KR20100030399A - 광 발생 장치 및 그 제어 방법 - Google Patents

광 발생 장치 및 그 제어 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20100030399A
KR20100030399A KR20080089334A KR20080089334A KR20100030399A KR 20100030399 A KR20100030399 A KR 20100030399A KR 20080089334 A KR20080089334 A KR 20080089334A KR 20080089334 A KR20080089334 A KR 20080089334A KR 20100030399 A KR20100030399 A KR 20100030399A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
light
optical shutter
openings
beam expander
pattern
Prior art date
Application number
KR20080089334A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101560617B1 (ko
Inventor
최윤선
김진환
이홍석
Original Assignee
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전자주식회사 filed Critical 삼성전자주식회사
Priority to KR1020080089334A priority Critical patent/KR101560617B1/ko
Priority to US12/385,597 priority patent/US8982323B2/en
Publication of KR20100030399A publication Critical patent/KR20100030399A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101560617B1 publication Critical patent/KR101560617B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70408—Interferometric lithography; Holographic lithography; Self-imaging lithography, e.g. utilizing the Talbot effect

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)

Abstract

광원; 상기 광원으로부터 출력된 광을 콜리메이트(collimate) 하는 빔 익스팬더; 상기 빔 익스팬더를 통과한 광을 선택적으로 투과시키는 광 셔터; 및 상기 광 셔터를 투과한 광을 집속하는 집광 렌즈를 포함하는 광 발생 장치를 개시한다. 이러한 광 발생 장치는 픽셀 단위로 온/오프(on/off) 제어함으로써 광을 선택적으로 투과시킬 수 있는 광 셔터(optical shutter)를 구비하고 있어서, 다양한 주기와 방향을 갖는 다양한 1차원, 2차원 또는 3차원 나노 패턴(nano pattern)을 용이하게 제작할 수 있다는 장점이 있다.

Description

광 발생 장치 및 그 제어 방법{Light Generating Apparatus and Method For Controlling the Same}
광 발생 장치 및 그 제어 방법, 특히 다양한 주기와 방향을 갖는 1차원, 2차원 또는 3차원 나노 패턴(nano pattern)을 용이하게 제작할 수 있는 광 발생 장치 및 그 제어 방법을 개시한다.
회절격자(diffracting grating)란 평면 유리나 오목 금속판에 여러 개의 평행선을 좁은 간격으로 새긴 것으로, 회절과 간섭을 이용하여 빛의 방향을 원하는 곳으로 회절시키는 소자를 의미한다. 회절격자(diffracting grating)에 빛을 조사하면 투과 또는 반사된 빛이 파장 별로 나뉘어서 스펙트럼을 얻을 수 있다.
이러한 회절격자는 프리즘보다 빛을 분산시키는 성능이 좋으며, 스펙트럼 띠가 장파장인 빨강 쪽에서도 좁아지지 않고 빨강에서 보라에 이르기까지 각 파장마다 균일하게 퍼지며, 스펙트럼 띠가 1차, 2차, 3차로 병렬적(竝列的)으로 나타난다.
회절격자의 제작은 일반적으로 광원으로부터 조사되는 레이저 빔의 간섭에 의하여 수행되었다. 그러나, 이와 같이 전통적인 회절격자의 제작 방법으로는 회절 격자의 주기 조절은 가능하지만, 회절격자의 방향은 기하학적으로 고정되기 때문에 그 조절이 불가능하다는 문제점이 존재하였다.
이러한 문제를 해결하기 위하여, 회절격자의 주기 및 방향성을 임의적으로 조절할 수 있는 도트 매트릭스 시스템(dot matrix system)이 개발되었다. 이와 같은 도트 매트릭스 시스템을 이용함으로써, 다양한 방향으로 색 분산이 없는 광을 보낼 수 있게 되었고, 이에 따라 설계자가 원하는 광 분포를 만들 수 있게 되었다.
그러나, 이러한 종래의 도트 매트릭스 시스템에서는 회절격자 패턴을 형성하기 위하여 DOE(diffractive optical element) 패턴을 이용하게 되는데, 회절격자의 방향을 바꾸기 위해서는 이와 같은 DOE 패턴을 회전시키는 모터 구동부가 필요하지만, 모터 구동부는 동작이 느리므로 패턴 제작 시간이 길어진다는 한계가 존재하였다. 또한, 회절격자의 방향을 바꾸기 위해서 DOE 패턴을 전기적으로 바꾸는 방법도 개발되었으나, 이 역시 사전에 계산된 패턴만을 제조할 수 있다는 문제가 있다.
본 발명은 다양한 주기와 방향을 갖는 나노 패턴(nano pattern)을 용이하게 제작할 수 있는 광 발생 장치 및 그 제어 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 광 발생 장치는, 광원; 상기 광원으로부터 출력된 광을 확대하여 콜리메이트(collimate) 하는 빔 익스팬더; 상기 빔 익스팬더를 통과한 광을 선택적으로 투과시켜 적어도 두 개의 광빔을 형성하는 광 셔터; 및 상 기 광 셔터를 투과한 적어도 두 개의 광빔을 동일한 위치에 집속시켜 간섭시키는 집광 렌즈;를 포함할 수 있다.
본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 상기 광 셔터의 일부 영역은 상기 빔 익스팬더를 통과한 광을 투과시키고, 상기 광 셔터의 나머지 일부 영역은 상기 빔 익스팬더를 통과한 광을 투과시키지 않는다.
예컨대, 상기 광 셔터는 다수 개의 픽셀로 구성되며, 상기 광 셔터는 상기 픽셀 단위로 온/오프(on/off) 제어를 수행함으로써 광을 선택적으로 투과시킨다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 픽셀 단위의 온/오프 제어에 따라, 상기 광 셔터에는 두 개 이상의 광학적 개구부가 형성되며, 상기 빔 익스팬더를 통과한 광은 상기 개구부를 통해 선택적으로 투과된다.
또한, 상기 픽셀 단위의 온/오프 제어에 따라, 상기 개구부의 개수, 개구부들 사이의 간격, 개구부의 크기, 개구부의 위치 및 개구부의 형상 중 적어도 하나가 변경될 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 집광 렌즈는 감광성층 위에 광을 집속하며, 집속된 광의 간섭에 의하여 상기 감광성층 위에 형성된 간섭 무늬를 이용하여 회절격자(diffracting grating)의 격자 패턴이 형성될 수 있다.
예컨대, 상기 개구부들 사이의 간격에 따라 상기 회절격자의 주기가 제어될 수 있다.
또한, 상기 개구부의 위치를 회전시킴에 따라 상기 회절격자의 방향이 제어될 수 있다.
예컨대, 상기 광 셔터는 투과형 공간 광 변조기(spatial light modulator)를 포함할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 빔 익스팬더는 상기 광원으로부터 출력된 광을 평행광으로 만들어주는 콜리메이팅 렌즈(collimating lens)를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 광 발생 장치는 다수 개의 광원 및 다수 개의 광 셔터를 구비하며, 상기 다수 개의 광원 및 다수 개의 광 셔터는 어레이(array) 형태로 배열될 수 있다.
한편, 본 발명의 다른 실시예에 따른 광 발생 장치는, 광원; 상기 광원으로부터 출력된 광을 확대하여 콜리메이트(collimate) 하는 빔 익스팬더; 상기 빔 익스팬더를 통과한 광을 선택적으로 반사시켜 적어도 두 개의 광빔을 형성하는 광 셔터; 상기 광 셔터에 의해 반사된 적어도 두 개의 광빔을 동일한 위치에 집속시켜 간섭시키는 집광 렌즈; 및 상기 빔 익스팬더, 광 셔터 및 집광 렌즈와 각각 대향하는 표면을 가지며, 상기 빔 익스팬더로부터 입사한 광을 광 셔터에 제공하고, 상기 광셔터로부터 입사한 광을 집광 렌즈에 제공하는 빔 스플리터;를 포함할 수 있다.
여기서, 상기 빔 스플리터(beam splitter)와 상기 집광 렌즈 사이에는 편광판이 더 구비될 수 있다.
예컨대, 상기 빔 스플리터(beam splitter)는 편광 빔 스플리터(beam splitter)일 수 있다.
또한, 상기 광 셔터는, 예컨대, LCoS(Liquid Crystal on Silicon) 및 DMD(digital micromirror device) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
또한, 본 발명의 다른 실시예에 따른 나노 패턴을 제작하기 위한 광 발생 장치에 있어서, 상기 광 발생 장치는, 다수 개의 픽셀로 구성된 광 셔터를 픽셀 단위로 온/오프(on/off) 제어하여 광을 선택적으로 반사 또는 투과시키며, 상기 광 셔터에 의하여 선택적으로 반사 또는 투과되어 형성된 적어도 두 개의 광의 간섭에 의하여 형성된 간섭 무늬를 감광성층 상이 집속하여 상기 나노 패턴을 제작하는 것을 특징으로 한다.
본 실시예에 따르면, 상기 광 셔터를 픽셀 단위로 온/오프 제어하여, 상기 광 셔터 상에 광학적 개구부를 형성함으로써, 상기 나노 패턴의 주기 또는 방향을 제어할 수 있다.
한편, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 광 발생 장치의 제어 방법은, (1) 광원으로부터 광이 출력되는 단계; (2) 상기 광원으로부터 출력된 광이 확대되어 콜리메이트 되는 단계; (3) 상기 콜리메이트 된 광을 선택적으로 반사 또는 투과하여 적어도 두 개의 광 빔을 형성하는 단계; 및 (4) 상기 적어도 두 개의 광 빔을 동일한 위치에 집속시켜 간섭시키는 단계;를 포함할 수 있다.
본 실시예에 따르면, 상기 단계(3)은, 다수 개의 픽셀로 구성된 광 셔터에 대하여, 상기 픽셀 단위로 온/오프(on/off) 제어를 수행함으로써 이루어질 수 있다.
또한, 상기 단계(3)은, 두 개 이상의 광학적 개구부를 형성할 수 있는 광 셔터에 대하여, 상기 개구부로 입사된 광만이 광 셔터를 투과하도록 제어함으로써 수 행될 수 있다.
