JP4294228B2

JP4294228B2 - ポリッシング装置の回転駆動装置

Info

Publication number: JP4294228B2
Application number: JP2001036083A
Authority: JP
Inventors: 宏猷王; 航治川嶋
Original assignee: Nabtesco Corp
Current assignee: Nabtesco Corp
Priority date: 2000-03-27
Filing date: 2001-02-13
Publication date: 2009-07-08
Anticipated expiration: 2021-02-13
Also published as: JP2001341071A; US6910955B2; US20020094763A1

Description

【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、ポリッシング装置の回転駆動装置に関する。より詳しくは、本発明は、半導体のウエーハの端面や液晶ガラスの端面等を平坦化するために用いるポリッシングテーブル、ＣＭＰ（化学的機械的ポリッシング）用テーブルまたはポリッシャの回転駆動装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
半導体ウエーハ等の平坦化にはＣＭＰ（化学的機械的ポリッシング）と言う工法がよく用いられる。簡略的に説明すると、ウエーハを回転テーブルに載置し、ポリッシャによりウエーハを回転テーブルに押し付け、ウエーハと回転テーブルの間に散布したスラリーを介してポリッシングするのである（例えば、特開平８−１６７５８５号公報参照）。
【０００３】
低振動、低騒音でこの回転テーブルおよび／またはポリッシャを回転駆動する必要があり、このために、低速回転のダイレクト駆動モータ（ＤＤモータという）がよく使用されている。すなわち、回転テーブルの中心部の駆動軸をＤＤモータの出力軸と連結する。しかし、従来のＤＤモータ方式の場合は、非常に大きく、重いという問題があった。
【０００４】
加えて、ウエーハサイズの増大（例えば８インチから１２インチに）により、テーブルの駆動には一層大きいトルクを必要とする。このため、その問題は更に深刻化する。すなわち、ＤＤモータは大きなトルクを得るため、モータの体積と重量が大きくなり、必要な電流も大きくなって発熱が増大する。
【０００５】
一方、ＣＭＰではウエーハに高い品位の平坦度を得るため、テーブルの回転速度の変動と振動を厳しく抑えることが重要な課題である。しかし、一般にモータ変動の絶対値はほぼ決まっており、モータ速度の変動率はモータ速度に対する変動の割合であるので、モータ速度が低いＤＤモータにあっては速度の変動率を小さく抑えることが困難である。
【０００６】
これに対して、高速モータとギヤ減速機を使用して駆動装置の小型化を図るとともに速度の変動率を低減する試みもある。例えば、回転テーブルの中心部から駆動軸を下向きに設け、この駆動軸に形成した歯車と駆動モータの出力に取着した歯車を噛合させて、回転テーブルを回転駆動する（例えば、実開昭６２−７８２６０号公報参照）。しかし、ギヤ減速機の歯と歯の噛み合いのために、比較的大きな振動と騒音が発生するという問題が生じる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
上述のように、ＣＭＰテーブル等の駆動装置は、ウエーハの大口径化により、必要とするトルクも大きくなる。一方、半導体ウエーハ等のポリッシング装置は、クリーンルーム内で使用するため、クリーンルーム床の耐荷重制限から装置の軽量化が要求される。
【０００８】
また、ウエーハを高精度に平坦化するため、ポリッシングテーブル、ＣＭＰ用テーブルまたはポリッシャの回転には高い回転精度（回転速度の変動、振動、テーブルの面フレが小さいこと）が厳しく要求される。
【０００９】
更に、ポリッシングテーブル、ＣＭＰ用テーブルまたはポリッシャの温度を制御するため、ポリッシングテーブル、ＣＭＰ用テーブルまたはポリッシャが中空構造であることとともに低発熱であることが必要とされる。
【００１０】
【発明の目的】
本発明は上述した要求を同時に満たすことができるポリッシング装置の回転駆動装置、すなわち、ポリッシングテーブル、ＣＭＰ（化学的機械的ポリッシング）用テーブルまたはポリッシャの回転駆動装置を提供することを目的とする。
【００１１】
より詳しくは、本発明は、大きな出力トルクと高い回転速度精度を有し、且つ、低振動、低騒音で、更に中空であるコンパクトで、軽量なポリッシング、ＣＭＰ用テーブルまたはポリッシャの駆動装置を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明においては、半導体のウエーハの端面や液晶ガラスの端面等を平坦化するために用いるポリッシングテーブル、ＣＭＰ用テーブルまたはポリッシャの回転駆動装置において、外接軸および外接軸の周囲に等配的に配置されて外接軸に外接する複数の中間軸からなるトラクションドライブ減速機を用いてポリッシングテーブル、ＣＭＰ用テーブルまたはポリッシャに回転を伝達することを特徴とするポリッシング装置の回転駆動装置により、上記の目的を達成する。
【００１３】
より詳しくは、本発明は、実施例に示すように、トラクションドライブ減速機が、リング状の中空円筒からなり中心に配設された外接軸、外接軸の周囲に等配的に配置されて外接軸に外接するとともに少なくとも１本が入力軸となっている複数の中間軸、および中間軸が内接する内接円筒からなり、中空円筒外接軸は自由状態の外径が複数の中間軸に外接する円の直径より若干大きく形成されていて中空円筒の変形によって圧接荷重を発生するようになっていることを特徴とするポリッシング装置の回転駆動装置とすることが好ましい。
【００１４】
この場合に、内接円筒が同心状の二重中空リングからなり、二重中空リングの内側リングと外側リングとが連結部材により連結されていることが好ましい。すなわち、内接円筒は外周に複数の凹部を有しており、該凹部に装着したころを介して二重中空リングの外側リング（出力軸）に一体的に係合している。これにより、真円であった浮動リング（中空リング状内接円筒）の形状は、その弾性域において波状に変形して圧接力を発生し、ポリッシングテーブル、ＣＭＰ用テーブルまたはポリッシャの回転には高い回転精度（回転速度の変動、振動、テーブルの面フレが小さいこと）が達成でき、ウエーハを高精度に平坦化することができる。
【００１５】
更に、本発明においては、実施例に示すように、内接円筒がポリッシングテーブル、ＣＭＰ用テーブルまたはポリッシャにピンまたはキーにより連結されていることが好ましい。より具体的には、内接円筒が主軸受の内輪となっており、主軸受が２列のアンギュラ玉軸受からなり、主軸受の外輪がポリッシング装置のハウジングに一体化されていることが構造がコンパクトとなり、クリーンルーム床の耐荷重制限にたえ、クリーンルーム内で使用する半導体ウエーハ等のポリッシング装置として、軽量化が達成でき好ましい。
【００１６】
更に、本発明においては、実施例に示すように、入力軸に電気モータが連結されており、入力軸が外接軸の中心から電気モータの半径より大きくオフセットしていることにより、ポリッシングテーブル、ＣＭＰ用テーブルまたはポリッシャを中空構造とでき、ポリッシングテーブル、ＣＭＰ用テーブルまたはポリッシャの温度を制御することができる。
【００１７】
また、別の実施例に示すように、本発明は、中心に配設されるとともに入力軸となっている外接軸、外接軸の周囲に等配的に配置された複数の中間軸、および中間軸が内接する内接円筒からなり、中間軸または内接円筒から出力を取出すようになっているポリッシング装置の回転駆動装置としてもよい。。
【００１８】
この場合に、外接軸がポリッシングテーブル、ＣＭＰ用テーブルまたはポリッシャの回転中心から偏心して設けられ、複数の中間軸を回転可能に具備した出力軸が外接軸の軸線上に設けられており、出力軸が前記ポリッシングテーブル、ＣＭＰ用テーブルまたはポリッシャに動力伝達部材により連結されていることが好ましい。動力伝達部材としては歯付きベルト等を用いることができる。また、入力軸となっている外接軸には電気モータが連結されていればよい。
【００１９】
