JPS6167829A - カイラルスメクティック液晶素子 - Google Patents

カイラルスメクティック液晶素子

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JPS6167829A
JPS6167829A JP59191162A JP19116284A JPS6167829A JP S6167829 A JPS6167829 A JP S6167829A JP 59191162 A JP59191162 A JP 59191162A JP 19116284 A JP19116284 A JP 19116284A JP S6167829 A JPS6167829 A JP S6167829A
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Kazuo Yoshinaga
和夫 吉永
Shinjiro Okada
伸二郎 岡田
Junichiro Kanbe
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    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
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    • G02F1/137Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells characterised by the electro-optical or magneto-optical effect, e.g. field-induced phase transition, orientation effect, guest-host interaction or dynamic scattering
    • G02F1/139Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells characterised by the electro-optical or magneto-optical effect, e.g. field-induced phase transition, orientation effect, guest-host interaction or dynamic scattering based on orientation effects in which the liquid crystal remains transparent
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    • G09EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09GARRANGEMENTS OR CIRCUITS FOR CONTROL OF INDICATING DEVICES USING STATIC MEANS TO PRESENT VARIABLE INFORMATION
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    • G09G3/3622Control of matrices with row and column drivers using a passive matrix
    • G09G3/3629Control of matrices with row and column drivers using a passive matrix using liquid crystals having memory effects, e.g. ferroelectric liquid crystals

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、液晶表示素子や液晶−光シャッタ等で用いる
液晶素子に間し、更に詳しくは液晶分子の初期配向状態
を改善することにより1表示ならびに駆動特性を改善し
た液晶素子に関するものである。
従来より、走査電極群と信号電極群をマトリクス状に構
成し、その電極間に液晶化合物を充填し多数の画素を形
成して、画像或いは情報の表示を行う液晶表示素子は、
よく知られている。この表示素子の駆動法としては、走
査電極群に順次周期的にアドレス信号を選択印加し。
信号電極群には所定の情報信号をアドレス信号と回期さ
せて並列的に選択印加する時分割駆動が採用されている
が、この表示素子及びその駆動法には以下に述べる如き
致命的とも言える大きな欠点がある。
即ち1画素密度を高く、或いは画面を大きくするのが難
しいことである。従来の液晶の中で応答速度が比較的高
く、シかも消費電力が小さいことから5表ノI\素子と
して実用に供されているのは殆んどが1例えばM、5c
hadtとW、He1frich著 ”Applied
  Physics  Letters″ Vo、 1
8 。
No、4 (1971,2,15)、P、127〜12
8のVoyage−Dependent  0ptic
al  Activity  of  aTwiste
d  Nemaヒic  Liquid  Cryst
al”に示されたTN(twisted  nemat
ic)型の液晶を用いたものであり、この型の液晶は、
無電解状態で正の誘電異方性をもつネマティック液晶の
分子が液晶層厚方向で捩れた構造(ヘリカル構造)を形
成し、両電極間でこの液晶の分子が平行に配列した構造
を形成している。一方、電界印加状態では、正のXsi
異方性をもつネマティック液晶が電界方向に配列し、こ
の結果光学変調を起すこができる。この型の液晶を用い
てマトリクス電極構造によって表示素子を構成した場合
、走査電極と信号電極が共に選択される領域(選択点)
には、液晶分子を電極面に垂直に配列させるに要する閾
値以上の電圧が印加され。
走査電極と信号電極が共に選択されない領域(非選択点
)には電圧は印加されず、したがって液晶分子は電極面
に対して並行な安定配列を保っている。このような液晶
セルの上下に互いにクロスニコル関係にある直線偏光子
