JP4338731B2 - 高熱分解法で製造され、表面変性された酸化アルミニウム - Google Patents
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Description
この表面変性された酸化アルミニウムは、
表面積 50〜150m2/g
突固め密度 50〜90g/L
乾燥減量 5%未満
強熱減量 0.5〜15%
C含有率 0.5〜12% 及び
pH値 4〜8
を有している。
本発明の目的物は、次の特徴を有する、高熱分解法で製造され、表面変性された酸化アルミニウムである:
表面積[m2/g] 50〜150
突固め密度[g/L] 25〜130
乾燥減量[%] 5未満
強熱減量[%] 0.1〜15
C含有率[%] 0.1〜15
pH値 3〜9 。
a)タイプ(RO)3Si(CnH2n+1)及び(RO)3Si(CnH2n−1)
[式中、R=アルキル、例えばメチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、ブチル、及びn=1〜20]のオルガノシラン、
b)タイプ
R’x(RO)ySi(CnH2n+1)及びR’x(RO)ySi(CnH2n−1)[式中、R=アルキル、例えばメチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、ブチル、R’=アルキル、例えばメチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、ブチル、R’=シクロアルキル、n=1〜20、x+y=3、x=1、2及びy=1、2]のオルガノシラン、
c)タイプX3Si(CnH2n+1)及びX3Si(CnH2n−1)
[式中、X=Cl、Br、 n=1〜20]のハロゲンオルガノシラン、
d)タイプ
X2(R’)Si(CnH2n+1)及びX2(R’)Si(CnH2n−1)
[式中、X=Cl、Br、R’=アルキル、例えばメチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、ブチル、R’=シクロアルキル、n=1〜20]のハロゲンオルガノシラン、
e)タイプ
X(R’)2Si(CnH2n+1)及びX(R’)2Si(CnH2n−1)
[式中、X=Cl、Br、R’=アルキル、例えばメチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、ブチル、R’=シクロアルキル、n=1〜20]のハロゲンオルガノシラン、
f)タイプ(RO)3Si(CH2)m−R’
[式中、R=アルキル、例えばメチル、エチル、プロピル、m=0.1〜20、
R’=メチル−、アリール(例えば−C6H5、置換フェニル基)、
g)タイプ(R”)x(RO)ySi(CH2)m−R’
[式中、R”=アルキル x+y=2
=シクロアルキル x=1.2
y=1.2
m=0.1〜20、
R’=メチル、アリール(例えば−C6H5、置換フェニル基)、
R’””=H、アルキル)]のオルガノシラン、
h)タイプX3Si(CH2)m−R’
[式中、X=Cl、Br、 m=0.1〜20、
R’=メチル、アリール(例えば−C6H5、置換フェニル基)、
i)タイプ(R)X2Si(CH2)m−R’
[式中、X=Cl、Br、R=アルキル、例えばメチル、エチル、プロピル、
m=0.1〜20、
R’=メチル、アリール(例えば−C6H5、置換フェニル基)、
−Sx−(CH2)3Si(OR)3(ここで、R=メチル、エチル、プロピル、ブチル)、
−SH]のハロゲンオルガノシラン、
j)タイプ(R)2XSi(CH2)m−R’
[式中、X=Cl、Br、R=アルキル、m=0.1〜20、
R’=メチル、アリール(例えば−C6H5、置換フェニル基)、
l)タイプD3、D4、D5
[ここで、D3、D4及びD5は、タイプ−O−Si(CH3)2−の単位3、4又は5個を有する環状ポリシロキサンである]の環状ポリシロキサン、
例えばオクタメチルシクロテトラシロキサン=D4
R=アルキル、例えばCnH2n+1(ここで、n=1〜20)、アリール、例えばフェニル及び置換フェニル基、(CH2)n−NH2、H、
R’=アルキル、例えばCnH2n+1(ここで、n=1〜20)、アリール、例えばフェニル及び置換フェニル基、(CH2)n−NH2、H、
R”=アルキル、例えばCnH2n+1(ここで、n=1〜20)、アリール、例えばフェニル及び置換フェニル基、(CH2)n−NH2、H、
R’”=アルキル、例えばCnH2n+1(ここで、n=1〜20)、アリール、例えばフェニル及び置換フェニル基、(CH2)n−NH2、H]のポリシロキサン又はシリコーン油。