前述したように、ＤＤモータは大きなトルクを得るため、モータの体積と重量が大きくなり、必要な電流も大きくなって発熱が増大する。これに対して、本発明によれば、高速モータ（１０００ｒｐｍ以上）を使用し、特殊構造の減速機を介して出力トルクを減速比Ｒ倍に拡大して取出すことにより、コンパクトで大トルクを得られる。
【００２０】
また、前述したように、ポリッシングテーブル、ＣＭＰ用テーブルまたはポリッシャではウエーハの高い品位の平坦度を得るため、テーブルの回転速度の変動と振動を厳しく抑えることが重要な課題である。本発明においては、上述した構成からなる特別の減速機構を用いることにより、この課題を達成することができる。
【００２１】
【実施例】
以下、本発明の実施例を図示した図面を参照して本発明を詳細に説明する。図１は、本発明をＣＭＰテーブルに適用した一実施例の断面図であり、図２は図１の２−２断面を示す。
【００２２】
図１において、テーブル１０は、その上に半導体のウエーハや液晶ガラス等が載置され、上からポリッシャ（図示せず）で押圧されて、ウエーハの端面や液晶ガラスの端面等を平坦化するために用いられる。テーブル１０はフレーム１１の上に載置されており、後述するように、トラクションドライブ減速機２０を介して、駆動モータ１により水平面内で回転可能である。
【００２３】
本発明に係る回転駆動装置の一実施例を図２を参照して説明する。リング状の中空円筒からなる外接軸５がキャリア４（図１）によってテーブル１０の回転中心位置に配設されている。外接軸５の周囲に複数（図２では３個）の中間軸２が等配的に配置されており、図１に示すように、軸受１３を介して、キャリア４に回転可能に支承されている。各中間軸２は、外接軸５に外接している。従って、中間軸２の各軸心はリング状の中空円筒からなる外接軸５の軸心からオフセットしている。このオフセット量は、後述する駆動モータ１の半径より大きくしている。
【００２４】
図１に示すように、電気モータからなる駆動モータ１がボルト１４によりフレーム１１に取着され、駆動モータ１の出力軸１ａは垂直となっている。中間軸２のうちの１本は、駆動モータ１の出力軸１ａにスプライン（図示せず）結合されており、この中間軸２はＣＭＰテーブルの回転駆動力の入力軸となっている。
【００２５】
上述したように中間軸２の位置は、駆動モータ１の半径より大きくオフセットしており、テーブルの中心部にリング状の中空円筒からなる外接軸５が位置しており、テーブル１０の中心部にキャリア４により薄肉円筒１６を支持して中空構造としており、この中空部にジョイント３を通し、ポリッシングテーブル、ＣＭＰ用テーブルまたはポリッシャの温度を制御する。
【００２６】
再び図２を参照して、前述した複数の中間軸２の外周が、内接円筒６の内周面に内接している。本実施例において、内接円筒６と同心状の中空リングからなる出力軸８が内接円筒６の外側に設けられ、内接円筒６と出力軸８とによって同心状の二重中空リングが構成されている。
【００２７】
二重中空リングの内側リング（内接円筒６）の外周面と外側リング（出力軸８）の内周面の対応する位置に多数の凹部が形成され、内側リング（内接円筒６）と外側リング（出力軸８）との間の凹部に多数のころ１２が連結部材として装着されている。従って、内側リング（内接円筒６）と外側リング（出力軸８）とはころ１２により連結されており、内側リング（内接円筒６）の半径方向の変形を許容するとともに、回転に対しては内側リング（内接円筒６）と外側リング（出力軸８）からなる二重中空リングは一体となっている。
【００２８】
ここに、リング状の中空円筒からなる外接軸５は特別な支持ベアリングを設けることなく複数の中間軸２によって保持されて浮動リングとなっている。そして、中空円筒外接軸５は自由状態の外径が複数の中間軸２に外接する円の直径より若干大きく形成されていて、中空円筒外接軸５、中間軸２および内接円筒６の組み込み状態において、中空円筒外接軸５および内接円筒６の変形によって圧接荷重を発生するようになっている。
【００２９】
二重中空リングの外側リング（出力軸８）は主軸受の内輪となっており、ケース１７が主軸受の外輪となっている。従って、外側リング（出力軸８）、ケース１７およびその間に装着された軸受ボール７によって上下２列のアンギュラ玉軸受からなる主軸受が構成されている。その結果、ころ１２を介して内側リング（内接円筒６）と連結された外側リング（出力軸８）は、ケース１７に対して回転可能である。
【００３０】
ケース１７は前述したフレーム１１上にピンまたはキー１５により固定されている。一方、外側リング（出力軸８）はフランジ９、ボルト１８を介して前述したテーブル１０に取着されている。なお、符号１９は隣接する中間軸２の間に設けられた支持部材であり、キャリア４の剛性を高めている。
【００３１】
上記の構成からなる本発明の実施例においては、内接円筒６および外接軸５はリング状中空円筒であり、弾性域内において自由変形できるように浮動している構造、すなわち軸受の支持がない状態で中間軸２により保持されている。なお、リング状の中空円筒からなる外接軸５および内接円筒６の寸法、材質は中間軸２に外接または内接して所望の圧接力を生じるとともに繰返し応力により疲労しないように適宜選定している。
【００３２】
すなわち、外接軸５は一方の浮動リングとして作用するので、この浮動リング（中空外接軸５）は自由状態の外径が中間軸２に外接する円の直径より若干大きく形成されている。この浮動リングを複数の中間軸２に外接するように中心に組み込む。これにより、真円であった浮動リング（中空外接軸５）の形状は、その弾性域において波状に変形して圧接力を発生する。なお、この場合に、浮動リングの変形により生じる波の数は、中間軸２の数に等しくなる。
【００３３】
また、内接円筒６を他方の浮動リングとしており、この浮動リング（中空リング状内接円筒６）の自由状態の内径は、複数の中間軸２が内接する円の直径より若干小さく形成されている。複数の中間軸２が浮動リングに内接するように、この浮動リングを中間軸２の外側に組み込んでいる。
【００３４】
駆動モータ１を回転させると、その出力軸１ａの回転が中間軸２に伝えられ、中間軸２の回転はトラクション力によって内接円筒６に伝えられ、内接円筒６と中間軸２との半径比で中間軸２のトルクが増大される。この場合に、本実施例では歯と歯の噛合いがないのでスムーズな減速回転が実現できる。
【００３５】
また、図２に示すように中間軸２に対して外接円筒（外接軸）５が突張る荷重と内接円筒６の絞る荷重とをつり合わせて中間軸２、外接円筒（外接軸）５および内接円筒６の間をバランス状態に保ち、内部の加圧荷重が中間軸２を支持するベースや主軸受に余計なアンバランス力、或いは変形を与えないために装置全体の振動と騒音を著しく減少する。
【００３６】
更に、最内側中央の外接軸５の変形による圧接力が中間軸２および内接円筒６に作用し、内接円筒６が振れてその回転精度が低下する心配の対策として、本実施例においては、内接円筒６が同心状の二重中空リングからなり、二重中空リングの内側リング６と外側リング８とが連結部材（ころ１２）により連結されていてもよい。これにより、リング状の中空円筒からなる外接軸５の変形に起因する該内側リングの変形が外側リングに伝わり難くなり、内接円筒６の回転精度が向上する
すなわち、トラクション力を得るための加圧荷重がベースとケーシングに伝わらないので、主軸受をトラクション機構の近くに配置しても、主軸受の回転精度に悪影響を及ぼすことなく、扁平型の駆動装置が得られる。
【００３７】
更に、電気モータは減速機の回転軸中心からモータ半径より大きくオフセットして配置し中空構造を設けた。その中空構造部にテーブルの温度を制御するためのジョイントを通すことによって温度制御が簡単にできる。
【００３８】
テーブルの回転主軸受の内外輪はそれぞれ出力軸のケーシングと一体であり、厚い肉厚で高精度、高剛性を実現することができる。
【００３９】
以上のことで大きな出力トルクと高い回転速度精度があり、且つ、低振動、低騒音で、中空構造を有するコンパクトで軽量なポリッシングテーブル、ＣＭＰ（化学的機械的ポリッシング）用テーブルまたはポリッシャの回転駆動装置が提供され、すなわち、従来よりコンパクトで優れた回転安定性を持つポリッシング装置の回転駆動装置が実現できる。
【００４０】
本発明の別の実施例を次に説明する。図３は、本発明をＣＭＰテーブルに適用した別の実施例の断面図であり、図４は図３に用いられているトラクション減速機の拡大断面図、図５は図４の５−５断面を示す。
【００４１】
図３において、テーブル１０は円板状をしており、その上に半導体のウエーハや液晶ガラス等が載置され、上からポリッシャ（図示せず）で押圧されて、ウエーハの端面や液晶ガラスの端面等を平坦化するために用いられる。符号１１はフレームを示す。
【００４２】
テーブル１０の中心部から中空軸１０ａが下向きに突出している。中空軸１０ａとフレーム１１の開口１１ａとの間にラジアル軸受２１が装着され、またテーブル１０の下面とフレーム１１の上面との間にスラスト軸受２２が装着されている。テーブル１０は、ラジアル軸受２１およびスラスト軸受２２を介して、フレーム１１の上に垂直軸の回りに回転可能に載置されている。
【００４３】
フレーム１１の内部には、その開口１１ａの中心から偏心した位置に、トラクションドライブ減速機２０が設けられ、トラクションドライブ減速機２０には駆動モータ１が連結されている。
【００４４】
前述したフレーム１１の中空軸１０ａの下端部に中空プーリ１０ｂが形成され、トラクションドライブ減速機２０の出力軸２３に中実プーリ２４が取着され、中空プーリ１０ｂと中実プーリ２４との間に歯付きベルトのような伝導部材２５が係合されている。従って、テーブル１０は、駆動モータ１からトラクションドライブ減速機２０および伝導部材２５を介して水平面内で回転可能である。
【００４５】
なお、トラクションドライブ減速機２０の設置位置の偏心量は、トラクションドライブ減速機２０の半径または駆動モータ１の半径のうち大きいものより、大きくしており、フレーム１１の開口１１ａの下方が開いた状態として、このテーブル１０の中空軸１０ａ内にジョイント３を通し、ポリッシングテーブル、ＣＭＰ用テーブルまたはポリッシャの温度を制御可能としている。
【００４６】
本実施例のトラクションドライブ減速機２０の詳細を図４および図５を参照して説明する。駆動モータ１の出力軸１ａに外接軸５がスプライン結合２６され、外接軸５は出力軸１ａと同軸上に位置している。
【００４７】
一方、トラクションドライブ減速機２０の出力軸２３は下端部２３ａが円板状となっている。また、キャリア４も円板状となっている。出力軸２３の円板状下端部２３ａと円板状キャリア４はボルト３１により一体的に連結されている。トラクションドライブ減速機２０の外接軸５は、上下の軸受４１を介して、上述の如く一体的に連結された出力軸２３およびキャリア４に回転可能に支承されてトラクションドライブ減速機２０の回転中心に位置している。
【００４８】
出力軸２３の円板状下端部２３ａには、その中心の周囲に複数（図５では３個）の孔２３ｂが等配的に形成されている。中間軸支持軸２ａの頭部が孔２３ｂに挿入され、中間軸支持軸２ａの下端がボルト３２によりキャリア４に固定されており、出力軸２３とキャリア４との間において、外接軸５の周囲に複数（図５では３個）の中間軸支持軸２ａが等配的に配置されている。中間軸支持軸２ａに軸受１３を介して中間軸２が回転可能に支承されており、各中間軸２は軸５に外接している。
【００４９】
複数の中間軸２の外周が、内接円筒６の内周面に内接している。本実施例においては、内接円筒６は支持部材１１ａを介してフレーム１１に固定されている。前述したように一体的に連結された出力軸２３およびキャリア４は、上下の軸受４２を介して支持部材１１ａの内側に回転可能に支承されている。
【００５０】
上述したスプライン結合２６と下側の軸受４１との間において、外接軸５と駆動モータカバー１ｂとの間にオイルシール５１が設けられている。また、オイルシール５１の半径方向外側の駆動モータカバー１ｂに凹部１ｃが形成されて、トラクションドライブ減速機２０内で発生する摩耗粉の貯溜部が形成されている。なお、５２は着脱可能なボルトであり、ボルト５２を外して貯溜凹部１ｃに溜まった摩耗粉を除去可能としている。
【００５１】
オイルシール５１を損傷することなく摩耗粉が貯溜凹部１ｃへ移行するようにするために、下側の内側軸受４１をシール付き軸受とするとともに下側の外側軸受４２をシールなし軸受としてもよいし、図６（ａ）に示すように両軸受４１、４２をシールなし軸受とするとともにキャリア４に摩耗粉通過用の孔４ａを形成してもよい。更に、図６（ｂ）に示すようにキャリア４に摩耗粉通過用の孔４ａを形成するとともに、下側の内側軸受４１をシール付き軸受とし下側の外側軸受４２をシールなし軸受としてもよいし、または、図６（ｃ）に示すように両軸受４１、４２をシール付き軸受としてもよい。
【００５２】
本実施例においては、駆動モータ１の出力軸１ａの回転はトラクションドライブ減速機２０の外接軸５に伝達される。この際に、内接円筒６がフレーム１１に固定されているため、外接軸５の回転がトラクションドライブ減速機２０の中間軸２、内接円筒６を経て減速されて出力軸２３に伝達される。出力軸２３に取着された中実プーリ２４から歯付きベルトのような伝導部材２５を経て中空プーリ１０ｂに回転が伝達され、テーブル１０は水平面内で回転される。
【００５３】
以上のことにより、大きな出力トルクと高い回転速度精度があり、且つ、低振動、低騒音で、中空構造を有するコンパクトで軽量なポリッシングテーブル、ＣＭＰ（化学的機械的ポリッシング）用テーブルまたはポリッシャの回転駆動装置が提供され、すなわち、従来よりコンパクトで優れた回転安定性を持つポリッシング装置の回転駆動装置が実現できる。
【００５４】
以上の実施例においては、本発明をＣＭＰ（化学的機械的ポリッシング）用テーブルの回転駆動装置に適用した実施例につきの説明したが、本発明は、ＣＭＰ用テーブルに限られず、広くポリッシングテーブルやポリッシャの回転駆動装置に適用することができる。
【００５５】
【発明の効果】
本発明によれば、ＣＭＰテーブルの回転トルクの増大に伴う研磨の圧力の向上によって、スループット数を増大させ生産性を向上させる効果があり、また、テーブルの下に簡単に完全に納まるコンパクト化で設置面積を削減できる。軽量化で耐荷重が比較的低いクリーンルーム床へ圧迫を軽減できるとともに、低コストが実現される。優れた回転の安定性がウエーハの均一平坦化に大きく寄与し、ＣＭＰテーブル駆動装置の性能を著しく向上させる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明をＣＭＰテーブルに適用した一実施例の断面図である。
【図２】図１の２−２断面を示す。
【図３】本発明をＣＭＰテーブルに適用した別の実施例の断面図である。
【図４】図３の実施例のトラクションドライブ減速機の拡大断面図である。
【図５】図４の５−５断面を示す。
【図６】（ａ）〜（ｃ）は更に異なるトラクションドライブ減速機の実施例の部分断面図である。
【符号の説明】
１駆動モータ
１ａ出力軸
２中間軸
３ジョイント
４キャリア
５外接軸
６内接円筒
８出力軸
９フランジ
１０テーブル
１０ａ中空軸
１０ｂ中空プーリ
１１フレーム
１２ころ
１３軸受
１４ボルト
１５ピンまたはキー
１６薄肉円筒
１７ケース
２３出力軸
２４中実プーリ
２５歯付きベルト

Claims

半導体のウエーハの端面や液晶ガラスの端面等を平坦化するために用いるポリッシングテーブル、ＣＭＰ用テーブルまたはポリッシャを回転させるポリッシング装置の回転駆動装置において、
リング状の中空円筒からなり中心に配設された外接軸、該外接軸の周囲に等配的に配置されて該外接軸に外接する複数の中間軸、および該中間軸が内接する内接円筒からなるトラクションドライブ減速機を用いて前記ポリッシングテーブル、ＣＭＰ用テーブルまたはポリッシャに回転を伝達しており、
前記中空円筒からなる外接軸は自由状態の外径が複数の中間軸に外接する円の直径より若干大きく形成されていて該中空円筒の変形によって圧接荷重を発生するようになっており、
前記内接円筒は、同心状の内側リングと外側リングとからなり、その間の複数の凹部に装着された連結部材により連結された二重中空リングからなり、
該外側リングは、ポリッシングテーブル、ＣＭＰ用テーブルまたはポリッシャに取着されるとともに、主軸受を介してケースに回転可能に支持されており、
該ケースはポリッシング装置のフレームに固定されていて、
前記外側リングに取着された前記ポリッシングテーブル、ＣＭＰ用テーブルまたはポリッシャが、前記ポリッシング装置の前記フレームに固定された前記ケースに対して回転するようになっていることを特徴とするポリッシング装置の回転駆動装置。
前記内接円筒が主軸受の内輪となっていることを特徴とする請求項１に記載のポリッシング装置の回転駆動装置。
前記主軸受が２列のアンギュラ玉軸受からなり、該主軸受の外輪が前記ポリッシング装置の前記ケースに一体化されていることを特徴とする請求項２に記載のポリッシング装置の回転駆動装置。