JP4297115B2 - 固体酸触媒の調製法、及び該触媒を用いたラクタム化合物の製造方法 - Google Patents
固体酸触媒の調製法、及び該触媒を用いたラクタム化合物の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4297115B2 JP4297115B2 JP2005516624A JP2005516624A JP4297115B2 JP 4297115 B2 JP4297115 B2 JP 4297115B2 JP 2005516624 A JP2005516624 A JP 2005516624A JP 2005516624 A JP2005516624 A JP 2005516624A JP 4297115 B2 JP4297115 B2 JP 4297115B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- catalyst
- mol
- reaction
- oxime
- oxide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 title claims description 132
- -1 lactam compound Chemical class 0.000 title claims description 41
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 24
- 239000011973 solid acid Substances 0.000 title claims description 22
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 63
- 238000006237 Beckmann rearrangement reaction Methods 0.000 claims description 39
- SCRFXJBEIINMIC-UHFFFAOYSA-N n-cyclododecylidenehydroxylamine Chemical compound ON=C1CCCCCCCCCCC1 SCRFXJBEIINMIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 20
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 18
- RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N Sulphur dioxide Chemical compound O=S=O RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- VEZUQRBDRNJBJY-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone oxime Chemical compound ON=C1CCCCC1 VEZUQRBDRNJBJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 claims description 9
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 9
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 8
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 claims description 7
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 5
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 5
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 5
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 3
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N thallium Chemical compound [Tl] BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 31
- JHWNWJKBPDFINM-UHFFFAOYSA-N Laurolactam Chemical compound O=C1CCCCCCCCCCCN1 JHWNWJKBPDFINM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- AKEJUJNQAAGONA-UHFFFAOYSA-N sulfur trioxide Chemical compound O=S(=O)=O AKEJUJNQAAGONA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 20
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 20
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 18
- GNTDGMZSJNCJKK-UHFFFAOYSA-N divanadium pentaoxide Chemical compound O=[V](=O)O[V](=O)=O GNTDGMZSJNCJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 14
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 14
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 13
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 12
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 11
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 8
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 7
- 239000013335 mesoporous material Substances 0.000 description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 7
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 7
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N benzonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=C1 JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 5
