JP5262721B2 - 画像表示装置 - Google Patents
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Description
図4は本実施形態の画像表示装置を示す俯瞰図である。
a=π・ω0 2/λ ・・・(2)
D=ω・(−2・ln(0.5))0.5 ・・・(3)
上記数式1ないし数式3より、ビーム半径ω(ビーム強度半値全幅D)は伝播距離zに応じて変化する。また、図6Aに示すように、ビーム半径ω(ビーム強度半値全幅D)は、ビームウエスト半径が小さい場合には、伝播距離zが進むにつれ広がりが大きくなる。一方、図6Bに示すように、ビーム半径ω(ビーム強度半値全幅D)は、ビームウエスト半径が大きい場合には、伝播距離zが進んでも、広がりがりにくい。
(第2の実施形態)
Claims (10)
- 光源から出射されたレーザビームを走査して被投射面に画像を形成する走査手段と、
前記走査手段のビーム偏向部の位置における前記レーザビームのビーム径を前記ビーム偏向部の大きさより小さくし、かつ前記レーザビームのフレネル回折積分による強度分布が画素ピッチより小さくなるようにビームウエストの位置および前記ビームウエストの径を規定する、前記走査手段の前段に位置するレーザビーム径変換光学系と、を有し、
前記レーザビーム径変換光学系はアフォーカル系を構成し、前記走査手段と前記レーザビーム径変換光学系を合わせた系もアフォーカル系を構成する画像表示装置。 - 前記ビーム偏向部は共振型マイクロメカニカルミラーである、請求項1に記載の画像表示装置。
- 前記ビームウエストの位置は、前記被投射面の存在する投射距離の範囲内にある、請求項1に記載の画像表示装置。
- 前記ビームウエストの位置は、前記ビーム偏向部の位置と同一である、請求項3に記載の画像表示装置。
- 前記走査手段は凸面鏡および凹面鏡のいずれか一方を有し、アフォーカル系を構成する、請求項1に記載の画像表示装置。
- 前記レーザビームの前記ビーム径は強度半値全幅である、請求項1に記載の画像表示装置。
- 前記レーザビームは基本ガウシアンビームである、請求項1に記載の画像表示装置。
- 前記画素ピッチは前記被投射面における水平画面サイズを水平画素数で割った値である、請求項1に記載の画像表示装置。
- 前記画素ピッチは前記被投射面における垂直画面サイズを垂直画素数で割った値である、請求項1に記載の画像表示装置。
- 前記光源は前記被投射面の形状に応じてレーザ強度を変調する、請求項1に記載の画像表示装置。
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