JP4328009B2 - 加熱装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、加熱装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
半導体製造装置においては、熱CVDなどによってシランガスなどの原料ガスから半導体薄膜を製造するに当たって、基板であるウエハーを加熱するためのセラミックスヒーターが具えられている。
【0003】
セラミックスヒーターにおいては、いわゆる2ゾーンヒーターと呼ばれる構成のものが知られている。2ゾーンヒーターにおいては、セラミックス基体中に、モリブデンなどの高融点金属からなる内側抵抗発熱体と外側抵抗発熱体とを埋設し、これら抵抗発熱体にそれぞれ別個の電流導入端子を接続し、各抵抗発熱体に所定の電圧を印加することにより、内側抵抗発熱体および外側抵抗発熱体を独立に制御する。
【0004】
また、特開平5−326112号公報においては、セラミックスヒーターの抵抗発熱体を、複数の高融点金属などからなる回路パターンによって構成し、それぞれの回路パターンを互いの欠損部分が補われるようにして配置している。具体的には、一つの回路パターンの折れ目又は折り返し部などにおいて、他の回路パターンを重ね合わせている。
【0005】
特に半導体ウエハーを加熱する用途においては、加熱面の温度を全体に均一に制御することが必要であり、使用条件下で例えば加熱面の全体にわたって±5℃以下といった厳格な仕様を満足することが要求されている。2ゾーン制御方式のセラミックスヒーターにおいても、通常はこうした仕様を満足することは可能であった。しかし、本発明者が更に検討を進めた結果、特に温度が高くなるのにつれて、所定の均熱性を保持することは困難となってきた。例えば、室温−500℃といった温度範囲において加熱面の温度の均一性が保持されていたセラミックスヒーターであっても、例えば600℃以上の温度範囲になると急激に加熱面における温度差が大きくなることがあった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
本発明者は、こうした均熱性の制御可能性の限界について検討を進めた。例えば、図6に示すように、チャンバー1内に加熱装置3Aを収容したものとする。加熱装置3Aには、平板形状の基体5と、この基体5を加熱する加熱素子層7が設けられている。基体5の載置面5a上に被加熱体2が載置されている。加熱素子層7は、基体5の背面5bに接触している。加熱素子層7は、基体5と絶縁板6との間に挟まれており、絶縁板6と基体5とはボルト8Aによって締結されている。6aは加熱素子層への接触面である。絶縁板6の背面6bには、円筒形状の支持部材10が接合され、一体化されている。支持部材10の下端部には台座11が固定されており、台座11は、図示しないチャンバー外壁に固定されている。4はゲートバルブであり、9は電極ケーブルである。
【0007】
しかし、こうした加熱装置においては、まず支持部材10の直径は絶縁板6の直径よりも若干小さい程度であり、非常に大きいので、支持部材10の面積も大きくなる。この支持部材10の外形寸法は、絶縁板6、加熱素子層7および基体5の全体の外形寸法よりもはるかに大きい。この結果、加熱装置3A全体の体積も非常に大きくなり、基体5から支持部材10を伝わる熱の逃げも定常的に大きくなる。この状態では、基体5が高温になるのにつれて、各構成部品の僅かな製造上の不均一等が影響し、基体5にコールドスポットが発生し易くなり、均熱性が劣化する。更に、基体5の周縁部の近傍にはゲートバルブ4があるが、基体5の周縁部5cのゲートバルブ4に近い領域からも熱の逃げがあり、コールドスポットの原因となる。
【0008】
本発明者は、こうした支持部材10の容量が大きいこと、および支持部材10からの不均一な熱の逃げという問題点を解決するために、図7に模式的に示すような加熱装置3Bを考案し、検討した。装置3Bにおいては、絶縁板6の背面6b側に別の絶縁板14を積層し、ボルト8Bによって締結した。そして、絶縁板14の下に円筒形状の支持部材13を設け、支持部材13を台座11に固定した。台座11は、図示しないチャンバー外壁に取り付けられる。この例では、小型の支持部材13によって絶縁板6、加熱素子層7および基体5をチャンバー台座11に取り付けることによって、加熱装置3B全体の容量を小さくすることを想到した。しかし、この装置では、矢印Aで示すように加熱素子層7からの熱が絶縁板14および支持部材13を通って逃げるので、載置面を高温にすると、やはりコールドスポットが生ずる。
【0009】
本発明の課題は、基体上の被加熱体を加熱する加熱装置において、基体上の載置面におけるコールドスポットを効果的に防止することで載置面の温度の均一性を高めるような構造を提供することである。
【0010】
また、本発明の他の課題は、載置面の温度の均一性を保持しつつ、加熱装置全体の容量を小さくできるようにすることである。
【0011】
【課題を解決するための手段】
本発明は、被加熱体を載置する載置面を有する基体と、この基体および前記被加熱体を加熱するための主要加熱素子層と、この主要加熱素子層と積層されている補助加熱素子層と、前記主要加熱素子層と前記補助加熱素子層との間に介在する第1の絶縁体とを備えている加熱装置であって、
前記基体、前記主要加熱素子層、前記補助加熱素子層および前記第1の絶縁体を支持する、前記基体よりも小さく形成した支持部材を更に備えており、この支持部材からの熱の逃げを前記補助加熱素子層の発熱によって補填するように、この補助加熱素子層は前記支持部材に対応する大きさに形成されており、
前記支持部材が前記基体の面積に対して1:200〜1:3の範囲で小さく形成してあるのに応じて、前記補助加熱素子層の面積が前記主要加熱素子層の面積よりも小さく形成されており、前記主要加熱素子層の発熱によって前記基体および前記被加熱体を加熱している間に、前記補助加熱素子層からの発熱によって前記基体からの熱の逃げを補填するように構成されていることを特徴とする。
【0012】
以下、図面を適宜参照しつつ、本発明を説明する。
【0013】
図1は、本発明の一実施形態に係る加熱装置15Aを模式的に示す断面図であり、図2は、本発明の他の実施形態に係る加熱装置15Bを模式的に示す断面図である。
【0014】
チャンバー1内に加熱装置15Aが収容されている。加熱装置15Aは、平板形状の基体5と、この基体5を加熱する主要加熱素子層7Aを備えている。基体5の載置面5a上に被加熱体2が載置されている。加熱素子層7Aは、基体5の背面5bに接触しており、基体5と絶縁板6との間に挟まれており、絶縁板6と基体5とはボルト8Aによって締結されている。6aは加熱素子層7Aへの接触面である。絶縁板6の背面6bには、補助加熱素子層7Bが接触している。加熱素子層7Bは、絶縁板6と14との間に挟まれており、絶縁板6と14とはボルト8Bによって締結されている。絶縁板14は、円筒形状の支持部材13に取り付けられており、支持部材13はチャンバー台座11に取り付けられている。
【0015】
本例の加熱装置15Aは、支持部材13の直径が基体5の直径に比べて著しく小さいので、従来の加熱装置に比べて容量が著しく小さい。その上で、被加熱体2および基体5は、主として主要加熱素子層7Aによって加熱している。このため、主要加熱素子層7Aは、被加熱体2とほぼ同等あるいはそれ以上の面積を有する。ここで、載置面5aを高温に保持した場合には、支持部材13を通ってチャンバーへと熱が逃げるので、載置面5aの17の領域にコールドスポットが生ずる。しかし、本発明では、主要加熱素子層7Aよりも面積の小さい、および直径の小さい補助加熱素子層7Bを、支持部材13と主要加熱素子層7Aとの間に設けることによって、補助加熱素子層7Bを適宜発熱させ、コールドスポットを抑制し、あるいは消去することができる。
【0016】
更には、基体5のうちゲートバルブ4の近傍の周縁部5cからゲートバルブ4側へと向かって熱が逃げ、周縁部5c近辺にコールドスポットが発生することがある。しかし、補助加熱素子層7Bを適宜発熱させることによって、こうしたコールドスポットも抑制ないし消去できる。
【0017】
本発明において、主要加熱素子層とは、被加熱体を主として加熱する機能を担う加熱素子からなる層を言う。主要加熱素子層は、基体の背面に直接接触していてよい。あるいは基体の背面と主要加熱素子層との間に別の物質、好ましくは絶縁体が介在していてよい。また、基体の中に主要加熱素子層が埋設されていてもよい。
【0018】
基体は、一体物であってよいが、複数層の絶縁板からなっていてよい。また、載置面と被加熱体との間に、別の部材が挟まれている場合も包含される。
【0019】
補助加熱素子層は、主要加熱素子層と隣接して積層されていて良いが、主要加熱素子層から離れていてもよい。また、補助加熱素子層を2層以上設けることによって、加熱装置のそれぞれ異なる部分からの熱の逃げを防止できる。
【0020】
図2の加熱装置15Bにおいては、蓋20を台座11上に設置することによって空間23を形成する。蓋20は、略円盤状の基体5と、基体5の周縁部5cから図面において下方へと向かって突出する円筒形状の壁部21とを備えている。壁部21の下端部が台座11に固定具18によって固定されている。
【0021】
蓋20の内側空間23にはヒーター素子および絶縁体が収容されている。即ち、台座11上に支持部材13が固定されており、支持部材13上に絶縁板14を介して補助加熱素子層7Cが支持されている。加熱素子層7C上に絶縁板6B、補助加熱素子層7B、絶縁板6A、主要加熱素子層7Aが順次に積層され、支持されている。主要加熱素子層7Aが基体5と対向しており、両者の間には若干の隙間がある。基体5の上に被加熱体2が載置され、支持されている。
【0022】
本例では、主要加熱素子層7Aは、例えば図3(a)に示すように、被加熱体2とほぼ同じ面積にわたって広く設けられている。これに対して、第一の補助加熱素子層7Bは、例えば図3(b)に示すように、絶縁板6A、6B、および基体5の周縁部のみに設けられており、外周側ヒーターを構成している。これによって、基体5の周縁部から矢印B、Cのように壁部21を通って流れる熱の逃げを補填できる。この目的から、補助加熱素子層7Bは、基体5、絶縁板6A、6Bの周縁部のみに設けられており、中央部には設けられていない。従って、主要加熱素子層7Aと補助加熱素子層7Bとは、外形はほぼ同等かあるいは補助加熱素子層7Bの方が若干大きいが、面積は主要加熱素子層7Aの方がはるかに大きい。
【0023】
更に、絶縁板6Bと絶縁板14との間には補助加熱素子層7Cが挟まれており、これによって、図1の装置と同様に、支持部材13を通って逃げる熱を補填する。補助加熱素子層7Cは、例えば図3(c)に示すような平面的形態を有する。
【0024】
また、本発明の加熱装置は、一体型の加熱装置であってよい。ここで、一体型とは、少なくとも、主要加熱素子層、基体および補助加熱素子層が一体であるものを言う。言い換えると、主要加熱素子層および補助加熱素子層が基材の中に埋設されている。この基材は、好ましくはセラミックスからなり、更に好ましくは一体焼結体からなる。こうした一体型の加熱装置を利用すると、前述した本発明の作用効果に加えて、取り扱いが容易となる。更に、図1、図2に例示したような各部分が別体のヒーターに比べて、ヒーターの昇温、降温の速度が速く、応答時間が短い(例えば50℃/分以上の速度を実現可能)。
【0025】
図4は、この実施形態に係る加熱装置15Cを模式的に示す断面図である。一体の基材、例えばセラミックス焼結体23中には、主要加熱素子層7Aが埋設されており、かつ補助加熱素子層7Bが埋設されている。これらの各加熱素子層の動作は、前述した加熱装置と同様である。ここで、主要加熱素子層7Aと載置面5aとの間には基体5Aが設けられており、主要加熱素子層7Aと補助加熱素子層7Bとの間には絶縁層6Cが設けられており、補助加熱素子層7Bと支持部材13との間には小型の絶縁層14Aが設けられている。なお11は台座部分であり、21は固定具であり、22はチャンバー外壁であり、9Aは電極ケーブルである。
【0026】
主要加熱素子層7Aの平面的パターンは、例えば図3(a)に示すようなパターンであってよい。また補助加熱素子層7Bは、例えば図5に示すように平面的パターンを有していてよい。
【0027】
主要加熱素子層と補助加熱素子層との面積比率は、熱の補填という観点から適宜決定すべきことであるので特に制限はないが、通常は0.7倍以下であり、1:2以下であることが更に好ましい。また、熱の効果的な補填のためには、1:20以上であることが好ましい。
【0028】
主要加熱素子層、補助加熱素子層の各材質は特に限定されず、金属、導電性セラミックス等であってよい。具体的な材質としては、タンタル、タングステン、モリブデン、白金、レニウム、ハフニウム及びこれらの合金である高融点金属を使用することが好ましい。特に、基体を窒化アルミニウムから構成した場合においては、モリブデン及びモリブデン合金であることが好ましい。また、高融点金属以外に、カーボン、TiN、TiCなどの導電性材料を使用することもできる。
【0029】
主要加熱素子層、補助加熱素子層の微視的形態は、本発明の目的を達成することができれば、限定されるものではなく、例えば網状物、コイルスプリング状物、平板状物、リボン状物などから構成することができる。また、主要加熱素子層、補助加熱素子層の平面的パターンも特に限定されない。
【0030】
絶縁板、基体の種類は特に限定されないが、汚染防止の観点からセラミックスが好ましく、窒化アルミニウム、窒化珪素、窒化ホウ素、炭化珪素が特に好ましい。
【0031】
載置面と主要加熱素子層、補助加熱素子層とは、互いに略平行であることが好ましい。これにより、加熱装置中における上下方向の熱の伝導が極めて均一に行われる。従って、載置面5a上に被加熱体、例えば半導体ウエハーを載置した場合に、ウエハーを均一に効率よく加熱することができる。なお、ここでいう略平行とは、幾何学的に見て完全に平行な場合に加えて、0〜3度の範囲内にあるものをいう。
【0032】
主要加熱素子層と補助加熱素子層との平面的な外形は、平面的に見て略相似形であってよく、あるいは双方ともに略円形、略楕円形であってよい。また、補助加熱素子層は、基体の周縁部からの熱の逃げを補填するという観点からは、環状であることが好ましい。
【0033】
本発明において熱の逃げとは、高温の載置面および基体から、加熱装置の他のより低温の部分への熱の移動を意味している。こうした他の低温の部分とは、支持部材、ゲートバルブ、壁部、チャンバー内構成物であってよく、またガス導入部であってよい。
【0034】
本発明の作用効果を効果的に奏するためには、載置面の平均温度は、450℃以上であることが好ましく、600℃以上であることが更に好ましい。
【0035】
小型の支持部材13を使用する場合には、基体5の面積に対する支持部材13の面積(基体5と平行な方向の面積)の比率は、1:3以下であることが好ましく、1:10以下であることが更に好ましい。また、熱の効果的な補填のためには、1:200以上であることが好ましい。
【0036】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、基体上の被加熱体を加熱する加熱装置において、基体上の載置面におけるコールドスポットを効果的に防止することで載置面の温度の均一性を高めるような構造を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態に係る加熱装置15Aを模式的に示す断面図である。
【図2】本発明の他の実施形態に係る加熱装置15Bを模式的に示す断面図である。
【図3】(a)、(b)、(c)は、各加熱素子層7A、7B、7Cの各平面的パターンを示す図である。
【図4】本発明の一実施形態に係る一体型の加熱装置を模式的に示す断面図である。
【図5】図4の加熱装置における加熱素子層7Bの平面的パターンを示す断面図である。
【図6】本発明外の加熱装置3Aを模式的に示す断面図である。
【図7】本発明者が考案した本発明外の加熱装置3Bを模式的に示す断面図である。
【符号の説明】
1 チャンバー 2 被加熱体 4 ゲートバルブ5、5A 基体 5a 載置面 5b 基体5の背面 6、6A、6B 絶縁板 6C 絶縁層 7A 主要加熱素子層 7B、7C 補助加熱素子層 8A、8B 固定具 11 台座 13 小型の支持部材 14 小型の絶縁板 14A小型の絶縁層 15A、15B、15C 加熱装置 17主として熱の逃げが生ずる領域
Claims (6)
- 被加熱体を載置する載置面を有する基体と、この基体および前記被加熱体を加熱するための主要加熱素子層と、この主要加熱素子層と積層されている補助加熱素子層と、前記主要加熱素子層と前記補助加熱素子層との間に介在する第1の絶縁体とを備えている加熱装置であって、
前記基体、前記主要加熱素子層、前記補助加熱素子層および前記第1の絶縁体を支持する、前記基体よりも小さく形成した支持部材を更に備えており、この支持部材からの熱の逃げを前記補助加熱素子層の発熱によって補填するように、この補助加熱素子層は前記支持部材に対応する大きさに形成されており、
前記支持部材が前記基体の面積に対して1:200〜1:3の範囲で小さく形成してあるのに応じて、前記補助加熱素子層の面積が前記主要加熱素子層の面積よりも小さく形成されており、前記主要加熱素子層の発熱によって前記基体および前記被加熱体を加熱している間に、前記補助加熱素子層からの発熱によって前記基体からの熱の逃げを補填するように構成されていることを特徴とする、加熱装置。 - 前記支持部材に接続された第2の絶縁体を更に含み、
前記補助加熱素子層は、前記第1の絶縁体と前記第2の絶縁体との間に配備されていることを特徴とする、請求項1に記載の装置。 - 前記支持部材と前記主要加熱素子層との間に前記補助加熱素子層および前記第1の絶縁体が挟まれていることを特徴とする、請求項1に記載の装置。
- 前記補助加熱素子層が平面的に見て前記基体の周縁部に設けられており、この補助加熱素子層の発熱によって前記基体の周縁部からの熱の逃げを補填することを特徴とする、請求項1−3のいずれか一つの請求項に記載の装置。
- 前記補助加熱素子層が環状をなしていることを特徴とする、請求項4記載の装置。
- 前記基体、前記主要加熱素子層、前記補助加熱素子層および前記第1の絶縁体を支持する支持部材と、少なくとも二つの前記補助加熱素子層とを備えており、この支持部材からの熱の逃げを一方の前記補助加熱素子層の発熱によって補填し、他方の補助加熱素子層が平面的に見て前記基体の周縁部に設けられており、他方の補助加熱素子層の発熱によって前記基体の周縁部からの熱の逃げを補填することを特徴とする、請求項1に記載の装置。
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