JP4324162B2 - 磁気抵抗効果素子、薄膜磁気ヘッドおよびハードディスク装置 - Google Patents
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Description
90CoFe(1)/Cu(0.2)/50CoFe(1.3)/Cu(0.2)/50CoFe(1.3)/Cu(0.2)/50CoFe(1.3)
上記の層構成の表記において、括弧内は膜厚(nm)を表す。したがって、インナー層全体の膜厚は5.5nmである。このような層構成でインナー層43cを構成したときのMR素子のMR比は約4%である。
ホイスラー合金(B)/Cu(0.2)/82NiFe(2)
なる積層膜(括弧は膜厚。単位はnm。)で構成した場合、ホイスラー合金層の膜厚Bを、膜厚が1nmの90CoFeの磁気膜厚に相当する磁気膜厚となるように形成した。その結果、インナー層43cに適用したホイスラー合金と同じ組成範囲において、YサイトをMnとCrで構成した場合、およびMnとVで構成した場合のいずれとも、Mnのみで構成した場合と比べてMR比は向上し、最大で6.5%となった。
2 再生部
3 記録部
4 MR素子
13 下部シールド層
15 上部シールド層
41 バッファー層
42 反強磁性層
43 ピンド層
43a アウター層
43b 非磁性中間層
43c インナー層
44 スペーサ層
45 フリー層
46 キャップ層
47 絶縁膜
48 ハードバイアス膜
Claims (7)
- 磁化方向が固定されたピンド層と、
磁化方向が外部磁界に応じて変化するフリー層と、
前記ピンド層と前記フリー層との間に設けられた非磁性のスペーサ層と、
を有し、
前記ピンド層および前記フリー層の少なくとも一方は、前記スペーサ層に隣接して設けられたホイスラー合金層を含み、
前記ホイスラー合金層は、組成式がCo2YAl(ただし、Yは、60〜79原子%のMnおよび残部のCr、または70〜80原子%のMnおよび残部のVからなる。)で表されるホイスラー合金からなる磁気抵抗効果素子。 - 前記ホイスラー合金はL21構造またはB2構造をとっている、請求項1に記載の磁気抵抗効果素子。
- 前記ホイスラー合金は、組成式がCo2MnAlで表されるホイスラー合金において、MnをCrまたはVに部分置換したものである、請求項2に記載の磁気抵抗効果素子。
- 前記ピンド層は、非磁性中間層を2つの強磁性体層で挟んだシンセティックピンド層であり、前記強磁性体層のうちスペーサ層に接して設けられた強磁性体層が前記ホイスラー合金層を有する、請求項1から3のいずれか1項に記載の磁気抵抗効果素子。
- 飽和磁化と膜厚との積で表される磁気膜厚が前記各強磁性体層で等しくなるように前記ホイスラー合金層の膜厚が設定されている、請求項4に記載の磁気抵抗効果素子。
- 請求項1から5のいずれか1項に記載の磁気抵抗効果素子を有する薄膜磁気ヘッド。
- 請求項6に記載の薄膜磁気ヘッドを含み、回転駆動される円盤状の記録媒体に対向するように配置されるスライダと、
前記スライダを支持するとともに、前記記録媒体に対して位置決めする位置決め装置と、
を有するハードディスク装置。
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