JP4311453B2 - レーザ光源装置及びこれを用いた画像生成装置 - Google Patents

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Description

本発明は、被照射体に対して均一な強度分布をもってレーザ光を照射するレーザ光源装置及びこれを用いた画像生成装置に関する。
レーザを光源とし、波面の分割及び重ね合わせを行い、均一な強度分布とされた1次元状すなわち線状の光束を得る方法としては、ロッドレンズを用いる方法、ファセット加工したミラーによる方法、レンズアレイによる方法などが挙げられる。図16及び図17にこのような波面の分割及び重ね合わせをレンズアレイにより行うレーザ光源装置の各例の概略構成図を示す。図16及び図17においては、波面を分割する方向を矢印xで示すx軸方向とし、波面の進行方向(光軸)を矢印zで示すz軸方向とし、x軸及びz軸と直交する方向を矢印yで示すy軸方向としており、x−z平面に沿う断面を示す。
図16及び図17に示すように、波面を分割する波面分割部77は1対のシリンドリカルレンズアレイ72a及び72bで構成される。これらシリンドリカルレンズアレイ72a及び72bは互いの焦点の位置に配置されている。また波面を合成する波面合成部78は、図16に示すように凸レンズ等の1つの集光レンズ73や、図17に示すように、平凸レンズなどの2つの光学レンズ75及び76の組み合わせを用いることができる。光源71から出射されたレーザ光Loは、波面分割部77でx軸方向に分割され、波面合成部78で重ね合わされると共に集光されて、被照射体74の所定の位置に照射される。
しかしながら、このようにレンズアレイによる例を含め上述の種々の方法によって、単に波面を分割した後重ね合わせるだけでは、レーザのもつ空間コヒーレンスのため、図18に示すように、隣り合う2つの光束La及びLbが干渉し、破線Dで示す集光部分で細かい干渉縞が発生してしまう。図18において、図16及び図17と対応する部分には同一符号を付して重複説明を省略する。これは、波面を分割する際にレーザの空間コヒーレンス距離よりも短い距離で波面を分割してしまうことによるもので、分割後の波面同士が干渉性を有するために、それを重ね合わせることで干渉縞が発生してしまう。
これに対し、レーザの空間コヒーレンス距離よりも長い距離で波面を分割することにより干渉を抑制することが考えられるが、実際のレーザではコヒーレンス距離がレーザ直径に対してあまり小さくないため、波面の分割数が十分にとれず、重ね合わせたときに十分な強度の均一性が確保されない。また、空間コヒーレンス距離よりも長い距離で波面を分割した場合でも空間コヒーレンスがゼロになっているわけではないので干渉性が残ってしまうという問題がある。
このような干渉縞の発生を低減させるために、分割した波面(又は分割する波面)を時間コヒーレンス距離よりも長い光路差をつけてから合成することで干渉縞を低減する方法が提案されている(例えば特許文献1及び2参照。)。
上記特許文献1及び2において提案されている手法では、光源から出射されたレーザ光の波面を分割し、その一部の光を、時間コヒーレンス距離よりも長い光路差を生じさせる光路差生成部材を通過させた後重ね合わせる構成とするものである。
特開2006−49656号公報 特開2004−12757号公報
しかしながら実際のレーザ光では時間コヒーレンス距離が数cm以上ある場合が多く、光路差生成部材の光路に沿う方向の長さを確保するためにその部分の空間を必要とし、装置の小型化に不利となる。また、レーザ光が完全にコリメートされていない場合、光路差生成部材の側面で反射した光が迷光の原因になってしまう。更に、光路差生成部材が存在する光路と光路差生成部材が存在しない光路とでは光学距離が異なることから、光束を重ね合わせたときの効率が悪く、光の利用効率の低下を招くという問題もある。
特に、光源としてレーザ素子を1次元状に配列して1次元状の光源装置を構成し、これを利用して1次元状の光変調装置に所望の強度分布をもって照明して1次元状の変調光(すなわち画像光)を生成し、スクリーン等への走査投影を行う画像生成装置に利用する場合に、上述した迷光や光の利用効率の低下により、画像を良好に表示できない恐れがある。
これに対し、分割した波面に対して隣り合う2つの光路を一組と考え、一方の光路の偏光面をおよそ90度回転させることで他方の光路の光束との干渉を低減させる方法が考えられる。この場合、例えばシリンドリカルレンズアレイ等によってレーザ光を分割すると共に、分割した光束のうち1つおきの光束が1/2波長板等を通過する構成とすることによって、隣接する光束同士は偏光方向が90度異なるため、集光位置での重ね合わせによる干渉縞の発生が抑制されることとなる。
ここで、レーザ光を分割するピッチを例えばその空間コヒーレンス距離の約2分の1とすれば、分割された光束のうち1つおきの光束同士は、干渉がある程度抑制されると考えられる。
しかしながら、空間コヒーレンス距離を超えた範囲でもわずかな干渉性が残っていることから、このようにレーザ光を分割するピッチを空間コヒーレンス距離の2分の1程度とした場合でも、1つおきの光束間でわずかに干渉し、数%程度の干渉縞が発生する可能性がある。
隣接する光束による干渉縞は、光を分割する基本周期(例えばシリンドリカルレンズアレイを用いる場合はレンズセルのピッチ)の光束の干渉による干渉縞であるのに対し、1つおきの光束間の干渉による干渉縞は、光を分割する基本周期に対し2倍の周期をもって分割した光束同士の干渉による干渉縞となり、被照射体上においてはより細かいピッチとなって現われる。
このように細かい周期の干渉縞が発生した状態で、上述したような画像生成装置のレーザ光源として用いると、光変調装置への照明が不均一となるので画像の均一性を損なう恐れがある。また、例えば薄膜トランジスタ(TFT:Thin Film Transistor)の製造過程における多結晶シリコンのアニール用にこのようなレーザ光源装置を用いる場合においても、照射強度の不均一性により、歩留まりの低下を惹き起こす恐れがあるという問題がある。
したがって、光を分割する基本周期の光束同士の干渉を抑えるとともに、この基本周期に対し2倍以上の周期の光束同士の干渉をも抑制することが求められている。
以上の問題に鑑みて、本発明は、光源からの光を分割し重ね合わせて均一化するに際して、光を分割する基本周期の光束同士の干渉を抑えると共に、基本周期の少なくとも2倍の周期の光束間の干渉による干渉縞の発生をも抑制することを目的とする。また、画像生成装置において、レーザ光源装置における干渉縞の発生を抑制することによって、画質の均一性を損なうことを抑制することを目的とする。
上記課題を解決するため、本発明によるレーザ光源装置は、光源と、この光源から出射される光の波面を分割する波面分割部と、波面分割部からの光を被照射体に導くと共に分割された波面を重ね合わせる波面合成部と、波面分割部において分割された光束のうち、一部の光束の偏光面を回転させる偏光変換部と、を備える。そして偏光変換部を、波面分割部により分割される分割領域の1つおきに、光学軸の方位が異なる第1又は第2の波長板が配置される領域と、前記第1又は第2の波長板が配置されない領域と、を有し、第1の波長板は、光の偏光面を一の方向に略90度回転させる作用を備え、第2の波長板は、光の偏光面を他の方向に略90度回転させる作用を備え、第1及び第2の波長板が、交互に配置されて成り、第1及び第2の波長板を通過する光路で生じる干渉縞の位相が、これら第1及び第2の波長板を通過しない光路で生じる干渉縞の位相と略180度異なる構成とする。
また、本発明によるレーザ光源装置は、光源と、この光源から出射される光の波面を分割する波面分割部と、波面分割部からの光を被照射体に導くと共に分割された波面を重ね合わせる波面合成部と、波面分割部において分割された光束のうち、一部の光束の偏光面を回転させる偏光変換部と、を備える。そして偏光変換部は、波面分割部により分割される分割領域の2つおきに、光学軸の方位が異なる第1及び第2の波長板が隣接して配置される領域と、前記第1及び第2の波長板が配置されない領域と、を有し、第1の波長板は、光の偏光面を一の方向に略90度回転させる作用を備え、第2の波長板は、光の偏光面を他の方向に略90度回転させる作用を備えて成り、第1及び第2の波長板を通過する光路で生じる干渉縞の位相が、これら第1及び第2の波長板を通過しない光路で生じる干渉縞の位相と略180度異なる構成とする。
更に、本発明は上述のレーザ光源装置において、隣接する前記第1及び第2の波長板の配列順を一定とする。
或いは、隣接する前記第1及び第2の波長板の配列順が交互に入れ替わって配置されて成る構成とする。
また、本発明は、レーザ光源装置と、光変調装置と、投射光学部と、走査光学部とを備える画像生成装置であって、レーザ光源装置として上述の本発明構成のレーザ光源装置を用いる構成とする。
上述したように、本発明のレーザ光源装置及び画像生成装置によれば、レーザ光源装置の波面分割部により分割された光束の一部が、偏光変換部の波長板を通過する構成とするものであり、光を分割する基本周期の光束同士、すなわち波面分割部により分割された隣接する光束同士の干渉を抑えることができる。そして更に、偏光変換部が光学軸の方位が異なる波長板を備えることから、光を分割する基本周期の2倍の周期の光束、すなわち波面分割部の各分割領域に対して、1つおき又は2つおきなどの光束の位相変化量をそれぞれ異ならせることができる。したがって、これらの光束同士の干渉光の位相を調整することができるので、干渉を抑制することが可能となる。
また、偏光変換部の波長板として第1及び第2の波長板を設け、第1の波長板が光の偏光面を一の方向に略90度回転させ、第2の波長板は光の偏光面を他の方向に略90度回転させる作用を備える構成とする場合は、第1及び第2の波長板を通過する光束同士の干渉光の位相を、これら波長板を通過しない光束同士の干渉光の位相に対し略逆の位相とすることができるので、結果的に干渉縞を解消して、その発生を抑制することが可能となる。
特に、第1又は第2の波長板を波面分割部の光を分割する分割領域のうち1つおきの分割領域、例えばシリンドリカルレンズアレイを用いる場合はその1つおきのレンズセルに対応して配置して、かつ、これら第1及び第2の波長板を交互に配置して構成することにより、1つおきの分割領域に対応して配置される一対の第1及び第2の波長板を通過した光束の干渉光と、これらの間もしくは外側を通過し、すなわち波長板を通過しない光束同士の干渉光とを、略逆の位相とすることができるので、効果的に干渉縞の発生を抑制することが可能となる。
本発明のレーザ光源装置によれば、光源からの光を分割し重ね合わせて均一化するに際して、光を分割する基本周期の光束同士の干渉を抑えると共に、基本周期の少なくとも2倍の周期の光束間の干渉による干渉縞の発生をも抑制することができる。
本発明の画像生成装置によれば、本発明構成のレーザ光源装置を用いることから、光を分割する基本周期の光束同士の干渉を抑えると共に、基本周期の少なくとも2倍の周期の光束間の干渉を抑制することができるので、干渉縞の発生により画像の均一性を損なうことを抑制することができる。
以下本発明を実施するための最良の形態の例を説明するが、本発明は以下の例に限定されるものではない。
(1)第1の実施形態例
図1に、本発明の実施形態例に係るレーザ光源装置の一例の概略構成図を示す。図1においては、波面を分割する方向を矢印xで示すx軸方向とし、波面の進行方向(光軸)を矢印zで示すz軸方向とし、x軸及びz軸と直交する方向を矢印yで示すy軸方向とする。光源1から出射される光Lは、x軸方向を長手方向とする横マルチモードである。光源1には、例えば複数の半導体レーザ素子が1次元状に配列されたアレイレーザや、各レーザ素子が一体型に形成されたバーレーザ等が用いられる。また、1次元横マルチモード発振した固体レーザ発振光、またはその出力を共振器内部乃至外部に配置した非線形光学素子により波長変換して得られた1次元状のレーザ光を出力する光源を用いてもよい。図1においてはこのレーザ光源装置10から出力されるレーザ光が照射される被照射体11も便宜的に示す。
このレーザ光源装置10には、波面分割部21として一対のシリンドリカルレンズアレイ2A及び2B、波面合成部22として凸レンズ等よりなる集光レンズ6が配置される例を示す。図1においてはy軸方向のレンズは省略して示す。
2組のシリンドリカルレンズアレイ2A及び2Bを使用し、各シリンドリカルレンズアレイ2A及び2Bを互いの焦点の位置に配置することで、x軸方向、この場合1次元方向(長手方向)に波面を分割し、その波面を所望した場所にそれぞれの分割された波面の照明が重なる構成とすることができる。
なお、光源からシリンドリカルレンズアレイ2Aまでの間に例えば装置の小型化を目的として折り返しミラーを設けるとか、或いは、スペックル低減を図ることを目的として光学遅延ループを挿入するなど、種々の光学素子を設けてもよい。また波面合成部22の光学系に関しては、前述の図17及び図18において示すように、凸レンズを用いる場合と2つの平凸レンズを用いる場合と基本形が2つあるが、これらから派生される種々の光学系を適用することができる。つまり波面合成部22には、所望された場所に分割された波面の照明を重ね合わせる機能があればよい。
また図1に示す例では、シリンドリカルレンズアレイ2A及び2Bのうち、光が通過する最後の光学素子であるシリンドリカルレンズアレイ2Bの直前又は直後、図示の例では直後に、隣り合う光束に対して偏光面を回転する偏光変換部5が配置される。このように、光が通過する最後の光学素子の直前または直後(図では直後)、すなわち波面分割部21の出射端近傍に配置すると、光束がこの位置で比較的幅狭となるため挿入した素子のエッジに光線が当たりにくくなり、この部分で散乱の発生を抑え、また迷光の発生を抑えることができる。特に、この例のようにシリンドリカルレンズアレイ2Bの直前ではなく直後に配置する場合は、波面分割部21内における光路長の変化がないので、集光位置での倍率のずれや位置ずれは殆ど発生しないという利点を有する。
そして本発明においては、この偏光変換部5が、光学軸の方位が異なる波長板を備える構成とする。図示の例では、波長板として光学軸の方位が異なる第1及び第2の波長板5A1及び5A2を有する構成とする場合を示す。第1の波長板5A1は、例えば光の偏光面を一の方向に略90度回転させ、第2の波長板5A2は、例えば光の偏光面を他の方向に略90度回転させる作用を備える構成とすることができる。そして図1に示す例においては、これら第1及び第2の波長板5A1及び5A2が、波面分割部21の光を分割する分割領域21aのうち1つおきの分割領域、この場合シリンドリカルレンズアレイ2Bの1つおきのレンズセルに対応して配置され、かつ、前記第1及び第2の波長板5A1及び5A2が交互に配置される例を示す。
この波長板5A1及び5A2としては、例えば波長フィルム、薄膜波長板、水晶波長板、フレネルロムなどを用いることができる。偏光変換機能を有さない光透過性基板上に部分的に波長フィルムなどの偏光変換素子を設ける構成としてもよい。なお、偏光変換部5の波長板としては、偏光面をおよそ一の方向に90度又は他の方向に90度回転させる機能を有するものであればよく、上述の例に限定されるものではない。また、偏光面を一の方向に90度もしくは他の方向に90度(すなわち−90度)回転することが最も望ましいが、±90度から多少ずれても、干渉の低減を図る効果は得られる。
また、通常偏光面を回転させる光学素子である波長板は薄いものなので、波長板が配置されず、波長板を通過しないレンズセルの光路とも光学的な距離が殆ど変わらない。したがって、被照射体11上の集光位置での、倍率のずれや位置ずれはほとんど発生しない。
このような構成とすることで、光源1から出射されたレーザ光Lは、波面分割部21のシリンドリカルレンズアレイ2A及び2Bにより分割され、偏光変換部5を通過した後、波面合成部22の例えば集光レンズ6により重ね合わされてレーザ光源装置10から出力され、被照射体11上の所定位置に所定のビーム形状として照射される。
このとき、シリンドリカルレンズアレイ2A及び2Bのレンズセルのピッチを、使用するレーザの空間コヒーレント距離のおよそ1/2になるように構成すると、隣接する光束同士の干渉を抑制できる。すなわち、図1に示すように偏光変換部5を挿入して偏光面の回転を行うことによって、波面分割部21において分割された隣り合う光束LA1及びLB1、LA2及びLB2の波面を重ね合わせても、効果的に干渉縞の発生を抑えることができる。そして更に本実施形態例によれば、レンズセル1つおきの光束LA1及びLA2、LB1及びLB2の波面の重ね合わせによる干渉をも低減することが可能である。以下この干渉低減効果について説明する。
図2においては、本発明のレーザ光源装置の第1の実施形態例に適用される偏光変換部5の一例の概略平面構成図を示す。この場合、偏光変換部5には、波面分割部の分割領域、例えばシリンドリカルレンズアレイのレンズセルの2つおきに1/2波長板より成る第1及び第2の波長板5A1、5A2が配置される例を示す。図2においては光束を分割する方向をx軸、光軸に沿う方向をz軸、x軸及びz軸と直交する方向をy軸として示し、z軸方向(光軸方向)からみた偏光変換部5の平面構成を示す。第1及び第2の波長板5A1、5A2は、そのx軸方向からの方位が矢印p1で示す45°の配置と、矢印p2で示す135°の配置とされ、互いに90度反転している。
ここで、回転Rと位相変化Cを示す偏光ジョーンズ行列を表す式を下記の数1及び数2に示す。図3に、波長板の光学軸の方位を示す。x−y平面においてx軸方向からの回転角をθとする。
Figure 0004311453
Figure 0004311453
偏光行列mは、
m=R(θ)×C(φ)×R(−θ)
であるから、下記の数3に示す入射偏光に対して、偏光行列mと出射偏光E’及びE’は、θ=45°の場合は下記数4及び数5に示す式で表される。
Figure 0004311453
Figure 0004311453
Figure 0004311453
また、θ=135°の場合は、偏光行列mと出射偏光E’及びE’は、下記の数6及び数7に示す式で表される。
Figure 0004311453
Figure 0004311453