ジメチルジクロロシラン、オクチルトリメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、3−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリルオキシプロピルトリエトキシシラン、ヘキサデシルトリメトキシシラン、ヘキサデシルトリエトキシシラン、ジメチルポリシロキサン、グリシジルオキシトリメトキシシラン、グリシジルオキシプロピルトリエトキシシラン、ナノフルオロヘキシルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシラン、アミノプロピルトリエトキシシラン。殊に好ましくはオクチルメトキシシラン及びオクチルトリエトキシシランを使用することができる。
1.ポリイミド、
2.ポリエステル、
3.ポリエステルアミド、
4.ポリエステルアミドイミド、
5.ポリアミド、
6.ポリアミドイミド、
7.ポリエーテルイミド、
8.ポリカーボネート、
9.ポリスルフォン、
10.ポリエーテル、
11.ポリエーテルケトン、
12.ポリエーテルスルフォン、
13.ポリフタラミド、
14.エポキシ樹脂、
15.及びこれらの誘導体及び組み合わせ物を包含する類似物。
ピロメリティックジアンヒドリド(PMDA);3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボキシリックジアンヒドリド(BPDA);3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボキシリックジアンヒドリド(BPDA);4,4’−オキシジフタリックジアンヒドリド(ODPA);ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホキシドジアンヒドリド(DSDA);1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパンジアンヒドリド(6FDA);ビスフェノールAジアンヒドリド(BPADA);2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボキシリックジアンヒドリド;1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボキシリックジアンヒドリド;1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボキシリックジアンヒドリド;2,6−ジクロロナフタレン−1,4,5,8−テトラカルボキシリックジアンヒドリド;2,7−ジクロロナフタレン−1,4,5,8−テトラカルボキシリックジアンヒドリド;2,2’−ビス(トリフルオロメチルベンジジン);2,3,3’,4’−ビフェニルテトラカルボキシリックジアンヒドリド;2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボキシリックジアンヒドリド;2,3,3’,4’−ベンゾフェノンテトラカルボキシリックジアンヒドリド;2,2’,3,3’−ベンゾフェノンテトラカルボキシリックジアンヒドリド;2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパンジアンヒドリド;1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタンジアンヒドリド;1,1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタンジアンヒドリド;ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタンジアンヒドリド;ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタンジアンヒドリド;4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタリックアンヒドリド;ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルフォンジアンヒドリド;テトラヒドロフラン−2,3,4,5−テトラカルボキシリックジアンヒドリド;ピラジン−2,3,5,6−テトラカルボキシリックジアンヒドリド;チオフェン−2,3,4,5−テトラカルボキシリックジアンヒドリド;フェナンスレン−1,8,9,10−テトラカルボキシリックジアンヒドリド;ペリレン−3,4,9,10−テトラカルボキシリックジアンヒドリド;ビス−1,3−イソベンゾフランジオン;ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)チオエーテルジアンヒドリド;ビシクロ−[2,2,2]−オクテン−(7)−2,3,5,6−テトラカルボキシリック−2,3,5,6−ジアンヒドリド;2−(3’,4’−ジカルボキシフェニル)5,6−ジカルボキシベンズイミダゾールジアンヒドリド;2,3’,4’−ジカルボキシフェニル)5,6−ジカルボキシベンズオキサゾールジアンヒドリド;2−(3’,4’−ジカルボキシフェニル)5,6−ジカルボキシベンゾチアゾールジアンヒドリド;ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)2,5−オキサジアゾール1,3,4−ジアンヒドリド;ビス2,5−(3’,4’−ジカルボキシジフェニルエーテル)1,3,4−オキサジアゾールジアンヒドリド;これらの酸エステル及びこれらの酸クロリド誘導体。
2,2−ビス−(4−アミノフェニル)プロパン;4,4’−ジアミノジフェニルメタン;
4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド;3,3’−ジアミノジフェニルスルホン;4,4’−ジアミノジフェニルスルホン;4,4’−ジアミノジフェニルエーテル(4,4’−ODA);3,4’−ジアミノジフェニルエーテル(3,4−ODA);
1,3−ビス−(4−アミノフェノキシ)ベンゼン(APB−134);
1,3−ビス−(3−アミノフェノキシ)ベンゼン(APB−133);
1,2−ビス−(4−アミノフェノキシ)ベンゼン;1,2−ビス−(3−アミノフェノキシ)ベンゼン;1,4−ビス−(4−アミノフェノキシ)ベンゼン;1,4−ビス−(3−アミノフェノキシ)ベンゼン;
1,5−ジアミノナフタレン;
4,4’−ジアミノジフェニルジエチルシラン;4,4’−ジアミノジフェニルシラン;
4,4’−ジアミノジフェニルエチルホスフィンオキシド;
4,4’−ジアミノジフェニル−N−メチルアミン;4,4’−ジアミノジフェニル−N−フェニルアミン;
1,2−ジアミノベンゼン(OPD);1,3−ジアミノベンゼン(MPD);
1,4−ジアミノベンゼン(PPD);2,5−ジメチル−1,4−ジアミノベンゼン;
2,5−ジメチル−1,4−フェニレンジアミン(DPX);トリフルオロメチル−2,4−ジアミノベンゼン;トリフルオロメチル−3,5−ジアミノベンゼン;
2,2−ビス(4−アミノフェニル)1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン;2,2−ビス(3−アミノフェニル)1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン;
ベンジジン;
4,4’−ジアミノベンゾフェノン;3,4’−ジアミノベンゾフェノン;3,3’−ジアミノベンゾフェノン;
m−キシリレンジアミン;p−キシリレンジアミン;
ビスアミノフェノキシフェニルスルホン;
4,4’−イソプロピリデンジアニリン;
N,N−ビス−(4−アミノフェニル)メチルアミン;N,N−ビス−(4−アミノフェニル)アニリン;
3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル;4−アミノフェニル−3−アミノベンゾエート;
2,4−ジアミノトルエン;2,5−ジアミノトルエン;2,6−ジアミノトルエン;2,4−ジアミン−5−クロロトルエン;2,4−ジアミン−6−クロロトルエン;2,4−ビスー(ベータ−アミノ−t−ブチル)トルエン;
ビス−(p−ベータ−アミノ−t−ブチルフェニル)エーテル;
p−ビス−2−(2−メチルー4−アミノペンチル)ベンゼン;1−(4−アミノフェノキシ)3−(3−アミノフェノキシ)ベンゼン;1−(4−アミノフェノキシ)4−(3−アミノフェノキシ)ベンゼン;
2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン(BAPP);
2,2’−ビス(4−アミノフェニル)−ヘキサフルオロプロパン(6Fジアミン);
2,2’−ビス(4−フェノキシアニリン)イソプロピリデン;
2,4,6−トリメチル−1,3−ジアミノベンゼン;
4,4’−ジアミノ−2,2’−トリフルオロメチル ジフェニルオキシド;
3,3’−ジアミノ−5,5’−トリフルオロメチル ジフェニルオキシド;
2,2’−トリフルオロメチル−4,4’−ジアミノビフェニル;
4,4’−オキシ−ビス[(2−トリフルオロメチル)ベンゼン アミン];
4,4’−オキシ−ビス[(3−トリフルオロメチル)ベンゼン アミン];
4,4’−チオ−ビス[(2−トリフルオロメチル)ベンゼン アミン];
4,4’−チオ−ビス[(3−トリフルオロメチル)ベンゼン アミン];
4,4’−スルホキシル−ビス[(2−トリフルオロメチル)ベンゼン アミン];
4,4’−スルホキシル−ビス[(3−トリフルオロメチル)ベンゼン アミン];
及び4,4’−ケト−ビス[(2−トリフルオロメチル)ベンゼン アミン]。4,4’−オキシジアニリン(4,4−ODA)が有利である。
1.不飽和芳香族化合物、例えばスチレン、α−メチルスチレン、ハロゲン化スチレン及びジビニルベンゼン;
2.不飽和エステル、例えば酢酸ビニル及びプロピオン酸ビニル;
3.不飽和ニトリル、例えばアクリロニトリル;
4.アクリル酸エステル又はメタクリル酸エステル、例えばアクリル酸メチル、エタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸ラウリル、メタクリル酸ラウリル、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、アクリルアクリレート及びアリルメタクリレート;
5.C2〜C20−アルケン又はビニルモノマー、例えばエチレン、プロピレン、ブチレン、ブタジエン、イソプレン及び類似物;
6.アクリル酸、メタクリル酸及びこれらの誘導体;
7.アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミド及び類似物;
8.1以上の重合可能な反応部位を有するモノマー、例えばヒドロキシル、エポキシ、カルボキシル、アンヒドリド、アミノ、ハライド及び類似物;及び
9.これらの組み合わせ物及び誘導体。
1.水素(即ち、 −SiORは−SiOHである);又は
2.加水分解して−ORを−OHに変換することのできる置換又は非置換のアルキル基(即ち、SiORは、加水分解によりSiOHに変換されうる−SiOHの前駆体である)。
(a)ビニルトリクロロシラン、ビニルトリス(ベータ−メトキシエトキシ)シラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ガンマ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、ガンマ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン及びガンマ−クロロプロピルトリメトキシシラン;
(b)ガンマ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン及びガンマ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン;及び
(c)N−ベータ(アミノエチル)−ガンマ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(ベータ(アミノエチル)ガンマ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン及びガンマ−アミノプロピルトリエトキシシラン。
(a)ジアミンモノマーとジアンヒドリドモノマーとを予め一緒に混合し、次いでこの混合物を少量ずつ、撹拌されている溶剤に添加する方法、
(b)ジアミンとジアンヒドリドモノマーとの撹拌混合物に溶剤を添加する方法(前記の(a)に対して逆)、
(c)ジアミンを排他的に1溶剤中に溶かし、次いでこれにジアンヒドリドを、反応速度をコントロールすることを可能とするような速度で添加する方法、
(d)ジアンヒドリドモノマーを排他的に1溶剤中に溶かし、次いでこれにアミン成分を、反応速度をコントロールすることを可能とするような速度で添加する方法、
(e)ジアミンモノマー及びジアンヒドリドモノマーを別々に溶剤中に溶かし、次いでこれら溶液を1反応器中で混合する方法、
(f)予め、過大なアミン成分を有するポリアミド酸及び過大なアンヒドリド成分を有する他のポリアミド酸を形成させ、次いで、1反応器中で相互に、特に非−ランダム又はブロックコポリマーを形成するように反応させる方法、
(g)先ず、特定部分のアミン成分とジアンヒドリド成分とを反応させ、次いで、残りのジアンヒドリドモノマーを反応させるか又は逆に行う方法、
(h)ヒュームド酸化アルミナ粒子でコートされたシランを溶剤中に分散させ、次いでポリアミド酸の蒸気中に噴入させて充填剤入りポリアミド酸キャスチング溶液を形成させ、次いでキャストして未処理膜を形成させる方法、
(i)成分の一部又は全てを、任意の順序で溶剤の一部又は全体に添加する、ここで、任意の成分の一部又は全てを、溶剤の一部又は全て中の溶液として添加することもできる方法、
(j)先ずジアンヒドリドモノマーの1種とジアミンモノマーの1種とを反応させて第1のポリアミドを生じさせ、次いで、他のジアンヒドリドモノマーと他のアミン成分とを反応させて第2ポリアミド酸を生じさせ、次いで膜形成に先立って、多数の方法の任意のひとつでこれらのアミド酸を一緒にする方法。
酸化アルミニウムを製造するために、揮発性アルミニウム化合物を、ノズルを通して、水素と空気から製造されたデトネーティングガス(detonating gas)中に噴入させた。大抵の場合に、三塩化アルミニウムを用いる。この物質を、デトネーティングガス反応の間に形成される水の作用下に加水分解させて、酸化アルミニウムと塩酸を生じさせる。火炎を除いた後に酸化アルミニウムは、いわゆる凝固帯域に入り、この中で酸化アルミニウム一次粒子及び一次凝結体が凝集する。この工程で1種のエーロゾルとして存在している生成物を、サイクロン中でガス状付随物質から分離させ、その後に霧状熱空気で処理する。
公知デザインのバーナー中で、予め蒸気化されている三塩化アルミニウム(AlCl3)320kg/hを、水素100Nm3/h及び空気450Nm3/hと一緒に燃焼させる。
2)DIN ISO 787/XI、JIS K5101/18に従う(非篩別)
3)DIN ISO 787/II、ASTM D 280、JIS K5101/21に従う
4)DIN 55921、ASTM D 1208、JIS K5101/23に従う
5)DIN ISO 787/IX、ASTM D !”=(;JIS K5101/24)に従う
6)DIN ISO 787/XVIII;JIS K5101/20に従う
7)105Cで2時間乾燥された物質に関連
8)1000Cで2時間赤熱された物質に関連
9)HCl含分は強熱減量の成分である
10)空気標準ピクノメータを用いて測定。
BET表面積:
BET表面積は、DIN 66131に従って窒素を用いて測定されている。
DIN ISO 787/XIに適合する突固め密度の測定。
突固め密度(tamped dennsity 予め突固められた体積)は、所定の条件下に突固め体積計中で突固めの後の粉末の質量と体積の商に等しい。DIN ISO 787/XIに従い、この突固め密度は、g/m3で与えられる。しかしながら、酸化物の非常に低い突固め密度に基づき、ここでは、この値はg/Lで与えられている。更に、乾燥及び篩別並びに突固め操作の繰り返しを省いている。
突固め体積計
体積測定シリンダー
実験室用スケール(読み 0.01gまで)。
酸化物200±10mLを、突固め体積計の体積測定シリンダー中に、孔が残らず表面が水平であるように充填する。充填された試料の質量を正確に0.01gまで測定する。試料を有する体積測定シリンダーを、突固め体積計の体積測定用シリンダーホルダー中に置き、1250回突固める。この突固められた酸化物の体積を正確に1回読みとる。
pH値を、水:メタノール(1:1)中の疎水性酸化物の4%水性分散液中で測定する。
蒸留された又は完全に脱イオン化された水、pH>5.5
メタノール(p.a.)
緩衝溶液 pH7.00 pH4.66
pH値測定用装置:
実験室用スケール(読み 0.1gまで)
ガラスビーカー、250mL、
磁気攪拌機
磁気ロッド、長さ4cm
結合pH電極
pH測定装置
ディスペンサー 100mL 。
この測定は、DIN/ISO 787/IXに適合して行われる:
目盛り定め:pH値測定に先立ち緩衝溶液を用いて、測定装置の目盛り定めを行う。数回の測定を連続して実施すれば、単一目盛り定めが満足する。
DIN ISO 787IIに記載の10gの秤取量とは対照的に、1gの秤取量を乾燥減量測定のために使用する。
強熱減量測定用装置:
るつぼ蓋付き磁器るつぼ
マッフル炉
分析スケール(読み 0.1gまで)
デシケータ 。
DIN 55921から出発し、未乾燥物質0.3〜1gを正確に0.1mgまで秤量して、予め赤熱されているるつぼ蓋付き磁器るつぼ中に入れ、かつマッフル炉内、1000℃で2時間赤熱した。
強熱減量は、105℃で2時間乾燥された試料に対して相対的に測定されるので、結果として次の計算式が得られる:
TV=乾燥減量(%)
m1=赤熱加熱の後の試料の計測質量(g)。
高熱分解法で製造された酸化アルミニウムを、表面変性用のミキサー中に入れ、先ず水を、かつその後に表面変性剤でスプレーする。このスプレーの終了後に、付加的に15〜30分間混合を継続し、かつ、引き続き1〜4時間タンピング(突固め)を実施する。使用水は、酸、例えば塩酸を用いて7のpH値を1にするまで酸性にされていてよい。使用表面変性剤は、溶剤、例えばエタノール中に溶解されていてよい。
例12によるシランコートされたヒュームド酸化アルミニウム粒子を、ポリイミド膜中に分散させた。ピロメリト酸(PMDA)及び4,4’−オキシジアニリン(4,4’−ODA)から誘導されたポリアミド酸の19(固体)質量%溶液を製造した。このポリアミド酸の粘度は、約98%の化学量論で約1000ポイズであった。このポリアミド酸から脱ガスし、かつ24時間平衡化させた。
ポリメリト酸(PMDA)と4,4’−オキシジアニリン(4,4’−ODA)とから誘導されたポリアミド酸の19(固体)質量%溶液を用いて出発して、ポリイミド膜を製造した。このポリアミド酸の粘度は、約98%化学量論で約1000ポイズであった。次いで、このポリアミド酸から脱ガスし、24時間平衡化させた。
市場規模の製造ラインを用いてポリイミド膜を製造した。PMDAと4,4’−ODAとから誘導されたポリアミド酸の19質量%溶液を用いて、このポリイミドを製造した。このポリアミド酸の粘度は約1500ポイズであり、このポリマーの化学量論は約98%であった。このポリアミド酸に、低剪断され、シランコートされたヒュームド酸化アルミニウムの10質量%スラリーを添加した。混合物を剪断して実質的に均質にし、かつこの混合物の粘度を約1500ポイズまで高めるために、付加的ジアンヒドリドを添加した。
市場スケールの製造ラインを用いてポリイミド膜を製造した。PMDAと4,4’−ODAとから誘導されたポリアミド酸の19質量%溶液を用いて、ポリイミドを製造した。このポリアミド酸の粘度は約1500ポイズであり、このポリマーの化学量論は約98%であった。このポリアミド酸をベルト上でキャストし、約(固体)質量70%まで熱硬化させた。未乾燥膜をテンター炉内、400℃で、約99.5(固体)質量%まで硬化させ、ここで、ポリアミド酸をポリイミドに変換させた。ポリイミド膜をハイポトロニックスランピングボルテージジエレクトリックテスターで試験した。約100試験の平均絶縁耐力が下記第6表に挙げられている。この膜の機械特性は下記第7表中に示されている。
市場スケールの製造ラインを用いてポリイミド膜を製造した。PMDAと4,4’−ODAとから誘導されたポリアミド酸の19質量%溶液を用いてポリイミドを製造した。このポリアミド酸の粘度は約1500ポイズであり、このポリマーの化学量論は約98%であった。高剪断され、表面処理されていないヒュームド酸化アルミナの10質量%スラリーをこのポリアミド酸に、例2と同じ量及び濃度で添加した。混合物を剪断して実質的に均質にし、かつこの混合物の粘度を約1500ポイズまで高めるために、付加的なジアンヒドリドを添加した。
Claims (2)
- 熱硬化性ポリマー又は熱可塑性ポリマー及び次の物理化学的特性:
表面積[m 2 /g] 50〜150
突固め密度[g/L] 25〜130
乾燥減量[%] 5未満
強熱減量[%] 0.1〜15
C含有率[%] 0.1〜15
pH値 3〜9
を有し、次の群:
a)構造:(RO) 3 Si(C n H 2n−1 )[式中、R=アルキル、n=1〜20]のオルガノシラン、
b)構造:
R’ x (RO) y Si(C n H 2n+1 )及びR’ x (RO) y Si(C n H 2n−1 )
[式中、R=アルキル、R’=アルキル、R’=シクロアルキル、n=1〜20、
x+y=3、x=1、2及びy=1、2]のオルガノシラン、
c)構造:X 3 Si(C n H 2n+1 )及びX 3 Si(C n H 2n−1 )
[式中、X=Cl、Br、 n=1〜20]のハロゲンオルガノシラン、
d)構造:
X 2 (R’)Si(C n H 2n+1 )及びX 3 (R’)Si(C n H 2n−1 )
[式中、X=Cl、Br、R’=アルキル、R’=シクロアルキル、n=1〜20]のハロゲンオルガノシラン、
e)構造:
X(R’) 2 Si(C n H 2n+1 )及びX(R’) 2 Si(C n H 2n−1 )
[式中、X=Cl、Br、R’=アルキル、R’=シクロアルキル、n=1〜20]のハロゲンオルガノシラン、
f)構造:(RO) 3 Si(CH 2 ) m −R’
[式中、R=アルキル、m=0.1〜20、
R’=メチル、アリール、
R’""=H、アルキル)]のオルガノシラン、
g)構造:(R") x (RO) y Si(CH 2 ) m −R’
[式中、R"=アルキル x+y=2
=シクロアルキル x=1.2
y=1.2
m=0.1〜20、
R’=メチル、アリール、
R’""=H、アルキル)]のオルガノシラン、
h)構造:X 3 Si(CH 2 ) m −R’
[式中、X=Cl、Br、 m=0.1〜20、
R’=メチル、アリール、
i)構造:(R)X 2 Si(CH 2 ) m −R’
[式中、X=Cl、Br、R=アルキル、m=0.1〜20、
R’=メチル、アリール、
−S x −(CH 2 ) 3 Si(OR) 3 (ここで、R=メチル、エチル、プロピル、ブチル)
−SH)]のハロゲンオルガノシラン、
j)構造:(R) 2 XSi(CH 2 ) m −R’
[式中、X=Cl、Br、R=アルキル、m=0.1〜20、
R’=メチル、アリール、
k)構造:
l)構造:D3、D4、D5
[ここで、D3、D4及びD5は、構造−O−Si(CH 3 ) 2 −の単位3、4又は5個を有する環状ポリシロキサンである]の環状ポリシロキサン、
m)構造:
R=アルキル、(CH 2 ) n −NH 2 、H、
R’=アルキル、(CH 2 ) n −NH 2 、H、
R"=アルキル、(CH 2 ) n −NH 2 、H、
R’"=アルキル、(CH 2 ) n −NH 2 、H]のポリシロキサン又はシリコーン油
及びこれらの混合物
から選択された表面変性剤で処理されている、高熱分解法で製造され、表面変性された酸化アルミニウムを含有するポリマー組成物。 - 請求項1に記載のポリマー組成物から製造された成形品。
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US20120080970A1 (en) * | 2010-02-22 | 2012-04-05 | General Electric Company | High voltage and high temperature winding insulation for esp motor |
US8784993B2 (en) * | 2010-12-15 | 2014-07-22 | General Electric Company | High temperature high frequency magnet wire and method of making |
CN103168068A (zh) * | 2010-07-23 | 2013-06-19 | E.I.内穆尔杜邦公司 | 消光整理聚酰亚胺膜及其相关方法 |
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US3776978A (en) | 1972-01-07 | 1973-12-04 | M Markovitz | Epoxy resins containing phenolic accel-erators and organic titanates |
US4308312A (en) | 1979-07-24 | 1981-12-29 | General Electric Company | Dielectric films with increased voltage endurance |
US4760296A (en) | 1979-07-30 | 1988-07-26 | General Electric Company | Corona-resistant insulation, electrical conductors covered therewith and dynamoelectric machines and transformers incorporating components of such insulated conductors |
US5166308A (en) | 1990-04-30 | 1992-11-24 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Copolyimide film with improved properties |
EP0474054B1 (en) | 1990-08-27 | 1995-12-06 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Flexible multi-layer polyimide film laminates and preparation thereof |
DE69127352T2 (de) * | 1991-02-15 | 1997-12-18 | Mitsubishi Materials Corp | Hydrophobes Aluminiumoxid und dieses enthaltendes Entwicklerpulver für die Elektrophotographie |
DE4202694C1 (en) * | 1992-01-31 | 1993-07-01 | Degussa Ag, 6000 Frankfurt, De | Silane surface-modified pyrogenic alumina, for use in toner - to increase charge stability, produced by spraying with silane mixt. free from solvent |
JP3102822B2 (ja) * | 1992-05-29 | 2000-10-23 | 日本ジーイープラスチックス株式会社 | レーザーマーキング用樹脂組成物 |
DE19500674A1 (de) * | 1995-01-12 | 1996-07-18 | Degussa | Oberflächenmodifizierte pyrogen hergestellte Mischoxide, Verfahren zu ihrer Herstellung und Verwendung |
DE19943291A1 (de) * | 1999-09-10 | 2001-03-15 | Degussa | Pyrogen hergestelltes Aluminiumoxid |
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