JP4238822B2 - パターン形成基板、電気光学装置、パターン形成基板の製造方法及び電気光学装置の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、パターン形成基板、電気光学装置、パターン形成基板の製造方法及び電気光学装置の製造方法に関する。

従来、発光素子を備えるディスプレイには、有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）を備える電気光学装置としての有機エレクロトルミネッセンスディスプレイ（有機ＥＬディスプレイ）が知られている。有機ＥＬ素子は、一般的に、その発光層の構成材料によって製造方法が大別される。すなわち、低分子有機材料を発光層の構成材料とする場合には、その低分子有機材料を蒸着することによって同発光層を形成する、いわゆる気相プロセスが利用されている。一方、高分子有機材料を発光層の構成材料とする場合には、その高分子有機材料を有機溶媒等に溶解し、その溶液を塗布して乾燥することにより発光層を形成する、いわゆる液相プロセスが利用されている。

なかでも、その液相プロセスにおけるインクジェット法は、以下の点において注目されている。すなわち、インクジェット法は、前記溶液を微小な液滴として吐出するため、他の液相プロセス（例えば、スピンコート等）に比べて、より微細な液滴（液状パターン）を形成することができる。しかも、インクジェット法は、その液状パターンを形成する領域（パターン形成領域）にのみ前記液滴を吐出するため、高分子有機材料等の構成材料の使用量を低減することができる。

しかし、こうしたインクジェット法では、液状パターンの溶媒成分を蒸発する（乾燥する）ことによって発光層（パターン）を形成する。そのため、乾燥条件が異なると、有機ＥＬ素子形成基板（パターン形成基板）内のパターン間において、その形状（例えば、各有機ＥＬ層の膜厚プロファイル）にバラツキを生じる問題となる。

そこで、インクジェット法によるパターン形成では、従来より、こうしたパターン間の形状のバラツキを抑制する提案がなされている（例えば、特許文献１）。特許文献１では、インクジェット法によって液滴を吐出し、その吐出した液滴を加熱乾燥するまでの時間を一定にするようにしている。これによって、各液滴の乾燥時間を同一にすることができ、パターン形状のバラツキを抑制することができる。
特開平９−１０５９３８ 号広報

しかしながら、乾燥時間を同一にする場合であっても、液状パターンから蒸発する溶媒成分が同液状パターンの密集する部位、つまりパターン形成基板の中央部で多くなるため以下の問題を生じる。すなわち、パターン形成基板中央部の溶媒分圧が、同基板外周部の溶媒分圧よりも大きくなる。その結果、パターン形成基板中央部の乾燥速度が同基板外周部の乾燥速度よりも小さくなるため、パターン形成基板内のパターン間において、その形状のバラツキを招く問題となる。

本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、その目的は、液滴を乾燥して形成するパターン形状の均一性を向上したパターン形成基板、電気光学装置、パターン形成基板の製造方法及び電気光学装置の製造方法を提供することである。

本発明のパターン形成基板は、パターン形成材料を含む液滴を乾燥して形成した複数のパターンを備えるパターン形成基板において、各パターンに対応して形成したパターン形成領域の外周に、赤外光を熱に変換する光熱変換部を備えた。

本発明のパターン形成基板によれば、光熱変換部が各パターン形成領域の外周に形成されるため、パターン形成領域の密集する部位に光熱変換部を密集させることができる。従って、光熱変換部を形成する分だけ、各液滴の乾燥条件を均一にすることができ、パターン形状の均一性を向上することができる。

このパターン形成基板において、前記光熱変換部は、赤外線吸収色素を含む。
このパターン形成基板によれば、光熱変換部に含まれる赤外線吸収色素の変換する熱によって各液滴の乾燥条件を均一にすることができ、パターン形状の均一性を向上することができる。

このパターン形成基板において、前記光熱変換部は、前記液滴をパターン形成領域に収容する隔壁を備えた。
このパターン形成基板によれば、光熱変換部の隔壁によって液滴を収容するため、収容する液滴のパターン形成材料がパターンを形成するまで、光熱変換部によって液滴を乾燥することができる。従って、各液滴の乾燥条件をより均一にすることができ、パターン形状の均一性をさらに向上することができる。

このパターン形成基板において、前記パターン形成材料は、発光素子形成材料であって、前記パターンは、発光素子である。
このパターン形成基板によれば、発光素子形成材料の乾燥条件を均一にすることができ、発光素子形状の均一性を向上することができる。

このパターン形成基板において、前記パターン形成材料は、カラーフィルタ形成材料であって、前記パターンはカラーフィルタである。
このパターン形成基板によれば、カラーフィルタ形成材料の乾燥条件を均一にすることができ、カラーフィルタ形状の均一性を向上することができる。

このパターン形成基板において、前記光熱変換部は、前記カラーフィルタの外周を遮光する遮光膜である。
このパターン形成基板によれば、光熱変換部を遮光膜として構成するため、遮光膜を別途形成することなくパターン形状の均一性を向上することができる。

このパターン形成基板において、前記パターン形成基板は、配線形成材料であって、前記パターンは、配線パターンである。
このパターン形成基板によれば、配線形成材料の乾燥条件を均一にすることができ、配線パターンの形状の均一性を向上することができる。

本発明の電気光学装置は、発光素子形成材料を含む液滴を乾燥して形成した複数の発光素子を備える電気光学装置において、各発光素子に対応して形成した発光素子形成領域の外周に、赤外光を熱に変換する光熱変換部を備えた。

本発明の電気光学装置によれば、光熱変換部が各発光素子形成領域の外周に形成されるため、発光素子形成領域の密集する部位に光熱変換部を密集させることができる。従って、光熱変換部を形成する分だけ、各液滴の乾燥条件を均一にすることができ、発光素子の形状（例えば、各発光素子の膜厚プロファイル）の均一性を向上することができる。

この電気光学装置において、前記光熱変換部は、赤外線吸収色素を含む。
この電気光学装置によれば、光熱変換部に含まれる赤外線吸収色素の変換する熱によって各液滴の乾燥条件を均一にすることができ、発光素子形状の均一性を向上することができる。

この電気光学装置において、前記光熱変換部は、前記液滴を前記発光素子形成領域に収容する隔壁を備えた。
この電気光学装置によれば、光熱変換部の隔壁によって液滴を収容するため、収容する液滴の発光素子形成材料が発光素子を形成するまで、光熱変換部によって液滴を乾燥することができる。従って、各液滴の乾燥条件をより均一にすることができ、発光素子形状の均一性をさらに向上することができる。

この電気光学装置において、前記光熱変換部は、前記発光素子の外周を遮光する遮光膜である。
この発光素子形成基板によれば、光熱変換部を遮光膜として構成するため、遮光膜を別途形成することなく発光素子形状の均一性を向上することができる。

この電気光学装置において、前記発光素子は、透明電極と背面電極との間に発光層を備えるエレクトロルミネッセンス素子である。
この電気光学装置によれば、エレクトロルミネッセンス素子の形状の均一性を向上することができる。

この電気光学装置において、前記発光素子は、有機材料からなる前記発光層を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子である。
この電気光学装置によれば、有機エレクトロルミネッセンス素子の形状の均一性を向上することができる。

本発明のパターン形成基板の製造方法は、パターン形成材料を含む液滴を乾燥することによって複数のパターンを形成するようにしたパターン形成基板の製造方法において、各パターンに対応するパターン形成領域の外周に赤外光を熱に変換する光熱変換部を形成し、前記パターン形成領域内に前記液滴を形成して前記パターン形成基板に赤外光を照射し、前記光熱変換部の変換した熱によって前記液滴を乾燥するようにした。

本発明におけるパターン形成基板の製造方法によれば、赤外光を照射することによって、パターン形成領域外周の光熱変換部が同赤外光を熱に変換し、その熱によってパターン形成領域の液滴を乾燥することができる。従って、光熱変換部を形成する分だけ、パターン形状の均一性を向上することができる。

このパターン形成基板の製造方法において、液滴吐出装置によって前記液滴を吐出するようにした。
このパターン形成基板の製造方法によれば、液滴吐出装置によって液滴を吐出するため、光熱変換部内にのみ液滴を吐出することができ、パターン形状をより均一にすることができる。

このパターン形成基板の製造方法において、前記パターン形成領域に液滴を形成した後に、前記パターン形成基板に赤外光を照射するようにした。
このパターン形成基板の製造方法によれば、各パターン形成領域に液滴を形成した後に赤外光を照射するため、各液滴に対する加熱時間を均一にすることができ、パターン形状の均一性をさらに向上することができる。

このパターン形成基板の製造方法において、前記パターン形成領域に液滴を形成しながら前記パターン形成領域の前記光熱変換部に赤外光を照射するようにした。
このパターン形成基板の製造方法によれば、液滴を形成しながら、同液滴の形成されるパターン形成領域の光熱変換部に赤外光を照射するため、各液滴の加熱時間を均一にすることができ、パターン形状の均一性をさらに向上することができる。しかも、全ての液滴の形成を終了するときに同液滴の加熱を終了することができるため、加熱工程の工程時間を削減することができ、パターン形成基板の生産性を向上することができる。

本発明の電気光学装置の製造方法は、発光素子形成材料を含む液滴を乾燥することによって複数の発光素子を発光素子形成基板に形成するようにした電気光学装置の製造方法において、各発光素子に対応する発光素子形成領域の外周に赤外光を熱に変換する光熱変換部を形成し、前記発光素子形成領域内に前記液滴を形成して前記発光素子形成基板に赤外光を照射し、前記光熱変換部の変換した熱によって前記液滴を乾燥する。

本発明における電気光学装置の製造方法によれば、赤外光を照射することによって、発光素子形成領域外周の光熱変換部が同赤外光を熱に変換し、その熱によって発光素子形成領域の液滴を乾燥することができる。従って、光熱変換部を形成する分だけ、発光素子の形状（例えば、各発光素子の膜厚プロファイル）の均一性を向上することができる。

この電気光学装置の製造方法において、液滴吐出装置によって前記液滴を吐出するようにした。
この電気光学装置の製造方法によれば、液滴吐出装置によって液滴を吐出するため、光熱変換部内にのみ液滴を吐出することができ、発光素子の形状をより均一にすることができる。

この電気光学装置の製造方法において、前記発光素子形成領域に液滴を形成した後に、前記発光素子形成基板に赤外光を照射するようにした。
この電気光学装置の製造方法によれば、各発光素子形成領域に液滴を形成した後に赤外光を照射するため、各液滴に対する加熱時間を均一にすることができ、発光素子形状の均一性をさらに向上することができる。

この電気光学装置の製造方法において、前記発光素子形成領域に液滴を形成しながら前記発光素子形成基板に赤外光を照射するようにした。
この電気光学装置の製造方法によれば、液滴を形成しながら、同液滴の形成される発光素子形成領域の光熱変換部に赤外光を照射するため、各液滴の加熱時間を均一にすることができ、発光素子形状の均一性をさらに向上することができる。しかも、全ての液滴の形成を終了するときに同液滴の加熱を終了することができるため、加熱工程の工程時間を削減することができ、電気光学装置の生産性を向上することができる。

以下、本発明を具体化した一実施形態を図１〜図９に従って説明する。図１は、電気光学装置としての有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ（有機ＥＬディスプレイ）を示す概略平面図である。

図１に示すように、有機ＥＬディスプレイ１０には、パターン形成基板及び発光素子形成基板としての透明基板１１を備えている。透明基板１１は、四角形状に形成される無アルカリガラス基板であって、その表面（素子形成面１１ａ）には、四角形状の素子形成領域１２が形成されている。その素子形成領域１２には、上下方向（列方向）に延びる複数のデータ線Ｌｙが所定の間隔をおいて形成されている。各データ線Ｌｙは、それぞれ透明
基板１１の下側に配設されるデータ線駆動回路Ｄｒ１に電気的に接続されている。データ線駆動回路Ｄｒ１は、図示しない外部装置から供給される表示データに基づいてデータ信号を生成し、そのデータ信号を対応するデータ線Ｌｙに所定のタイミングで出力するようになっている。

また、素子形成領域１２には、列方向に延びる複数の電源線Ｌｖが所定の間隔をおいて各データ線Ｌｙに併設されている。各電源線Ｌｖは、それぞれ素子形成領域１２の下側に形成される共通電源線Ｌｖｃに電気的に接続され、図示しない電源電圧生成回路の生成する駆動電源を各電源線Ｌｖに供給するようになっている。

さらにまた、素子形成領域１２には、データ線Ｌｙ及び電源線Ｌｖと直交する方向（行方向）に延びる複数の走査線Ｌｘが所定の間隔をおいて形成されている。各走査線Ｌｘは、それぞれ透明基板１１の左側に形成される走査線駆動回路Ｄｒ２に電気的に接続されている。走査線駆動回路Ｄｒ２は、図示しない制御回路から供給される走査制御信号に基づいて、複数の走査線Ｌｘの中から所定の走査線Ｌｘを所定のタイミングで選択駆動し、その走査線Ｌｘに走査信号を出力するようになっている。

これらデータ線Ｌｙと走査線Ｌｘの交差する位置には、対応するデータ線Ｌｙ、電源線Ｌｖ及び走査線Ｌｘに接続されることによってマトリックス状に配列される複数の画素１３が形成されている。その画素１３内には、それぞれ制御素子形成領域１４と発光素子形成領域１５が区画形成されている。そして、素子形成領域１２の上側を四角形状の封止基板１６（図１における２点鎖線）で覆うことによって、画素１３が保護されるようになっている。

なお、本実施形態における画素１３は、それぞれ赤色の光を発光する赤色画素又は緑色の光を発光する緑色画素又は青色を発光する青色画素であって、透明基板１１の裏面（表示面１１ｂ）側にフルカラーの画像を表示するようになっている。

次に、上記する画素１３について以下に説明する。図２は、制御素子形成領域１４及び発光素子形成領域１５のレイアウトを示す概略平面図である。図３及び図４は、それぞれ図２の一点鎖線Ａ−Ａ及びＢ−Ｂに沿った制御素子形成領域１４を示す概略断面図であって、図５は、図２の一点鎖線Ｃ−Ｃに沿った発光素子形成領域１５を示す概略断面図である。

まず、制御素子形成領域１４について以下に説明する。図２に示すように、各画素１３の下側には、それぞれ制御素子形成領域１４が形成され、その制御素子形成領域１４には、それぞれ第１トランジスタ（スイッチング用トランジスタ）Ｔ１、第２トランジスタ（駆動用トランジスタ）Ｔ２及び保持キャパシタＣｓが形成されている。

図３に示すように、スイッチング用トランジスタＴ１は、その最下層に第１チャンネル膜Ｂ１を備えている。第１チャンネル膜Ｂ１は、素子形成面１１ａ上に形成される島状のｐ型ポリシリコン膜であって、その中央位置には第１チャンネル領域Ｃ１が形成されている。その第１チャンネル領域Ｃ１を挟む左右両側には、活性化したｎ型領域（第１ソース領域Ｓ１及び第１ドレイン領域Ｄ１）が形成されている。つまり、スイッチング用トランジスタＴ１は、いわゆるポリシリコン型ＴＦＴである。

第１チャンネル領域Ｃ１の上側には、素子形成面１１ａ側から順に、ゲート絶縁膜Ｇｏｘ及び第１ゲート電極Ｇ１が形成されている。ゲート絶縁膜Ｇｏｘは、シリコン酸化膜等の光透過性を有する絶縁膜であって、第１チャンネル領域Ｃ１の上側及び素子形成面１１ａの略全面に堆積されている。第１ゲート電極Ｇ１は、タンタルやアルミニウム等の低抵
抗金属膜であって、第１チャンネル領域Ｃ１と相対向する位置に形成され、図２に示すように、走査線Ｌｘと電気的に接続されている。その第１ゲート電極Ｇ１は、図３に示すように、ゲート絶縁膜Ｇｏｘの上側に堆積される第１層間絶縁膜ＩＬ１によって電気的に絶縁されている。

そして、走査線駆動回路Ｄｒ２が走査線Ｌｘを介して第１ゲート電極Ｇ１に走査信号を入力すると、スイッチング用トランジスタＴ１は、その走査信号に基づいたオン状態となる。

第１ソース領域Ｓ１には、前記第１層間絶縁膜ＩＬ１及びゲート絶縁膜Ｇｏｘを貫通するデータ線Ｌｙが電気的に接続されている。また、第１ドレイン領域Ｄ１には、第１層間絶縁膜ＩＬ１及びゲート絶縁膜Ｇｏｘを貫通する第１ドレイン電極Ｄｐ１が電気的に接続されている。これらデータ線Ｌｙ及び第１ドレイン電極Ｄｐ１は、図３に示すように、第１層間絶縁膜ＩＬ１の上側に堆積される第２層間絶縁膜ＩＬ２によって電気的に絶縁されている。

そして、走査線駆動回路Ｄｒ２が、走査線Ｌｘを線順次走査に基づき１本ずつ順次選択すると、画素１３のスイッチング用トランジスタＴ１が順次、選択期間中だけオン状態になる。スイッチング用トランジスタＴ１がオン状態となると、データ線駆動回路Ｄｒ１から出力されるデータ信号が、データ線Ｌｙ及びスイッチング用トランジスタＴ１（チャンネル膜Ｂ１）を介して第１ドレイン電極Ｄｐ１に出力される。

図４に示すように、駆動用トランジスタＴ２は、第２チャンネル領域Ｃ２、第２ソース領域Ｓ２及び第２ドレイン領域Ｄ２を有したチャンネル膜Ｂ２を備えるポリシリコン型ＴＦＴである。その第２チャンネル膜Ｂ２の上側には、ゲート絶縁膜Ｇｏｘを介して第２ゲート電極Ｇ２が形成されている。第２ゲート電極Ｇ２は、タンタルやアルミニウム等の低抵抗金属膜であって、図２に示すように、スイッチング用トランジスタＴ１の第１ドレイン電極Ｄｐ１及び保持キャパシタＣｓの下部電極Ｃｐ１と電気的に接続されている。これら第２ゲート電極Ｇ２及び下部電極Ｃｐ１は、図４に示すように、ゲート絶縁膜Ｇｏｘの上側に堆積される前記第１層間絶縁膜ＩＬ１によって電気的に絶縁されている。

第２ソース領域Ｓ２は、この第１層間絶縁膜ＩＬ１を貫通する保持キャパシタＣｓの上部電極Ｃｐ２に電気的に接続されている。その上部電極Ｃｐ２は、図２に示すように、対応する電源線Ｌｖに電気的に接続されている。つまり、駆動用トランジスタＴ２の第２ゲート電極Ｇ２と第２ソース領域Ｓ２間との間には、図２及び図４に示すように、第１層間絶縁膜ＩＬ１を容量膜とする保持キャパシタＣｓが接続されている。第２ドレイン領域Ｄ２は、第１層間絶縁膜ＩＬ１を貫通する第２ドレイン電極Ｄｐ２に電気的に接続されている。これら第２ドレイン電極Ｄｐ２及び上部電極Ｃｐ２は、第１層間絶縁膜ＩＬ１の上側に堆積される第２層間絶縁膜ＩＬ２によって電気的に絶縁されている。

そして、データ線駆動回路Ｄｒ１から出力されるデータ信号がスイッチング用トランジスタＴ１を介して第１ドレイン領域Ｄ１に出力されると、保持キャパシタＣｓが、出力されたデータ信号に相対する電荷を蓄積する。続いて、スイッチング用トランジスタＴ１がオフ状態になると、保持キャパシタＣｓに蓄積される電荷に相対した駆動電流が、駆動用トランジスタＴ２（チャンネル膜Ｂ２）を介して第２ドレイン領域Ｄ２に出力される。

次に、発光素子形成領域１５について以下に説明する。
図２に示すように、各画素１３の下側には、それぞれ四角形状の発光素子形成領域が形成されている。その発光素子形成領域１５であって第２層間絶縁膜ＩＬ２の上側には、図５に示すように、その最下層である透明電極としての陽極２０が形成されている。

陽極２０は、ＩＴＯ等の光透過性を有する透明導電膜であって、その一端が、図４に示すように、第２層間絶縁膜ＩＬ２を貫通して第２ドレイン領域Ｄ２に電気的に接続されている。

その陽極２０の上側には、各陽極２０を互いに絶縁するシリコン酸化膜等の第３層間絶縁膜ＩＬ３が堆積されている。この第３層間絶縁膜ＩＬ３には、陽極２０の略中央位置を上側に開口する四角形状の貫通孔ＩＬｈが形成されている。この第３層間絶縁膜ＩＬ３の上側には、光熱変換部としての光熱変換層２２が形成されている。

光熱変換層２２は、後述する正孔輸送層形成材料溶液２７（図８参照）を撥液する感光性ポリイミド等の樹脂で形成され、赤外光（７６０〜１３００ｎｍ付近の光）を熱エネルギーに変換する赤外線吸収色素としての赤外線吸収材料２２ａを含有している。また、光熱変換層２２は、可視光を遮光するカーボンブラックや黒鉛等を含有している。すなわち、光熱変換層２２は、可視光を遮光する遮光膜であって、赤外光を吸収して発熱するようになっている。

本実施形態における赤外線吸収材料２２ａは、例えばアズレン系色素、シアニン染料、インドレニン系色素、ポリメチン系色素、インモニウム系色素、アントラセン系色素、スクアリリウム系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、ナフトキノン系色素、トリアリルメタン系色素である。または、赤外線吸収材料２２ａは、例えばアゾコバルト錯体系ジチオールニッケル錯体系、ジインモニウム系の化合物である。あるいは、赤外線吸収材料２２ａは、チオールニッケル塩、アントラキノン系染料、ニトロソ化合物及びその金属錯塩である。また、可視光を遮光する目的のカーボンブラックや黒鉛等も効率よく赤外線を吸収することから、赤外線吸収材料２２ａとして兼用することもできる。

その光熱変換層２２には、貫通孔ＩＬｈと相対向する位置を上側に向かってテーパ状に開口する収容孔２２ｈが形成されている。収容孔２２ｈは、後述する液滴２７Ｄ（図８参照）を対応する発光素子形成領域１５内に収容可能な大きさで形成されている。

そして、この収容孔２２ｈの内周面によって隔壁としての加熱壁２２ｗが形成されている。また、加熱壁２２ｗ（収容孔２２ｈ）及び貫通孔ＩＬｈによって発光素子形成領域１５の外周が囲まれている。

発光素子形成領域１５内であって陽極２０の上側には、発光素子形成材料を構成するパターン形成材料としての正孔輸送層形成材料２７ｓ（図８参照）からなる正孔輸送層２１ａが形成されている。その正孔輸送層２１ａの上側には、発光素子形成材料を構成するパターン形成材料としての発光層形成材料からなる発光層２１ｂが積層されている。

そして、これら正孔輸送層２１ａと発光層２１ｂによって有機エレクトロルミネッセンス層（有機ＥＬ層）２１が形成されている。すなわち、各有機ＥＬ層２１の外周には、それぞれ対応する加熱壁２２ｗが形成され、同有機ＥＬ層２１の密集する透明基板１１の中央部近傍には、同加熱壁２２ｗが密集して形成されている。

なお、本実施形態における発光層２１ｂは、それぞれ対応する色の発光層形成材料（赤色の光を発光する赤色発光層形成材料、緑色の光を発光する緑色発光層形成材料及び青色を発光する青色発光層形成材料）で形成されている。

その有機ＥＬ層２１上側であって光熱変換層２２（加熱壁２２ｗ）の上側には、アルミニウム等の光反射性を有する金属膜からなる背面電極としての陰極２３が形成されている
。陰極２３は、素子形成面１１ａ側全面を覆うように形成され、各画素１３が共有することによって各発光素子形成領域１５に共通する電位を供給するようになっている。

すなわち、これら陽極２０、有機ＥＬ層２１及び陰極２３によって、発光素子としての有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）が構成される。
そして、データ信号に応じた駆動電流が第２ドレイン領域Ｄ２を介して陽極２０に供給されると、有機ＥＬ層２１は、その駆動電流に応じた輝度で発光する。この際、有機ＥＬ層２１から陰極２３側（図４における上側）に向かって発光された光は、同陰極２３によって反射される。そのため、有機ＥＬ層２１から発光された光は、その殆どが、陽極２０、第２層間絶縁膜ＩＬ２、第１層間絶縁膜ＩＬ１、ゲート絶縁膜Ｇｏｘ、素子形成面１１ａ及び透明基板１１を透過して透明基板１１の裏面（表示面１１ｂ）側から外方に向かって出射する。すなわち、データ信号に基づく画像が有機ＥＬディスプレイ１０の表示面１１ｂに表示される。

陰極２３の上側には、エポキシ樹脂等からなる接着層２４が形成され、その接着層２４を介して素子形成領域１２を覆う封止基板１６が貼着されている。封止基板１６は、無アルカリガラス基板であって、画素１３及び各種配線Ｌｘ，Ｌｙ，Ｌｖの酸化等を防止するようになっている。
（有機ＥＬディスプレイ１０の製造方法）
次に、有機ＥＬディスプレイ１０の製造方法について以下に説明する。図６は、有機ＥＬディスプレイ１０の製造方法を説明するフローチャートであって、図７〜図９は、同有機ＥＬディスプレイ１０の製造方法を説明する説明図である。

図６に示すように、はじめに透明基板１１の素子形成面１１ａに各種配線Ｌｘ，Ｌｙ，Ｌｖ，Ｌｖｃ及び各トランジスタＴ１，Ｔ２を形成し、光熱変換層２２に収容孔２２ｈをパターニングする有機ＥＬ層前工程を行う（ステップＳ１１）。

すなわち、有機ＥＬ層前工程では、まず素子形成面１１ａの全面にエキシマレーザ等によって結晶化したポリシリコン膜を形成し、そのポリシリコン膜をパターニングして各チャンネル膜Ｂ１，Ｂ２を形成する。次に、各チャンネル膜Ｂ１，Ｂ２及び素子形成面１１ａの上側全面に、シリコン酸化膜等からなるゲート絶縁膜Ｇｏｘを形成し、そのゲート絶縁膜Ｇｏｘの上側全面にタンタル等の低抵抗金属膜を堆積する。そして、その低抵抗金属膜をパターニングして、各ゲート電極Ｇ１，Ｇ２、保持キャパシタＣｓの下部電極Ｃｐ１及び走査線Ｌｘを形成する。

各ゲート電極Ｇ１，Ｇ２を形成すると、同ゲート電極Ｇ１，Ｇ２をマスクにしたイオンドーピング法によって、それぞれ各チャンネル膜Ｂ１，Ｂ２にｎ型不純物領域を形成する。これによって、各チャンネル領域Ｃ１，Ｃ２、各ソース領域Ｓ１，Ｓ２及び各ドレイン領域Ｄ１，Ｄ２を形成する。各チャンネル膜Ｂ１，Ｂ２にそれぞれ各ソース領域Ｓ１，Ｓ２及び各ドレイン領域Ｄ１，Ｄ２を形成すると、各ゲート電極Ｇ１，Ｇ２、下部電極Ｃｐ１、走査線Ｌｘ及びゲート絶縁膜Ｇｏｘの上側全面にシリコン酸化膜等からなる第１層間絶縁膜ＩＬ１を堆積する。

第１層間絶縁膜ＩＬ１を堆積すると、その第１層間絶縁膜ＩＬ１であって各ソース領域Ｓ１，Ｓ２及び各ドレイン領域Ｄ１，Ｄ２と相対する位置に一対のコンタクトホールをパターニングする。次に、同コンタクトホール内及び第１層間絶縁膜ＩＬ１の上側全面にアルミニウム等の金属膜を堆積し、その金属膜をパターニングすることによって各ソース領域Ｓ１，Ｓ２に対応するデータ線Ｌｙと保持キャパシタＣｓの上部電極Ｃｐ２をそれぞれ形成する。同時に、各ドレイン領域Ｄ１，Ｄ２に対応する各ドレイン電極Ｄｐ１，Ｄｐ２を形成する。そして、データ線Ｌｙ、上部電極Ｃｐ２、各ドレイン領域Ｄ１，Ｄ２及び第
１層間絶縁膜ＩＬ１の上側全面にシリコン酸化膜等からなる第２層間絶縁膜ＩＬ２を堆積する。これによって、スイッチング用トランジスタＴ１及び駆動用トランジスタＴ２を形成する。

第２層間絶縁膜ＩＬ２を堆積すると、その第２層間絶縁膜ＩＬ２であって第２ドレイン領域Ｄ２と相対向する位置にビアホールを形成する。次に、そのビアホール内及び第２層間絶縁膜ＩＬ２の上側全面に、ＩＴＯ等の光透過性を有する透明導電膜を堆積し、その透明導電膜をパターニングすることによって第２ドレイン領域Ｄ２と接続する陽極２０を形成する。陽極２０を形成すると、その陽極２０及び第２層間絶縁膜ＩＬ２の上側全面にシリコン酸化膜等からなる第３層間絶縁膜ＩＬ３を堆積する。第３層間絶縁膜ＩＬ３を堆積すると、その第３層間絶縁膜ＩＬ３であって陽極２０の上側に貫通孔ＩＬｈを形成する。

貫通孔ＩＬｈを形成すると、図７に示すように、その貫通孔ＩＬｈ内及び第３層間絶縁膜ＩＬ３の上側全面に、赤外線吸収材料２２ａを含有する感光性ポリイミド樹脂等を塗布して光熱変換層２２を形成する。なお、本実施形態における光熱変換層２２は、所定の波長からなる露光光Ｌｅ（図７参照）を露光すると、露光された部分のみがアルカリ性溶液等の現像液に可溶となる、いわゆるポジ型の感光性材料で形成されている。

そして、図７に示すように、フォトマスクＭｋを介して貫通孔ＩＬｈと相対向する位置に所定の波長からなる露光光Ｌｅを露光し現像すると、同光熱変換層２２に加熱壁２２ｗを内周面にする収容孔２２ｈがパターニングされる。これによって、素子形成面１１ａに各種配線Ｌｘ，Ｌｙ，Ｌｖ，Ｌｖｃ及び各トランジスタＴ１，Ｔ２を形成し、収容孔２２ｈをパターニングした有機ＥＬ層前工程を終了する。

図６に示すように、有機ＥＬ層前工程を終了すると、収容孔２２ｈ内に正孔輸送層形成材料２７ｓを含有する液滴２７Ｄを形成するための第１吐出工程を行う（ステップＳ１２）。

なお、本実施形態における正孔輸送層形成材料２７ｓは、例えばベンジジン誘導体、スチリルアミン誘導体、トリフェニルメタン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、及びヒドラゾン誘導体等の低分子化合物、又はこれらの構造を一部に含む高分子化合物や、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリビニルカルバゾール、α−ナフチルフェニルジアミン、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との混合物（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）（Ｂａｙｔｒｏｎ Ｐ、バイエル社商標）等の高分子化合物である。また、正孔輸送層形成材料を溶解する溶媒は、例えば、Ｎ−メチルピロリドンや１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等である。

図８は、その第１吐出工程を説明する説明図である。
まず、正孔輸送層形成材料２７ｓを溶解した正孔輸送層形成材料溶液２７を吐出するための液滴吐出装置の構成について以下に説明する。

図８に示すように、液滴吐出装置を構成する液滴吐出ヘッド２５には、ノズルプレート２６が備えられている。そのノズルプレート２６の下面（ノズル形成面２６ａ）には、正孔輸送層形成材料２７ｓを溶解した溶液（正孔輸送層形成材料溶液２７）を吐出する多数のノズルＮが上方に向かって形成されている。各ノズルＮの上側には、図示しない収容タンクに連通して同正孔輸送層形成材料溶液２７をノズルＮ内に供給可能にする供給室２８が形成されている。各供給室２８の上側には、上下方向に往復振動して供給室２８内の容積を拡大縮小する振動板２９が配設されている。その振動板２９の上側であって各供給室２８と相対向する位置には、それぞれ上下方向に伸縮して振動板２９を振動させる圧電素子３０が配設されている。

