JP4314926B2 - 電気光学装置及びその製造方法並びに電子機器 - Google Patents
電気光学装置及びその製造方法並びに電子機器 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4314926B2 JP4314926B2 JP2003286209A JP2003286209A JP4314926B2 JP 4314926 B2 JP4314926 B2 JP 4314926B2 JP 2003286209 A JP2003286209 A JP 2003286209A JP 2003286209 A JP2003286209 A JP 2003286209A JP 4314926 B2 JP4314926 B2 JP 4314926B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- film
- electro
- optical device
- capacitor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 31
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 293
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 188
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 101
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 65
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 22
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 21
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 20
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 9
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000005611 electricity Effects 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 123
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 58
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 58
- 238000000034 method Methods 0.000 description 49
- 230000008569 process Effects 0.000 description 42
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 40
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 26
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 25
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 21
- 230000006870 function Effects 0.000 description 20
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 20
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 16
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 15
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 15
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 15
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 12
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 12
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 12
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 10
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 10
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 10
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 7
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 7
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 7
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 6
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 5
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 5
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 4
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 4
- WQJQOUPTWCFRMM-UHFFFAOYSA-N tungsten disilicide Chemical compound [Si]#[W]#[Si] WQJQOUPTWCFRMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910021342 tungsten silicide Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 3
- 229910021332 silicide Inorganic materials 0.000 description 3
- FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N silicide(4-) Chemical compound [Si-4] FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 3
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910019001 CoSi Inorganic materials 0.000 description 2
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910008484 TiSi Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910008812 WSi Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005315 distribution function Methods 0.000 description 2
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 2
- 238000004518 low pressure chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004988 Nematic liquid crystal Substances 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDFCWFBWQUEQIJ-UHFFFAOYSA-N [B].[P] Chemical compound [B].[P] GDFCWFBWQUEQIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N disilane Chemical compound [SiH3][SiH3] PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 239000007943 implant Substances 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000005224 laser annealing Methods 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- WNUPENMBHHEARK-UHFFFAOYSA-N silicon tungsten Chemical compound [Si].[W] WNUPENMBHHEARK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
- G02F1/1362—Active matrix addressed cells
- G02F1/136213—Storage capacitors associated with the pixel electrode
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Thin Film Transistor (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
Description
以下では、本発明の実施形態における電気光学装置の画素部における構成について、図1から図4を参照して説明する。ここに図1は、電気光学装置の画像表示領域を構成するマトリクス状に形成された複数の画素における各種素子、配線等の等価回路であり、図2及び図3は、データ線、走査線、画素電極等が形成されたTFTアレイ基板の相隣接する複数の画素群の平面図である。なお、図2及び図3は、それぞれ、後述する積層構造のうち下層部分(図2)と上層部分(図3)とを分かって図示している。また、図4は、図2及び図3を重ね合わせた場合のA−A´断面図である。なお、図4においては、各層・各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、該各層・各部材ごとに縮尺を異ならしめてある。
図1において、本実施形態における電気光学装置の画像表示領域を構成するマトリクス状に形成された複数の画素には、それぞれ、画素電極9aと当該画素電極9aをスイッチング制御するためのTFT30とが形成されており、画像信号が供給されるデータ線6aが当該TFT30のソースに電気的に接続されている。データ線6aに書き込む画像信号S1、S2、…、Snは、この順に線順次に供給しても構わないし、相隣接する複数のデータ線6a同士に対して、グループ毎に供給するようにしてもよい。
以下では、上記データ線6a、走査線11a及びゲート電極3a、TFT30等による、上述のような回路動作が実現される電気光学装置の、具体的な構成について、図2乃至図4を参照して説明する。
まず、第1層には、例えば、Ti、Cr、W、Ta、Mo等の高融点金属のうちの少なくとも一つを含む、金属単体、合金、金属シリサイド、ポリシリサイド、これらを積層したもの、或いは導電性ポリシリコン等からなる走査線11aが設けられている。この走査線11aは、平面的にみて、図2のX方向に沿うように、ストライプ状にパターニングされている。より詳しく見ると、ストライプ状の走査線11aは、図2のX方向に沿うように延びる本線部と、データ線6a或いは容量配線400が延在する図2のY方向に延びる突出部とを備えている。なお、隣接する走査線11aから延びる突出部は相互に接続されることはなく、したがって、該走査線11aは1本1本分断された形となっている。
次に、第2層として、ゲート電極3aを含むTFT30が設けられている。TFT30は、図4に示すように、LDD(Lightly Doped Drain)構造を有しており、その構成要素としては、上述したゲート電極3a、例えばポリシリコン膜からなりゲート電極3aからの電界によりチャネルが形成される半導体層1aのチャネル領域1a´、ゲート電極3aと半導体層1aとを絶縁するゲート絶縁膜を含む絶縁膜2、半導体層1aにおける低濃度ソース領域1b及び低濃度ドレイン領域1c並びに高濃度ソース領域1d及び高濃度ドレイン領域1eを備えている。
以上説明した走査線11aの上、かつ、TFT30の下には、例えばシリコン酸化膜等からなる下地絶縁膜12が設けられている。下地絶縁膜12は、走査線11aからTFT30を層間絶縁する機能のほか、TFTアレイ基板10の全面に形成されることにより、TFTアレイ基板10の表面研磨時における荒れや、洗浄後に残る汚れ等で画素スイッチング用のTFT30の特性変化を防止する機能を有する。
前述の第2層に続けて第3層には、保持容量70が設けられている。保持容量70は、TFT30の高濃度ドレイン領域1e及び画素電極9aに接続された画素電位側容量電極としての下部電極71と、固定電位側容量電極としての容量電極300とが、誘電体膜75を介して対向配置されることにより形成されている。この保持容量70によれば、画素電極9aにおける電位保持特性を顕著に高めることが可能となる。また、本実施形態に係る保持容量70は、図2の平面図を見るとわかるように、画素電極9aの形成領域にほぼ対応する光透過領域には至らないように形成されているため(換言すれば、遮光領域内に収まるように形成されているため)、電気光学装置全体の画素開口率は比較的大きく維持され、これにより、より明るい画像を表示することが可能となる。
以上説明したTFT30ないしゲート電極3a及び中継電極719の上、かつ、保持容量70の下には、例えば、NSG(ノンシリケートガラス)、PSG(リンシリケートガラス)、BSG(ボロンシリケートガラス)、BPSG(ボロンリンシリケートガラス)等のシリケートガラス膜、窒化シリコン膜や酸化シリコン膜等、あるいは好ましくはNSGからなる第1層間絶縁膜41が形成されている。
前述の第3層に続けて第4層には、データ線6aが設けられている。このデータ線6aは、図4に示すように、下層より順に、アルミニウムからなる層(図4における符号41A参照)、窒化チタンからなる層(図4における符号41TN参照)、窒化シリコン膜からなる層(図4における符号401参照)の三層構造を有する膜として形成されている。窒化シリコン膜は、その下層のアルミニウム層と窒化チタン層を覆うように少し大きなサイズにパターニングされている。
以上説明した保持容量70の上、かつ、データ線6aの下には、例えばNSG、PSG,BSG、BPSG等のシリケートガラス膜、窒化シリコン膜や酸化シリコン膜等、あるいは好ましくはTEOSガスを用いたプラズマCVD(Chemical Vapor Deposition)法によって形成された第2層間絶縁膜42が形成されている。この第2層間絶縁膜42には、TFT30の高濃度ソース領域1dとデータ線6aとを電気的に接続する、前記のコンタクトホール81が開孔されているとともに、前記容量配線用中継層6a1と保持容量70の上部電極たる容量電極300とを電気的に接続するコンタクトホール801が開孔されている。さらに、第2層間絶縁膜42には、第2中継電極6a2と中継電極719とを電気的に接続するための、前記のコンタクトホール882が形成されている。
前述の第4層に続けて第5層には、容量配線400が形成されている。この容量配線400は、平面的にみると、図3に示すように、図中X方向及びY方向それぞれに延在するように、格子状に形成されている。該容量配線400のうち図中Y方向に延在する部分については特に、データ線6aを覆うように、且つ、該データ線6aよりも幅広に形成されている。また、図中X方向に延在する部分については、後述の第3中継電極402を形成する領域を確保するために、各画素電極9aの一辺の中央付近に切り欠き部を有している。
以上説明した前述のデータ線6aの上、かつ、容量配線400の下には、第3層間絶縁膜43が形成されている。この第3層間絶縁膜43には、前記の容量配線400と容量配線用中継層6a1とを電気的に接続するためのコンタクトホール803、及び、第3中継電極402と第2中継電極6a2とを電気的に接続するためのコンタクトホール804がそれぞれ開孔されている。
最後に、第6層には、上述したように画素電極9aがマトリクス状に形成され、該画素電極9a上に配向膜16が形成されている。そして、この画素電極9a下には第4層間絶縁膜44が形成されている。この第4層間絶縁膜44には、画素電極9a及び前記の第3中継電極402間を電気的に接続するためのコンタクトホール89が開孔されている。画素電極9aとTFT30との間は、このコンタクトホール89及び第3中継層402並びに前述したコンタクトホール804、第2中継層6a2、コンタクトホール882、中継電極719、コンタクトホール881、下部電極71及びコンタクトホール83を介して、電気的に接続されることとなる。
(保持容量の構成)
以上述べたような構成を備える電気光学装置において、本実施形態においては特に、保持容量70、とりわけこれを構成する容量電極300及び下部電極71の構成に関して特徴がある。以下では、前述までに参照した各図及び図5乃至図7を参照して、これについて詳述する。ここに図5は、図4の符号Cを付した円内部分である保持容量70の端部付近を拡大して示す断面図であり、図6は、図5の符号300Cを付した部分を更に拡大して示す断面図である。また、図7は、容量電極300及び下部電極71が酸化されている場合とされていない場合とで保持容量70の耐圧性がどれだけ向上するかを示すグラフである。
(保持容量の製造方法)
以上述べたような酸化膜501は、例えば図14及び図15に示すように製造される。ここに図14及び図15は、上記実施形態に係る電気光学装置の製造工程を、図4の視点において順を追って示す製造工程断面図である。なお、以下においては、主に、本発明に特別に関係のある保持容量70の製造工程についてのみ説明することとする。また、図14及び図15においては、対向基板20側の構成についての図示は省略している。
以下では、前記の電気光学装置に係る実施形態の全体構成について、図17及び図18を参照して説明する。ここに、図17は、TFTアレイ基板をその上に形成された各構成要素と共に対向基板の側から見た電気光学装置の平面図であり、図18は、図17のH−H’断面図である。ここでは、電気光学装置の一例である駆動回路内蔵型のTFTアクティブマトリクス駆動方式の液晶装置を例にとる。
次に、以上詳細に説明した電気光学装置をライトバルブとして用いた電子機器の一例たる投射型カラー表示装置の実施形態について、その全体構成、特に光学的な構成について説明する。ここに、図19は、投射型カラー表示装置の図式的断面図である。
41…第1層間絶縁膜、42…第2層間絶縁膜、43…第3層間絶縁膜、44…第4層間絶縁膜
300、350、360…容量電極、300W…端面、300C…エッジ部、351、361…導電性ポリシリコン膜、352、362…WSi膜、363…窒化シリコン膜、75…誘電体膜、71、711…下部電極、71W…端面、71C…エッジ部、70…保持容量、501、502、503、501X、501Y…酸化膜、D及びDC…酸化膜の厚さ、X、Y…残渣
300K…(容量電極の)前駆膜、75K…(誘電体膜の)前駆膜、71K…(下部電極の)前駆膜
Claims (8)
- 基板上に、一定の方向に延びるデータ線及び該データ線に交差する方向に延びる走査線と、前記走査線により走査信号が供給される薄膜トランジスタと、前記データ線により前記薄膜トランジスタを介して画像信号が供給される画素電極とからなる電気光学装置であって、
前記薄膜トランジスタ及び前記画素電極に電気的に接続された第1電極、該第1電極に対向配置された第2電極、及び、前記第1電極及び前記第2電極間に配置された誘電体膜とからなる保持容量とを備えてなり、
前記第1電極及び前記第2電極の少なくとも一方の端面と、前記誘電体の端面とが、前記基板の面に交差する同一平面内にのり、前記第1電極及び前記第2電極の少なくとも一方の表面の少なくとも端面のエッジ部が酸化された酸化膜とを備え、
前記酸化された酸化膜の厚さは、1.5〔nm〕以上、30〔nm〕以下であり、
前記薄膜トランジスタが前記保持容量の下層側に形成されていること
を特徴とする電気光学装置。 - 前記酸化された表面は、該第1電極及び該第2電極の少なくとも一方の端面を含むことを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。
- 前記酸化された端面は、前記第1電極及び前記第2電極の少なくとも一方のエッジ部を含むことを特徴とする請求項2に記載の電気光学装置。
- 前記第1電極の端面、前記誘電体膜の端面、及び前記第2電極の端面の全ては、前記基板の面に交差する同一平面内にのることを特徴とする請求項2又は3に記載の電気光学装置。
- 前記誘電体膜は、窒化シリコン膜を含むことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の電気光学装置。
- 前記第1電極は、前記薄膜トランジスタを構成する半導体層のチャネル領域を少なくとも覆うように配置されるとともに、遮光性材料からなることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載の電気光学装置。
- 前記第2電極は、固定電位とされていることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項に記載の電気光学装置。
- 請求項1乃至7のいずれか一項に記載の電気光学装置を具備してなることを特徴とする電子機器。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003286209A JP4314926B2 (ja) | 2003-08-04 | 2003-08-04 | 電気光学装置及びその製造方法並びに電子機器 |
US10/896,884 US7388225B2 (en) | 2003-08-04 | 2004-07-23 | Electro-optical device, method of manufacturing the same, and electronic apparatus |
TW093122728A TWI273529B (en) | 2003-08-04 | 2004-07-29 | Electro-optical device, method of manufacturing the same, and electronic apparatus |
EP04254588A EP1505429A3 (en) | 2003-08-04 | 2004-07-30 | Electro-optical device, method of manufacturing the same, and electronic apparatus |
KR1020040061454A KR100750556B1 (ko) | 2003-08-04 | 2004-08-04 | 전기 광학 장치, 제조 방법 및 전자 기기 |
CNB2004100702782A CN100343746C (zh) | 2003-08-04 | 2004-08-04 | 电光装置、其制造方法以及电子设备 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003286209A JP4314926B2 (ja) | 2003-08-04 | 2003-08-04 | 電気光学装置及びその製造方法並びに電子機器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005055661A JP2005055661A (ja) | 2005-03-03 |
JP4314926B2 true JP4314926B2 (ja) | 2009-08-19 |
Family
ID=33550001
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003286209A Expired - Lifetime JP4314926B2 (ja) | 2003-08-04 | 2003-08-04 | 電気光学装置及びその製造方法並びに電子機器 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7388225B2 (ja) |
EP (1) | EP1505429A3 (ja) |
JP (1) | JP4314926B2 (ja) |
KR (1) | KR100750556B1 (ja) |
CN (1) | CN100343746C (ja) |
TW (1) | TWI273529B (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7839086B2 (en) * | 2006-10-12 | 2010-11-23 | Lg Electronics Inc. | Display device and method for manufacturing the same |
JP2009200315A (ja) * | 2008-02-22 | 2009-09-03 | Hitachi Ltd | 半導体装置の製造方法 |
JP5782676B2 (ja) | 2010-03-10 | 2015-09-24 | セイコーエプソン株式会社 | 電気光学装置及び電子機器、並びに電気光学装置の製造方法 |
KR20130046847A (ko) * | 2011-10-28 | 2013-05-08 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시기판 및 표시기판의 수리 방법 |
TWI451179B (zh) * | 2011-11-17 | 2014-09-01 | Au Optronics Corp | 畫素結構及其製造方法 |
US9818763B2 (en) | 2013-07-12 | 2017-11-14 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device and method for manufacturing display device |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1111757C (zh) * | 1996-03-12 | 2003-06-18 | 精工爱普生株式会社 | 液晶显示装置 |
JP3900714B2 (ja) | 1997-10-31 | 2007-04-04 | セイコーエプソン株式会社 | 電気光学装置及び電子機器 |
US6639244B1 (en) * | 1999-01-11 | 2003-10-28 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method of fabricating the same |
JP3399432B2 (ja) * | 1999-02-26 | 2003-04-21 | セイコーエプソン株式会社 | 電気光学装置の製造方法及び電気光学装置 |
JP2000305107A (ja) | 1999-04-23 | 2000-11-02 | Seiko Epson Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
JP4058869B2 (ja) | 1999-11-19 | 2008-03-12 | セイコーエプソン株式会社 | 電気光学装置及びその製造方法、並びにプロジェクタ |
US6590227B2 (en) | 1999-12-27 | 2003-07-08 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Active matrix display device |
TWI301915B (ja) * | 2000-03-17 | 2008-10-11 | Seiko Epson Corp | |
US6816355B2 (en) * | 2001-09-13 | 2004-11-09 | Seiko Epson Corporation | Capacitor, semiconductor device, electro-optic device, method of manufacturing capacitor, method of manufacturing semiconductor device, and electronic apparatus |
JP2003202596A (ja) | 2002-01-07 | 2003-07-18 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置及びその製造方法並びに電子機器 |
KR20030062592A (ko) | 2002-01-17 | 2003-07-28 | 일진다이아몬드(주) | 액정표시장치용 박막 트랜지스터 기판 및 그 제조방법 |
-
2003
- 2003-08-04 JP JP2003286209A patent/JP4314926B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2004
- 2004-07-23 US US10/896,884 patent/US7388225B2/en active Active
- 2004-07-29 TW TW093122728A patent/TWI273529B/zh not_active IP Right Cessation
- 2004-07-30 EP EP04254588A patent/EP1505429A3/en not_active Withdrawn
- 2004-08-04 CN CNB2004100702782A patent/CN100343746C/zh active Active
- 2004-08-04 KR KR1020040061454A patent/KR100750556B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200529114A (en) | 2005-09-01 |
KR100750556B1 (ko) | 2007-08-20 |
EP1505429A2 (en) | 2005-02-09 |
CN100343746C (zh) | 2007-10-17 |
EP1505429A3 (en) | 2005-03-16 |
TWI273529B (en) | 2007-02-11 |
US7388225B2 (en) | 2008-06-17 |
JP2005055661A (ja) | 2005-03-03 |
US20050046761A1 (en) | 2005-03-03 |
CN1580919A (zh) | 2005-02-16 |
KR20050016142A (ko) | 2005-02-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3767590B2 (ja) | 電気光学装置及びその製造方法並びに電子機器 | |
JP2004125887A (ja) | 電気光学装置及びその製造方法並びに電子機器 | |
JP3736513B2 (ja) | 電気光学装置及びその製造方法並びに電子機器 | |
JP2004004722A (ja) | 電気光学装置及び電子機器 | |
JP4650153B2 (ja) | 電気光学装置、電子機器及び電気光学装置の製造方法 | |
JP2004170921A (ja) | 電気光学装置及び電子機器 | |
JP4069906B2 (ja) | 電気光学装置及びその製造方法並びに電子機器 | |
JP4655943B2 (ja) | 電気光学装置及びその製造方法、並びに導電層の接続構造 | |
JP2007079257A (ja) | 電気光学装置及びその製造方法、電子機器並びにコンデンサー | |
JP4329445B2 (ja) | 電気光学装置並びに電子機器 | |
JP4314926B2 (ja) | 電気光学装置及びその製造方法並びに電子機器 | |
JP4214741B2 (ja) | 電気光学装置及び電子機器 | |
JP2004240053A (ja) | 電気光学装置及び電子機器 | |
JP2009058717A (ja) | 電気光学装置及びその製造方法、並びに電子機器 | |
JP4529450B2 (ja) | 電気光学装置及び電子機器 | |
JP4449863B2 (ja) | 電気光学装置、電子機器 | |
JP2006048086A (ja) | 電気光学装置及び電子機器 | |
JP4428059B2 (ja) | 電気光学装置及び電子機器 | |
JP2010008635A (ja) | 電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置用基板、電気光学装置及び電子機器 | |
JP4730407B2 (ja) | 電気光学装置及び電子機器 | |
JP4462128B2 (ja) | 電気光学装置及びその製造方法並びに電子機器 | |
JP3767607B2 (ja) | 電気光学装置及び電子機器 | |
JP4269659B2 (ja) | 電気光学装置及びその製造方法並びに電子機器 | |
JP4259528B2 (ja) | 電気光学装置及びこれを備えた電子機器 | |
JP2009295725A (ja) | 電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置用基板、電気光学装置及び電子機器 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20051216 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20070403 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080813 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080902 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081024 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20081024 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20081024 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090127 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090325 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090428 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090511 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4314926 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120529 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130529 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140529 Year of fee payment: 5 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |