施例に限定されない。従って、例えば電極層または電極条片の一方のみを接触接着印刷法を使用して付着し、他の電極条片の場合は他の印刷法または他のすでに記載された方法を使用することが可能である。更に他の印刷可能な導電性材料を本発明の方法を使用して印刷することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の方法の処理工程A)の基板上に第1電極層を作製する図である。
【図2】処理工程A)の後の図である。
【図3】距離スペーサーを作製する付加的な処理工程B1)の図である。
【図4】第1電極層上に機能層を作製する処理工程B)の図である。
【図5】乾燥後の機能層を有する配置を示す図である。
【図6】機能層に第2電極層を作製する処理工程C)の図である。
【図7】処理工程C)の後のディスプレーの図である。
【符号の説明】
1 基板、 5 第1電極条片、 6 印刷ローラー、 15 距離スペーサー、 20A 印刷可能なエレクトロルミネセンス層、 20 乾燥後のエレクトロルミネセンス層、 25 第2電極条片
Claims (15)
- 以下の処理工程:
A)基板(1)上に第1の電極層を作製する工程、
B)第1の電極層上に少なくとも1個の機能層(20)を作製する工程、
C)機能層上に第2の電極層を作製する工程、
を有し、その際第1の電極層および/または第2の電極層を、接触接着印刷法のみを使用して、電極条片(5、25)の形で構造化して、基板上に作製し、その際、
処理工程C)および/またはB)の前に、処理工程B1)において距離スペーサー(15)を作製し、その際、距離スペーサー(15)を栓の形で構造化し、処理工程C)において距離スペーサー(15)が、機能層(20)と、第2の電極層の被覆を施与する印刷装置の部品(6)との接触を阻止する、有機エレクトロルミネセンスディスプレーを製造する方法。 - 第1の電極層および第2の電極層を、電極条片(5、25)の形で構造化して互いに横に付着する請求項1記載の方法。
- 処理工程B)において機能層として有機エレクトロルミネセンス材料を付着する請求項1または2記載の方法。
- 処理工程B)において印刷法を使用して機能層を作製する請求項1から3までのいずれか1項記載の方法。
- 接触接着印刷法を使用して機能層を作製する請求項4記載の方法。
- 機能層を回転塗布(スピンコーティング)する請求項1から5までのいずれか1項記載の方法。
- 処理工程A)において接触接着印刷法を使用して基板に第1の電極条片を作製し、処理工程B)および/またはC)の前に、処理工程B2)において第1の電極条片に対して横に延びる張り出した縁部の形の条片状ウェブを構造化する請求項1記載の方法。
- 処理工程A)および/またはC)において第1および/または第2の電極層のために、以下の群:
a)金属ペースト、
b)金属酸化物ペースト、
c)導電性ポリマー
から選択される物質を使用する請求項1から7までのいずれか1項記載の方法。 - 前記群が以下の物質:
a)錫、鉛または銀を有するろうペースト、
b)インジウム−錫−酸化物ペースト、
c)ポリアニリン(PANI)、ポリエチレンジオキシチオフェン(PEDOT)またはPEDOTとポリスチレンスルホン酸(PSS)の混合物
を含む請求項8記載の方法。 - 処理工程A)および/またはC)において接触接着印刷法として、フレキソ印刷、スクリーン印刷、タンポン印刷、熱転写印刷、オフセット印刷または凸版印刷および凹版印刷を使用する請求項1から9までのいずれか1項記載の方法。
- 透明な基板を使用し、透明な導電性の第1の電極層を作製する請求項1から10までのいずれか1項記載の方法。
- 基板(1)の観察者に向けられた面を少なくとも部分領域でつや消しする請求項1から11までのいずれか1項記載の方法。
- 第1の電極層を、ただ1つの処理工程で接触接着印刷法を使用して構造化して作製する請求項1から12までのいずれか1項記載の方法。
- 被覆の直後に、印刷可能な機能層(20)の層厚が距離スペーサー(15)の最大高さより大きく、かつ、機能層(20)が乾燥工程中に強度に収縮して、乾燥工程後に距離スペーサー(15)がすでに被覆した機能層(20)より大きい高さを有する請求項1から13までのいずれか1項記載の方法。
- 請求項1から14までのいずれか1項記載の方法により製造される有機エレクトロルミネセンスディスプレー。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10157945A DE10157945C2 (de) | 2001-11-27 | 2001-11-27 | Verfahren zur Herstellung eines organischen, elektrolumineszierenden Displays sowie ein organisches, elektrolumineszierendes Display |
DE10157945.4 | 2001-11-27 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003168560A JP2003168560A (ja) | 2003-06-13 |
JP4360797B2 true JP4360797B2 (ja) | 2009-11-11 |
Family
ID=7707003
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002342610A Expired - Fee Related JP4360797B2 (ja) | 2001-11-27 | 2002-11-26 | 有機エレクトロルミネセンスディスプレーの製造方法およびこの種のディスプレー |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6851996B2 (ja) |
JP (1) | JP4360797B2 (ja) |
DE (1) | DE10157945C2 (ja) |
Families Citing this family (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20060146109A1 (en) * | 2002-09-13 | 2006-07-06 | Goodyer Anthony W | Apparatus including a treatment station for ink on a paper or other substrate |
US6900876B2 (en) * | 2003-02-13 | 2005-05-31 | Eastman Kodak Company | Process and structures for selective deposition of liquid-crystal emulsion |
KR100993826B1 (ko) * | 2003-11-19 | 2010-11-12 | 삼성전자주식회사 | 표시장치 및 이의 제조 방법 |
DE102004012319A1 (de) * | 2004-03-11 | 2005-09-22 | H.C. Starck Gmbh | Funktionsschichten für optische Anwendungen auf Basis von Polythiophenen |
WO2005119807A1 (fr) * | 2004-06-02 | 2005-12-15 | Thomson Licensing | Diode organique electroluminescente comprenant une couche organique dopee |
KR101027896B1 (ko) | 2004-08-13 | 2011-04-07 | 테크니셰 유니베르시테트 드레스덴 | 발광 컴포넌트를 위한 층 어셈블리 |
DE502005002342D1 (de) * | 2005-03-15 | 2008-02-07 | Novaled Ag | Lichtemittierendes Bauelement |
EP1713136B1 (de) | 2005-04-13 | 2007-12-12 | Novaled AG | Anordnung für eine organische Leuchtdiode vom pin-Typ und Verfahren zum Herstellen |
JP4645311B2 (ja) * | 2005-06-03 | 2011-03-09 | 凸版印刷株式会社 | 有機el素子の製造方法及び有機el素子製造装置 |
DE502005004675D1 (de) * | 2005-12-21 | 2008-08-21 | Novaled Ag | Organisches Bauelement |
EP1804309B1 (en) * | 2005-12-23 | 2008-07-23 | Novaled AG | Electronic device with a layer structure of organic layers |
EP1804308B1 (en) * | 2005-12-23 | 2012-04-04 | Novaled AG | An organic light emitting device with a plurality of organic electroluminescent units stacked upon each other |
EP1808909A1 (de) * | 2006-01-11 | 2007-07-18 | Novaled AG | Elekrolumineszente Lichtemissionseinrichtung |
EP1848049B1 (de) * | 2006-04-19 | 2009-12-09 | Novaled AG | Lichtemittierendes Bauelement |
JP2008243557A (ja) * | 2007-03-27 | 2008-10-09 | Osaka Univ | 有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法 |
DE102007019260B4 (de) * | 2007-04-17 | 2020-01-16 | Novaled Gmbh | Nichtflüchtiges organisches Speicherelement |
EP2077698B1 (en) * | 2007-05-31 | 2011-09-07 | Panasonic Corporation | Organic el device and method for manufacturing the same |
WO2009007899A1 (en) * | 2007-07-11 | 2009-01-15 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Organic functional device and manufacturing method therefore |
KR101135292B1 (ko) * | 2007-09-07 | 2012-04-12 | 연세대학교 산학협력단 | 다층 구조 소자 및 그 제조 방법 |
KR100982411B1 (ko) * | 2007-12-27 | 2010-09-15 | (주)에이디에스 | 유기 발광 다이오드 및 그 제조방법 |
DE102008036063B4 (de) * | 2008-08-04 | 2017-08-31 | Novaled Gmbh | Organischer Feldeffekt-Transistor |
DE102008036062B4 (de) | 2008-08-04 | 2015-11-12 | Novaled Ag | Organischer Feldeffekt-Transistor |
EP2774180B1 (en) * | 2011-11-03 | 2022-01-12 | Koninklijke Philips N.V. | Structuring of oleds |
Family Cites Families (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3616098A (en) * | 1968-03-18 | 1971-10-26 | Dearborn Glass Co | Method of producing glare-reducing glass surface |
DE2620530C2 (de) * | 1975-05-12 | 1982-05-13 | Hitachi, Ltd., Tokyo | Flüssigkristall-Matrixanzeige |
JPS58106850U (ja) * | 1982-01-14 | 1983-07-20 | 株式会社日立製作所 | 表示パネル |
JPS6167829A (ja) * | 1984-09-11 | 1986-04-08 | Canon Inc | カイラルスメクティック液晶素子 |
US5270229A (en) * | 1989-03-07 | 1993-12-14 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Thin film semiconductor device and process for producing thereof |
DE69129907T2 (de) * | 1990-11-30 | 1998-12-10 | Idemitsu Kosan Co | Organische elektroluminszente vorrichtung |
JP3284249B2 (ja) * | 1992-03-06 | 2002-05-20 | セイコーエプソン株式会社 | 発光素子の製造方法 |
US5410217A (en) * | 1994-01-31 | 1995-04-25 | Leading Edge Industries, Inc. | Electroluminescent lamps and displays having thick film and means for electrical contacts |
DE19507413A1 (de) * | 1994-05-06 | 1995-11-09 | Bayer Ag | Leitfähige Beschichtungen |
US5804917A (en) * | 1995-01-31 | 1998-09-08 | Futaba Denshi Kogyo K.K. | Organic electroluminescent display device and method for manufacturing same |
JPH08286172A (ja) * | 1995-04-17 | 1996-11-01 | Sony Corp | プラズマアドレス表示装置 |
US6843937B1 (en) * | 1997-07-16 | 2005-01-18 | Seiko Epson Corporation | Composition for an organic EL element and method of manufacturing the organic EL element |
GB9715907D0 (en) * | 1997-07-29 | 1997-10-01 | Cambridge Consultants | Electroluminescent device production process |
US6034481A (en) * | 1997-08-13 | 2000-03-07 | Add-Vision, Inc. | Electroluminescent display with independently addressable picture elements |
EP1027741A4 (en) * | 1997-08-15 | 2005-10-12 | Dupont Displays Inc | ORGANIC DIODES WITH SWITCHABLE PHOTO SENSITIVITY |
TW432896B (en) * | 1997-10-15 | 2001-05-01 | Siemens Ag | Preparation of organic electroluminescencizing elements |
US6087196A (en) * | 1998-01-30 | 2000-07-11 | The Trustees Of Princeton University | Fabrication of organic semiconductor devices using ink jet printing |
GB9803763D0 (en) * | 1998-02-23 | 1998-04-15 | Cambridge Display Tech Ltd | Display devices |
US6483099B1 (en) * | 1998-08-14 | 2002-11-19 | Dupont Displays, Inc. | Organic diodes with switchable photosensitivity |
EP0986112A3 (en) * | 1998-09-11 | 2004-02-04 | Agilent Technologies, Inc. (a Delaware corporation) | An efficient method for fabricating organic light emitting diodes |
EP1214868B1 (en) * | 1999-09-01 | 2011-01-12 | OSRAM Opto Semiconductors GmbH | Organic electroluminescent device and production method thereof |
JP2001155858A (ja) * | 1999-11-24 | 2001-06-08 | Sharp Corp | 有機el素子の製造方法 |
JP2001351787A (ja) * | 2000-06-07 | 2001-12-21 | Sharp Corp | 有機led素子とその製造方法および有機ledディスプレイ |
US20030089252A1 (en) * | 2001-11-09 | 2003-05-15 | Sarnecki Greg J. | Production of Electroluminescent Devices |
-
2001
- 2001-11-27 DE DE10157945A patent/DE10157945C2/de not_active Expired - Lifetime
-
2002
- 2002-01-22 US US10/055,142 patent/US6851996B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-11-26 JP JP2002342610A patent/JP4360797B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE10157945A1 (de) | 2003-06-12 |
JP2003168560A (ja) | 2003-06-13 |
US6851996B2 (en) | 2005-02-08 |
US20030098946A1 (en) | 2003-05-29 |
DE10157945C2 (de) | 2003-09-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4360797B2 (ja) | 有機エレクトロルミネセンスディスプレーの製造方法およびこの種のディスプレー | |
KR102322637B1 (ko) | 전용액 oled 장치 및 그 제조 방법 | |
JP2006286309A (ja) | 有機el表示装置とその製造方法 | |
CN102960068A (zh) | 有机电致发光显示面板及其制造方法 | |
US7833569B2 (en) | Organic electroluminescent device and method for manufacturing the same | |
US9099406B2 (en) | Organic electroluminescence display device, and electronic system | |
JP4706845B2 (ja) | 有機el素子の製造方法 | |
US7719183B2 (en) | Manufacturing method of organic electroluminescent device and an organic electroluminescent device | |
KR101296651B1 (ko) | 유기전계발광 소자의 제조방법 | |
JP4747637B2 (ja) | 有機elディスプレイパネルの製造方法 | |
US7544383B2 (en) | Method for applying mechanically sensitive layers to a substrate over a large area | |
Ando et al. | 68.3: WITHDRAWN 68.4 L: Late‐News Paper: High‐resolution Printing of OLED Displays | |
JP3893774B2 (ja) | 電界発光素子およびその製造方法 | |
JP2006286241A (ja) | 有機elディスプレイパネルおよびその製造方法 | |
US8231933B2 (en) | Method for manufacturing organic electroluminescence device | |
JP2014067543A (ja) | 有機el素子及び有機el素子の製造方法 | |
KR100860501B1 (ko) | 유기전기발광소자의 패터닝 장치 및 패터닝 방법 | |
JP2006278206A (ja) | 有機el素子の製造方法 | |
JP6295509B2 (ja) | 凸版印刷装置 | |
JP2008140588A (ja) | 有機el素子及びその製造方法、凸版 | |
KR20070084184A (ko) | 비화소화 디스플레이 | |
JP2015185531A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法 | |
JP2012069330A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子とその製造方法 | |
JP2014060104A (ja) | 有機el素子及びその製造方法 | |
JP2006286246A (ja) | 有機el素子の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050909 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080912 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080919 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20081209 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20081212 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20090119 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20090122 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20090218 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20090223 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090313 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090416 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20090518 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090629 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090721 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090811 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120821 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120821 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130821 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |