JP4272585B2 - 光変調装置、光送信装置及び光変調方法 - Google Patents
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Description
ここで、具体的に、図17に示した例で説明する。図17では、入力光の波長が長波の場合、光のオンレベルが消光カーブ上の最大光出力よりも小さくなっている。通常、マッハツェンダ型光変調器において良好な光変調波形を得るためには、消光カーブ上の最大光出力強度及び最小光出力強度をそれぞれ光のオンレベル、オフレベルに対応させて変調を行う必要がある。これは、この消光カーブの最大光出力強度及び最小光出力強度では、入力電圧Vに対する光出力強度の傾きが零であるため、この入力電圧付近で電圧が変化したとしても光出力に対しては殆ど影響を及ぼさないからである。図17に示した入力光の波長が長波の場合の光のオンレベルは、消光カーブ上の最大光出力でないため、入力電圧Vにノイズや帯域制限等の影響による電圧変化が生じた際に、光のオンレベルを維持できなくなってしまう懸念がある。
本発明者は、広範囲な波長領域の入力光を変調する際に、高周波駆動電源の振幅を可変させて行うことにより生じる種々の問題点、及び入力光の波長に依存して光出力波形の品質劣化が生じるという問題点を解決すべく、以下に示す発明の基本骨子に想到した。
次に、本発明の基本骨子を踏まえた諸実施形態について図面を参照して説明する。また、本発明の光変調装置に係る実施形態として、半導体マッハツェンダ型光変調器を適用して説明を行う。
図3は、本発明の第1の実施形態における半導体マッハツェンダ型光変調器を含む光送信装置の概念図である。
この光送信装置200は、光の波長を可変させて出力する波長可変レーザ装置150と、波長可変レーザ装置150から連続して入射された入力光に対して変調を行う半導体マッハツェンダ型光変調器100とを備えて構成されている。また、波長可変レーザ装置150は、外部制御装置から設定された波長設定に基づいて、マッハツェンダ型光干渉計10に入力する入力光の波長を可変させる。
図6では、入力光の波長を1.53μm〜1.57μmまで変化させたときの特性を示している。また、このときの半導体マッハツェンダ型光変調器における高周波駆動電圧Vpp、変調器に与えるローレベル及びハイレベルの入力電圧、制御対象であるバイアス電圧Vb及び位相調整電圧Vaは前述の表1に示すものとなる。表1から、高周波駆動電圧Vppは各入力光の波長に共通して2.5V供給されており、また、変調器に与えるローレベルの入力電圧とハイレベルの入力電圧との差から入力電圧を2.5V変化させることにより、各アームを伝搬する光の間の位相差として約πの変化量が得られることがわかる。
本発明の第2の実施形態では、光送信装置において、第1の実施形態における波長可変レーザ装置150の替わりに、入力光の波長を固定するDFBレーザ装置を適用する。このDFBレーザ装置からの光の波長はWDMシステムにおける特定の波長チャネルに合わせられ、本実施形態における光送信装置は、この波長チャネルのみで動作するように構成される。本実施形態では、WDMシステムにおける複数の波長チャネルに応じて、入力光の波長を固定させた光送信装置をそれぞれ設けるシステムに適用される。
本発明の第3の実施形態では、プッシュ・プル駆動型の半導体マッハツェンダ型光変調器を適用する。
図8は、本発明の第3の実施形態における半導体マッハツェンダ型光変調器の概略構成図である。また、図8におけるII−II断面は、図5に示したものと同様である。
本実施形態における半導体マッハツェンダ型光変調器では、消光カーブが入力電圧Vが零を起点として、ほぼ点対称になっている。これは、変調光のオンレベルにおいて、各アームに印加される電圧を相互のアームで入れ替えることで、変調光のオフレベルにおいて各アームに印加される電圧と等しくなるという、駆動電圧における対称性に起因している。この場合、消光カーブの非線形を利用した光出力波形の整形効果が変調光のオンレベルとオフレベルとで等しく得られる。そのため、変調光のオンレベルとオフレベルとが対称で良好な光出力波形が得られる。このような効果は、プッシュ・プル型の半導体マッハツェンダ型光変調器に特有のものである。
本発明の第4の実施形態における半導体マッハツェンダ型光変調器も、第3の実施形態と同様に、プッシュ・プル駆動型の半導体マッハツェンダ型光変調器を用いる。
図11は、本発明の第4の実施形態における半導体マッハツェンダ型光変調器の概略構成図である。また、図11におけるIII−III断面は、図5に示したものと同様である。
まず、第1の設定条件として、変調光のオンレベルにおいて、第1のアーム11及び第2のアーム12の光導波路に印加される電圧が等しくなるように、バイアス電圧Vb1とVb2を設定し、2つの光導波路を伝搬する光の位相差を零にする。続いて、第2の設定条件として、変調光のオフレベルにおいて、各アーム間を伝搬する光の位相差がπになるようにバイアス電圧Vb1とVb2を設定する。
入力された入力光を2つの光導波路に分岐し、当該各光導波路を伝搬した各分岐光を合成して合成光を出力する光干渉手段と、
前記2つの光導波路のうち、少なくとも1つの光導波路に伝搬光の位相を調整するための電圧を供給する位相調整電圧供給手段と、
前記2つの光導波路のうち、少なくとも1つの光導波路に直流電圧を供給する直流電圧供給手段と、
前記入力光の波長に応じて、前記直流電圧供給手段で供給する前記直流電圧の値を制御する直流電圧制御手段と
を含むことを特徴とする光変調装置。
前記直流電圧制御手段は、前記各分岐光の間の位相差が前記合成光のオンレベルとオフレベルとの間でπの量だけ変化するように、前記直流電圧の値を制御することを特徴とする付記1に記載の光変調装置。
前記各分岐光のうちの少なくとも1つの位相を調整する位相調整手段を更に含むことを特徴とする付記1又は2に記載の光変調装置。
前記位相調整手段は、前記各分岐光の間の位相差が前記位相調整電圧供給手段で供給する電圧のローレベル又はハイレベルで零となり、オンレベルの前記合成光を出力するように、前記各分岐光のうちの少なくとも1つの位相を調整することを特徴とする付記3に記載の光変調装置。
前記位相調整手段は、電圧、電流、及び熱のうち、少なくともいずれか1つの要素を制御することにより、前記各分岐光のうちの少なくとも1つの位相を調整することを特徴とする付記3又は4に記載の光変調装置。
前記位相調整手段は、前記入力光の波長に応じて、前記各分岐光のうちの少なくとも1つの位相を調整することを特徴とする付記3〜5のいずれか1項に記載の光変調装置。
前記直流電圧が供給される光導波路に対して、前記入力光の波長によらずに一定振幅の高周波電圧を供給する高周波電圧供給手段を更に含むことを特徴とする付記1〜6のいずれか1項に記載の光変調装置。
前記2つの光導波路のうち、一方の光導波路には、前記直流電圧供給手段による前記直流電圧と前記高周波電圧供給手段による前記高周波電圧とが重畳されて供給されており、他方の光導波路には、前記位相調整手段による調整がなされていることを特徴とする付記7に記載の光変調装置。
前記2つの光導波路には、前記直流電圧供給手段による前記直流電圧と前記高周波電圧供給手段による前記高周波電圧とが重畳され、相互に異なる電圧が供給されていることを特徴とする付記7に記載の光変調装置。
前記各光導波路にはそれぞれ一対の電極が設けられており、当該一対の電極を介して、前記直流電圧供給手段による前記直流電圧の供給、前記高周波電圧供給手段による前記高周波電圧の供給及び前記位相調整手段による制御のうち、少なくともいずれか1つが行われることを特徴とすることを特徴とする付記7〜9のいずれか1項に記載の光変調装置。
前記直流電圧供給手段から供給される前記直流電圧の絶対値の大きさは、前記光干渉手段に入力される前記入力光の波長が短波から長波へと変化するにしたがって増加することをことを特徴とする付記1〜10のいずれか1項に記載の光変調装置。
前記光導波路を構成するコア層が半導体多重量子井戸層により形成されていることを特徴とする付記1〜11のいずれか1項に記載の光変調装置。
付記1〜12のいずれか1項に記載の光変調装置と、
前記光変調装置の前記光干渉手段に対して、波長を可変させて前記入力光の入力を行う波長可変レーザ装置と
を備えることを特徴とする光送信装置。
付記1〜12のいずれか1項に記載の光変調装置と、
前記光変調装置の前記光干渉手段に対して、波長を固定させて前記入力光の入力を行う波長固定レーザ装置と
を備えることを特徴とする光送信装置。
入力された入力光を2つの光導波路に分岐し、当該各光導波路を伝搬した各分岐光を合成して合成光を出力する際の光変調方法であって、
前記入力光の波長に応じて、前記2つの光導波路のうち、少なくとも1つの光導波路に供給される直流電圧の値を制御することを特徴とする光変調方法。
前記直流電圧の値は、前記各分岐光の間の位相差が前記合成光のオンレベルとオフレベルとの間でπの量だけ変化するように制御されることを特徴とする付記15に記載の光変調方法。
前記各分岐光のうちの少なくとも1つの位相を調整することを特徴とする付記15又は16に記載の光変調方法。
前記各分岐光における位相は、前記各分岐光の位相差が前記位相を調整するための電圧のローレベル又はハイレベルで零となるように調整されることを特徴とする付記17に記載の光変調方法。
前記各分岐光における位相は、電圧、電流、及び熱のうち、少なくともいずれか1つの要素を制御することによりなされることを特徴とする付記17又は18に記載の光変調方法。
前記各分岐光における位相は、前記入力光の波長に応じてなされることを特徴とする付記17〜19のいずれか1項に記載の光変調方法。
前記直流電圧が供給される光導波路に対して、前記入力光の波長によらずに一定振幅の高周波電圧を供給することを特徴とする付記15〜20のいずれか1項に記載の光変調方法。
前記2つの光導波路のうち、一方の光導波路に前記直流電圧と前記高周波電圧とを重畳して供給し、他方の光導波路に前記合成光における波長の位相を調整する制御を行うことを特徴とする付記21に記載の光変調方法。
前記2つの光導波路に、前記直流電圧と前記高周波電圧とを重畳して相互に異なる電圧を供給することを特徴とする付記21に記載の光変調方法。
前記入力光の波長が短波から長波へと変化するにしたがって前記直流電圧の絶対値の大きさを増加させることを特徴とする付記15〜23のいずれか1項に記載の光変調方法。
11 第1のアーム
11a,11b、12a,12b 電極
12 第2のアーム
20 第1アーム制御回路
21 高周波駆動電源
22 直流電源
23 バイアス電圧制御部(直流電圧供給手段)
23a、32a 対応テーブル
30 第2アーム制御回路
31 直流電源
32 位相調整電圧制御部(位相調整手段)
40 モニタ
100 半導体マッハツェンダ型光変調器
150 波長可変レーザ装置
200 光送信装置
Claims (10)
- 入力された入力光を2つの光導波路に分岐し、当該各光導波路を伝搬した各分岐光を合成して合成光を出力する光干渉手段を備え、前記各光導波路間を伝搬する前記各分岐光の位相差が入力電圧に対して非線形に増加する半導体マッハツェンダ型の光変調装置であって、
前記2つの光導波路のうち、少なくとも1つの光導波路に高周波電圧を供給する高周波電圧供給手段と、
前記高周波電圧供給手段から高周波電圧を供給する光導波路にバイアス電圧を供給するバイアス電圧供給手段と、
前記入力光の波長に応じて、前記バイアス電圧供給手段で供給する前記バイアス電圧の値を制御するバイアス電圧制御手段と、
前記入力光の波長に応じて、前記各分岐光のうちの少なくとも1つの位相を調整する位相調整手段と
を含むことを特徴とする光変調装置。 - 前記バイアス電圧供給手段から供給される前記バイアス電圧の絶対値の大きさは、前記光干渉手段に入力される前記入力光の波長が短波から長波へと変化するにしたがって増加することを特徴とする請求項1に記載の光変調装置。
- 前記バイアス電圧制御手段は、前記各分岐光の間の位相差が前記合成光のオンレベルとオフレベルとの間でπの量だけ変化するように、前記バイアス電圧の値を制御することを特徴とする請求項1又は2に記載の光変調装置。
- 前記位相調整手段は、前記各分岐光の間の位相差が前記高周波電圧供給手段から供給する高周波電圧のローレベル又はハイレベルで零となり、オンレベルの前記合成光を出力するように、前記各分岐光のうちの少なくとも1つの位相を調整することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の光変調装置。
- 前記高周波電圧供給手段は、前記バイアス電圧が供給される光導波路に対して、前記入力光の波長によらずに一定振幅の高周波電圧を供給することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の光変調装置。
- 前記光導波路を構成するコア層が半導体多重量子井戸層により形成されていることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の光変調装置。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載の光変調装置と、
前記光変調装置の前記光干渉手段に対して、波長を可変させて前記入力光の入力を行う波長可変レーザ装置と
を備えることを特徴とする光送信装置。 - 入力された入力光を2つの光導波路に分岐し、当該各光導波路を伝搬した各分岐光を合成して合成光を出力する光干渉手段を備え、前記各光導波路間を伝搬する前記各分岐光の位相差が入力電圧に対して非線形に増加する半導体マッハツェンダ型の光変調装置の光変調方法であって、
前記2つの光導波路のうち、少なくとも1つの光導波路に高周波電圧を供給する高周波電圧供給工程と、
前記高周波電圧を供給する光導波路にバイアス電圧を供給するバイアス電圧供給工程と、
前記入力光の波長に応じて、前記バイアス電圧の値を制御するバイアス電圧制御工程と、
前記入力光の波長に応じて、前記各分岐光のうちの少なくとも1つの位相を調整する位相調整工程と
を含むことを特徴とする光変調方法。 - 前記バイアス電圧供給工程で供給する前記バイアス電圧の絶対値の大きさは、前記光干渉手段に入力される前記入力光の波長が短波から長波へと変化するにしたがって増加することを特徴とする請求項8に記載の光変調方法。
- 前記バイアス電圧の値は、前記各分岐光の間の位相差が前記合成光のオンレベルとオフレベルとの間でπの量だけ変化するように制御されることを特徴とする請求項8又は9に記載の光変調方法。
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