JP4346816B2 - 基板研磨 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、ケミカルメカニカルポリシング(CMP)を含めた基板の研磨技術に関する。
【0002】
【従来の技術】
ケミカルメカニカルポリシングは、研磨パッドと研磨スラリとによって基板表面を均一なレベルに平滑化(平面化)するプロセスである。研磨される基板は普通、回転式キャリヤヘッドに取り付けられて回転式研磨パッドに押し付けられる。研磨パッドは通常、表面を粗くしたディスクから構成される。所望の基板表面仕上げを達成するために、研磨性化学溶液(スラリ)を研磨パッドに付着させる。時間が経過すると、研磨プロセスは研磨パッドを目詰まりさせて、研磨パッド面に、基板の表面仕上げに悪影響を与える可能性のある凹凸を作り出す。研磨パッド面は通常、「コンディショニング」され、それによって、エンドエフェクタとして知られる研削装置で研磨パッドを研削することにより、研磨パッド面の目詰まりを解消して、表面凹凸を除去する。
【0003】
【課題を解決するための手段】
一局面では、本発明は、エンドエフェクタを受容するためのコンディショナヘッドを設け;コンディショニングされる研磨パッド面の上方にコンディショナヘッドを支持し;そしてコンディショナヘッドに取り付けられたエンドエフェクタが研磨パッドの表面をコンディショニングできるように、コンディショニングされる研磨パッド面に実質的に垂直な線に沿った位置からの作動力によってコンディショナヘッドを駆動する;ようにした、基板研磨で使用される装置および方法を特徴とする。
【0004】
別の局面では、本発明は、コンディショナヘッドに取り付けられたエンドエフェクタが研磨パッドの表面をコンディショニングできるように作動力をコンディショナヘッドに加えるために、コンディショナヘッド支持アームを介して空気圧を供給するようにした、基板研磨で使用される装置および方法を特徴とする。
【0005】
更に別の局面では、本発明は、コンディショナヘッド支持アームがその中に延びる流体チャネルと、流体ポートとを有し、流体チャネルはリンス用流体を受け入れるように構成されるとともに、流体ポートはリンス用流体を流体チャネルから、コンディショニングされる研磨パッド面に向けるように構成されるようにした、基板研磨で使用される装置および方法を特徴とする。
【0006】
実施の形態は下記特徴の一つ以上を含んでもよい。コンディショナは支持アームによって研磨パッド面の上方に支持され、作動力はドライバによってコンディショナヘッドに加えられる。ドライバはコンディショナヘッドに、コンディショニングされる研磨パッド面に実質的に垂直な線に沿った作動力を加える。ドライバは、コンディショナヘッドと支持アーム間に連結された駆動軸を備え、駆動軸は、研磨パッド面に実質的に垂直な駆動軸に沿って、コンディショニングされる研磨パッドに向かう方向とそれから離れる方向に直線的に作動できる。ドライバは、駆動軸と内部キャビティ間に連結された流体膜を備え、流体膜は、駆動軸が直線的に作動されるに従って、支持アームの内部キャビティ内で流体をシールするようになっている。駆動軸は、コンディショナヘッドを回転させるように構成される。ジンバル機構が駆動軸とコンディショナヘッド間に連結されてコンディショナヘッドを回転させ、駆動軸の軸線に対して或る角度で傾斜させる。支持アームは、コンディショニングされる研磨パッドの上でコンディショナヘッドを動かすように構成されたベースに連結される別の端部を持つ。
【0007】
研磨パッド面に垂直な線に沿っていない位置から駆動力がコンディショナヘッドに加えられると、駆動力と垂直反力(responsive normal force) が、研磨パッド面からコンディショナヘッドを持ち上げようとするトルクの発生をもたらし、このトルクが不安定性を招くので、研磨パッド面に対して力を均一に加える能力を削減する。研磨パッド面に実質的に垂直な線に沿った位置からの作動力でコンディショナヘッドを駆動することによって、本発明の一局面によれば、垂直力と駆動力は共に同一線に沿って存在し、トルクは殆ど発生しない。従って、本発明によって、力を制御可能に、かつ安定的に研磨パッド面へ加えることができるので均一性を向上させ、この向上した均一性でもって、研磨パッド面を研磨できる。それにより研磨プロセス全般を改善する。支持アームを介してリンス用流体を研磨パッド面へ供給することは、本発明の別の局面によれば、研磨装置の全体サイズを減らすことを可能にするとともに、リンス用流体の供給を制御する能力を向上させる。
【0008】
他の特徴と利点は、図面と請求の範囲を含めて、下記の説明から明らかになるであろう。
【0009】
【発明の実施の形態】
図1Aと1Bによれば、研磨装置10は、3個の独立作動式研磨ステーション14、基板移動ステーション16、および4個の独立回転式キャリヤヘッド20の動作を振付ける回転式カラセル18を収容するハウジング12を含む。ハウジング12の片側に取り付けられているのは、タブ24を含む基板装填装置22で、タブの中には、研磨の前に基板30のカセット28を浸漬するための液体槽26が入っている。アーム32は線形トラック34に沿って懸架されてリストアセンブリ36を支持するが、リストアセンブリは、カセット28を保持ステーション39からタブ24の中に移すためのカセット爪38と、基板をタブ24から移動ステーション16に移動するための基板ブレード40とを含む。
【0010】
カラセル18は、スロット44を持つ支持プレート42を有し、そのスロットを通ってキャリヤヘッド20のシャフト46が延びている。キャリヤヘッド20は、均一に研磨された基板を獲得するために、独立に回転するとともにスロット44内で前後に振動できる。キャリヤヘッド20はそれぞれのモータ48で回動されるが、モータは通常、カラセル18の取り外し可能な側壁50の後に隠されている。作動時には、基板はタブ24から移動ステーション16に装填され、そこから基板はキャリヤヘッド20に移され;カラセル18は次に、一連の一つ以上の研磨ステーション14を通って基板を移動させて、最後に、研磨済基板を移動ステーション16へ戻す。
【0011】
各研磨ステーション14は、研磨パッド54を支持する回転式プラテン52とパッドコンディショナ56とを含み;プラテン52とコンディショナ56は共に研磨装置10の内部のテーブルトップ57に取り付けられる。各パッドコンディショナ56は、コンディショナヘッド60、アーム62、およびコンディショニングされる研磨パッド54の表面の上へコンディショナヘッドを位置決めするためのベース64を含む。各研磨ステーション14はまた、カップ66を含み、カップにはコンディショナヘッド60をリンスするための流体が入っている。
【0012】
図2Aと2Bによれば、或るモードの動作では、キャリヤヘッド20に取り付けられた基板を研磨パッドが研磨する間に、研磨パッド54がパッドコンディショナ56によってコンディショニングされる。コンディショナヘッド60は、研磨パッド54を横切るキャリヤヘッド20の動きに同期させられた動きによって研磨パッド54を横切って揺動 (sweep)する。例えば、研磨される基板を持ったキャリヤヘッドを研磨パッド54の中心に位置決めして、コンディショナヘッド60をカップ66内に入ったリンス用流体の中に浸漬してもよい。研磨中、カップ66は、矢印69で示すように離れた位置にピボット回転し、基板を装填したコンディショナヘッド60を、矢印70、72でそれぞれ示すように、研磨パッド54を横切って前後に揺動させてもよい。3つの水噴口71、73、75が水の流れを研磨パッド54の方に向けてパッド表面からスラリをリンスしてもよい。
【0013】
研磨装置10の一般的な特徴と動作についての更なる詳細は、Perlov 他による1995年10月27日出願の同時係属中の特許出願第 08/549,336 号、発明の名称「ケミカルメカニカルポリシングのための連続加工システム」(本発明の譲受人に譲渡済)を参照されたい。同出願は引用によって本明細書に組み込まれている。
【0014】
図3Aによれば、すでに承知の通り、研磨パッド面76に垂直な線に沿っていない位置から駆動力(Fdriver)がコンディショナヘッド75に加えられると、駆動力と垂直反力(Fnormal)は、コンディショナヘッド75を研磨パッド面76から持ち上げようとする反時計方向のトルク(T’)をもたらす。このトルクの発生は不安定性を招き、それによって研磨パッド面76に対して力を制御可能に加える能力を減少させる。図3Bに示すように、本発明の一局面によれば、作動力が、研磨パッド76に実質的に垂直な線82に沿った位置からコンディショナヘッド60に加えられると、垂直力と駆動力は共に同一線82に沿って存在して、トルクは殆ど発生しない。従って、本発明によって、力を研磨パッド面76に対して制御可能に、かつ安定的に加えることができるので、研磨パッド面をコンディショニングする均一性を向上させるともに、それによって研磨プロセス全般を改善する。
【0015】
図4Aと4Bによれば、パッドコンディショナ56の支持アーム62は、一端をコンディショナヘッド60に連結されるとともに多端をベース64に連結されて、研磨パッド面を横切ってコンディショナヘッド60を揺動させる。ドライバ84はコンディショナヘッド60をアーム62に連結するとともに、伸長位置(図4A)と後退位置(図4B)間でコンディショナヘッド60を駆動する。上記のように、ドライバ84は、コンディショニングされる研磨パッド面に実質的に垂直な線に沿った位置から作動力をコンディショナヘッド60に加えるので、研磨パッドコンディショナ56に生じるトルクの量を明らかに減少させる。
【0016】
図4Cによれば、ドライバ84は、流体キャビティ88の内部を画成するハウジング86を含む。流体キャビティ88は更に、面板90と流体膜92によって画成され、流体膜は、例えば、約40デュロメータの硬度と約0.03インチの厚さを持つネオプレンゴム製である。流体膜92は、環状クランプ94によってハウジング86に取り付けられた一端93を持つとともに、ボルト100、102によって面板90に連結された環状クランプ98によって面板90に取り付けられた他端98を持つ。フランジ104は面板90をスプラインシャフト104に連結し、スプラインシャフトは次に、ボルト110によってコンディショナヘッド60のフランジ108に連結される。作動時に、流体キャビティ88は、ドライバハウジング86内に画成された流体チャネル112、114を介し、またアーム62を通るとともにベース64を通って入口ポート117(図4A)に延びる流体チャネル116を介して、加圧空気を受け取る。流体キャビティ88内の空気圧の増加が、面板90、スプラインシャフト106、およびコンディショナヘッド60を矢印118で示す方向に駆動する。空気が流体キャビティ88から真空排気されるに従って、流体キャビティ88内の空気圧の減少が面板90、スプラインシャフト106、およびコンディショナヘッド60を矢印120で示す方向に後退させる。
【0017】
流体チャネル116は、空気と、水などのリンス溶液をそれぞれ受け入れるための個別チューブを含む。リンス溶液チューブは、アーム62に沿って配置される水噴口71、73、75に連結される(図2A、2B、4Aを参照)。スラリ堆積の増加を防ぐために、リンス溶液を使って、研磨前、研磨中、または研磨後に研磨パッド面をリンスしてもよい。
【0018】
ドライバ84はまた、スプラインナット124に連結された歯付シーブ122を含む。歯付シーブとスプラインナット124とは、ベース64内のモータによって駆動される歯付駆動ベルト(図示せず)によって回される(以下に詳しく説明)。スプラインナット124はスプラインシャフト106と係合することによって、駆動ベルトで駆動されたとき、スプラインシャフト106とコンディショナヘッド60とを回転させる。一対の環状ベアリング126、128はアーム62とスプラインナット124間に上部カラー130、131と下部カラー132とによって適切に保持され;環状ベアリング126、128は環状スペーサ134によって間隔をあけて配置される。環状ベアリング126、128によってスプラインナット124はアーム62に対して自由に回転できる。一対のベアリング136、138によってスプラインナット124とスプラインシャフト106は面板90に対して自由に回転できる。
【0019】
コンディショナヘッド60は、研磨パッド面のコンディショニングに使用されるエンドエフェクタ(図示せず)を適切に保持するための環状磁石142を有する面板140を含み;ピン144を使って、面板140に保持されたエンドエフェクタに係合することによってトルクを伝達する。面板140とフランジ108とは、環状ケージ150の孔の中に着座するとともに上部環状レース152と下部環状レース154間に配置された複数のベアリング146、148を含むジンバル機構によって一体に連結される。ボールベアリング146、148とベアリング147、149とによって面板140はスプラインシャフト106に対して首振り運動ができる。首振り運動の程度は、フランジ108に取り付けられた3本のトルク伝達ピン156(図4Bには一本のトルク伝達ピンのみを図示)によって制限される。トルク伝達ピン156は、面板140の凹部160内に延びて回転力をフランジ108から面板140に伝達する突出部158を持つ。各突出部158は、面板140とフランジ108間の首振り運動の程度を制限する、約40デュロメータの硬度を持ったOリング162を含む。制限されてはいるが、この首振り運動よって面板140は研磨パッドの表面の小さな凹凸(feature) に適応できるので、面板140の或るサイドが別のサイドよりも大きな力で研磨することはない。
【0020】
図4Dによれば、ジンバル機構は、研磨パッド54の表面の不均一なコンディショニングを実質的に削減するように構成される。ボールベアリング146、148と上部および下部レース152、154とによって作られたボールジョイントは、対称の球中心168が、コンディショナヘッド60に取り付けられたエンドエフェクタ170と研磨パッド間に生じた摩擦トルク(F’)の中心に一致するように構成される。実効回転中心168とは、研磨パッドとエンドエフェクタの圧縮と変動する横方向コンシステンシーを考慮したときに、研磨パッドとエンドエフェクタ間の回転摩擦力が、中心点168に対して垂直方向に実質的な有効トルクを発生させないような点である。つまり、ジンバル機構は、コンディショナヘッド60を研磨パッドを横切って牽引するために必要な合力(R’)がコンディショナヘッド60と研磨パッド間の境界面の平面内に現われるように構成され;これは、コンディショナヘッドと研磨パッド間の合摩擦力(F’)を含む同一の平面である。従って、コンディショナヘッド60と研磨パッド間に生じる合有効トルクは実質的に削減される。というのは、合牽引力(R’)と合摩擦力(F’)は実質的に同一平面内にあって、これらの合力を分離するモーメントが殆ど存在しないからである。この構成は、さもなければコンディショナヘッド60が研磨パッド54を横切って不均一に研磨圧力を加える原因となるであろうコンディショナヘッドの回転性向を減らす。
【0021】
図4Eによれば、ベース64はアーム62に取り付けられたピボット支持プレート180と、テーブルトップ表面57に取り付けられたモータブラケット182とを含む。モータブラケット182はハーモニックドライブ184(例えば、マサチューセッツ州 Peabody の Harmonic Drive Technologies, Teijin Seiki Boston, Inc. から入手可能なハーモニックドライブ)に取り付けられる。ハーモニックドライブ184の高速低トルク側はモータブラケット182に固定され、低速高トルク側はフランジ186、188によってピボット支持プレート180とアーム62に固定される。ドライブ揺動モータ190は、テーブルトップ57の下のモータブラケット182に取り付けられる。ドライブ揺動モータ190は、ハーモニックドライブ184のリムドライブギヤ198と噛み合うギヤ196にクランプ194によって連結された駆動軸192を持つ。作動時には、ドライブ揺動モータ190がハーモニックドライブ184を駆動し、ハーモニックドライブが次に、ピボット支持プレート180を回転させ、それによってアーム62を研磨パッドの表面を横切って前後に揺動させる。ベアリング199によって、ピボット支持プレート180はモータブラケット182に対して自由に回転できる。
【0022】
図4Cに関して上述したように、コンディショナヘッド60は、アーム62の一端で歯付駆動ベルトと係合する歯付シーブ122でスプラインシャフト106とスプラインナット124とを駆動することによって回される。図4Eに示すアーム62の他端では、歯付駆動ベルト(図示せず)は、駆動軸202の一端に連結された対応する歯付シーブ200と係合する。駆動軸202の他端はギヤを有し、そのギヤは、クランプ208によってコンディショナモータ212のモータ駆動軸210に連結されたギヤ206と噛み合う。ギヤ204、206は、テーブルトップ57に固定されたギヤハウジング214内に収容される。モータ駆動軸210の回転はシャフト202を駆動し、それが次に歯付シーブ122を回転させることによって、コンディショナヘッド60を回転させる。ベアリング216、218によって駆動軸202はピボット支持プレート180とモータブラケット182に対して自由に回転できる。
【0023】
空気は、駆動軸202を通って延びて流体チャネル116と結合する内側チューブ222に連結された空気圧入力117を介して、パッドコンディショナ56に導入されるとともにそこから真空排気される。コンディショナヘッド60に取り付けられたエンドエフェクタのリンスのために使用される水などの流体は、内側チューブ222の外面と外側チューブ226の内面の間で画成される環状チャネルに連結された流体入力224を介して、パッドコンディショナ56に導入される。
【0024】
研磨パッドコンディショナ56はいくつもの異なる方法で使用できる。例えば、パッドコンディショナ56は、コンピュータで実行されるソフトウェアプログラムによって制御してもよい。研磨パッドは、基板が研磨される前、研磨中、または研磨後にコンディショニングできる。各種のエンドエフェクタを使用してもよい。一般に、エンドエフェクタは、研磨パッドに押し付けられてパッドの目詰まりを解消して表面凹凸を除去するダイヤモンド含浸面などの研磨性表面を含む。研磨性表面は、希望する基板表面仕上げによって、複数の歯または凹部を持ってもよい。エンドエフェクタは、それをコンディショナヘッドに取り付ける接着面を持ってもよい。
【0025】
他の実施の形態は請求の範囲の中に含まれる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 図1Aは研磨装置の斜視図である。図1Bは図1の研磨装置の分解図である。
【図2】 図2Aと2Bは、図1の研磨装置による、研磨中の基板およびコンディショニング中の研磨パッドの上面線図である。
【図3】 図3Aは、研磨パッド面に垂直な線に沿っていない位置からのコンディショナヘッドに対するドライバ付加力の線図である。図3Bは、研磨パッド面に垂直な線に沿った位置からのコンディショナヘッドに対するドライバ付加力の線図である。
【図4】 図4Aは、伸長位置のキャリヤヘッドを含む研磨パッドコンディショナの側面線図である。図4Bは、図4Aの研磨パッドコンディショナの要部の側面線図で、キャリヤヘッドが後退位置にある状態を示す。図4Cは、図4Aの研磨パッドコンディショナのキャリヤヘッドの側面線図である。図4Dは、図4Aの研磨パッドコンディショナにおいて、キャリヤヘッドをコンディショナ駆動軸に連結するジンバル機構の側面線図である。図4Eは、図4Aの研磨パッドコンディショナのベースの側面線図である。
【符号の説明】
10…研磨装置、14…研磨ステーション、16…基板移動ステーション。
Claims (13)
- 基板研磨で使用される装置であって:
エンドエフェクタを受けるように構成された、研磨パッドの表面をコンディショニングするためのコンディショナヘッドと;
コンディショニングされる前記研磨パッド面の上方に前記コンディショナヘッドを支持するための支持アームと;
前記支持アームにより支持され、ベルト駆動により回される第1駆動軸と;
前記第1駆動軸と同軸にあり、前記第1駆動軸により回されるように駆動され、スライド連結で前記第1駆動軸に連結された第2駆動軸と;
前記第2駆動軸に結合され、内部キャビティを備えるドライバであって、前記内部キャビティに加えられた圧縮流体が前記研磨パッド面に垂直な線に沿って前記第2駆動軸に力を作用するように前記内部キャビティが配置されている、前記ドライバと;
を備え、
前記コンディショナヘッドに前記第2駆動軸が連結されている、前記装置。 - 前記ドライバが、コンディショニングされる前記研磨パッド面に実質的に垂直な線に沿って存在する作動力を前記コンディショナヘッドに加える請求項1の装置。
- 前記ドライバが空気圧駆動式である請求項1の装置。
- 前記第2駆動軸が、コンディショニングされる前記研磨パッド面に垂直な駆動軸に沿って、コンディショニングされる前記研磨パッドに向かう方向とそれから離れる方向に直線的に作動可能である請求項1の装置。
- 前記ドライバが、前記第2駆動軸と内部キャビティ間に連結された流体膜を備え、前記流体膜が、前記第2駆動軸が直線的に作動されるに従って、前記支持アームの前記内部キャビティ内の流体をシールする、請求項1の装置。
- 更に、前記第2駆動軸と前記コンディショナヘッド間に連結されたジンバル機構を備え、前記ジンバル機構は、前記コンディショナヘッドが回転して前記駆動軸に対して或る角度で傾斜できる、請求項1の装置。
- 前記支持アームが、コンディショニングされる前記研磨パッドの上で前記コンディショナヘッドを動かすように構成されたベースに連結された別の端部を有する請求項1の装置。
- 更に、前記支持アームを通って延びた、リンス用流体を前記研磨パッド面に供給するための流体管路を備える請求項1の装置。
- 基板研磨で使用される方法であって:
エンドエフェクタを受容するように構成された、研磨パッドの表面をコンディショニングするためのコンディショナヘッドを提供するステップと;
コンディショニングされる前記研磨パッドの上方に前記コンディショナヘッドを支持するステップと;
前記支持アームにより支持されベルト駆動により回される第1駆動軸を準備するステップと;
前記第1駆動軸と同軸にあり前記第1駆動軸により回されるように駆動され、スライド連結で前記第1駆動軸に連結された第2駆動軸を準備するステップと;
前記第2駆動軸と前記コンディショナヘッドを連結するステップと;
内部キャビティを準備するステップであって、前記内部キャビティに加えられた圧縮流体が前記研磨パッド面に垂直な線に沿って前記第2駆動軸に力を作用するように前記内部キャビティが配置されている、前記ステップと;
前記コンディショナヘッドに取り付けられたエンドエフェクタが前記研磨パッドの表面をコンディショニングできるように、コンディショニングされる前記研磨パッド面に垂直な線に沿った作動力によって前記コンディショナヘッドを駆動するステップと;
を含む方法。 - 前記コンディショナヘッドが空気圧作動式である請求項9の方法。
- 前記コンディショナヘッドが支持アームによって前記研磨パッド面の上方に支持され;
更に、前記支持アームを介してリンス用流体を前記研磨パッド面に供給することを含む請求項9項の方法。 - 基板研磨で使用される装置であって:
基板を受容するように構成された研磨用の回転式基板キャリヤと;
前記基板の表面を研磨するための研磨パッドを支持するための回転式プラテンと;
エンドエフェクタを受容するように構成された、前記研磨パッドの表面をコンディショニングするためのコンディショナヘッドと;
前記コンディショナヘッドに連結された一端を有し、コンディショニングされる前記研磨パッド面の上方に前記コンディショナヘッドを支持するための支持アームと;
前記支持アームに連結された第1駆動軸と;
前記第1駆動軸と同軸にあり、前記第1駆動軸により回されるように駆動され、スライド連結で前記第1駆動軸に連結された第2駆動軸と;
内部キャビティを備えるドライバであって、前記内部キャビティに加えられた圧縮流体が、コンディショニングされる前記研磨パッド面に垂直な線に沿って作動力を前記第2駆動軸に作用するように前記内部キャビティが配置されている、前記ドライバと;
を備え、
前記第2駆動軸は、前記コンディショナヘッドに連結され、
前記コンディショナヘッドに取り付けられたエンドエフェクタが前記研磨パッドの表面をコンディショニングできるようにした前記装置;
を備える装置。 - 前記ドライバが空気圧駆動式である請求項12の装置。
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