を配置することにより1選択点では光が透過せず、非選
択点では光が透過するため、画像素子とすることが可イ
屯となる。然し乍ら、マトリクス電極構造を構成した場
合には、走査電極が選択され、信号電極が選択されない
領域、或いは走査電極が選択されず、信号電極が選択さ
れる領域(所謂1半選択点″)にも有限に電界がかかつ
てしまう0選択点にかかる電圧と、半選択点にかかる電
圧の差が充分に大きく、液晶分子を電界に垂直に配列さ
せるのに要する電圧閾値がこの中間の電圧値に設定され
るならば、表示素子は正常に動作するわけであるが、走
査線数(N)を増やして行った場合、画面全体(1フレ
ーム)を走査する間に一つの選択点に有効な電界がかか
っている時間(duty比)がl/Nの割合で減少して
しまう、このために、くり返し走査を行った場合の選択
点と非選択点にかかる実効値としての電圧差は、走査線
数が増えれば増える程小さくなり、結果的には画像コン
トラストの低下やりaストークが避は難い欠点となって
いる。このような現象は、双安定性を有さない液晶(電
極面に対し、液晶分子が水平に配向しているのが安定状
態であり3電界が有効に印加さている間のみ垂直に配向
する)を時間的蓄積効果を利用して駆動する(即ち、繰
り返し走査する)ときに生ずる木質的には避は難い問題
点である。この点を改良するために、電圧平均化法、2
周波駆動法や、多重マトリクス法等が既に提案されてい
るが、いずれの方法でも不充分であり、表示素子の大画
面化や高密度化は、走査線数が充分に増やせないことに
よって頭打ちになっているのが現状である。
一方、プリ嶋ンタ分野を眺めて見るに、電気信号を入力
としてハードコピーを得る手段として1画素密度の点か
らもスピードの点からも電気画像信号を光の形で電子写
真感光体に与えるレーザービームプリンタ(LBP)が
現在最も優れている。ところがLBPには、 1、 プリンタとしてのが装置が大型になる;2、 ポ
リゴンスキャナの様な高速の駆動部分があり騒音が発生
し、また厳しい機械的精度が要求される;など の欠点がある。この様な欠点を解消すべく電気信号を光
信号に変換する素子として、液晶シャッターアレイが提
案されている。ところが、液晶シャッタアレイを用いて
画素信号を与える場合、たとえば210mmの長さの中
に画素信号を18dot/mmの4合でaき込むために
は、3000個以上の信号発生部を有していなければな
らず、それぞれに独立した信号を与えるためには1元来
それぞれの信号発生部会てに信号を送るリード線を配線
しなければならず、製作上困難であった。
そのため、ILINE(ライン)分の画素信号を数行に
分割された信号発生部により、時分割して与える試みが
なされている。この様にすれば、信号を与える電極を、
複数の信号発生部に対して共通にすることができ、実質
配線を大幅に軽減することができるからである。ところ
が、この場合通常行われているように双安定性をイiさ
ない液晶を用いて行数(N)を増して行くと、信号ON
の時間が実質的に17Nとなり感光体上で得られる光量
が減少してしまってり、りaストークの問題が生ずると
いう難点が′ ある。
このような従来型の液晶素子の欠点を改善するものとし
て、双安定性を有する液晶素子の使用が、C1arkお
よびLage rwa l lにより提案されている(
特開昭56−107216号公報、米国特許:JS43
67924号明細書′V)、双安定性液晶としては、一
般に、カイラルスメクティックC相(5m0本)又は他
のカイラルスメクティック相、具体的にはカイラルスメ
クティックH相(SmH本)、カイラルスメクティック
F相(SmF本)、カイラルスメクティックエ相(Sm
I末)、およびカイ強誘電性液晶が用いられる。
この液晶は電界に対して第1の光学的安定状態と:JS
2の光学安定状態からなる双安定状態を有し、従って前
述のTN型の液晶で用いられた光学変調素子とは異なり
1例えば一方の電界ベルトに対して第1の光学的安定状
態に液晶が配向し、他方の電界ベクトルに対して第2の
光学的安定状態に液晶が配向される。またこの型の液晶
は、加えられる電界に応答して、極めて速やかに上記を
2つの安定状態のいずれかを取り、且つ電界の印加のな
いときはその状態を維持する性質を有する。このような
性質を利用することにより、上述した従来のTN型素子
の問題点の多くに対して、かなり本質的な改善が得られ
る。この点は、本−発明と関連して、以下に、更に詳細
に説明する。しかしながら、この双安定性を有する液晶
を用いる光学変gII素子が所定の駆動特性を発揮する
ためには、一対の平行基板間に配置される液晶が、電界
の印加状態とは%関係に、上記2つの安定状1ムの間で
の変換が効果的に起るような分子配列状j島にあること
が感賞である。たとえば5m0本又は他のカイラルスメ
クティック相を有する強誘電性液晶については、5m0
本又は他のカイラルスメクティック相を有する液晶分子
層が基板面に対して垂直で、したがって液晶分子軸が基
板面にほぼ平行に配列した領域(モノドメイン)が形成
される必要がある。しかしながら、従来の双安定性を有
する液晶を用いる光学変調素子においては、このような
モノドメイン構造を有する液晶の配向状態が、必ずしも
満足に形成されなかったために、充分な特性が得られな
かったのが実情である。
たとえば、このような配向状態を与えるために、磁界を
印加する方法、せん断力を印加する方法、などが提案さ
れている。しかしながら。
これらは、いずれも必ずしも満足すべき結果を与えるも
のではなかった。たとえば、磁界を印加する方法は、大
規模な装置を要求するとともに作動特性の良好な薄層セ
ルとは両立しがたいという難点があり、また、せん断力
を印加する方法は、セルを作成後に液晶を注入する方法
と両立しないという難点がある。
本発明の主要な目的は、上述した事情に鑑み高速応答性
、高密度画素と大面積を有する表示素子、あるいは高速
度のシャッタスピードを有する光学シャッタ等として潜
在的な適性を有する双安定性を有する液晶を使用する光
学変7A素子において、従来問題であったモノドメイン
形成性ないしは初期配向性を改善することにより、その
特性を充分に発揮させ得る液晶の配向制御法を提供する
ことにある。
本発明者らは、上述の目的で更に研究した結果、特に液
晶材料が別の相(例えば等方相等の高温状態)より、ス