또한, 상기 단계(3)은, 상기 두 개 이상의 개구부들 사이의 간격을 제어하는 단계;를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 단계(3)은, 상기 개구부의 위치를 회전시키는 단계;를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 단계(3)은, 빔 스플리터에 의하여 광이 분리되는 단계; 및 상기 분리된 광이 광을 선택적으로 반사시키는 광 셔터에서 반사되는 단계;를 더 포함할 수 있다.
본 광 발생 장치 및 그 제어 방법의 일 실시예에 따르면, 다양한 주기와 방향을 갖는 1차원, 2차원 또는 3차원 나노 패턴(nano pattern)의 제작 및 조절이 용이해지고, 회절격자의 제작 시간 및 비용을 감소시킬 수 있어서 공정 효율성이 높다는 장점이 있다.
이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다.
1. 제 1 실시예
도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 관한 광 발생 장치를 모식적으로 나타낸 도면이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 광 발생 장치(100)는 광 원(110), 빔 익스팬더(beam expander; 120), 제 1 편광판(131), 광 셔터(optical shutter; 130), 제 2 편광판(132) 및 집광 렌즈(140)를 포함한다.
광원(110)은 간섭성이 우수하고 직진성이 뛰어난 레이저를 출력하는 장치이다. 이와 같은 레이저를 출력할 수 있는 광원(110)은 특별히 제한되는 것은 아니고 예를 들어, 헬륨-네온 레이저, 엑시머 레이저 등의 가스 레이저, 루비 레이저, Nd:YAG 레이저 등의 고체 레이저 및 반도체 레이저 등이 사용될 수 있다.
여기서, 광원(110)으로부터 조사되는 광은 편광되어 조사되는 광일 수도 있고, 편광되지 않은 광일 수도 있으며, 조사된 후 제 1 편광판(131)에 의해 편광될 수도 있다. 이러한 광원(110)은 당업계에 널리 공지되어 있으므로, 본 명세서에서는 이에 대한 구체적인 설명은 생략한다.
빔 익스팬더(120)는 광원(110)으로부터 출력된 광을 콜리메이트 한다. 구체적으로, 빔 익스팬더(120)는 광 셔터(130)에 평행광이 입사되도록 하기 위하여, 광원(110)으로부터 출력된 광의 폭을 확대시킨 후 이를 평행광으로 만들어준다. 이와 같이, 광원(110)으로부터 출력된 광을 광축과 평행한 평행광으로 만들기 위하여, 빔 익스팬더(120)는 콜리메이팅 렌즈(collimating lens)(121)를 더 포함할 수 있다.
빔 익스팬더(120)를 통과한 광의 경로 상에는 제 1 편광판(131), 광 셔터(130) 및 제 2 편광판(132)이 차례로 배치된다.
편광판(polarizer; 131, 132)이란, 직선 편광을 얻는 장치 중 하나를 말하며, 간단하게는 특정 방향으로 진동하는 빛만을 투과시키는 얇은 판을 말한다. 본 실시예에 따르면, 제 1 편광판(131)과 제 2 편광판(132)은 서로 직교하는 편광면을 갖도록 배치된다. 따라서 제 1 편광판(131)을 통과한 광의 편광 방향과 제 2 편광판(132)을 통과한 광의 편광 방향은 서로 수직하게 된다.
광 셔터(130)는 빔 익스팬더(120)를 통과한 광을 선택적으로 투과시키는 역할을 수행한다. 여기서, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 광 발생 장치(100)는, 광 셔터(130)로서 투과형 공간 광 변조기(transparent spatial light modulator; T-SLM)를 구비한다. 이와 같은 투과형 공간 광 변조기는 다수 개의 픽셀로 구성되며, 상기 픽셀 단위로 온/오프(on/off) 제어를 수행함으로써 광을 선택적으로 투과시킬 수 있다.
구체적인 예에서, 본 실시예에서는 상기 투과형 공간 광 변조기의 일 예로서 LCD(liquid crystal display), 그 중에서도 TFT-LCD(Thin film Transistor Liquid Crystal Display)를 사용할 수 있다. 이 때, 오프(off) 상태는 광 셔터(130)에 전압을 가하지 않은 상태를 의미하고, 이 상태에서는 제 1 편광판(131)을 통과한 광이 액정의 분자 배열을 따라 90도 회전하면서 제 2 편광판(132)을 통과하게 된다. 반면에, 온(on) 상태는 광 셔터(130)에 전압을 가한 상태를 의미하고, 이 때에는 전계의 방향을 따라 액정 분자가 배향되면서 제 1 편광판(131)을 통과한 빛은 편광 방향의 변화 없이 그대로 제 2 편광판(132)에 입사한다. 따라서 이 경우에는 광이 제 2 편광판(132)에 의하여 차단된다.
즉, 전압을 인가하지 않은 픽셀 영역으로는 광이 통과되고, 전압을 인가한 픽셀 영역에서는 광이 차단된다. 따라서 전압을 광 셔터(130)의 각 픽셀 별로 선택 적으로 인가함으로써, 광 셔터(130)가 원하는 형태로 광을 투과/또는 차단하도록 제어할 수 있다.
예를 들어, 도 2a를 참조하면, TFT-LCD를 제어하여, 검은 색을 전체적으로 표시하고, 하얀 색으로 표시되어 있는 두 개의 개구부(133a, 133b)를 형성함으로써, 상기 두 개의 개구부(133a, 133b)를 통해서만 광이 투과되도록 할 수 있다. 즉, 개구부(133a, 133b)가 형성되어야 하는 부분에 해당하는 픽셀에는 전압을 가하지 아니하여 광이 투과하도록 하고, 이와 동시에, 개구부(133a, 133b) 이외의 픽셀에는 전압을 가하여 광이 차단되도록 한다.
이와 같이, 각 픽셀에 대한 전압 인가 여부를 제어함으로써, 광 셔터(130)에서 광이 투과될 영역(즉, 개구부)을 자유롭게 선택할 수 있다. 또한, 각 픽셀에 대한 전압 인가 여부를 변경함으로써, 광 셔터(130)의 개구부(133a, 133b) 영역을 자유롭게 변경하는 것도 가능하다 할 것이다.
이 때, 상기 개구부(133a, 133b)의 개수, 크기, 위치 및 개구부 간의 간격(즉, 제 1 개구부(133a)와 제 2 개구부(133b) 간 거리)을 제어함으로써, 포토레지스트(photoresist: PR, 160)로 조사되는 광의 특성을 제어하여, 다양한 주기와 방향을 갖는 회절격자가 생성되도록 할 수 있다. 이와 같이, 회절격자의 주기 및 방향을 제어하는 방법에 대하여는 이하에서 상술한다.
집광 렌즈(140)는 광 셔터(130)를 투과한 광, 예를 들어 상기 개구부(133a, 133b)를 통과한 두 개의 광을 집속하여 스테이지(150) 상의 포토레지스트(160)로 조사하는 역할을 수행한다. 이때, 상기 개구부(133a, 133b)를 통과한 두 개의 광은 집광 렌즈(140)에 의해 포토레지스트(160) 상의 동일한 위치에 집속된다. 따라서 집광 렌즈(140)에 의해 집속된 두 개의 광은 포토레지스트(160) 상에서 서로 간섭하여 간섭 무늬를 형성하게 된다. 이렇게 형성된 간섭 무늬는 감광성층인 포토레지스트(160) 상에 기록되며, 간섭 무늬가 기록된 포토레지스트(160)를 현상함으로써 회절격자를 제조할 수 있다. 이와 같이, 집광 렌즈(140)에서 집속된 광이 포토레지스트(160)로 조사됨으로써, 다양한 주기와 방향을 갖는 회절격자가 생성된다.
한편, 광 셔터(130)의 각 픽셀별 온/오프(on/off) 제어 및 스테이지(150)의 이동을 제어하기 위하여, 별도의 제어부(170)가 더 구비될 수도 있다.
이하에서는, 회절격자의 주기 및 방향을 제어하는 방법을 상세히 살펴본다.
도 2a 내지 도 2e에는 광 셔터에 표시되는 개구부의 다양한 패턴이 도시되어 있다. 또한, 도 3a 내지 도 3e에는 상기 도 2a 내지 도 2e의 개구부를 통과한 광에 의해 형성된 회절격자의 패턴이 도시되어 있다.
상기 광 셔터에 표시되는 두 개의 개구부 사이의 간격과 회절격자의 주기(grating period) 사이의 관계는 하기 수학식 1로 나타낼 수 있다.
d = λ/(2nㆍsinθ)
여기서, d는 회절격자의 주기, λ는 광의 파장, n은 굴절률, θ는 두 광의 입사각도를 의미한다.