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L sulfate group Chemical group S(=O)(=O)([O-])[O-] QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 238000006462 rearrangement reaction Methods 0.000 description 4
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 4
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JRBPAEWTRLWTQC-UHFFFAOYSA-N dodecylamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCN JRBPAEWTRLWTQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002638 heterogeneous catalyst Substances 0.000 description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 3
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 3
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XPGAWFIWCWKDDL-UHFFFAOYSA-N propan-1-olate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-] XPGAWFIWCWKDDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000003282 rhenium compounds Chemical class 0.000 description 3
- IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N Acetaldehyde Chemical compound CC=O IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIQCNGHVCWTJSM-UHFFFAOYSA-N Dimethyl phthalate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OC NIQCNGHVCWTJSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CHPZKNULDCNCBW-UHFFFAOYSA-N gallium nitrate Chemical compound [Ga+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O CHPZKNULDCNCBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000002815 homogeneous catalyst Substances 0.000 description 2
- 150000007976 iminium ions Chemical class 0.000 description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OENGSNXUALAIFP-UHFFFAOYSA-N n-cycloheptylidenehydroxylamine Chemical compound ON=C1CCCCCC1 OENGSNXUALAIFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YGNXYFLJZILPEK-UHFFFAOYSA-N n-cyclopentylidenehydroxylamine Chemical compound ON=C1CCCC1 YGNXYFLJZILPEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008707 rearrangement Effects 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011949 solid catalyst Substances 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- IVORCBKUUYGUOL-UHFFFAOYSA-N 1-ethynyl-2,4-dimethoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(C#C)C(OC)=C1 IVORCBKUUYGUOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWPNXBQSRGKSJB-UHFFFAOYSA-N 2-methylbenzonitrile Chemical compound CC1=CC=CC=C1C#N NWPNXBQSRGKSJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002016 Aerosil® 200 Inorganic materials 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CCNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- 241001296405 Tiso Species 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- BTGRAWJCKBQKAO-UHFFFAOYSA-N adiponitrile Chemical compound N#CCCCCC#N BTGRAWJCKBQKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000003570 air Substances 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N aluminium isopropoxide Chemical compound [Al+3].CC(C)[O-].CC(C)[O-].CC(C)[O-] SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N ammonium sulfate Chemical compound N.N.OS(O)(=O)=O BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052921 ammonium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011130 ammonium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 150000008359 benzonitriles Chemical class 0.000 description 1
- KVNRLNFWIYMESJ-UHFFFAOYSA-N butyronitrile Chemical compound CCCC#N KVNRLNFWIYMESJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- WOWHHFRSBJGXCM-UHFFFAOYSA-M cetyltrimethylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C WOWHHFRSBJGXCM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000002734 clay mineral Substances 0.000 description 1
- 229910000428 cobalt oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N cobalt(ii) oxide Chemical compound [Co]=O IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dioxosilane;oxygen(2-);hydrate Chemical compound O.[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3].O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical class COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEPAFCGSDWSTEL-UHFFFAOYSA-N dimethyl malonate Chemical compound COC(=O)CC(=O)OC BEPAFCGSDWSTEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBSAITBEAPNWJG-UHFFFAOYSA-N dimethyl phthalate Natural products CC(=O)OC1=CC=CC=C1OC(C)=O FBSAITBEAPNWJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001826 dimethylphthalate Drugs 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N dodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 229940044658 gallium nitrate Drugs 0.000 description 1
- 238000010574 gas phase reaction Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011964 heteropoly acid Substances 0.000 description 1
- AILKHAQXUAOOFU-UHFFFAOYSA-N hexanenitrile Chemical compound CCCCCC#N AILKHAQXUAOOFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002354 inductively-coupled plasma atomic emission spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 238000004255 ion exchange chromatography Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical class CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003951 lactams Chemical class 0.000 description 1
- 238000004811 liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004692 metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910052901 montmorillonite Inorganic materials 0.000 description 1
- KUVPEPZUXRFFOD-UHFFFAOYSA-N n-cyclodecylidenehydroxylamine Chemical compound ON=C1CCCCCCCCC1 KUVPEPZUXRFFOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBAFMGRTCBZICI-UHFFFAOYSA-N n-cyclononylidenehydroxylamine Chemical compound ON=C1CCCCCCCC1 DBAFMGRTCBZICI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTPUHSVFNHULJH-UHFFFAOYSA-N n-cyclooctylidenehydroxylamine Chemical compound ON=C1CCCCCCC1 KTPUHSVFNHULJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIQAMSTUBSWVEN-UHFFFAOYSA-N n-cycloundecylidenehydroxylamine Chemical compound ON=C1CCCCCCCCCC1 PIQAMSTUBSWVEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940094933 n-dodecane Drugs 0.000 description 1
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002429 nitrogen sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 1