メクテイック相の低温状態へ移行する降温過程に於ける
配向性に着目したところ、少なくともカイラルスメクテ
ィックCJ[J(5m0本)、カイラルスメクティック
H相(5m8本)、カイラルスメクティフクエ相(Sm
I本)、カイラルスメクティ7りG相(SmG本)など
のカイラルスメクティック相を示す液晶と、少なくとも
ネマティック相を示す液晶とを含有する液晶組成物を用
いた場合、液晶と界面で接する基板の面に液晶の分子軸
方向を優先して一方向に配列させる効果を付与すること
により、液晶分子が一方向に配列したモノドメインを形
成することができ、この結果液晶の双安定性に基づく素
子の作動特性と液晶層のモノドメイン性を両立し得る構
造の液晶素子が得られることを見い出した。
本発明は前述の知見に基づくものであり、すなわち本発
明の液晶素子は、一対の基板間に。
少なくともカイラルスメクティック相を示す液晶と、少
なくともネマティック相を示す液晶とを含有する液晶組
成物で、且つ所定温度でカイラルスメクティック相を示
す液晶組成物(好ましくは、降温過程でSmAからSm
C車に相転移を生じる液晶組成物)を封入したセル構造
をなし、前記一対の基板のうち、少なくとも一方の基板
の面が界面で接する液晶の分子軸方向を優先して一方向
に配向させる効果を有していることを特徴としている。
以下、必要に応じて図面を参照しつつ1本発明を更に詳
細に説明する。
本発明で用いる液晶!l成物は少なくともカイラルスメ
クティック相を示す液晶と、少なくともネマティック相
を示す液晶とを含有するものであって1強誘電性を有す
るものである。具体的には、SmC木、SmH木、Sm
F木。
SmI*、SmG木などのカイラルスメクテイック相を
有する液晶組成物を用いることができる。この際、カイ
ラルスメクティック液晶としては、降温過程で等方相、
スメクティックA相(SmA)およびカイラルスメクテ
ィック相に順次相転移を生じる液晶1等方相、コレステ
リック相、スメクティックA相(SmA)、およびカイ
ラルスメクティック相に順次相転移を生じる液晶、等方
相、コレステリック相およびカイラルスメクティック相
に順次相転移を生じる液晶を用いることが好ましい、又
、ネブティック液晶としては、降4過程でスメクティッ
ク相に相転移を生じる液晶を用いることが好ましい、 
本発明の液晶組成物に用いるカイラルスメクティック相
を示す液晶の具体例を表1に示す、一方ネマチイック相
を示す液晶の具体例を表2に示す。
表    1 カイライルスメクティック相を示す液晶の具体例(化合
物名、構造式及び相転移点) (1)                  CH3I (2)0文 結晶 ;= SmH京 ; SmC車 = SmA ″
+−等方相92℃    104℃ 結晶 ;= SmC木 :  SmA  :  等方相
−COOCH2CHC2H5 木 結晶 、!:  SmC末 ;!: SmA ;= 等
方相4−(2’−メチルブチル)フェニル−4′オクチ
ルオキシビフェニル−4−カルボキシレート78℃  
  80”CI      128.3℃結晶  : 
  Sm3   ’::   3m0本  ;:   
SmA171.0℃        174.2℃= 
 コレステリック相  = 等方相4−へキシルオキシ
フェニル−4−(2″−メチルブチル)ビフェニル−4
′−力ルポキシレート 結晶  ::   SmC木 ;  コレステリック相
  =  等方相結晶  4−   S m C木 =
  コレステリック相  =  等方相91.5℃  
   93℃ 結晶  :=   SmC”   :   SmA11
2℃          131℃=  コレステリッ
ク相  = 等方相83.4℃        114
℃ 〒H3 ど(汲0 (CH2) 5呆HC2H5表   2 ネマティック相を示す液晶の具体例 (化合物名、構造式及び相転移点) (A)  N−(4−エトキシベンジリデン)−4−n
−ヘキシルアニリン39.6℃           
        80.2℃結晶 ;= スメクティッ
ク相 ;= ネマティック相 ;= 等方相(B)N−
(4−n−ブトキシヘンジリデン)−4−n−才クチル
−2−メチルアニリン 17.8℃                   2
4.2℃結晶 = スメクティック相 ;= ネマティ
ック相 ;−等方相(C)4−n−ペンチルー4′−メ
トキシアゾベンゼン39℃             
        65℃結晶 = スメクティック相 
= ネマティック相 ;= 等方相(D)4−n−へキ
シル−4′−n−ブトキシアゾキシベンゼン27℃  
                  90.5℃結晶
 = スメクティック相 ;= ネマティック相 ;=
 等方相(E)  4−二トキシ−4’−n−ヘキサノ
イルアゾキシベンゼン26.5℃          
           67℃結晶 ;=゛スメクティ
ック相;: ネマティック相 ;= 等方相(F)4−
n−ブチルベンゾイックアシッド−4’−n−へキシル
オキシフェニルエステル 27℃                    51
℃結晶 二二 スメクティック相 ;= ネマティック
相 ;= 等方相54℃              
       88℃結晶 ;= スメクティック相 
;= ネマティック相 ;=等方相39℃      
             122℃結晶 ;= スメ
クティック相 ;= ネマティック相 ;= 等方相(
I)4−(4−n−ペンチルフェニル)ベンゾイックア
シッド−4′−シアノフェニルエステル 110.8℃                  2
29.1’0結晶 ;= スメクティック相 = ネマ
ティック相 ;二 等方相(J)4−n−へブトキシ−
4′−シアノビフェニルC7H45O% CN 13.5℃                    
27℃結晶 = スメクティック相 ;= ネマティッ
ク相 ;= 等方相(K)4−n−オクチル−41−シ
アノビフェニル21”0              
      40℃結晶 ニー スメクティック相 =
 ネマティック相 = 等方相(L)  4−へキシル
オキシ−4′−シアノビフェニルC6H130(X)C
N 58℃                   76.
5℃結晶 ;= スメクティック相 ;= ネマティッ
ク相 ; 等方相(M)  4−()ランス−4−ペン
チルシアノヘキシル)ベンゾニトリルCs HlsでX
)CN 31’0                     
55℃結晶 = スメクティック相 ;= ネマティッ
ク相 ;= 等方相C3H7−C)−C)−CN 58℃                    80
℃結晶 ;: スメクティック相 ;= ネマティック
相 ;−等方相csl(11−(1〆\)ocN 94℃                 219℃結
晶 ;= スメクティック相 ;: ネマティック相 
;=等方相(P)4−n−プロピル−4″−シアノ−P
−ターフェニルc3)174■(テCN (Q)5−n−へキシル−2−(4−へキシルオキシフ
ェニル)ピリミジン(R)5−n−ペプチル−2−(4
−シアノフェニル)ピリミジン(S)5−シアノ−2−
(4−n−ペンチルオキシフェニル)ピリミジン結晶 
;= スメクティック相 = ネマティック相 ;: 
等方相これらのカイラルスメクティック相を示す液晶又
はネマティック相を小す液晶は、それぞれ2種以上組合
せて使用することもできる。
本発明で用いる液晶組成物でのカイラルスメクティック
相を示す液晶とネマティック相を示す液晶の割合は、使
用する液晶の種類によって相違するが、一般的にカイラ
ルスメクティック相を示す液晶100!lI量部に対し
てネマティック相を示す液晶0.1〜50重♀部、好ま
しくは1−20重量部である。
これらの材料を用いて素子を構成する場合。
液晶組成物がSmC末相又はSmH本相となるような温
度状悪に保持する為、必要に応じて素子をヒーターが埋
め込まれた銅ブロック等により支持することができる。
第1図は、強誘電性液晶の動作説明の為に。
セルの例を模式的に描いたものである。11と。
11’は、In2O3,5n02あるいはITO(In
dium  −Tin  0xide)等の薄膜からな
る透明電極で被覆された基板(ガラス板)であり、その
間に液晶分子層12がガラス面に垂直になるよう配向し
た3m0本。
SmH木、SmF本、SmI車、SmC木などのカイラ
ルスメクテイック相の液晶が封入されている。太線で示
した線13が液晶分子を表すしており、この液晶分子1
3はその分子に直交した方向に双極子モーメント(Pよ
)14を有している。基板11と11’上の電極間に一
定の閾値以上の電圧を印加すると、液晶分子13のらせ
ん構造がほどけ、双極子モーメン)(P工)14がすべ
て電界方向に向くよう、液晶分子13は配向方向を変え
ることができる。液晶分子13は、細長い形状を有して
おり、その長軸方向と短軸方向で屈折率異方性を示し、
従って例えばはガラス面の上下に互いにクロスニコルの
偏光子を置けば、電圧印加極性によって光学特性が変わ
る液晶光学変調素子となることは、容易に理解される。
本発明の光学変調素子で好ましく用いられる液晶セルは
、その厚さを充分に薄< (fp4えば1OIL以下)
することができる、このように液晶層が薄くなることに
したがい、第2図に示すように電界を印加していない状
態でも液晶分子のらせん構造がほどけ、非らせん構造と
なり。
その双極子モーメン)PまたはP′は上向き(24)又
は下向j(2t’)のどちらかの状態をとる。このよう
なセルに、第2図に示す如く一定の閾41社I I  
I極性の異る電界E又はE′を電圧印加手段21と21
′により付与すると、双極子モーメントは、電界E又は
E′の電界ベクトルに対応して上向さ24又は下向き2
4′と向さを変え、それに応じて液晶分子は、第1の安
定状態23かあるいは第2の安定状態23′の何れか一
方に配向する。
このような強誘電性を光学変調素子として用いることの
利点は、先にも述べたが2つある。
その第1は、応答速度が極めて速いことである。第2は
液晶分子の配向が双安定性を有することである。第2の
点を1例えば第2図によって更に説明すると、電界Eを
印加すると液晶分子は第1の安定状態23に配向するが
、この状態は電界を切っても安定である。又、逆向きの
′上界E′を印加すると、液晶分子は第2の安定状jp
523’に配向してその分子の向きを変えるが。
やはり電界を切ってもこの状態に留っている。
又、与える電界Eが一定の閾値を越えない限り、それぞ
れの配向状態にやは味維持されている。このような応答
速度の速さと、双安定性が有効に実現されるにはセルと
しては出来るだけ薄い方が好ましい。
この様な強誘電性を有する液晶で素子を形成するに当た
って最も問題となるのは、先にも述べたように、3m0
京、SmH末、SmF本。
SmI本、5m0京などのカイラルスメクティック相を
有する暦が基板面に対して垂直に配列し且つ液晶分子が
基板面に略平行に配向した、モノドメイン性の高いセル
を形成することが困難なことであり、この点に解決を与
えることが本発明の主要な目的である。
第3図(A)とCB)は1本発明の液晶素子の一実施例
を示している。第3図(A)は、本発明の液晶素子の平
面図で、第3図CB)はそのA−A′断面図である。
第3図で示すセル構造体1ooは、ガラス板又はプラス
チック板などからなる一対の基板101と101′をス
ペーサ104で所定の間隔に保持され、この一対の基板
をシーリングするために接着剤106で接着したセル構
造を有しており、さらに基板101の上には複数の透明
電極102からなる電極#(例えば、マトリクス電極構
造のうちの走査電圧印加用電極n)が例えば帯状パター
ンなどの所定パターンで形成されている。基板101’
の上には前述の透明電極102と交差させた複数の透明
電極102’からなる電極群(例えば、マトリクス電極
構造のうちの信号電圧印加用電極群)が形成されている
この様な透明電極102’を設けた基板101’には1
例えば、−酸化硅素、二酸化硅素、酸化アルミニウム、
ジルコニア、フッ化マグネシウム、酸化セリウム、フッ
化セリウム、シリコン窒化物、シリコン炭化物、ホウ素
窒化物などの無機絶縁物質やポリビニルアルコール、ポ
リイミド、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、ポ
リパラキシレリン、ポリエステル、ポリカーボネート、