상기 식에 따르면, 두 광의 입사각도인 θ가 90°일 때 sinθ 값이 최대가 되므로 d는 최소가 된다. 반면, θ가 90°로부터 멀어질수록, 즉 0° 또는 180°에 가까워질수록 sinθ 값은 작아지고, 따라서 d는 증가하게 된다. 이와 같이, 광 셔터에 형성된 두 개구부 사이의 간격을 제어하는 것만으로 간단하게 소망하는 주기를 갖는 회절격자를 얻을 수 있다.
먼저, 광 셔터(130)에 2 개의 개구부를 형성한 도 2a 및 도 2b를 살펴보면, 도 2a의 패턴(이하, '패턴 1')에서 두 개구부(133a, 133b) 사이의 간격은 12.3 mm이고, 도 2b의 패턴(이하, '패턴 2')에서의 두 개구부(134a, 134b) 사이의 간격은 4.09 mm로서 도 2a 보다 좁게 형성되어 있다.
이러한 도 2a 및 도 2b에 따른 광 셔터를 이용하여 얻어지는 회절격자의 패턴을 각각 도 3a 및 도 3b에 나타내었고 입사 각도 및 회절 주기를 하기 표 1에 나타내었다.
패턴 1 패턴 2
개구부간 간격 12.3mm 4.09mm
개구부의 크기 30㎛ 30㎛
입사각도 3.52° 1.17°
Fringe period 4.3㎛ 13㎛
도 3a, 도 3b 및 표 1을 참조하면, 간격이 넓은 개구부를 갖는 광 셔터를 이용한 회절격자(도 3a 참조)에 비해 간격이 좁은 개구부를 갖는 광 셔터를 이용한 회절격자(도 3b 참조)의 회절격자 패턴의 주기가 더 크다는 것을 알 수 있다.
즉, 개구부 사이의 간격이 감소하면 상기 개구부를 통해 입사하는 두 광의 입사각도인 θ가 감소하므로, 이에 따라 회절격자의 주기인 d가 증가하는 것을 알 수 있다.
한편, 도 2b 내지 도 2e에 도시된 바와 같이, 광 셔터(130)에 표시된 두 개의 개구부의 위치가 회전함에 따라, 도 3b 내지 도 3e에 도시된 바와 같이, 회절격자의 방향(grating angular orientation)이 변화하는 것을 볼 수 있다.
이와 같이, 광 셔터에 형성된 두 개구부의 위치를 회전시키는 것만으로 간단하게 회절격자의 방향을 조절할 수 있다.
또한, 광 셔터(130)에 표시된 개구부의 면적을 변화시킴으로써, 광 셔터(130)를 투과한 광의 스팟 사이즈(spot size)를 제어할 수 있다. 나아가, 광 셔터(130)에 표시된 개구부의 형상을 변화시킴으로써, 광 셔터(130)를 투과한 광의 형상(beam shaping)을 제어할 수 있다.
이와 같이, 본 발명에 따른 광 발생 장치(100)는 광 셔터(130)에 표시된 개구부들 사이의 간격, 개구부들의 위치, 각 개구부의 크기 및 형상을 변화시킴으로써, 다양한 주기와 방향을 갖는 회절격자를 용이하게 제작할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.
또한, 이와 같은 광 셔터(130)의 개구부의 제어는, 각 픽셀을 온/오프(on/off) 시킴으로써 간단하게 수행될 수 있기 때문에, 회절격자를 제조하기 위한 시간 및 비용이 감소하는 효과를 얻을 수 있다.
본 발명의 제 1 실시예에서 사용된 투과형 공간 광 변조기 타입의 광 셔터(130)를 구비한 광 발생 장치(100)의 작동 과정은 하기와 같다.
먼저, 광원(110)으로부터 출력된 광은 빔 익스팬더(120)에 의하여 콜리메이트 된다. 이와 같이, 빔 익스팬더(120)를 통과한 평행광은 광 셔터(130)로 조사되고, 광 셔터(130)로 조사된 광은 광 셔터(130)에 의하여 선택적으로 투과된다.
구체적으로, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 투과형 공간 광 변조기는 다수 개의 픽셀로 구성되며, 상기 픽셀 단위로 온/오프(on/off) 제어를 수행함으로써 광을 선택적으로 투과시킨다. 즉, 전압을 가하지 않은 영역으로는 광이 통과되고, 전압을 가한 영역에서는 광이 차단되기 때문에, 전압을 각 픽셀별로 선택적으로 인가함으로써, 광 셔터(130)가 원하는 형태로 광을 투과/또는 차단하도록 할 수 있다.
이와 같이, 광 셔터(130)를 통과하면서 선택적으로 투과된 광은 집광 렌즈(140)로 입사된다. 이와 같이, 집광 렌즈(140)에 의하여 집속된 광은 스테이지(150) 상의 포토레지스트(160)로 조사되어, 다양한 주기와 방향을 갖는 회절격자가 생성된다.
도 4는 본 발명에 따른 제 1 실시예의 하나의 변형예에 관한 광 발생 장치를 개략적으로 나타내는 도면이고, 도 5는 광 셔터(130)에서 형성된 개구부들을 예시적으로 나타내는 도면이며, 도 6은 도 4의 광 발생 장치에 의해 형성된 회절격자의 패턴을 나타내는 도면이다.
도 4 및 도 5를 참조하면, 본 발명의 제 1 실시예의 일 변형예에 관한 광 발생 장치(101)의 광 셔터(130)에는 다수 개의 개구부들(135a~135d)이 형성되어 있다. 이와 같이, 광 셔터(130)에서 다수 개의 개구부들을 형성하여 광을 선택적으로 투과시킬 경우, 도 6에 도시되어 있는 바와 같이, 다중 회절격자(multi diffracting grating)를 형성하는 것이 가능하다. 이와 같이 다수 개의 개구부를 형성함으로써, 용이하게 멀티 빔을 생성하여 포토레지스트(160) 면에 간섭무늬를 형성할 수 있다. 또한, 이러한 간섭무늬를 이용하여 지금까지 그 제작이 용이하지 아니하였던 2차원 및 3차원 포토닉 크리스탈(photonic crystal) 형태의 패턴을 제작하는 것도 또한 가능하다.
또한, 도 7에 개략적으로 도시된 바와 같이, 다수 개의 광원(1101~110n)과 다수 개의 광 셔터(1301~130n)를 어레이(array) 형태로 배열할 경우, 대면적의 패턴을 구현하는 것도 또한 가능하다 할 것이다. 나아가, 이와 같은 어레이 형태의 광원(1101~110n) 및 광 셔터(1301~130n)를 구비할 경우, 규칙적인 패턴뿐 아니라, 부분적으로 다양한 형태를 가지는 나노 패턴을 제조하는 것도 가능하다 할 것이다.
2. 제 2 실시예
도 8은 본 발명의 제 2 실시예에 관한 광 발생 장치를 모식적으로 나타낸 도면이다.
도 8을 참조하면, 본 발명의 제 2 실시예에 관한 광 발생 장치(200)는 광원(210), 빔 익스팬더(220), 빔 스플리터(beam splitter)(235), 광 셔터(230), 편광판(231) 및 집광 렌즈(240)를 포함한다.
본 실시 형태에서는, 상기 광 셔터(230)로서 반사형 공간 광 변조기(reflective spatial light modulator: R-SLM)인 LCoS (Liquid Crystal on Silicon)을 구비하며, 빔 스플리터(235)가 더 구비된다는 점에서 전술한 제 1 실시예와 구별된다.
이와 같은 반사형 공간 광 변조기 역시 다수 개의 픽셀로 구성되며, 상기 픽셀 단위로 온/오프(on/off) 제어를 수행함으로써 광을 선택적으로 투과시킬 수 있다.
이와 같은 반사형 공간 광 변조기 타입의 광 셔터(230)를 구비한 광 발생 장치(200)의 동작은 다음과 같다
먼저, 광원(210)으로부터 출력된 광은 빔 익스팬더(220)에 의하여 콜리메이트 된다. 이와 같이, 빔 익스팬더(220)를 통과한 평행광은 빔 스플리터(235)에 입사한다. 상기 빔 스플리터(235)는 입사빔을 분리하여 광 셔터(230)에 제공한다. 또한, 상기 빔 스플리터(235)는 광 셔터(230)로부터 반사된 광을 집광 렌즈(240)에 제공한다. 이를 위하여, 빔 스플리터(235)는 빔 익스팬더(220), 광 셔터(230) 및 집광 렌즈(240)와 각각 대향하는 표면을 갖는다.
예컨대, 빔 스플리터(235)는 광의 일부를 투과시키고 광의 일부를 반사하여 입사광의 세기를 각각 반으로 나누는 일반 빔 스플리터를 사용할 수 있다. 이때, 빔 스플리터(235)를 투과한 광은 광셔터(230)로 입사할 수 있다
본 실시예의 경우, 광 셔터(230)로서 반사형 공간 광 변조기가 구비되어 있어서, 전압을 가하지 않은 오프(off) 상태에서는 광이 90o 회전하여 반사되는 반면, 전압을 가한 온(on) 상태에서는 광이 들어온 편광상태 그대로 반사된다. 이때, 광 셔터(230)에서 반사된 광은 다시 빔 스플리터(235)로 입사되며, 빔 스플리터(235)로 입사된 광은 그 코팅면(235a)에서 반사되어 편광판(231)에서 편광 방향이 변하지 않은 광은 흡수하고 90o 회전한 광은 투과하여 집광 렌즈(240)로 입사된다. 그런 후, 집광 렌즈(240)에 의하여 집속된 광은 스테이지(250) 상의 포토레지스트(260)로 조사된다. 이때, 포토레지스트(260) 상에서 형성되는 간섭 무늬를 이용하여 다양한 주기와 방향을 갖는 회절격자가 형성된다.
3. 제 3 실시예
도 9는 본 발명의 제 3 실시예에 관한 광 발생 장치를 모식적으로 나타낸 도면이다.
도 9를 참조하면, 본 발명의 제 3 실시예에 관한 광 발생 장치(201)는 광원(210), 빔 익스팬더(220), 편광 빔 스플리터(236), 광 셔터(230) 및 집광 렌즈(240)를 포함한다.
본 실시 형태에서는, 상기 광 셔터(230)로서 반사형 공간 광 변조기(reflective spatial light modulator: R-SLM)인 LCoS(Liquid Crystal on Silicon) 같은 액정형 변조기를 구비하고, 편광 빔 스플리터(236)가 더 구비된다는 점에서 제 2 실시예와 구별된다.
이와 같은 반사형 공간 광 변조기 타입의 광 셔터(230)와 편광빔 스플리터(236)을 구비한 광 발생 장치(201)의 동작은 다음과 같다
먼저, 광원(210)으로부터 출력된 광은 빔 익스팬더(220)에 의하여 콜리메이트 된다. 이와 같이, 빔 익스팬더(220)를 통과한 평행광은 편광빔 스플리터(236)에 의하여 분리된다.
구체적으로 편광 빔 스플리터(236)는 예컨대 S편광을 반사하고, P 편광을 투과하는 빔 스플리터이다. 이 경우, 광원(210)에서 나온 빔이 광 셔터(230)로 가기 위해서는 P편광으로 정렬되어 있어야 한다. 편광 빔 스플리터(236)를 통과한 광은 광셔터(230)로 조사된다.
본 실시예의 경우는 제 2 실시예와 같이 광 셔터(230)로 반사형 공간 광 변조기가 구비되어 있어서, 전압을 가하지 않은 오프(off) 상태에서는 광이 90o 회전하여(S편광) 반사되는 반면, 전압을 가한 온(on) 상태에서는 광이 들어온 편광상태(P편광) 그대로 반사된다. 이때, 광 셔터(230)에서 반사된 광은 다시 편광 빔 스플리터(236)로 입사되며, 코팅면(236a)에서 S편광으로 정렬된 광만 반사되어 집광 렌즈(240)로 입사된다. 한편, 편광 빔 스플리터(236)과 광 셔터(230)사이에 사분의일 파장판(미도시)을 사용할 경우, 광 셔터(230)에서 제3실시예와 반대의 신호를 주면 같은 효과를 볼 수 있다. 즉, 이 경우에는 광 셔터(230)에 의해 90o 회전하여 반사된 광은 편광 빔 스플리터(236)를 투과하고, 그대로 반사된 광만이 편광 빔 스플리터(236)에 의해 반사되어 집광 렌즈(240)로 입사한다.
이와 같이 집광 렌즈(240)에 의하여 집속된 광은 스테이지(250) 상의 포토레지스트(260)로 조사되어, 다양한 주기와 방향을 갖는 회절격자가 형성된다.
4. 제 4 실시예
도 10은 본 발명의 제 4 실시예에 관한 광 발생 장치를 모식적으로 나타낸 도면이다.
도 10을 참조하면, 본 발명의 제 4 실시예에 관한 광 발생 장치(202)는 광원(210), 빔 익스팬더(220), 빔 스플리터(235), 광 셔터(230') 및 집광 렌즈(240)를 포함한다.
본 실시 형태에서는, 상기 광 셔터(230')로서 반사형 공간 광 변조기(reflective spatial light modulator; R-SLM)인 DMD(Digital Micro-mirror device) 와 같은 MEMS형 변조기가 구비된다는 점에서 제 3 실시예와 구별된다.
이와 같은 반사형 공간 광 변조기 타입의 광 셔터(230') 구비한 광 발생 장치(202)의 동작은 다음과 같다
먼저, 광원(210)으로부터 출력된 광은 빔 익스팬더(220)에 의하여 콜리메이트 된다. 이와 같이, 빔 익스팬더(220)를 통과한 평행광은 빔 스플리터(235)에 의하여 분리되고, 투과한 광은 광 셔터(230)으로 조사된다.
본 실시예의 경우는 광 셔터(230')로 MEMS형 광 변조기인 DMD가 구비되어 있어서, 원하는 픽셀 영역은 빔 스플리터(235) 방향으로 반사시키고, 원치 않은 픽셀 영역은 빔 스플리터(235) 이외의 방향으로 반사시킨다. 빔 스플리터(235)로 입사된 광은, 코팅면(235a)에서 반사되어 집광 렌즈(240)로 입사된다. 여기서 빔 스플리터(235) 대신에 편광 빔 스플리터와 사분의일 파장판을 사용할 경우 같은 효과를 볼 수 있다. 한편, 빔 스플리터(235) 이외의 방향으로 반사된 광은 광 차단된 것과 동일하게, 집광 렌즈(240)로 입사하지 못하게 된다.
이와 같이 집광렌즈(240)에 의하여 집속된 광은 스테이지(250) 상의 포토레지스터(260)로 조사되어, 다양한 주기와 방향을 갖는 회절격자가 형성된다.
제 1 실시예와 마찬가지로 제2,3,4 실시예도, 광 셔터(230,230')에 표시된 개구부 사이의 간격, 개구부들의 위치, 각 개구부의 크기 및 형상을 변화시킴으로써, 다양한 주기와 방향을 갖는 회절격자를 용이하게 제작할 수 있는 효과를 얻을 수 있다. 또한, 이와 같은 광 셔터(230)의 개구부의 제어는, 각 픽셀을 온/오프(on/off) 시킴으로써 간단하게 수행될 수 있기 때문에, 회절격자를 제조하기 위한 시간 및 비용이 감소하는 효과를 얻을 수 있다.
이상 본 발명의 바람직한 실시예들을 중심으로 본 발명을 살펴보았으나, 본 발명이 속한 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기 내용을 바탕으로 본 발명의 범주내에서 다양한 응용 및 변형을 행하는 것이 가능할 것이다.
이상 검토한 바와 같이, 본 발명은 광을 선택적으로 투과시킬 수 있는 광 셔터를 포함하는 바, 기계적 구동이 아니라 전기적 구동 방식에 의해 제어될 수 있고, 광 셔터에서 광이 투과되는 부위, 예를 들어 개구부의 간격, 위치, 크기, 형상 등을 변경시킴으로써 다양한 나노패턴을 용이하게 형성할 수 있는 바, 회절격자를 제조하기 위한 시간 및 비용을 절감할 수 있고 패턴의 제어가 용이하므로, 산업적 효용가치가 우수하다.
도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 광 발생 장치의 모식도이다;
도 2a 내지 도 2e는 광 셔터에 표시되는 개구부의 다양한 패턴을 모식적으로 나타낸 도면이다;
도 3a 내지 도 3e는 도 2a 내지 도 2e의 개구부를 통과한 광에 의해 형성된 회절격자의 패턴을 각각 나타낸 도면이다;
도 4는 본 발명의 제 1 실시예의 일 변형예에 관한 광 발생 장치를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 5는 도 4의 광 발생 장치에서 광 셔터에 의해 형성된 다수의 개구부를 예시적으로 나타내는 도면이다.
도 6은 도 4의 광 발생 장치에 의해 형성된 회절격자의 패턴을 나타내는 도면이다.
도 7은 다수 광원과 다수 광 셔터들의 어레이로 구성된 광 발생 장치를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 8은 본 발명의 제 2 실시예에 관한 광 발생 장치를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 9는 본 발명의 제 3 실시예에 관한 광 발생 장치를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 10은 본 발명의 제 4 실시예에 관한 광 발생 장치를 개략적으로 나타내는 도면이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
100, 101, 200, 201, 202 : 광 발생 장치
110, 210: 광원 120, 220: 빔 익스팬더
130, 230, 230’: 광 셔터 140, 240: 집속 렌즈

Claims (23)

  1. 광원;
    상기 광원으로부터 출력된 광을 확대하여 콜리메이트(collimate) 하는 빔 익스팬더;
    상기 빔 익스팬더를 통과한 광을 선택적으로 투과시켜 적어도 두 개의 광빔을 형성하는 광 셔터; 및
    상기 광 셔터를 투과한 적어도 두 개의 광빔을 동일한 위치에 집속시켜 간섭시키는 집광 렌즈;를 포함하는 광 발생 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 광 셔터의 일부 영역은 상기 빔 익스팬더를 통과한 광을 투과시키고, 상기 광 셔터의 나머지 일부 영역은 상기 빔 익스팬더를 통과한 광을 투과시키지 않는 광 발생 장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 광 셔터는 다수 개의 픽셀로 구성되며, 상기 광 셔터는 상기 픽셀 단위로 온/오프(on/off) 제어를 수행함으로써 광을 선택적으로 투과시키는 광 발생 장치.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 픽셀 단위의 온/오프 제어에 따라, 상기 광 셔터에는 두 개 이상의 광학적 개구부가 형성되며, 상기 빔 익스팬더를 통과한 광은 상기 개구부를 통해 선택적으로 투과되는 광 발생 장치.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 픽셀 단위의 온/오프 제어에 따라, 상기 개구부의 개수, 개구부들 사이의 간격, 개구부의 크기, 개구부의 위치 및 개구부의 형상 중 적어도 하나가 변경 가능한 광 발생 장치.
  6. 제 4 항에 있어서,
    상기 집광 렌즈는 감광성층 위에 광을 집속하며, 집속된 광의 간섭에 의하여 상기 감광성층 위에 형성된 간섭 무늬를 이용하여 회절격자(diffracting grating)의 격자 패턴이 형성되는 광 발생 장치.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 개구부들 사이의 간격에 따라 상기 회절격자의 주기가 제어되는 광 발생 장치.
  8. 제 6 항에 있어서,
    상기 개구부의 위치를 회전시킴에 따라 상기 회절격자의 방향이 제어되는 광 발생 장치.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 광 셔터는 투과형 공간 광 변조기(spatial light modulator)를 포함하는 광 발생 장치.
  10. 제 1 항에 있어서,
    상기 빔 익스팬더는 상기 광원으로부터 출력된 광을 평행광으로 만들어주는 콜리메이팅 렌즈(collimating lens)를 더 포함하는 광 발생 장치.
  11. 제 1 항에 있어서,
    상기 광 발생 장치는 다수 개의 광원 및 다수 개의 광 셔터를 구비하며, 상기 다수 개의 광원 및 다수 개의 광 셔터는 어레이(array) 형태로 배열되는 광 발생 장치.
  12. 광원;
    상기 광원으로부터 출력된 광을 확대하여 콜리메이트(collimate) 하는 빔 익스팬더;
    상기 빔 익스팬더를 통과한 광을 선택적으로 반사시켜 적어도 두 개의 광빔 을 형성하는 광 셔터;
    상기 광 셔터에 의해 반사된 적어도 두 개의 광빔을 동일한 위치에 집속시켜 간섭시키는 집광 렌즈; 및
    상기 빔 익스팬더, 광 셔터 및 집광 렌즈와 각각 대향하는 표면을 가지며, 상기 빔 익스팬더로부터 입사한 광을 광 셔터에 제공하고, 상기 광셔터로부터 입사한 광을 집광 렌즈에 제공하는 빔 스플리터;를 포함하는 광 발생 장치.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 빔 스플리터(beam splitter)와 상기 집광 렌즈 사이에 편광판이 더 구비된 것을 특징으로 하는 광 발생 장치.
  14. 제 12 항에 있어서,
    상기 빔 스플리터(beam splitter)는 편광 빔 스플리터(beam splitter)인 것을 특징으로 하는 광 발생 장치.
  15. 제 12 항에 있어서,
    상기 광 셔터는 LCoS(Liquid Crystal on Silicon) 및 DMD(digital micromirror device) 중 적어도 하나를 포함하는 광 발생 장치.
  16. 나노 패턴을 제작하기 위한 광 발생 장치에 있어서,
    상기 광 발생 장치는, 다수 개의 픽셀로 구성된 광 셔터를 픽셀 단위로 온/오프(on/off) 제어하여 광을 선택적으로 반사 또는 투과시키며, 상기 광 셔터에 의하여 선택적으로 반사 또는 투과되어 형성된 적어도 두 개의 광의 간섭에 의하여 형성된 간섭 무늬를 감광성층 상이 집속하여 상기 나노 패턴을 제작하는 나노 패턴 제작용 광 발생 장치.
  17. 제 16 항에 있어서,
    상기 광 셔터를 픽셀 단위로 온/오프 제어하여, 상기 광 셔터 상에 광학적 개구부를 형성함으로써, 상기 나노 패턴의 주기 또는 방향을 제어하는 나노 패턴 제작용 광 발생 장치.
  18. (1) 광원으로부터 광이 출력되는 단계;
    (2) 상기 광원으로부터 출력된 광이 확대되어 콜리메이트 되는 단계;
    (3) 상기 콜리메이트 된 광을 선택적으로 반사 또는 투과하여 적어도 두 개의 광 빔을 형성하는 단계; 및
    (4) 상기 적어도 두 개의 광 빔을 동일한 위치에 집속시켜 간섭시키는 단계;를 포함하는 광 발생 장치의 제어 방법.
  19. 제 18 항에 있어서,
    상기 단계(3)은, 다수 개의 픽셀로 구성된 광 셔터에 대하여, 상기 픽셀 단 위로 온/오프(on/off) 제어를 수행함으로써 이루어지는 광 발생 장치의 제어 방법.
  20. 제 18 항에 있어서,
    상기 단계(3)은, 두 개 이상의 광학적 개구부를 형성할 수 있는 광 셔터에 대하여, 상기 개구부로 입사된 광만이 광 셔터를 투과하도록 제어함으로써 수행되는 광 발생 장치의 제어 방법.
  21. 제 20 항에 있어서,
    상기 단계(3)은, 상기 두 개 이상의 개구부들 사이의 간격을 제어하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광 발생 장치의 제어 방법.
  22. 제 20 항에 있어서,
    상기 단계(3)은, 상기 개구부의 위치를 회전시키는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광 발생 장치의 제어 방법.
  23. 제 18 항에 있어서,
    상기 단계(3)은, 빔 스플리터에 의하여 광이 분리되는 단계; 및 상기 분리된 광이 광을 선택적으로 반사시키는 광 셔터에서 반사되는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 광 발생 장치의 제어 방법.
KR1020080089334A 2008-09-10 2008-09-10 광 발생 장치 및 그 제어 방법 KR101560617B1 (ko)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080089334A KR101560617B1 (ko) 2008-09-10 2008-09-10 광 발생 장치 및 그 제어 방법
US12/385,597 US8982323B2 (en) 2008-09-10 2009-04-14 Light generating apparatus and method of controlling the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080089334A KR101560617B1 (ko) 2008-09-10 2008-09-10 광 발생 장치 및 그 제어 방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20100030399A true KR20100030399A (ko) 2010-03-18
KR101560617B1 KR101560617B1 (ko) 2015-10-16

Family

ID=41798992

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020080089334A KR101560617B1 (ko) 2008-09-10 2008-09-10 광 발생 장치 및 그 제어 방법

Country Status (2)

Country Link
US (1) US8982323B2 (ko)
KR (1) KR101560617B1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR200466390Y1 (ko) * 2012-08-30 2013-04-15 최승관 광케이블용 광신호 발생기기

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5621303B2 (ja) * 2009-04-17 2014-11-12 ソニー株式会社 撮像装置
CN102789128B (zh) * 2012-08-21 2014-02-12 北京科技大学 一种制备图案化ZnO纳米棒阵列的方法
DE102013004869B4 (de) * 2013-03-21 2016-06-09 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zur Ausbildung einer Strukturierung an Oberflächen von Bauteilen mit einem Laserstrahl
CN104460115B (zh) * 2014-12-31 2017-09-01 苏州大学 一种多视角像素指向型背光模组及裸眼3d显示装置
CN110119071B (zh) * 2018-02-06 2021-05-28 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 干涉光刻系统、打印装置和干涉光刻方法
DE102018220434A1 (de) * 2018-11-28 2020-05-28 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Optische Anordnung zur Strukturierung von Oberflächen eines Substrates
CN112731776B (zh) * 2021-01-14 2023-06-20 之江实验室 一种双掩膜高通量激光超分辨激光直写方法和装置
KR102394874B1 (ko) * 2021-12-20 2022-05-06 주식회사 에이치비테크놀러지 하나의 광원으로 복수의 결함을 리페어할 수 있는 레이저 리페어 장치
KR102596730B1 (ko) * 2022-02-16 2023-11-02 주식회사 팍스웰 렌즈없는 광학 시스템