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- XUWHAWMETYGRKB-UHFFFAOYSA-N piperidin-2-one Chemical compound O=C1CCCCN1 XUWHAWMETYGRKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N propionitrile Chemical compound CCC#N FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L sulfite Chemical compound [O-]S([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- HIFJUMGIHIZEPX-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid;sulfur trioxide Chemical compound O=S(=O)=O.OS(O)(=O)=O HIFJUMGIHIZEPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D225/00—Heterocyclic compounds containing rings of more than seven members having one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D225/02—Heterocyclic compounds containing rings of more than seven members having one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J27/00—Catalysts comprising the elements or compounds of halogens, sulfur, selenium, tellurium, phosphorus or nitrogen; Catalysts comprising carbon compounds
- B01J27/02—Sulfur, selenium or tellurium; Compounds thereof
- B01J27/053—Sulfates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Other In-Based Heterocyclic Compounds (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
特に、シクロアルカノンオキシム化合物からベックマン転位反応により対応するラクタム化合物を製造するに際し、温和な反応条件下において高収率でラクタム化合物を製造する触媒の調製法を提供することを課題とする。
本発明で使用する三酸化硫黄は、硫黄を含むものから製造されるものならば、特に制限されない。三酸化硫黄を製造するために使用される硫黄化合物として、例えば、硫黄、SO2、SnOn(n=5〜8)、H2SO4、発煙硫酸、(NH4)2SO4、H2SO3、H2S2On(n=3〜7)、FSO3H、CF3SO3H,ClSO3H、SOCl2、SO2Cl2、及びTiSO4等の金属硫酸塩が挙げられる。これらは単独でも混合して使用しても良い。
好ましくは、常温で気体の二酸化硫黄(SO2)を酸化した三酸化硫黄(SO3)が使用され、SO2の場合、例えば不活性ガス等で希釈したものを使用できる。
酸素酸化については、特に制限されず、純酸素、空気、又は不活性ガス等で希釈したもの等が使用できる。ただし、いずれも含有水分量が少ないものが好ましい。具体的には、導入する気体中の水分量は、好ましくは1000ppm以下、より好ましくは100ppm、さらに好ましくは10ppm以下、最も好ましくは、水分含有量を1ppm以下に制御したものである。
これらの酸化触媒は、その役割から通常は、流す気体に対し、酸化物あるいは水酸化物の上流部に充填される。
これらの元素は2種以上を混合して使用しても何ら、問題はない。
また、これらのシクロアルカノンオキシム化合物は、単独での使用ならびに2種以上を混合して使用しても何ら問題はない。
次に、本発明において使用した酸化物の合成方法を説明する。
テトラエチルオルトシリケート200mmolと70wt%ジルコニウムプロポキシド/プロパノール溶液10mmolを混合し室温で1分攪拌した。得られた溶液(1)を、ドデシルアミン60mmolとエタノール1.3molと水7.2molの混合液(2)に加えて室温で1時間激しく攪拌した。生成した白色ゲルを室温で113時間熟成させた後、白色固体を濾取して水及びエタノールで洗浄し、105℃で24時間乾燥した。次いで、空気中、室温から600℃まで5℃/分で昇温して、600℃で1時間焼成した。X線回折測定(Cu−Kα線)及び窒素吸着測定による窒素吸着等温線から、得られた複合酸化物がメソ多孔体であることを確認した。比表面積は993m2/gであった。この複合酸化物についてICP分析を行ったところ、Si/Zr(原子比)=16であった。以下、これをZr−MS−16と略記する。
70wt%ジルコニウムプロポキシド/プロパノール溶液を2mmolに変えたほかは固体酸化物製造例1と同様に複合酸化物を調製した。X線回折測定から、得られた複合酸化物がメソ多孔体であることを確認した。Si/Zr(原子比)=87であった。以下、これをZr−MS−87と略記する。
テトラエチルオルトシリケート200mmolとエタノール1.3molとイソプロパノール200mmolを混合し、これに硝酸ガリウム4.0mmolを加えて室温で20分攪拌した。得られた混合液(1)を、ドデシルアミン60mmolと水7.2molの混合液(2)に加えて室温で1時間激しく攪拌した。生成した白色ゲルを室温で113時間熟成させた後、白色固体を濾取して水及びエタノールで洗浄し、105℃で24時間乾燥した。次いで、空気中、室温から600℃まで5℃/分で昇温して、600℃で1時間焼成した。X線回折測定から、得られた複合酸化物がメソ多孔体であることを確認した。Si/Ga(原子比)=50であった。以下、これをGa−MS−50と略記する。
テトラエチルオルトシリケート200mmolとエタノール1.3molとイソプロパノール200mmolを混合し、これにアルミニウムイソプロポキシド4.0mmolを加えて70℃で20分攪拌した。得られた混合液(1)を、ドデシルアミン60mmolと水7.2molの混合液(2)に加えて室温で1時間激しく攪拌した。生成した白色ゲルを室温で113時間熟成させた後、白色固体を濾取して水及びエタノールで洗浄し、105℃で24時間乾燥した。次いで、空気中、室温から600℃まで5℃/分で昇温して、600℃で1時間焼成した。X線回折測定から、得られた複合酸化物がメソ多孔体であることを確認した。Si/Al(原子比)=50であった。以下、これをAl−MS−50と略記する。
70wt%ジルコニウムプロポキシド/プロパノール溶液を加えなかったほかは固体酸化物製造例1と同様に酸化物を調製した。X線回折測定から、得られた酸化物がメソ多孔体であることを確認した。以下、これをMSと略記する。
珪酸ナトリウム溶液(27%SiO2、14%NaOH)23.0gと25%セチルトリメチルアンモニウムクロリド溶液20gを激しく攪拌しながら混合し、この混合液のpHが8.5になるよう1規定塩酸を加えた。これを室温で3時間攪拌した後、オートクレーブに仕込み、100℃で16時間保持した。冷却後、固体を濾取し、水で洗浄した後、空気中85℃で乾燥した。乾燥物を空気気流下200℃で2時間、さらに540℃で6時間焼成した。得られた酸化物は、X線回折測定において、MCM41と同様の回折パターンを示した。以下、これをMCM41と略記する。
さらに、三酸化硫黄については、反応装置の出口に水バブラーを設置し、反応ガスを硫酸イオンとし、イオンクロマトグラフ分析装置(IC7000S型:横川電機社製)を用いて確認した。
石英製ガラス管の下層にZr−MS−16(酸化物)を0.6g、上層に7wt%五酸化バナジウム/シリカ触媒(酸化触媒)8gを充填し、40ml/分の窒素ベース5000ppmSO2ガスと100ml/分のG2グレード純空気(JFP製品規格)の混合ガスと、420℃において18時間接触させた。なお、前処理として空気(100ml/分)気流下600℃で30分、後処理として空気(100ml/分)気流下420℃で1時間焼成をそれぞれ行った。得られた触媒の硫黄含有量は、2.2重量%であった。なお、比表面積は828m2/gであった。
Zr−MS−16の2gを10mlの1規定H2SO4水溶液に浸し、濾過した後、105℃で24時間乾燥した。この乾燥物を空気中、室温から400℃まで5℃/分で昇温して、400℃で3時間焼成した。得られた触媒の比表面積は579m2/gであった。
触媒を無処理のZr−MS−16に変えたほかは、実施例1と同様にベックマン転位反応を行った。その結果、シクロドデカノンオキシムの転化率は26.1モル%、ラウロラクタムの収率は19.3モル%であった。
7wt%五酸化バナジウム/シリカ触媒を10wt%酸化銅/シリカ触媒に変えたほかは、実施例1と同様に触媒を調製し、該調製触媒を用いてベックマン転位反応を行った。その結果、シクロドデカノンオキシムの転化率は87.2モル%、ラウロラクタムの収率は79.8モル%であった。
7wt%五酸化バナジウム/シリカ触媒を10wt%酸化鉄/シリカ触媒に変えたほかは、実施例1と同様に触媒を調製し、該調製触媒を用いてベックマン転位反応を行った。その結果、シクロドデカノンオキシムの転化率は75.2モル%、ラウロラクタムの収率は72.0モル%であった。
7wt%五酸化バナジウム/シリカ触媒を10wt%酸化コバルト/シリカ触媒に変えたほかは、実施例1と同様に触媒を調製し、該調製触媒を用いてベックマン転位反応を行った。その結果、シクロドデカノンオキシムの転化率は39.4モル%、ラウロラクタムの収率は36.7モル%であった。
7wt%五酸化バナジウム/シリカ触媒を10wt%酸化ニッケル/シリカ触媒に変えたほかは、実施例1と同様に触媒を調製し、該調製触媒を用いてベックマン転位反応を行った。その結果、シクロドデカノンオキシムの転化率は25.4モル%、ラウロラクタムの収率は23.4モル%であった。
7wt%五酸化バナジウム/シリカ触媒を充填しなかったほかは、実施例1と同様に触媒を調製し、該調製触媒を用いてベックマン転位反応を行った。その結果、シクロドデカノンオキシムの転化率は18.5モル%、ラウロラクタムの収率は14.8モル%であった。
7wt%五酸化バナジウム/シリカ触媒を16gに、5000ppmSO2ガスの流量を100ml/分に、G2グレード純空気(JFP製品規格)の流量を250ml/分に、接触時間を9時間にそれぞれ変えたほかは、実施例1と同様に触媒を調製し、該調製触媒を用いてベックマン転位反応を行った。その結果、シクロドデカノンオキシムの転化率は94.0モル%、ラウロラクタムの収率は86.6モル%であった。
7wt%五酸化バナジウム/シリカ触媒を8gに変えたほかは、実施例6と同様に触媒を調製し、該調製触媒を用いてベックマン転位反応を行った。その結果、シクロドデカノンオキシムの転化率は61.7モル%、ラウロラクタムの収率は56.9モル%であった。
酸化物をZr−MS−87に変えたほかは、実施例1と同様に触媒を調製し、該調製触媒を用いてベックマン転位反応を行った。その結果、シクロドデカノンオキシムの転化率は76.1モル%、ラウロラクタムの収率は71.4モル%であった。なお、触媒の硫黄含有量は、2.1重量%であった。
触媒を無処理のZr−MS−87に変えたほかは、実施例1と同様にベックマン転位反応を行った。その結果、シクロドデカノンオキシムの転化率は5.3モル%、ラウロラクタムの収率は2.0モル%であった。
酸化物をGa−MS−50に変えたほかは、実施例1と同様に触媒を調製し、該調製触媒を用いてベックマン転位反応を行った。その結果、シクロドデカノンオキシムの転化率は97.8モル%、ラウロラクタムの収率は93.3モル%であった。なお、触媒の硫黄含有量は、2.1重量%であった。
酸化物をGa−MS−50に変えたほかは、比較例1と同様に触媒を調製し、該調製触媒を用いてベックマン転位反応を行った。その結果、シクロドデカノンオキシムの転化率は55.3モル%、ラウロラクタムの収率は48.2モル%であった。
触媒を無処理のGa−MS−50に変えたほかは、実施例1と同様にベックマン転位反応を行った。その結果、シクロドデカノンオキシムの転化率は18.7モル%、ラウロラクタムの収率は12.3モル%であった。
酸化物をAl−MS−50に変えたほかは、実施例1と同様に触媒を調製し、該調製触媒を用いてベックマン転位反応を行った。その結果、シクロドデカノンオキシムの転化率は90.9モル%、ラウロラクタムの収率は86.4モル%であった。なお、触媒の硫黄含有量は、2.0重量%であった。
酸化物をAl−MS−50に変えたほかは、比較例1と同様に触媒を調製し、該調製触媒を用いてベックマン転位反応を行った。その結果、シクロドデカノンオキシムの転化率は33.4モル%、ラウロラクタムの収率は32.0モル%であった。
触媒を無処理のAl−MS−50に変えたほかは、実施例1と同様にベックマン転位反応を行った。その結果、シクロドデカノンオキシムの転化率は27.9モル%、ラウロラクタムの収率は27.3モル%であった。
酸化物を予め空気中600℃で2時間焼成したβ−ゼオライト(UOP社製)に変えたほかは、実施例1と同様に触媒を調製し、該調製触媒を用いてベックマン転位反応を行った。その結果、シクロドデカノンオキシムの転化率は92.4モル%、ラウロラクタムの収率は89.1モル%であった。なお、触媒の硫黄含有量は、3.0重量%であった。
酸化物を予め空気中600℃で2時間焼成したβ−ゼオライト(UOP社製)に変えたほかは、比較例1と同様に触媒を調製し、該調製触媒を用いてベックマン転位反応を行った。その結果、シクロドデカノンオキシムの転化率は23.1モル%、ラウロラクタムの収率は19.5モル%であった。
触媒を無処理の予め空気中600℃で2時間焼成したβ−ゼオライト(UOP社製)に変えたほかは、実施例1と同様にベックマン転位反応を行った。その結果、シクロドデカノンオキシムの転化率は26.5モル%、ラウロラクタムの収率は23.8モル%であった。
酸化物をMSに変えたほかは、実施例1と同様に触媒を調製し、該調製触媒を用いてベックマン転位反応を行った。その結果、シクロドデカノンオキシムの転化率は49.4モル%、ラウロラクタムの収率は45.8モル%であった。なお、触媒の硫黄含有量は、1.3重量%であった。
酸化物をMSに変えたほかは、比較例1と同様に触媒を調製し、該調製触媒を用いてベックマン転位反応を行った。その結果、シクロドデカノンオキシムの転化率は17.9モル%、ラウロラクタムの収率は7.3モル%であった。なお、触媒中に硫黄は検出されなかった。
触媒を無処理のMSに変えたほかは、実施例1と同様にベックマン転位反応を行った。その結果、シクロドデカノンオキシムの転化率は10.2モル%、ラウロラクタムの収率は1.7モル%であった。
酸化物をMCM41、0.7gに変えたほかは、実施例1と同様に触媒を調製し、該調製触媒を用いてベックマン転位反応を行った。その結果、シクロドデカノンオキシムの転化率は83.4モル%、ラウロラクタムの収率は76.3モル%であった。なお、触媒の硫黄含有量は、1.8重量%であった。
酸化物をアエロジル200(日本アエロジル社製)、0.7gに変えたほかは、実施例1と同様に触媒を調製し、該調製触媒を用いてベックマン転位反応を行った。その結果、シクロドデカノンオキシムの転化率は21.7モル%、ラウロラクタムの収率は18.7モル%であった。なお、触媒の硫黄含有量は、0.5重量%であった。
酸化物をCARIACT Q−30(富士シリシア化学社製)、1.2gに変えたほかは、実施例1と同様に触媒を調製し、該調製触媒を用いてベックマン転位反応を行った。その結果、シクロドデカノンオキシムの転化率は12.8モル%、ラウロラクタムの収率は9.9モル%であった。なお、触媒の硫黄含有量は、0.4重量%であった。
酸化物を、水酸化物である水酸化アルミニウム、1.6gに変え、前処理を行わなかったほかは、実施例1と同様に触媒を調製し、該調製触媒を用いてベックマン転位反応を行った。その結果、シクロドデカノンオキシムの転化率は12.5モル%、ラウロラクタムの収率は8.0モル%であった。なお、触媒の硫黄含有量は、9.8重量%であった。
酸化物を、水酸化物である水酸化ジルコニウム、3.0gに変え、前処理を行わなかったほかは、実施例1と同様に触媒を調製し、該調製触媒を用いてベックマン転位反応を行った。その結果、シクロドデカノンオキシムの転化率は37.2モル%、ラウロラクタムの収率は32.3モル%であった。なお、触媒の硫黄含有量は、0.8重量%であった。
Claims (5)
- 管の下層部にチタン、ジルコニウム、亜鉛、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、ゲルマニウム、スズ、鉛及び珪素の酸化物及び水酸化物からなる群より選ばれる少なくとも1化合物を、その上層部に酸素で二酸化硫黄を酸化する能力を有する、バナジウム、銅、鉄、コバルト又はニッケルからなる群より選ばれる少なくとも1元素を含有する触媒を存在させ、420〜700℃の温度で、二酸化硫黄と酸素とを含む気体と接触させてBET比表面積が700m 2 /g以上の固体酸触媒を調製し、この固体酸触媒の存在下、液相反応により、シクロアルカノンオキシム化合物からベックマン転位反応により対応するラクタム化合物を製造することを特徴とするラクタム化合物の製造方法。
- 酸素で二酸化硫黄を酸化する能力を有する触媒が、バナジウム、銅及び鉄からなる群より選ばれる少なくとも1元素を含有する触媒である請求項1記載のラクタム化合物の製造方法。
- 酸化物が、珪素を含む複合酸化物であることを特徴とする請求項1又は2記載のラクタム化合物の製造方法。
- ベックマン転位反応を
(1)液相にて、
(2)反応温度30〜350℃で、
おこなうことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項記載のラクタム化合物の製造方法。 - シクロアルカノンオキシム化合物が、シクロドデカノンオキシム及び/又はシクロヘキサノンオキシムである請求項1〜4のいずれか1項記載のラクタム化合物の製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003430960 | 2003-12-25 | ||
JP2003430960 | 2003-12-25 | ||
PCT/JP2004/019298 WO2005063388A1 (ja) | 2003-12-25 | 2004-12-24 | 固体酸触媒の調製法、及び該触媒を用いたラクタム化合物の製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009010849A Division JP4760917B2 (ja) | 2003-12-25 | 2009-01-21 | 固体酸触媒の調製方法、及び該触媒を用いたラクタム化合物の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2005063388A1 JPWO2005063388A1 (ja) | 2007-12-20 |
JP4297115B2 true JP4297115B2 (ja) | 2009-07-15 |
Family
ID=34736368
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005516624A Expired - Fee Related JP4297115B2 (ja) | 2003-12-25 | 2004-12-24 | 固体酸触媒の調製法、及び該触媒を用いたラクタム化合物の製造方法 |
JP2009010849A Expired - Fee Related JP4760917B2 (ja) | 2003-12-25 | 2009-01-21 | 固体酸触媒の調製方法、及び該触媒を用いたラクタム化合物の製造方法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009010849A Expired - Fee Related JP4760917B2 (ja) | 2003-12-25 | 2009-01-21 | 固体酸触媒の調製方法、及び該触媒を用いたラクタム化合物の製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP4297115B2 (ja) |
WO (1) | WO2005063388A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100463718C (zh) * | 2005-10-21 | 2009-02-25 | 哈尔滨工业大学 | 促进乳酸铵酯化反应的二元催化体系中磁性固体酸催化剂的制备方法 |
CN109516941B (zh) * | 2017-09-20 | 2020-08-28 | 万华化学集团股份有限公司 | 一种十二内酰胺的生产方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5731660A (en) * | 1980-08-01 | 1982-02-20 | Toray Ind Inc | Beckmann rearrangement of cycloalkanone oxime |
US4407729A (en) * | 1981-10-21 | 1983-10-04 | Monsanto Company | Catalysts |
EP0539277B1 (fr) * | 1991-10-25 | 1996-01-10 | Institut Francais Du Petrole | Utilisation d'un catalyseur en alkylation de paraffines |