ポリビニルアセタール、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、
ポリスチレン、セルロース樹脂、メラミン樹脂、ユリア
樹脂やアクリル樹脂などの有機絶縁物質を用いて被膜形
成した配向制御膜105を設けることができる。
この配向側!11151105は、前述の如き無機絶縁
物質又は有機絶縁物質を被膜形成した後に。
その表面をビロード、布や紙で一方向に摺擦(ラビング
)することによって得られる。
本発明の別の好ましい具体例では、SiOや5i02な
どの無機絶縁物質を基板101’の上に暑め7!着法に
よって被膜形成することによって、配向側111iLO
5を得ることができる。
第5図に示された装置に於いてペルジャー501は吸出
口505を有する絶縁基板503土に載置され前記吸出
口505から伸びる(図示されていない)真空ポンプに
よりペルジャー501が真空にされる。タングステン製
又はモリプデ7製のるつぼ507はペルジャー501の
内部及び底部に配置され、るつぼ507には数グ5ムの
S i O、S i02 、MgF2/zどの結晶50
111がJlzされる。るっぽ507は下方の2つのア
ーム507a、507bを有し、前記アームは夫々導線
509,510に接続される。電源506及びスイッチ
504がペルジャー501の外部導線509.510間
に直列に接続される。基板502はペルジャー501の
内部でるつぼ507の真上にペルジャー501の垂直軸
に対し0の角度を成して配置される。
スイッチ504が開放されると、ペルジャー501はま
ず約10−5mmHg圧の真空状態にされ1次にスイッ
チ504が閉じられて、るつぼ507が適温で白熱して
結晶508が蒸発されるまで電源506をamして電力
が供給される、適温範囲(700−1000℃)に対し
て必要な電流は約100100aである。結晶508は
次に蒸発され図中Sで示された上向きの分子流を形成し
、流体Sは、基板502に対してθの角度を成して基板
502上に入射され、この結果基板502が被膜される
。角度θは上記の゛°入射角”であり、流体Sの方向は
上記“斜め蒸着方向”である、この被膜の膜厚は基板5
02をペルジャー501に挿入する前に行なわれる装置
の時間に対する厚みのキャリゾ ・レージ、/により決
定される。適宜な厚みの被膜が形成されると電源506
からの電力を減少させ、スイッチ504を開放してペル
ジャー501とその内部を冷却する0次に圧力を大気圧
まで上げ基板502をペルジャー501から取り外す。
また、別の具体例ではガラス又はプラスチックからなる
基板101’の表面あるいは基板101’の上に前述し
た無機絶縁物質や有機絶縁物質を被膜形成した後に、該
被膜の表面を斜方エラ)チング法によりエツチングする
ことにより、その表面に配向制御効果を付与することが
できる。
前述の配向制御1151105は、同時に絶縁膜として
も機能されることが好ましく、このためにこの配向制御
膜105の膜厚は一般に100人〜lル、好ましくは5
00λ〜5000人の範囲に設定することができる。こ
の絶縁膜は、液晶層103に微量に含有される不純物等
のために生ずるf流の発生を防止でさる利点をも有して
おり、従って動作を繰り返し行なっても液晶化合物を劣
化させることがない。
また、本発明の液晶素子では前述の配向制御RQ 10
5と同様のものをもう一方の基板101に設けることが
できる。
第3図に示すセル構造体lOOの中の液晶層103 は
、SmC木、SmH本、SmF*。
SmI車、SmG木などのカイラルスメクティック相と
することができる。このカイラルスメクティック相を示
す液晶層103は前述したネマティック相を示す液晶、
好ましくは砕温過程でネマティック相からスメクティッ
ク相に相転移を生じる液晶化合物が含有されている。
本発明で重要な点は、ネマティック相を示す液晶を含有
する液晶組成物を用いて、高温相からスメクティック相
に相転移させる際、スメクティック相の液晶分子軸が配
向側tlllQ105に付与された配向制御方向に沿っ
て配列し、この結果均一なモノドメインが形成される点
にある。
第4図は1本発明の液晶素子の別の具体例を表わしてい
る。第4図で示す液晶素子は、一対の基板101と10
1’の間に複数のスペーサ部材201が配置されている
。このスペーサ部材201は、例えば配向側tJ11Q
 I O5が設けられていない基板101’の上にSi
O,5i02゜A見203 、TiO2などの無機化合
物あるいはポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリア
ミドイミド、ポリエステルイミド、ポリパラキシリレン
、ポリエステル、ポリカーボネート。
ポリビニルアセタール、ポリ塩化ビニル、ポリ耐酸ビニ
ル、ポリアミド、ポリスチレン、セルロース樹脂、メラ
ミン樹脂、ユリヤ樹脂アクリル樹脂やフォトレジスト樹
脂などの樹脂類を適当な方法で被膜形成した後、所定の
位置にスペーサ部材201が配置される様にエツチング
することによって得ることができる。
この様なセル構造体100は、基板101とt o i
’の両側にはクロスニコル状8又はパラレルニコル状態
とした偏光子107と108がそれぞれ配置されて、電
極102とl O2’の間に電圧を印加した時に光学変
調を生じることになる。
次に、本発明の液晶素子の作成法について、液晶層10
3の配向制御法についてi83図を用いて具体的に説明
する。
まず、液晶組成物が封入されているセル構造体100は
、セル100全体が均一に加熱される様な加熱ケース(
図示せず)にセットされる。
次に、セル100中の液晶組成物が等方相となる温度ま
で加熱する。しかる後に、加熱ケースの温度を降温させ
て、セル100中の等方相となっている液晶組成物を降
温過程に移す、この液晶組成物は、降温過程でネマティ
ック相を示す液晶化合物がスメクティック相形成時の液
晶分子軸をラビング方向に揃える様な影響を与えている
ものと考えられる。
第6図は、中間に強誘電性液晶化合物が挟まれたマトリ
クス電極構造を有するセル41の模式図である。42は
走査電極群であり、43は信号電極群である。第7図(
a)と(b)は、それぞれ選択された走査電極42 (
s)に与えられる電気信号とそれ以外の走査電極(I!