Family Cites Families (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4496216A (en) * 1982-12-30 1985-01-29 Polaroid Corporation Method and apparatus for exposing photosensitive material
US4764889A (en) * 1984-12-19 1988-08-16 American Telephone And Telegraph Company, At&T Bell Laboratories Optical logic arrangement with self electro-optic effect devices
US5262879A (en) 1988-07-18 1993-11-16 Dimensional Arts. Inc. Holographic image conversion method for making a controlled holographic grating
US5058992A (en) 1988-09-07 1991-10-22 Toppan Printing Co., Ltd. Method for producing a display with a diffraction grating pattern and a display produced by the method
US5142385A (en) * 1989-07-18 1992-08-25 Massachusetts Institute Of Technology Holographic lithography
US5105215A (en) * 1989-10-02 1992-04-14 General Electric Company Liquid crystal programmable photoresist exposure system
JP2508387B2 (ja) 1989-10-16 1996-06-19 凸版印刷株式会社 回折格子パタ―ンを有するディスプレイの作製方法
US5298365A (en) * 1990-03-20 1994-03-29 Hitachi, Ltd. Process for fabricating semiconductor integrated circuit device, and exposing system and mask inspecting method to be used in the process
US5291317A (en) 1990-07-12 1994-03-01 Applied Holographics Corporation Holographic diffraction grating patterns and methods for creating the same
US5159473A (en) 1991-02-27 1992-10-27 University Of North Carolina Apparatus and method for programmable optical interconnections
JP3475947B2 (ja) 1991-05-21 2003-12-10 セイコーエプソン株式会社 光学装置
US5335044A (en) * 1992-02-26 1994-08-02 Nikon Corporation Projection type exposure apparatus and method of exposure
JP2895703B2 (ja) * 1992-07-14 1999-05-24 三菱電機株式会社 露光装置およびその露光装置を用いた露光方法
JP3171013B2 (ja) 1994-07-28 2001-05-28 凸版印刷株式会社 回折格子からなる物品の作製方法および作製装置
US5759744A (en) * 1995-02-24 1998-06-02 University Of New Mexico Methods and apparatus for lithography of sparse arrays of sub-micrometer features
US5986781A (en) * 1996-10-28 1999-11-16 Pacific Holographics, Inc. Apparatus and method for generating diffractive element using liquid crystal display
SE9800665D0 (sv) * 1998-03-02 1998-03-02 Micronic Laser Systems Ab Improved method for projection printing using a micromirror SLM
JP4214601B2 (ja) 1999-02-24 2009-01-28 ソニー株式会社 ホログラム記録再生装置及びホログラム記録再生方法
US6882477B1 (en) * 1999-11-10 2005-04-19 Massachusetts Institute Of Technology Method and system for interference lithography utilizing phase-locked scanning beams
US6407766B1 (en) 2000-07-18 2002-06-18 Eastman Kodak Company Method and apparatus for printing to a photosensitive media using multiple spatial light modulators
US6624880B2 (en) * 2001-01-18 2003-09-23 Micronic Laser Systems Ab Method and apparatus for microlithography
JP3775250B2 (ja) 2001-07-12 2006-05-17 セイコーエプソン株式会社 レーザー加工方法及びレーザー加工装置
TW529172B (en) * 2001-07-24 2003-04-21 Asml Netherlands Bv Imaging apparatus
EP1947513B1 (en) * 2002-08-24 2016-03-16 Chime Ball Technology Co., Ltd. Continuous direct-write optical lithography
TWI246848B (en) * 2003-07-03 2006-01-01 Fuji Photo Film Co Ltd Image formation device
US7599069B2 (en) 2005-05-06 2009-10-06 The University Of Chicago Vector beam generator using a passively phase stable optical interferometer
US7440078B2 (en) * 2005-12-20 2008-10-21 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method using interferometric and maskless exposure units
KR20070103877A (ko) 2006-04-20 2007-10-25 삼성전자주식회사 고효율 호환 광픽업 장치 및 이를 채용한 광 기록 또는 재생 장치
EP1912212A1 (en) * 2006-10-13 2008-04-16 Thomson Holding Germany GmbH & Co. OHG Apparatus for collinear reading from and/or writing to holographic storage media
US8431328B2 (en) * 2007-02-22 2013-04-30 Nikon Corporation Exposure method, method for manufacturing flat panel display substrate, and exposure apparatus

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR200466390Y1 (ko) * 2012-08-30 2013-04-15 최승관 광케이블용 광신호 발생기기

Also Published As

Publication number Publication date
US20100060876A1 (en) 2010-03-11
US8982323B2 (en) 2015-03-17
KR101560617B1 (ko) 2015-10-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101560617B1 (ko) 광 발생 장치 및 그 제어 방법
US8690341B2 (en) Image projector and an illuminating unit suitable for use in an image projector
TWI464539B (zh) An optical unit, an illumination optical device, an exposure device, and an element manufacturing method
JP4805797B2 (ja) 照明光学システム
JP5528623B2 (ja) インコヒーレント化デバイス、およびこれを用いた光学装置
JP4784262B2 (ja) 照明装置及び画像表示装置
KR100919537B1 (ko) 스펙클을 저감하기 위한 복수의 광원을 구비하는 회절형광변조기를 이용한 디스플레이 장치
KR20090048541A (ko) 조명 광학 장치, 노광 장치 및 디바이스 제조 방법
US8373914B2 (en) Computer generated hologram including plural isotropic and anisotropic cells for forming combined intensity distribution, generation method, and exposure apparatus
US10042173B2 (en) Laser interference lithography system with flat-top intensity profile
US10983389B2 (en) Wire grid polarizer manufacturing method
JP2007258716A (ja) 露光装置、放射供給及びデバイス製造方法
US8437058B2 (en) Computer generated hologram and exposure apparatus to suppress an illumination variation and loss in light
JP6221849B2 (ja) 露光方法、微細周期構造体の製造方法、グリッド偏光素子の製造方法及び露光装置
EP2645404B1 (en) Exposure apparatus
WO2017051443A1 (ja) 露光方法、微細周期構造体の製造方法、グリッド偏光素子の製造方法及び露光装置
WO2014181539A1 (ja) 光学装置
US7775684B2 (en) Wavelength selective element, manufacturing apparatus for manufacturing wavelength selective element, manufacturing method for manufacturing wavelength selective element, light source device, image display device, and monitor
US20070291372A1 (en) System and method to form unpolarized light
JP2012083383A (ja) 露光装置
JP2009104196A (ja) 波長選択素子、波長選択素子の製造装置、波長選択素子の製造方法、光源装置、画像表示装置及びモニタ装置
WO2013042679A1 (ja) 照明光学装置、光学系ユニット、照明方法、並びに露光方法及び装置
CN111373305A (zh) 偏振分光器、面光源装置以及显示装置
KR100871024B1 (ko) 바타입의 회절형 광변조기를 이용한 디스플레이 장치
KR100890290B1 (ko) 개구수에 의존하는 초점심도를 갖는 회절형 광변조기를이용한 디스플레이 장치

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E90F Notification of reason for final refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180917

Year of fee payment: 4