つまり、θ=45°(=θ1)の配置とする場合と、θ=135°(=θ2)の配置とする場合とでは、出射偏光の符号が反転しており、位相が180°反転していることがわかる。つまり、光学軸を45°の方位に配置して偏光方向を略90度回転させる構成とした1/2波長板を通過した光と、光学軸を135°の方位に配置して偏光方向を更に略90°回転させる構成とした1/2波長板を通過した光とでは、180°の位相差があることがわかる。ここで、異なる分割領域、この場合レンズセルから出射される光の強度は、
|E+E’|=|E|+|E’|+2E×E’
となり、干渉項はE×E’として表されるから、同符合同士の干渉項と位相が180度反転した干渉項は、干渉縞の位相が180度反転することがわかる。
したがって、図2に示す偏光変換部5において、第1及び第2の波長板5A1及び5A2を通過する1つおきの領域A1及びA2で生じる干渉項(矢印A12で示す領域を通過する光束同士の干渉項)の位相は異符号であり、1/2波長板を通過しない領域B1及びB2で生じる干渉項(矢印B12で示す領域を通過する光束同士の干渉項)の位相は同符号である。
すなわちこの場合、1/2波長板の方位が交互に配置されているとすると、波長板を通過する分割領域1つおきの光束の干渉縞はすべて異符号となり、波長板を通過しない分割領域1つおきの光束の干渉縞はすべて同符号となる。
図4に示すように、波長板を通過しない同符号同士の干渉項Bの位相に対して、第1及び第2の波長板5A1及び5A2を通過する異符号同士の干渉項Aの位相は反転しており、重ね合わせ平均で干渉縞が解消されることがわかる。つまりこの場合は、図2に示す領域A1−A2を通過する光束の干渉縞と、領域B1−B2を通過する光束の干渉縞との相互作用によって、全体的な干渉縞の発生を抑制することができることとなる。
なお、図2に示す例においては、偏光変換部5の波面分割部の隣接する分割領域に対応する光路では偏光が異なるため干渉縞は発生しない。また、図2中矢印A13、B13で示すように2つおきの分割領域に対応する光路においても偏光が異なるため干渉縞は発生しない。
したがって、図2に示す波長板の配置構成とした偏光変換部を用いる本実施形態例においては、光源の空間コヒーレンス距離が比較的長くても効果が得られるといえる。例えば、波面分割部の各分割領域の2つおきの領域(3つ分離れた領域)まで空間コヒーレンスが広がっていて、この領域間の干渉が無視できない場合においても、干渉縞を十分抑制できることが分かる。
一方、比較例として図5に示す構成の偏光変換部85を設ける場合について説明する。この比較例においては、偏光変換部85の波面分割部の1つおきの分割領域(シリンドリカルレンズアレイの場合は1つおきのレンズセル)に対応して、例えば1/2波長板より成る波長板85aを設ける例を示す。この場合は、隣接する分割領域を通過する光束を交互に90度偏光を回転させる目的で、全ての波長板85aの光学軸を45度の方位に配置される。図5においては、図2と同様に、光束を分割する方向をx軸、光軸に沿う方向をz軸、x軸及びz軸と直交する方向をy軸として示す。この場合は、波長板85aを通過する光をa1及びa2、通過しない光をb1及びb2とすると、例えば矢印a12で示すように光束a1−a2間、また例えば矢印b12で示すように光束b1−b2間において干渉がわずかに生じてしまう。
図6においては、図5に示す比較例のように、光学軸が例えば45°の方位に配置される同一の波長板85aを1つおきの分割領域毎に配置した場合の干渉項の模式的な波形図を示す。領域a1及びa2を通過する光束同士による干渉項、領域b1及びb2を通過する光束同士による干渉項はそれぞれ実線a、破線bで示すように同位相となるので、干渉縞が発生する。
これに対し、第1の実施形態例においては、上述したように偏光変換部に設ける波長板の光学軸を交互に異ならせる構成とすることによって、1つおきの光束の干渉項同士を逆位相とするため、1つおきの光束干渉縞が解消される。
以上説明した第1の実施形態例においては、波面分割部の1つおきの分割領域に対応する光路の干渉を位相反転により解消する例である。これに対し、1/2波長板の製造誤差や、光学軸の方位の誤差など、また光量分布の不均一により理想的な解消ができずわずかに干渉縞が残ることも懸念される。
図7A〜Cにおいては、波面分割部21として設ける例えばシリンドリカルレンズアレイ2Bの各分割領域21aに対して、基本周期、2倍周期、3倍周期による光束の干渉する様子を示す。またその干渉縞の被照射体上の位置を、図7D〜Fにそれぞれ示す。図7D〜Fにおいては横軸を被照射体上の位置y、縦軸を干渉光の強度として示す。図7Dで示す基本周期の場合の干渉縞に対して、2倍周期の場合は図7Eに示すように空間周波数が2倍、3倍周期の場合は図7Fに示すように空間周波数が3倍となる。このように、2倍周期、3倍周期の光束同士の干渉は、基本周期に比べると空間周波数が高く、すなわち細かい干渉縞となる。
レーザ光源装置からの出射光の用途によっては、周波数の低い干渉縞よりも、このように周波数の高い細かな干渉縞が問題となる場合がある。例えば、後述する画像生成装置において、光変調装置によって干渉縞による影響を例えば入力信号を補正することによって低減することが考えられる。しかしながらこの場合、より細かい周期の干渉縞を補正することが困難となることが予想される。したがって、基本周期よりも2倍周期又は3倍周期の光束による干渉が原理的に生じない、或いは生じにくい配置とすることが有効となる場合も想定できる。
次に、このような2倍周期及び3倍周期の光束による干渉を抑える実施形態例について説明する。
(2)第2の実施形態例
第2の実施形態例におけるレーザ光源装置に用いる偏光変換部の一例の概略平面構成図を図8に示す。図8において、図と対応する部分には同一符号を付して重複説明を省略する。この例においては、偏光変換部5の波長板として第1及び第2の波長板5A1及び5A2を設け、第1の波長板5A1は入射光の偏光方向を略90度回転する1/2波長板とされ、第2の波長板5A2は入射光の偏光方向を逆方向に略90度、すなわち略270度回転する1/2波長板とされる。すなわちこの場合それぞれの光学軸のx軸方向からの方位を例えば45°、135°とする。そして更にこの例においては、一対の第1及び第2の波長板5A1及び5A2が、波面分割部の光を分割する分割領域、例えばシリンドリカルレンズアレイのレンズセルのうち隣接するレンズセルに対応して配置されると共に、レンズセル2つおきに配置される。そしてこれら一対の第1及び第2の波長板5A1及び5A2の配列順が一定である例を示す。すなわちこの場合、分割領域例えばレンズセルに対応して、第1の波長板5A1、第2の波長板5A2、無偏光変換領域(波長板なし)、無偏光変換領域(波長板なし)、・・の配列順をx軸方向に繰り返す配置とする。または、第2の波長板5A2、第1の波長板5A1、無偏光変換領域、無偏光変換領域、・・の配列順をx軸方向に繰り返す配置としてもよい。
この場合、1つおきの領域を通過する光束は、波長板5A1又は5A2のいずれか一方と、波長板のない領域とを通過する光束となる。したがってこれらの光束は必ず偏光が直交しているので干渉が抑えられ、すなわち2倍周期の干渉が生じない。
また、上述の第1の実施形態例と同様に、隣接する領域を通過する光束の干渉項が逆位相となるので、干渉縞が打ち消される。すなわちこの場合、第1及び第2の波長板5A1及び5A2を通過する光束、すなわち矢印AA’で示す領域を通過する光束による干渉項は異符号であり、波長板5A1及び5A2を通過しない矢印BB’で示す領域を通過する光束による干渉項は同符号である。したがって、隣接する光路を通過する光束同士の干渉は位相反転により解消される。
同様に、分割領域3つおきの領域を通過する光、すなわち矢印CC’で示す領域を通過する光束の干渉項と、矢印DD’で示す領域を通過する光束の干渉項も位相反転で解消する。したがってこの第2の実施形態例による場合は、干渉縞の基本周期、2倍周期、3倍周期まで解消することが可能となる。特にこの場合は、2倍周期の光束同士の干渉が原理的に生じない配置であるので、より細かい周期の干渉縞を確実に回避したい場合に有利となる。なお、第1及び第2の波長板5A1及び5A2の配列置を逆とし、x軸方向に第2の波長板5A2、第1の波長板5A1、無偏光変換領域、無偏光変換領域、・・の配列順とする場合においても、同様の効果が得られることはいうまでもない。
図9は、この偏光変換部5を用いて構成した本発明の第2の実施形態例に係るレーザ光源装置の一例の概略断面構成図である。図9において、図1と対応する部分には同一符号を付して重複説明を省略する。
上述したようにこの場合は、波面分割部21の分割領域21aの基本周期となる光束LA1とLA2との干渉、2倍周期となる光束LA1とLB1との干渉、3倍周期となる光束LA1とLB2との干渉を抑制することができる。
(3)第3の実施形態例
第1及び第2の実施形態例では、波面分割部の分割領域の基本周期、2倍周期、3倍周期までの光束同士の干渉を抑制することが可能であるが、4倍周期、すなわち分割領域4つおきの領域を通過する光同士の干渉は解消できない。第3の実施形態例においては、4倍周期の領域を通過する光の干渉を優先的に解消する例について説明する。
この例における偏光変換部の一例の概略平面構成図を図10に示す。図10において、図5及び図8と対応する部分には同一符号を付して重複説明を省略する。この場合においても、偏光変換部5の波長板として第1及び第2の波長板5A1及び5A2を設け、第1の波長板5A1を入射光の偏光を一の方向に略90度回転する1/2波長板とし、第2の波長板5A2を入射光の偏光を他の方向に略90度、1/2波長板とする。すなわちそれぞれの光学軸のx軸方向からの方位を例えば45°、135°とする。一対の第1及び第2の波長板5A1及び5A2が、波面分割部の光を分割する分割領域のうち隣接する分割領域、例えばシリンドリカルレンズアレイのレンズセルのうち隣接するレンズセルに対応して配置されると共に、これら第1及び第2の波長板5A1及び5A2は、2つおきの分割領域に対応して配置される。更に、これら一対の第1及び第2の波長板5A1及び5A2の配列順を交互に入れ替わる配置構成とする。すなわちこの場合、分割領域例えばレンズセルに対応して、第1の波長板5A1、第2の波長板5A2、無偏光変換領域(波長板なし)、無偏光変換領域(波長板なし)、第2の波長板5A2、第1の波長板5A1、無偏光変換領域、無偏光変換領域、の配列順をx軸方向に繰り返す配置とする。
図11にこの偏光変換部5を用いた本発明の第3の実施形態例に係るレーザ光源装置の一例の概略断面構成図を示す。図11において、図1及び図9と対応する部分には同一符号を付して重複説明を省略する。
このような構成とする場合は、上述の第2の実施形態例と同様に、1つおきの領域を通過する光束は、波長板5A1又は5A2のいずれか一方を通過する光束と、波長板のない領域とを通過する光束との組み合わせとなる。したがってこれらの光束は必ず偏光が直交しているので干渉が抑えられ、すなわち2倍周期の干渉が生じない。
また同様に、隣接する領域を通過する光束の干渉項が逆位相となるので、干渉縞が打ち消される。すなわちこの場合、第1及び第2の波長板5A1及び5A2を通過する光束、すなわち矢印AA’で示す領域を通過する光束による干渉項は異符号であり、波長板5A1及び5A2を通過しない矢印BB’で示す領域を通過する光束による干渉項は同符号である。したがって、隣接する光路の干渉は位相反転により解消される。
更に、分割領域4つおきの領域を通過する光、すなわち矢印CC’で示す領域を通過する光束の干渉項と、矢印DD’で示す領域を通過する光束の干渉項も位相反転で解消する。したがってこの第3の実施形態例による場合は、干渉縞の基本周期、2倍周期、4倍周期まで解消することが可能となる。
なおこの場合は、3倍周期に関しては、例えば図10中2つおきに配置される波長板5A1同士を通過する光束の干渉、すなわち矢印EE’で示す領域を通過する光束同士の干渉項と矢印FF’で示す無偏光領域(波長板なし)通過する光束同士の干渉項とは同符号となる。一方、波長板のない無偏光領域を通過する光束と、これとは分割領域の2つおきに配置される第1の波長板5A1(又は第2の波長板5A2)を通過する光束の干渉、すなわち矢印GG’及びHH’で示す領域を通過する光束同士の干渉は、互いに偏光方向が直交しているので抑制することができる。つまりこの第3の実施形態例においては、3倍周期の領域を通過する光の干渉を半減することができることとなる。
したがって、この第3の実施形態例においては、基本周期、2倍周期、4倍周期の領域を通過する光の干渉を解消することが可能であり、また、3倍周期の領域を通過する光の干渉を半減することとなる。したがって、4倍周期の高い周波数、すなわち細かい干渉縞が問題となる光学装置の光源として適用する場合に、特に有利である。
以上説明した第1〜第3の実施形態例によれば、1/2波長板を波面分割部の各分割領域に対応して1つおきに配置するか、または一対の光学軸の方位が異なる1/2波長板を2つおきに配置することにより、波面分割部の各分割領域の基本周期、すなわち隣接する領域を通過する光束同士の干渉のみならず、少なくとも2倍周期、すなわち1つおきの分割領域を通過する光束同士の干渉をも抑制することが可能である。
従来は、光源から出射されるレーザ光の空間コヒーレンス距離を、波面分割部の隣接する分割領域の範囲、すなわちシリンドリカルレンズアレイを設ける場合はそのレンズセルのピッチの2倍以下に制御する場合においても、わずかなコヒーレンス長の広がりから2倍周期以上の周波数で10%以下程度の干渉縞が生じていた。これに対し本発明によれば、2倍周期以上の領域を通過する光束による干渉縞を大幅に低減することができるので、従来に比してより均一な分布のレーザ光を出力することが可能となる。
また、レーザ光源の発振状態の変動等により空間コヒーレンス特性がわずかに変動しても干渉縞が生じない、或いは生じにくいレーザ光源装置を提供することができる。
更に、上述の第2及び第3の実施形態例において説明した構成の偏光変換部を設けることにより、従来は解消できなかった2倍周期以上、3倍周期又は4倍周期の領域を通過する光束同士の干渉による細かい干渉縞の発生を抑制することができる。
すなわち本発明においては、偏光変換部に設ける波長板の配置や光学軸の方位を変えることによって、レーザ光源の空間コヒーレンス距離と波面分割部の分割ピッチを調整しても残留する干渉縞の空間周波数成分の制御を可能とするものであり、本発明のレーザ光源装置を適用する各種の光学装置の用途によって波長板の配置や構成を適宜変更すればよい。
(4)第4の実施形態例
次に、第4の実施形態例として、上述の本発明構成のレーザ光源装置を用いた画像生成装置の一実施形態例について図12〜図16を参照して説明する。
図12に示すように、この画像生成装置50は光源1及び上述した波面分割部及び波面合成部を含む照明光学系20とより構成されるレーザ光源装置10と、例えば回折格子型の1次元光変調装置51、光選択部52を含む光変調部55、投射光学部53、走査素子54を有する走査光学部56から構成される。光源1には、例えば複数の半導体レーザ素子が1次元状に配列されたアレイレーザや、各レーザ素子が一体型に形成されたバーレーザ等が用いられる。また、1次元横マルチモード発振した固体レーザ発振光、またはその出力を共振器内部乃至外部に配置した非線形光学素子により波長変換して得られた1次元状のレーザ光を出力する光源を用いてもよい。
本発明構成のレーザ光源装置10の光源1から射出された光Loは、図示しない波面分割部及び波面合成部を含む照明光学系20において、干渉縞を低減されたレーザ光として所定のビーム形状、この場合例えば1次元状(線状)の光ビームとして出力され、回折格子型構成の1次元型光変調装置51に1次元状(線状)の光ビームとして照射される。
回折格子型の光変調装置51は外部演算部150において生成された画像信号をもとに、図示しない駆動回路からの信号Spを受けて動作する。光変調装置51を回折格子型構成とする場合、その回折光が光選択部52に入射される。なお、例えば三原色の光を用いる場合は、各色の光源からそれぞれ各色用1次元照明装置、各色用光変調装置を経てL字型プリズム等の色合成部により光束を重ね合わせて光選択部に出射される構成とすることができる。
光選択部52はオフナーリレー光学系等より成り、シュリーレンフィルター等の空間フィルター(図示せず)を有し、ここにおいて例えば+1次光が選択されて1次元画像光Lmとして出射される。更に投射光学部53によって拡大等を行い、走査光学部56における走査素子54の矢印rで示す回転によりL1、L2、・・・Ln−1、Lnで示すように走査され、スクリーン等の画像生成面100上に2次元像57が生成される。画像生成面100上において走査位置は矢印sで示すように走査される。走査素子54としては、例えばガルバノミラー、ポリゴンミラーの他、例えば電磁石等によって共振して走査を行ういわゆるレゾナントスキャナを用いることも可能である。
このような画像生成装置において利用可能な1次元光変調装置の一例を図13〜図15を参照して説明する。図13は、この実施形態例に係る光変調装置を構成する光変調素子の概略斜視構成図である。図13に示すように、この光変調素子60は、シリコン等より成る基板上に、ポリシリコン薄膜などから成る共通電極63が形成され、この共通電極63と所定の間隔を保って、表面に反射膜が形成された条帯(ストリップ)状の第1の電極61a〜61cと、第2の電極62a〜62cとが交互に形成されている。第1の電極61a〜61cは、固定電位とされて例えば接地され、第2の電極62a〜62cは可動電極すなわち可動部とされ、駆動電圧電源65に接続される。
このような構成とする場合、第1の電極61a〜61cは例えば固定されており、反射面の高さは不変である。そして第2の電極62a〜62cが駆動電圧に応じた静電力に起因する吸引力又は反発力によって、共通電極63に向かって移動又は屈曲可能であり、第2の電極62a〜62cの反射面の高さ(例えば基板との間隔)を変えることができる。第2の電極62a〜62cの移動又は屈曲によってピッチは一定で深さが変調可能な回折格子として機能させることができる。
なお、この光変調素子60は、光変調装置内の1つの画素(ピクセル)に対応して第2の電極62a〜62cを1画素分の画素信号に対応して変調させるものであるが、この光変調素子に設ける第1の電極及び第2の電極の数は図13に示す例のように6本とする以外に、2本、4本等とすることができ、適宜変更可能である。また、この光変調素子60を各電極の長手方向と直交する方向に画素数分並置配列して、所望の画素数に対応する光変調装置が構成される。すなわち光変調装置内に設ける電極の総数は、1画素あたりの電極の本数及び目的とする表示画像の画素数に対応して適宜選定される。
この光変調素子60の代表的な寸法の一例として、例えば、第1及び第2の電極の幅は3〜4μm、隣接する電極間ギャップは約0.6μm、電極の長さは200〜400μm程度である。この場合、6本の電極で1画素分とすると、1画素分の光変調素子の幅は約25μmである。
実用化されつつある1080画素を表示する1次元光変調装置においては、図13の第1及び第2の電極の幅方向に沿って、1080画素分の電極が多数並置配列される。
なおこのような回折格子型の光変調装置としては、各電極が非動作時に表面がほぼ一平面上に配置される通常型構成と、各電極が基準面(例えば光変調装置の基板面)から所定の角度をもって傾斜されて配置されるいわゆるブレーズ型構成とが提案されている。これらの各タイプの光変調装置の一例の概略断面構成図を図14及び図15に模式的に示す。図14及び図15において、図13と対応する部分には同一符号を付して重複説明を省略する。図14及び図15に示す例では、1画素に対応する第1及び第2の電極の数を3本ずつ、合計6本とした場合を示すが、これに限定されるものではない。
通常型構成の光変調装置は、図14に動作時の一例を示すように、第2の電極62a〜62cの移動量Z1を例えば入射光の波長λに対しλ/4とするときに、入射方向と逆向きに反射される0次回折光(図示せず)と、±1次回折光Lr(+1)及びLr(−1)が回折光として反射される。一例として、λ=532nmの場合は、第2の電極の移動量は最大λ/4=133nmである。例えば+1次回折光のみを利用する場合、1本の回折光だけを空間フィルタを通してスクリーン上に結像し、画像表示用に利用することができる。非動作時(駆動電圧をゼロとする場合)には+1次回折光は生じないため、このオフ状態は画面の暗状態に対応し、表示画面が黒になる。すなわち、第2の電極62a〜62cへの駆動電圧を外部からの画像情報に対応して調整して、移動量Z1を制御することによって、画素のオン/オフとこの間の階調表示が可能となる。
一方ブレーズ型構成の光変調装置は、図15に示すように、基準面A、すなわち光変調装置の基板(図示せず)の表面と平行な面から例えば角度θをもって各電極61a〜61c、62a〜62cを傾斜して配置する。この時角度θは好適には電極1本分の周期に対して隣接する電極間の高さの差がλ/4(λは用いる光の波長)となる角度とする。そして動作時には、隣接する一対の第1及び第2の電極61a及び62a、61b及び62b、61c及び62cの各表面が一平面を成すように、第2の電極62a〜62cを移動させる。このときその移動量Z2は、入射光の波長λに対してλ/4(つまり2本の電極周期毎にλ/2の段差)となるように動作させると、+1次回折光のみが出射される。従って、この+1次回折光を用いて、1本の回折光だけを空間フィルタを通してスクリーン上に結像することができる。すなわちブレーズ型の光変調装置を用いる場合は、反射回折光のうち1本の回折光を利用する構成とすることにより、光利用効率を高めることができる。
以上説明した1次元光変調装置、本発明構成のレーザ光源装置を用いて図12に示す画像生成装置を構成することによって、1次元光変調装置に対して、光の分割及び重ね合わせにより均一な照明を行うとともに、干渉縞の発生を抑制することができるので、良好な光変調を行い、干渉縞の発生により画質を損なうことを抑制し、また光の利用効率を損なうことなく、良好な画像の生成が可能となる。
なお、本発明の画像生成装置は上述の第4の実施形態例に限定されるものではなく、レーザ光源装置において本発明構成とする他は、光変調部、投射光学部、走査光学部とにおいて種々の変形、変更が可能である。また投射型表示に限定されることなく、描画により文字情報や画像などを生成するレーザプリンタ等にも適用可能である。
また、本発明は上述の各実施形態例において説明した構成に限定されるものではなく、例えばレーザ光源装置内の波面合成部等における光学素子の部品点数、材料構成等、本発明構成を逸脱しない範囲において種々の変形、変更が可能である。
本発明の第1の実施形態例に係るレーザ光源装置の概略断面構成図である。 比較例によるレーザ光源装置の偏光変換部の概略平面構成図である。 波長板の光学軸の方位の説明図である。 比較例による干渉項の波形を示す図である。 本発明の第1の実施形態例に係るレーザ光源装置における偏光変換部の概略平面構成図である。 本発明の第1の実施形態例に係るレーザ光源装置における干渉項の波形を示す図である。 A〜Cは基本周期、2倍周期及び3倍周期の光束の干渉の説明図であり、D〜Fはその干渉縞の強度波形を示す図である。 本発明の第2の実施形態例に係るレーザ光源装置における偏光変換部の概略平面構成図である。 本発明の第2の実施形態例に係るレーザ光源装置の概略断面構成図である。 本発明の第3の実施形態例に係るレーザ光源装置における偏光変換部の概略平面構成図である。 本発明の第3の実施形態例に係るレーザ光源装置の概略断面構成図である。 本発明の第4の実施形態例に係る画像生成装置の概略斜視構成図である。 1次元型の光変調装置の一例の要部の概略斜視構成図である。 1次元型の光変調装置の一例の要部の概略断面構成図である。 1次元型の光変調装置の一例の要部の概略断面構成図である。 従来のレーザ光源装置の基本的な構成例を示す概略構成図である。 従来のレーザ光源装置の基本的な構成例を示す概略構成図である。 従来のレーザ光源装置において干渉が発生する様子を示す概略構成図である。
符号の説明
1.光源、2A.シリンドリカルレンズアレイ、2B.シリンドリカルレンズアレイ、5.偏光変換部、10.レーザ光源装置、11.被照射体、21.波面分割部、21a.分割領域、22.波面合成部、50.画像生成装置、51.1次元光変調装置、52.光選択部、53.投射光学部、54.走査素子、55.光変調部、56.走査光学部、57.2次元像、100.画像生成面

Claims (14)

  1. 光源と、
    前記光源から出射される光の波面を分割する波面分割部と、
    前記波面分割部からの光を被照射体に導くと共に分割された波面を重ね合わせる波面合成部と、
    前記波面分割部において分割された光束のうち、一部の光束の偏光面を回転させる偏光変換部と、を備え、
    前記偏光変換部は、前記波面分割部により分割される分割領域の1つおきに、光学軸の方位が異なる第1又は第2の波長板が配置される領域と、前記第1又は第2の波長板が配置されない領域と、を有し、
    前記第1の波長板は、光の偏光面を一の方向に略90度回転させる作用を備え、
    前記第2の波長板は、光の偏光面を他の方向に略90度回転させる作用を備え、
    前記第1及び第2の波長板が、交互に配置されて成り、
    前記第1及び第2の波長板を通過する光路で生じる干渉縞の位相が、前記第1及び第2の波長板を通過しない光路で生じる干渉縞の位相と略180度異なる
    レーザ光源装置。
  2. 光源と、
    前記光源から出射される光の波面を分割する波面分割部と、
    前記波面分割部からの光を被照射体に導くと共に分割された波面を重ね合わせる波面合成部と、
    前記波面分割部において分割された光束のうち、一部の光束の偏光面を回転させる偏光変換部と、を備え、
    前記偏光変換部は、前記波面分割部により分割される分割領域の2つおきに、光学軸の方位が異なる第1及び第2の波長板が隣接して配置される領域と、前記第1及び第2の波長板が配置されない領域と、を有し、
    前記第1の波長板は、光の偏光面を一の方向に略90度回転させる作用を備え、
    前記第2の波長板は、光の偏光面を他の方向に略90度回転させる作用を備え、
    前記第1及び第2の波長板を通過する光路で生じる干渉縞の位相が、前記第1及び第2の波長板を通過しない光路で生じる干渉縞の位相と略180度異なる
    ーザ光源装置。
  3. 隣接する前記第1及び第2の波長板の配列順が一定である請求項2に記載のレーザ光源装置。
  4. 隣接する前記第1及び第2の波長板の配列順が交互に入れ替わって配置されて成る請求項2に記載のレーザ光源装置。
  5. 前記波面分割部が、1以上のシリンドリカルレンズアレイより構成され、前記分割領域が、1つのレンズセルとされる請求項1〜4のいずれかに記載のレーザ光源装置。
  6. 前記偏光変換部が、前記波面分割部のうち、前記光源からのレーザ光が最後に通過する光学素子の直前又は直後に配置される請求項1〜5のいずれかに記載のレーザ光源装置。
  7. 前記光源が、複数のレーザ素子が1次元状に配列された構成とされて1次元状のレーザ光を出力する光源とされて成る請求項1〜6のいずれかに記載のレーザ光源装置。
  8. 前記第1又は第2の波長板が配置されない領域に、偏光変換機能を有さない光透過性基板が配置される請求項1〜7のいずれかに記載のレーザ光源装置。
  9. レーザ光源装置と、光変調装置と、投射光学部と、走査光学部とを備え、
    記レーザ光源装置は、
    光源と、
    前記光源から出射される光の波面を分割する波面分割部と、
    前記波面分割部からの光を前記光変調装置に導くと共に分割された波面を重ね合わせる波面合成部と、
    前記波面分割部において分割された光束のうち、一部の光束の偏光面を回転させる偏光変換部と、を備え、
    前記偏光変換部は、前記波面分割部により分割される分割領域の1つおきに、光学軸の方位が異なる第1又は第2の波長板が配置される領域と、前記第1又は第2の波長板が配置されない領域と、を有し、
    前記第1の波長板は、光の偏光面を一の方向に略90度回転させる作用を備え、
    前記第2の波長板は、光の偏光面を他の方向に略90度回転させる作用を備え、
    前記第1及び第2の波長板が、交互に配置されて成り、
    前記第1及び第2の波長板を通過する光路で生じる干渉縞の位相が、前記第1及び第2の波長板を通過しない光路で生じる干渉縞の位相と略180度異なる
    画像生成装置。
  10. レーザ光源装置と、光変調装置と、投射光学部と、走査光学部とを備え、
    前記レーザ光源装置は、
    光源と、
    前記光源から出射される光の波面を分割する波面分割部と、
    前記波面分割部からの光を被照射体に導くと共に分割された波面を重ね合わせる波面合成部と、
    前記波面分割部において分割された光束のうち、一部の光束の偏光面を回転させる偏光変換部と、を備え、
    前記偏光変換部は、前記波面分割部により分割される分割領域の2つおきに、光学軸の方位が異なる第1及び第2の波長板が隣接して配置される領域と、前記第1及び第2の波長板が配置されない領域と、を有し、
    前記第1の波長板は、光の偏光面を一の方向に略90度回転させる作用を備え、
    前記第2の波長板は、光の偏光面を他の方向に略90度回転させる作用を備えて成り、
    前記第1及び第2の波長板を通過する光路で生じる干渉縞の位相が、前記第1及び第2の波長板を通過しない光路で生じる干渉縞の位相と略180度異なる
    画像生成装置。
  11. 隣接する前記第1及び第2の波長板の配列順が一定である請求項10に記載の画像生成装置。
  12. 隣接する前記第1及び第2の波長板の配列順が交互に入れ替わって配置されて成る請求項10に記載の画像生成装置。
  13. 前記レーザ光源装置の光源が、複数のレーザ素子が1次元状に配列された構成とされて1次元状のレーザ光を出力する光源とされ、
    前記光変調装置が、1次元光変調装置とされて成る請求項9〜12のいずれかに記載の画像生成装置。
  14. 前記レーザ光源装置の光源が、1次元横マルチモード発振した固体レーザ発振光またはその出力を非線形光学素子により波長変換して得られた1次元状のレーザ光を出力する光源とされ、
    前記光変調装置が、1次元光変調装置とされて成る請求項9〜13のいずれかに記載の画像生成装置。
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