択されない走査電極)42 (n)に与えられる電気信
号を示し、第6図(C)と(d)はそれぞれ選択されド
信号電極43 (S)に与えられる電気信号と選択され
ない信号電極43 (n)に与えられる電気信号を表わ
す、第7図(a)〜(d)においては、それぞれ横軸が
時間を、縦軸が電圧を表わす0例えば、動画を表示する
ような場合には、走査電極群42は逐次1周期的に選択
される。今、双安定性を有する液晶セルの第1の安定状
態をケえるための閾値電圧をVthlとし、第2の安定
状態を与えるための閾値電圧を−vt h2とすると、
選択された走査電極42(s)に与えられる電気信号は
、第7図(a)に示される如く、位相(時間)11では
Vを1位相(時間)t2では−■となるような交番する
電圧である。又、それ以外の走査電極42(n)は、第
7図(b)に示す如くアース状態となっており、電気信
号Oである。一方、選択された信号電極43(s)に与
えられる電気信号は第7図(C)に示される如くvであ
り、又選択されない信号電極43(n)に与えられる電
気信号は第7図(d)に示される如<−Vである0以上
に於て、電圧Vは V<Vt hl<2Vと−V>−Vth2>−2Vを満
足する所望の値に設定される。このような電気信号が与
えられたときの各画素に印加される電圧波形を第8図に
示す、第8図(a)〜(d)は、それぞれ第6図中の画
素A 、 B 、 CおよびDと対応している。すなわ
ち0′S8図より11らかな如く1選択された走査線上
にある画素Aでは1位相t2に於て閾値Vthlを越え
る電圧2vが印加される。又同一走査線上に存在する画
JRでは位相tlで閾値−vth2を越える電圧−2v
が印加される。従って、選択された走査電極線上に於て
信号電極が選択されたか否かに応じて1選択された場合
には液晶分子は第1の安定状態に配向を揃え、I2!択
されない場合には第2の安定状態に配向を揃える。いず
れにしても各画素の前歴には、511係することはない
一方、画素CとDに示される如く、選択されない走査線
上では、すべての画素CとDに印加される電圧は+V又
は−■であって、いずれも閾値電圧を越えない、従って
各画素CとDにおける液晶分子は、配向状態を変えるこ
となく前回走査されたときの信号状態に対応した配向を
、そのまま保持している。即ち、走査電極が選択された
ときにその一ライン分の信号の書き込みが行われ、−フ
レームが終了して次回選択されるまでの間は、その0号
状態を保持し得るわけである。従って、走査電極数が増
えても。
実質的なデユーティ比はかわらず、コントラストの低下
とクロストーク等は全く生じない、この際、?lt圧値
V(7)値及び位相(tx+t2)=Tの値としては、
用いられる液晶材料やセルの厚さにも依存するが1通常
3ポルト〜70ポルトでO,1psec 〜2m5ec
の範囲が用いられる。従って、この場合では選択された
走査電極に与えられる電気信号が第1の安定状態(光信
号に変換されたとき「明」状態であるとする)から第2
の安定状態(光信号に変換されたとき「暗」状態である
とする)へ、又はその逆のいずれかの変化をも起すこと
ができる。
5m0京、SmH本、SmF木、SmI*。
SmG木などのカイラルスメクティック相を示す液晶を
単独で用いる場合に較らべ本発明で用いるネマティック
相を有する液晶を含有する液晶組成物を用いると、配向
性が良好でしかも配向欠陥が少ない配向状態が得られる
特に、セル厚が薄い場合、或いは双安定性(メモリ性)
をもつSmC*、SmI本。
SmF*、SmI” 、SmC木などのカイラルスメク
ティック相の場合には、スイッチング特性(応答速度)
の点で基板表面の液晶分子に対する拘束力(基板の配向
処理による効果)は。
弱い方が好ましく、従って一方の基板表面のみを配向処
理する場合の方が1両側等の基板表面を配向処理する場
合に較べ速い応答速度が得られる。この際、セル厚が2
pmのセルにおいては、片側の基板のみを配向処理した
場合の方が両側の基板を配向処理した場合の応答速度に
較べ約2倍もの速い応答速度が得られる。
以下5本発明を実施例に従って説明する。
〔実施例1〕 ピッチ1004mで幅62.5Bmのストライプ状のI
TO膜を電極として設けた正方形ガラス基板を用意し、
これの電極となるI Tollが設けら゛れている側を
下向きにして第5図に示す斜め蒸着装置にセットし1次
いでモリブデン製るつぼ内にS +02の結晶をセット
した。しかる後に蒸着装置内を1O−5Torr程度の
真空状態としてから、所定の方法でガラス基板上に5i
02を斜め蒸着し、800人の斜め蒸着膜を形成した(
A電極板)。
一方、同様のストライプ状のI TOlliが形成され
たガラス基板上にポリイミド形成溶液(日立化成工業(
株)製のrPIQに不揮発分濃度14.5 w t%)
をスピナー塗布機で塗布し。
120℃で30分間、200℃で60分間、そして35
0℃で30分間加熱を行なって800人の被膜を形成し
た(B電極板)。
次いでA電極板の周辺部に注入口となる個所を除いて熱
硬化型エポキシ接着剤をスクリーン印刷法によって塗布
した後に、A電極板と身重極板のストライプ状パターン
電極が直交する様に重ね合せ、2枚の電極板の間隔が2
牌となるようポリイミドスペーサで保守し、セルとした
次に降温過程で等方相、SmA、SmC”。
SmI末に相転移を生じるP−デシロキシベンジリデン
−P′−7ミノー2−メチルブチルシンナメート(DO
BAMBC)100重量部に対して、4−へキシルオキ
シ−4′−シアノビフェニルを5ffii部加えて液晶
組成物を謂整した。
この液晶組成物を加熱して等方相とし、上記で作製して
セル内に注入口から注入し、その注入口を封口した。こ
のセルを徐冷によって降温させた後、一対の偏光子をク
ロスニコル状態で設けてからmWLm観察したところ、
モノドメインの非らせん構造のSmC車が形成されてい
る事が確認できた。
〔実施例2〕 ピッチio06mで幅62.5 u mのストライプ状
のITOII!iを電極として設けた正方形ガラス基板
上にポリイミド形成溶液(日立化成工業(株)製のrP
IQに不揮発分濃度14.5wt%)をスピナー塗布機
で塗布し、120℃で30分間、200℃で60分間、
そして350℃で30分間加熱を行なって800人の被
膜を形成した(A電極板)。
次に上記と同様にしてずりたポリイミド被膜電極板を布
によりラビング処理を行った。(B電極板) 次いでA電極板の周辺部に注入口となる個所を除いて熱
硬化型エポキシ接着剤をスクリーン印刷法によって塗布
した後に、A電極板とB電極板のストライプ状パターン
電極が直交する様に正ね合せ、2枚の電極板の間隔が2
1Lとなるようポリイミドスペーサで保持し、セルとし
た。
降温過程で等方相、SmA、SmC木。
SmI本に相転移を生じるP−デシロキシベンジリデン
−P′−7ミノー2−メチルブチルシンナメート(DO
BAMBC)100ji量部に対して、トランス、トラ
ンス−4′−プロピルジシクロへキシル−4−カルボニ
トリルIQII部加えて液晶組成物を211整した。こ
の液晶組成物を加熱して等方相としたセル内に注入口か
ら注入し、その注入口を封口した。このセルを徐冷によ
って降温させた後、一対の偏光子をクロスニコル状態で
設けてから顕微鏡観察したところ。
七ノドメインの非らせん構造のSmC木が形成されてい
ることが確認できた。
〔実施例3〕 実施例2で用いたDOBAMBCに代えて、降温過程で
等方相、コレステリック相、SmA。
カイラルスメクティックC相に相転移を生じる液晶とし
て4−(2’−メチルブチル)フェニル−4′−オクチ
ルオキシビフェニル−4−カルボキシレートを用いたほ
かは、実施例2と同様の方法で液晶素子を作成してから
顕微鏡観察したところ、モノドメインの非らせん構造の
3m0本が形成されていた。
〔実施例4〕 実施例2で用いたDOBAMBCに代えて、降温過程で
等方相、コレステリック相、3m0本に相転移を生じる
液晶として4−オクチルオキシフェニル−4,(2+−
メチルブチル)ビフェニル−4′−カルボキシレートを
用いたほかは。
実施例2と同様の方法で液晶素子を作成してから、ll
微鏡観察を行なったところ、非らせん構造の3m0本が
形成されていた。
〔実施例5〕 1004mのポリエチレンテにフタレートフィルムに酸
化インジウムを主成分とする透明導電膜を低温スパッタ
装置でフィルム表面温度を120℃以下に抑えて形成し
たプラスチック基板に、以下の組成の溶液(溶液組成(
1))を塗布し、120℃30分乾燥して薄膜を形成し
た。
溶液組成(1) アセトメトキシアルミニウム ジイソプロピレート   Ig ポリエステル樹脂(東洋紡;バイロン30 F)0.5
g テトラヒドロフラン      IQQm見次に、10
0g/cm’の押圧下で一方向にラビングし、このラビ
ングした一対のプラスチック基板を上下のラビング方向
が平行となる様に1ね合せ、注入口となる個所を除いた
その周辺をシーリングした。この時の一対のプラスチッ
ク基板の間隔は、tgであった。
次にP−デシロキシベンジリデン−P′−7ミノー2−
メチルブチルシンナメー) (DOBAMBC)100
fi量部に対して、5−n−ヘキンルー2− (4−ヘ
キシルオキシフェニル)ピリミジンを5重量部加えて液
晶組成物を2Il整した。
この液晶組成物を加熱して等方相とし、上記で作製して
セル内に賦圧下で注入口から注入し、その注入口を刃口
した。このセルを徐冷によって降温させた後に、一対の
偏光子をクロスニコル状態で設けてからjI微鏡観察し
たところ、モノドメインの非らせん構造のSmC木が形
成されている事が確認できた。
〔実施例6〕 実施例5で用いたDOBAMBCに代えて、降温過程で
等方相、コレステリック相、SmA。
カイラルスメクティックC相に相転移を生じる液晶とし
て4−ペンチルフェニル−4−(4″−メチルヘキシル
)ビフェニル−4′−カルボキシレートを用いたほかは
、実施例1と同様の方法で液晶素子を作成してから顕微
鏡moしたところ、モノドメインの非らせん構造の3m
0本が形成されていた。
〔実施例7〕 実施例5で用いたDOBAMBCに代えて、降温過程で
等方相、コレステリック相、3m0本に相転移を生じる
液晶として4−へキシルオキシフェニル−4−(2+−
メチルブチル)ビフェニル−4′−カルボキシレートを
用いたほかは、実施例1と同様の方法で液晶素子を作成
してから顕微鏡観察を行ったところ、非らせん構造の3
m0本が形成されていた。
〔実施例8〜12) 実、1915で用いた5−n−へキシル−2−(4−へ
キシルオキシフェニル)ピリミジンに代えて、N−(4
−エトキシベンジリデン)−4−n−へキシルアニリン
(実施例8)、N−n−ペンチル−41−メトキシアゾ
ベンゼン(実施例9)、4−n−へキシル−4′−n−
ブトキジアゾキシベンゼン(実施例10)、4−n−プ
チルベンゾイツクアンット−4′−n−へキシルオキシ
フェニルエステル(実施例11)、4−14−n−ペン
チルフェニル)ベンゾイック7シツドー4′−シアノフ
ェニルエステル(実施例12)を用いたほかは、実施例
5と同様の方法で液晶素子を作成してから顕微鏡観察し
たところ、何れもモノドメインの非らせん構造のSmC
木が形成されていた。
〔比較例1〕 実施例2で用いたトランス、トランス−4′−プロピル
ジシクロへキシル−4−カルボニトリルを省略したほか
は、実施例2と同様の方法で液晶素子を作成してから、
顕微iam察したところ、SmC”はモノドメインとな
っていなかった。
〔比較例2〕 Km例5で用いた5−n−へキシル−2−(4−へキシ
ルオキシフェニル)ピリミジンを省略したほかは、実施
例5と同様の方法で液晶素子を作成してから、顕微鏡観
察したところ。
5rnC本はモノドメインとなっていなかった。
又、前述の実施例6と7に対しても同様に5−n−へキ
シル−2−(4−へキシルオキシフェニル)ピリミジン
の使用を省略して比較テストを行なったが、何れもSm
C木はモノドメインとなっていなかった。
【図面の簡単な説明】
第1図および第2図は1本発明で用いる液晶セルを表わ
す斜視図である。第3図(A)は本発明の液晶素子を表
わす平面図で、第3図(B)はその八−N断面図である
。第4図は、本発明の液晶素子の別の具体例を表わす断
面図である。 :145図は本発明の液晶素子を作成す
る際に用いる斜め蒸着装置を模式的に表わす断面図であ
る。第6図は1本発明で用いる液晶素子の電極構造を模
式的に示す平面図である。 第7図(&)〜(d)は1本発明で用いる液晶素子を駆
動するための信号を示す説明図である。第8図(a)〜
(d)は、各画素に印加される電圧波形を示す説明図で
ある。 Zoo  、  セル構造体 101.101’  、  基板 102.102’  、  電極 103 ; 液晶層 104.201  、スペーサ部材 105  、  配向制御膜 、 106  ;  Ja;i剤 107.108  、  偏光子 ”109  、  発熱体 特許出願人  キャノン株式会社 I4 10Z    # ()、)            (d)(bン −−7ikt (d) −−−−v’tA2

Claims (21)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一対の基板間に、少なくともカイラルスメクティ
    ック相を示す液晶と、少なくともネマティック相を示す
    液晶とを含有する液晶組成物を封入したセル構造をなし
    、前記一対の基板のうち、少なくとも一方の基板の面が
    界面で接する液晶の分子軸方向を優先して一方向に配列
    させる効果を有している事を特徴とする液晶素子。
  2. (2)前記液晶組成物が降温過程でスメクティックA相
    からカイラルスメクティック相に順次相転移を生じる液
    晶である特許請求の範囲第1項記載の液晶素子。
  3. (3)前記カイラルスメクティック相がC相、H相、F
    相、I相又はG相である特許請求の範囲第2項記載の液
    晶素子。
  4. (4)前記カイラルスメクティック相が非らせん構造を
    もつ相である特許請求の範囲第2項又は第3項記載の液
    晶素子。
  5. (5)前記カイラルスメクティック相を示す液晶が降温
    過程で等方相からスメクティックA相およびカイラルス
    メクティックC相、H相、I相、F相又はG相に相転移
    を生じる液晶である特許請求の範囲第1項記載の液晶素
    子。
  6. (6)前記カイラルスメクティック相を示す液晶が降温
    過程で等方相からコレステリック相、スメクティックA
    相およびカイラルスメクティックC相、H相、I相、F
    相又はG相に相転移を生じる液晶である特許請求の範囲
    第1項記載の液晶素子。
  7. (7)前記カイラルスメクティック相を示す液晶が降温
    過程で等方相からコレステリック相およびカイラルスメ
    クティックC相、H相、I相、F相又はG相に相転移を
    生じる液晶である特許請求の範囲第1項記載の液晶素子
  8. (8)前記一対の基板のうち一方の基板の面が液晶の分
    子軸方向を優先して一方向に配列させる効果を有し、他
    方の基板の面が該効果を有していない特許請求の範囲第
    1項記載の液晶素 子。
  9. (9)前記効果を有する面が基板の面を摺擦することに
    よって得られた面である特許請求の範囲第1項又は第8
    項記載の液晶素子。
  10. (10)前記面が有機絶縁物質又は無機絶縁物質の被膜
    によって形成された面である特許請求の範囲第9項記載
    の液晶素子。
  11. (11)前記有機絶縁物質がポリビニルアルコール、ポ
    リイミド、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、ポ
    リパラキシリレン、ポリエステル、ポリカーボネート、
    ポリビニルアセタール、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニ
    ル、ポリアミド、ポリスチレン、セルロース樹脂、メラ
    ミン樹脂、ユリヤ樹脂、アクリル樹脂およびフォトレジ
    スト樹脂からなる樹脂群から少なくとも1種を選択した
    樹脂である特許請求の範囲第7項記載の液晶素子。
  12. (12)前記無機物質がSiO、SiO_2又はTiO
    _2である特許請求の範囲第10項記載の液晶素子。
  13. (13)前記効果を有する面が基板の面に絶縁物質を斜
    め蒸着することによって得られた面である特許請求の範
    囲第1項又は第8項記載の液晶素子。
  14. (14)前記絶縁物質がSiO又はSiO_2である特
    許請求の範囲第13項記載の液晶素子。
  15. (15)前記効果を有する面が基板の面を斜方エッチン
    グすることによって得られた面である特許請求の範囲第
    1項又は第8項記載の液晶素子。
  16. (16)前記面が有機絶縁物質又は無機絶縁物質の被膜
    又は基板によって形成された面である特許請求の範囲第
    15項記載の液晶素子。
  17. (17)前記有機絶縁物質がポリビニルアルコール、ポ
    リイミド、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、ポ
    リパラキシリレン、ポリエステル、ポリカーボネート、
    ポリビニルアセタール、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニ
    ル、ポリアミド、ポリスチレン、セルロース樹脂、メラ
    ミン樹脂、ユリヤ樹脂、アクリル樹脂およびフォトレジ
    スト樹脂からなる樹脂群から少なくとも1種を選択した
    樹脂である特許請求の範囲第16項記載の液晶素子。
  18. (18)前記無機絶縁物質がガラス、SiO、SiO_
    2又はTiO_2である特許請求の範囲第16項記載の
    液晶素子。
  19. (19)前記他方の基板が絶縁物質を被膜形成した後に
    所定の位置を除いてエッチングすることにより得たスペ
    ーサ部材を備えている基板である特許請求の範囲第2項
    記載の液晶素子。
  20. (20)前記スペーサ部材が帯状形状の部材である特許
    請求の範囲第19項記載の液晶素子。
  21. (21)前記帯状形状のスペーサ部材を複数個備えた素
    子である特許請求の範囲第20項記載の液晶素子。
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