そして、液滴吐出装置に搬送される透明基板１１は、図８に示すように、素子形成面１１ａをノズル形成面２６ａと平行にして、かつ各収容孔２２ｈの中心位置をそれぞれノズルＮの直下に配置して位置決めされる。

ここで、液滴吐出ヘッド２５に液滴を吐出するための駆動信号を入力すると、同駆動信号に基づいて圧電素子３０が伸縮して供給室２８の容積が拡大縮小する。このとき、供給室２８の容積が縮小すると、縮小した容積に相対する量の正孔輸送層形成材料溶液２７が、各ノズルＮから微小液滴２７ｂとして吐出される。吐出された各微小液滴２７ｂは、それぞれ収容孔２２ｈ内の陽極２０に着弾する。続いて、供給室２８の容積が拡大すると、拡大した容積分の正孔輸送層形成材料溶液２７が、図示しない収容タンクから供給室２８内に供給される。つまり、液滴吐出ヘッド２５は、こうした供給室２８の拡大縮小によって、所定の容量の正孔輸送層形成材料溶液２７を収容孔２２ｈに向かって吐出する。

そして、収容孔２２ｈ内に着弾した複数の微小液滴２７ｂは、図８の２点鎖線で示すように、その表面張力と加熱壁２２ｗの撥液性によって、半球面状の表面を呈する液滴２７Ｄを形成する。なお、この際、液滴吐出ヘッド２５は、液滴２７Ｄの溶媒成分が蒸発したときに、正孔輸送層形成材料２７ｓが貫通孔ＩＬｈ内で所望する膜厚を形成する分だけ微小液滴Ｄｓを吐出する。これによって、収容孔２２ｈ内に液滴２７Ｄを形成する第１吐出工程を終了する。

図６に示すように、第１吐出工程を終了すると、液滴２７Ｄを乾燥して硬化する第１乾燥工程を行う（ステップＳ１３）。すなわち、図９に示すように、赤外光を透過する基板ステージ３４に透明基板１１を載置し、同透明基板１１の表示面１１ｂを赤外線ランプ３５と相対向する位置に配置する。そして、赤外線ランプ３５から出射される赤外光ＩＲを透明基板１１の表示面１１ｂ全面に照射する。

すると、光熱変換層２２の赤外線吸収材料２２ａが、その赤外光を吸収し、吸収した赤外光に相対する量の熱を光熱変換層２２の外方に放熱する、すなわち加熱壁２２ｗが放熱して液滴２７Ｄを加熱する。これによって、各液滴２７Ｄの溶媒成分を蒸発し、正孔輸送層形成材料２７ｓが硬化して正孔輸送層２１ａを形成する。

この際、透明基板１１の中央部近傍では、液滴２７Ｄが密集する分だけ、溶媒成分の分圧が高くなる。一方、同中央部近傍では、加熱壁２２ｗが密集する分だけ、透明基板１１上の雰囲気が高温になる。すなわち、透明基板１１の中央部近傍では、密集する加熱壁２２ｗによって、溶媒分圧の上昇による液滴２７Ｄの乾燥速度の低下を補償することができ、同透明基板１１の外周部と同じ乾燥速度を維持することができる。

従って、溶媒成分の分圧分布に依存することなく液滴２７Ｄを乾燥させることができ、収容孔２２ｈ（貫通孔ＩＬｈ）内で硬化する正孔輸送層形成材料２７ｓ（正孔輸送層）の形状（正孔輸送層２１ａの膜厚プロファイル）を、素子形成面１１ａ内で均一にすることができる。これによって、液滴２７Ｄを乾燥して硬化する第１乾燥工程を終了する。

図６に示すように、第１乾燥工程を終了すると、各収容孔２２ｈ内に、対応する色の発光層形成材料を含有する液滴を形成するための第２吐出工程を行う（ステップＳ１４）。すなわち、第１吐出工程と同じく、各色の発光層形成材料を溶解した発光層形成材料溶液を各ノズルＮから対応する収容孔２２ｈ内に吐出し、同収容孔２２ｈ内に半球面状の表面を呈する液滴を形成する。

なお、本実施形態における赤色用発光材料には、例えばポリビニレンスチレン誘導体の
ベンゼン環にアルキル又はアルコキシ置換基を有する高分子化合物や、ポリビニレンスチレン誘導体のビニレン基にシアノ基を有する高分子化合物等である。また、緑色発光材料には、例えばアルキル、又はアルコキシ又はアリール誘導体置換基をベンゼン環に導入したポリビニレンスチレン誘導体等である。青色発光材料には、例えばポリフルオレン誘導体（ジアルキルフルオレンとアントラセンの共重合体やジアルキルフルオレンとチオフェンの共重合体等）である。

また、これら各色の発光層形成材料を溶解する溶媒は、例えば、トルエン、キシレン、シクロへキシルベンゼン、ジハイドロベンゾフラン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン等である。

図６に示すように、第２吐出工程を終了すると、発光層形成材料からなる液滴を乾燥して硬化する第２乾燥工程を行う（ステップＳ１５）。すなわち、正孔輸送層形成工程と同じく、赤外線ランプ３５から出射される赤外光を透明基板１１の表示面１１ｂ全面に照射して発光層形成材料を硬化する、つまり発光層２１ｂを形成する。これによって、正孔輸送層２１ａと同じく、発光層２１ｂの膜厚分布を素子形成面１１ａ内で均一にすることができ、同発光層２１ｂ及び正孔輸送層２１ａからなる有機ＥＬ層２１の膜厚分布を素子形成面１１ａ内で均一にすることができる。

図６に示すように、第２乾燥工程を終了すると、有機ＥＬ層２１及び光熱変換層２２上に陰極２３を形成し、画素１３を封止する有機ＥＬ層後工程を行う（ステップ１６）。すなわち、有機ＥＬ層２１及び光熱変換層２２の上側全面にアルミニウム等の金属膜からなる陰極２３を堆積し、陽極２０、有機ＥＬ層２１及び陰極２３からなる有機ＥＬ素子を形成する。有機ＥＬ素子を形成すると、陰極２３（画素１３）の上側全面にエポキシ樹脂等を塗布して接着層２４を形成し、その接着層２４を介して封止基板１６を透明基板１１に貼着する。

これによって、有機ＥＬ層２１の膜厚分布を素子形成面１１ａ内で均一にした有機ＥＬディスプレイ１０を製造することができる。
次に、上記のように構成した本実施形態の効果を以下に記載する。

（１）上記実施形態によれば、発光素子形成領域１５の外周に赤外線吸収材料２２ａを含有する光熱変換層２２を形成し、同光熱変換層２２に収容孔２２ｈを形成した。そして、正孔輸送層形成材料溶液２７からなる液滴２７Ｄを同収容孔２２ｈ内に形成し（ステップＳ１２）、表示面１１ｂ全面に赤外光ＩＲを照射して液滴２７Ｄを乾燥するようにした（ステップＳ１３）。また、液滴２７Ｄを乾燥して正孔輸送層２１ａを形成した後に、同正孔輸送層２１ａの形成方法と同じくして、発光層形成材料溶液からなる液滴を前記収容孔２２ｈ内に形成し、赤外光ＩＲの照射による光熱変換層２２の加熱によって前記液滴を乾燥するようにした。

従って、透明基板１１（素子形成面１１ａ）の中央部近傍では、密集する光熱変換層２２（加熱壁２２ｗ）によって、溶媒分圧の上昇による液滴２７Ｄの乾燥速度の低下を補償することができ、同透明基板１１の外周部と同じ乾燥速度を維持することができる。その結果、素子形成面１１ａ内における有機ＥＬ層２１間の形状（例えば、正孔輸送層２１ａの膜厚プロファイルや発光層２１ｂの膜厚プロファイル等）の均一性を向上することができる。

（２）上記実施形態によれは、光熱変換層２２が液滴２７Ｄを収容する収容孔２２ｈを備えるようにした。従って、液滴２７Ｄに含有される正孔輸送層形成材料２７ｓが正孔輸送層２１ａを形成するまで、加熱壁２２ｗによって液滴２７Ｄを加熱することができる。
その結果、素子形成面１１ａ内における有機ＥＬ層２１の形状の均一性を確実に向上することができる。

（３）上記実施形態によれば、光熱変換層２２が可視光を遮光するカーボンブラック等を含有して可視光を遮光するようにした。従って、各有機ＥＬ層２１間を遮光する遮光膜を形成する工程を削減して、有機ＥＬ層２１の形状の均一性を向上することができる。

（４）上記実施形態によれば、素子形成面１１ａ上の全ての発光素子形成領域１５に液滴２７Ｄを形成し、その後に、表示面１１ｂ全面に赤外線ランプ３５の出射する赤外光ＩＲを照射するようにした。従って、光熱変換層２２によって各液滴２７Ｄを乾燥する時間を均一にすることができ、有機ＥＬ層２１の形状の均一性をさらに向上することができる。

（５）上記実施形態によれば、液滴吐出装置の吐出する液体によって液滴２７Ｄを形成するようにした。従って、収容孔２２ｈ内にのみ正孔輸送層形成材料溶液２７及び発光層形成材料溶液を吐出することができ、各液滴２７Ｄのサイズを均一にすることができる。その結果、有機ＥＬ層２１の形状の均一性をさらに向上することができる。

尚、上記実施形態は以下のように変更してもよい。
・上記実施形態では、赤外線ランプ３５の出射する赤外光ＩＲを透明基板１１の表示面１１ｂ側から照射するようにした。これに限らず、赤外光ＩＲを透明基板１１の素子形成面１１ａ側から照射するようにしてもよく、光熱変換層２２に赤外光ＩＲを照射するものであればよい。
・上記実施形態では、赤外光ＩＲの出射源を赤外線ランプ３５によって具体化したが、図１０に示すように、同出射源を赤外線レーザ４０に変更してもよい。これによれば、光熱変換層２２にのみ赤外光ＩＲを照射することができ、パターン形状の均一性をさらに向上することができる。

さらには、同赤外線レーザ４０を液滴吐出ヘッド２５の近傍に配設し、液滴２７Ｄを形成しながら、その液滴２７Ｄの外周に配設される光熱変換層２２を赤外線レーザ光によって加熱するようにしてもよい。これによれば、各液滴２７Ｄの乾燥時間をより均一にすることができ、有機ＥＬ層２１の形状を素子形成面１１ａ内でさらに均一にすることができる。なお、この際、赤外線吸収材料２２ａは、レーザ光吸収材料として、シアニン色素、フタロシアニン色素、ナフタロシアニン色素、アントラキノン色素、ピリリウム色素等の色素、又はカーボンブラックや黒鉛等の黒色材料であることが望ましい。
・上記実施形態では、光熱変換層２２に収容孔２２ｈを形成し、液滴２７Ｄを同収容孔２２ｈ内に収容するようにした。これに限らず、図１１に示すように、光熱変換層２２の上側に液滴２７Ｄを収容するための隔壁層４１を形成し、その隔壁層４１によって液滴２７Ｄを収容するようにしてもよい。
・上記実施形態では、赤外線吸収材料２２ａを各種有機系材料で形成するようにしたが、これに限らず、例えばアルミニウムの酸化物や硫化物、クロム等からなる無機材料によって形成してもよく、赤外光を吸収して熱に変換する材料であればよい。
・上記実施形態では、正孔輸送層形成材料２７ｓ及び発光層形成材料を有機高分子材料に具体化したが、これに限らず、公知の低分子材料によって構成してもよい。さらには、発光層２１ｂの上層にフッ化リチウムとカルシウムの積層膜等からなる電子注入層を設ける構成にしてもよい。
・上記実施形態では、制御素子形成領域１４にスイッチング用トランジスタＴ１及び駆動用トランジスタＴ２を備える構成にしたが、これに限定されるものでなく、所望の素子設計によって、例えば１つのトランジスタや多数のトランジスタ、あるいは多数のキャパシタからなる構成にしてもよい。
・上記実施形態では、基板ステージ３４に透明基板１１を載置して赤外光を照射するようにした。これに加えて、基板ステージ３４に透明基板１１の温度を検出する温度センサを設け、同温度センサの検出する温度に基づいて、赤外光の発光強度を制御するようにしてもよい。すなわち、赤外光の発光強度を制御して、透明基板１１の温度を所定の温度（例えば、液滴を乾燥させるための上限温度）に維持するようにしてもよい。
・上記実施形態では、有機ＥＬ層２１をインクジェット法によって形成する構成にした。これに限らず、有機ＥＬ層２１の形成方法は、例えば、スピンコート法等であってもよく、液体を乾燥して硬化させることによって有機ＥＬ層２１を形成する方法であればよい。・上記実施形態では、圧電素子３０によって微小液滴２７ｂを吐出するようにしたが、これに限らず、例えば供給室２８に抵抗加熱素子を設け、その抵抗加熱素子の加熱によって形成される気泡の破裂によって微小液滴２７ｂを吐出するようにしてもよい。
・上記実施形態では、発光素子形成領域１５の外周に光熱変換層２２を形成し、正孔輸送層形成材料溶液２７及び発光層形成材料溶液を乾燥して硬化するようにした。これに限らす、例えば、各色のカラーフィルタを備えるパターン形成基板（カラーフィルタ基板）に光熱変換層２２を形成する構成にしてもよい。すなわち、パターンを各色のカラーフィルタに具体化し、同カラーフィルタを形成するカラーフィルタ形成領域（パターン形成領域）の外周に光熱変換層２２を形成するようにしてもよい。そして、同光熱変換層２２が、カラーフィルタを形成するカラーフィルタ形成材料溶液を乾燥して硬化する構成にしてもよい。これによれば、カラーフィルタ基板上に形成する各色のカラーフィルタ形状の均一性を向上することができる。

さらには、配線パターンを備えるパターン形成基板（配線基板）に光熱変換層２２を形成する構成にしてもよい。すなわち、パターンを配線パターンに具体化し、同配線パターンを形成する配線パターン形成領域の外周に光熱変換層２２を形成するようにしてもよい。そして、同光熱変換層２２が、配線パターンを形成する配線形成材料を分散した配線形成材料分散液を乾燥して硬化する構成にしてもよい。これによれば、配線基板上に形成する配線パターン形状の均一性を向上することができる。
・上記実施形態では、電気光学装置を有機ＥＬディスプレイ１０として具体化したが、これに限らず、例えば液晶パネルに装着されるバックライト等であってもよく、あるいは平面状の電子放出素子を備え、同素子から放出された電子による蛍光物質の発光を利用した電界効果型ディスプレイ（ＦＥＤやＳＥＤ等）であってもよい。

本発明を具体化した有機ＥＬディスプレイを示す概略平面図。 同じく、画素を示す概略平面図。 同じく、制御素子形成領域を示す概略断面図。 同じく、制御素子形成領域を示す概略断面図。 同じく、発光素子形成領域を示す概略断面図。 同じく、電気光学装置の製造工程を説明するフローチャート。 同じく、電気光学装置の製造工程を説明する説明図。 同じく、電気光学装置の製造工程を説明する説明図。 同じく、電気光学装置の製造工程を説明する説明図。 変更例における電気光学装置の製造工程を説明する説明図。 変更例における電気光学装置を示す概略断面図。

符号の説明

１０…電気光学装置としての有機ＥＬディスプレイ、１１…パターン形成基板及び発光素子形成基板としての透明基板、１５…発光素子形成領域、２０…透明電極としての陽極、２１ｂ…発光層、２２…光熱変換部としての光熱変換層、２２ｗ…隔壁としての加熱壁、２３…背面電極としての陰極、２７ｓ…発光素子形成材料を構成する正孔輸送層形成材料
、２７Ｄ…液滴、ＩＲ…赤外光。

Claims (15)

1. パターン形成材料を含む液滴を乾燥して形成した複数のパターンを備えるパターン形成基板において、
   各パターンに対応して形成したパターン形成領域の外周に、赤外光を熱に変換する光熱変換部を備え、
   前記光熱変換部内に、赤外線吸収色素が分散していることを特徴とするパターン形成基板。
2. 請求項１に記載のパターン形成基板において、
   前記光熱変換部は、前記液滴をパターン形成領域に収容する隔壁を備えたことを特徴とするパターン形成基板。
3. 請求項１又は２のいずれか１つに記載のパターン形成基板において、
   前記パターン形成材料は、発光素子形成材料であって、前記パターンは、発光素子であることを特徴とするパターン形成基板。
4. 請求項１又は２のいずれか１つに記載のパターン形成基板において、
   前記パターン形成材料は、カラーフィルタ形成材料であって、前記パターンは、カラーフィルタであることを特徴とするパターン形成基板。
5. 請求項１又は２のいずれか１つに記載のパターン形成基板において、
   前記パターン形成基板は、配線形成材料であって、前記パターンは、配線パターンであることを特徴とするパターン形成基板。
6. 発光素子形成材料を含む液滴を乾燥して形成した複数の発光素子を備える電気光学装置において、
   各発光素子に対応して形成した発光素子形成領域の外周に、赤外光を熱に変換する光熱変換部を備え、
   前記光熱変換部内に、赤外線吸収色素が分散していることを特徴とする電気光学装置。
7. 請求項６に記載の電気光学装置において、
   前記光熱変換部は、前記液滴を前記発光素子形成領域に収容する隔壁を備えたことを特徴とする電気光学装置。
8. 請求項６又は７のいずれか１つに記載の電気光学装置において、
   前記発光素子は、透明電極と背面電極との間に発光層を備えるエレクトロルミネッセンス素子であることを特徴とする電気光学装置。
9. 請求項８に記載の電気光学装置において、
   前記発光素子は、有機材料からなる前記発光層を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子であることを特徴とする電気光学装置。
10. パターン形成材料を含む液滴を乾燥することによって複数のパターンを形成するようにしたパターン形成基板の製造方法において、
    各パターンに対応するパターン形成領域の外周に赤外光を熱に変換する光熱変換部を形成し、前記光熱変換部内には赤外線吸収色素が分散しており、前記パターン形成領域内に前記液滴を形成して前記パターン形成基板に赤外光を照射し、前記光熱変換部の変換した熱によって前記液滴を乾燥するようにしたことを特徴とするパターン形成基板の製造方法。
11. 請求項１０に記載のパターン形成基板の製造方法において、
    液滴吐出装置によって前記液滴を吐出するようにしたことを特徴とするパターン形成基板の製造方法。
12. 請求項１０又は１１に記載のパターン形成基板の製造方法において、
    前記パターン形成領域に液滴を形成した後に、前記パターン形成基板に赤外光を照射するようにしたことを特徴とするパターン形成基板の製造方法。
13. 請求項１０又は１１に記載のパターン形成基板の製造方法において、
    前記パターン形成領域に液滴を形成しながら前記パターン形成領域の前記光熱変換部に赤外光を照射するようにしたことを特徴とするパターン形成基板の製造方法。
14. 発光素子形成材料を含む液滴を乾燥することによって複数の発光素子を発光素子形成基板に形成するようにした電気光学装置の製造方法において、
    各発光素子に対応する発光素子形成領域の外周に赤外光を熱に変換する光熱変換部を形成し、前記光熱変換部内には赤外線吸収色素が分散しており、前記発光素子形成領域内に前記液滴を形成して前記発光素子形成基板に赤外光を照射し、前記光熱変換部の変換した熱によって前記液滴を乾燥するようにしたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
15. 請求項１４に記載の電気光学装置の製造方法において、
    液滴吐出装置によって前記液滴を吐出するようにしたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。

Images