WO1996041678A1 (en) * | 1995-06-08 | 1996-12-27 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Vanadium-containing catalyst, process for the production thereof, and use thereof |
DE19857314A1 (de) * | 1997-12-12 | 2000-02-03 | Sec Dep Of Science And Technol | Stark saurer mensoporöser synergistischer Festkörper-Katalysator und Verwendung desselben |
RU2160156C1 (ru) * | 1999-12-28 | 2000-12-10 | Закрытое акционерное общество "Катализаторная компания" | Высококремнеземистый носитель, катализатор для гетерогенных реакций и способ его получения |
-
2004
- 2004-12-24 WO PCT/JP2004/019298 patent/WO2005063388A1/ja active Application Filing
- 2004-12-24 JP JP2005516624A patent/JP4297115B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2009
- 2009-01-21 JP JP2009010849A patent/JP4760917B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4760917B2 (ja) | 2011-08-31 |
JP2009131847A (ja) | 2009-06-18 |
WO2005063388A1 (ja) | 2005-07-14 |
JPWO2005063388A1 (ja) | 2007-12-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2528339C2 (ru) | Способ карбонилирования | |
Anilkumar et al. | New non-zeolitic Nb-based catalysts for the gas-phase Beckmann rearrangement of cyclohexanone oxime to caprolactam | |
WO2012137979A1 (en) | Method for obtaining propylene oxide | |
US6989444B2 (en) | Process for producing lactam | |
JP4760917B2 (ja) | 固体酸触媒の調製方法、及び該触媒を用いたラクタム化合物の製造方法 | |
JP4457761B2 (ja) | シクロヘキシルベンゼン製造用触媒及びシクロヘキシルベンゼンの製造方法 | |
JP4525418B2 (ja) | 硫酸化処理された固体酸触媒およびその使用 | |
WO2010067855A1 (en) | Method for producing titanosilicate | |
JP2001019670A (ja) | 転位反応による有機化合物の製造方法 | |
TW201219354A (en) | Method for manufacturing cyclohexanone oxime | |
JP4415580B2 (ja) | ラクタム化合物の製造方法 | |
JP4816505B2 (ja) | ケトン化合物の製造方法 | |
JP4415576B2 (ja) | ラクタム化合物の製造方法 | |
JP2008207156A5 (ja) | ||
JPWO2002068378A1 (ja) | 環状脂肪族オキシムの製造方法 | |
JP4465731B2 (ja) | ε−カプロラクタムの製造方法 | |
JP2001072658A (ja) | アミド化合物の製造方法 | |
JP3969078B2 (ja) | ペンタシル型ゼオライトの製造方法およびε−カプロラクタムの製造方法 | |
JPH1017559A (ja) | 脂肪族エポキシド化合物の製造方法 | |
JP4639781B2 (ja) | アミド化合物の製造方法 | |
JP4687692B2 (ja) | ε−カプロラクタム製造用触媒の再生方法及びε−カプロラクタムの製造方法 | |
JP2004083554A (ja) | ラクタム化合物の製造方法 | |
JP2004352623A (ja) | ラクタム化合物の製造法 | |
WO2021100759A1 (ja) | ε-カプロラクタムの製造方法 | |
JP2003212832A (ja) | 環状脂肪族オキシムを製造する方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080401 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080520 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20081125 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090121 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20081225 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20090209 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090324 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090406 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4297115 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120424 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120424 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120424 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130424 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130424 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140424 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |