JP2006164590A - パターン形成基板、電気光学装置、パターン形成基板の製造方法及び電気光学装置の製造方法 - Google Patents
パターン形成基板、電気光学装置、パターン形成基板の製造方法及び電気光学装置の製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】 発光素子形成領域15の外周に赤外線吸収材料22aを含有する光熱変換層22を形成し、同光熱変換層22に正孔輸送層形成材料溶液からなる液滴と発光層形成材料溶液からなる液滴を収容する収容孔22hを形成した。そして、表示面11bの全面に赤外光を照射し、同収容孔22h内に形成した前記液滴を、加熱壁22wを介して赤外線吸収材料22aの放熱する熱によって乾燥するようにした。
【選択図】 図5
Description
このパターン形成基板によれば、光熱変換部に含まれる赤外線吸収色素の変換する熱によって各液滴の乾燥条件を均一にすることができ、パターン形状の均一性を向上することができる。
このパターン形成基板によれば、光熱変換部の隔壁によって液滴を収容するため、収容する液滴のパターン形成材料がパターンを形成するまで、光熱変換部によって液滴を乾燥することができる。従って、各液滴の乾燥条件をより均一にすることができ、パターン形状の均一性をさらに向上することができる。
このパターン形成基板によれば、発光素子形成材料の乾燥条件を均一にすることができ、発光素子形状の均一性を向上することができる。
このパターン形成基板によれば、カラーフィルタ形成材料の乾燥条件を均一にすることができ、カラーフィルタ形状の均一性を向上することができる。
このパターン形成基板によれば、光熱変換部を遮光膜として構成するため、遮光膜を別途形成することなくパターン形状の均一性を向上することができる。
このパターン形成基板によれば、配線形成材料の乾燥条件を均一にすることができ、配線パターンの形状の均一性を向上することができる。
この電気光学装置によれば、光熱変換部に含まれる赤外線吸収色素の変換する熱によって各液滴の乾燥条件を均一にすることができ、発光素子形状の均一性を向上することができる。
この電気光学装置によれば、光熱変換部の隔壁によって液滴を収容するため、収容する液滴の発光素子形成材料が発光素子を形成するまで、光熱変換部によって液滴を乾燥することができる。従って、各液滴の乾燥条件をより均一にすることができ、発光素子形状の均一性をさらに向上することができる。
この発光素子形成基板によれば、光熱変換部を遮光膜として構成するため、遮光膜を別途形成することなく発光素子形状の均一性を向上することができる。
この電気光学装置によれば、エレクトロルミネッセンス素子の形状の均一性を向上することができる。
この電気光学装置によれば、有機エレクトロルミネッセンス素子の形状の均一性を向上することができる。
このパターン形成基板の製造方法によれば、液滴吐出装置によって液滴を吐出するため、光熱変換部内にのみ液滴を吐出することができ、パターン形状をより均一にすることができる。
このパターン形成基板の製造方法によれば、各パターン形成領域に液滴を形成した後に赤外光を照射するため、各液滴に対する加熱時間を均一にすることができ、パターン形状の均一性をさらに向上することができる。
このパターン形成基板の製造方法によれば、液滴を形成しながら、同液滴の形成されるパターン形成領域の光熱変換部に赤外光を照射するため、各液滴の加熱時間を均一にすることができ、パターン形状の均一性をさらに向上することができる。しかも、全ての液滴の形成を終了するときに同液滴の加熱を終了することができるため、加熱工程の工程時間を削減することができ、パターン形成基板の生産性を向上することができる。
この電気光学装置の製造方法によれば、液滴吐出装置によって液滴を吐出するため、光熱変換部内にのみ液滴を吐出することができ、発光素子の形状をより均一にすることができる。
この電気光学装置の製造方法によれば、各発光素子形成領域に液滴を形成した後に赤外光を照射するため、各液滴に対する加熱時間を均一にすることができ、発光素子形状の均一性をさらに向上することができる。
この電気光学装置の製造方法によれば、液滴を形成しながら、同液滴の形成される発光素子形成領域の光熱変換部に赤外光を照射するため、各液滴の加熱時間を均一にすることができ、発光素子形状の均一性をさらに向上することができる。しかも、全ての液滴の形成を終了するときに同液滴の加熱を終了することができるため、加熱工程の工程時間を削減することができ、電気光学装置の生産性を向上することができる。
基板11の下側に配設されるデータ線駆動回路Dr1に電気的に接続されている。データ線駆動回路Dr1は、図示しない外部装置から供給される表示データに基づいてデータ信号を生成し、そのデータ信号を対応するデータ線Lyに所定のタイミングで出力するようになっている。
抗金属膜であって、第1チャンネル領域C1と相対向する位置に形成され、図2に示すように、走査線Lxと電気的に接続されている。その第1ゲート電極G1は、図3に示すように、ゲート絶縁膜Goxの上側に堆積される第1層間絶縁膜IL1によって電気的に絶縁されている。
図2に示すように、各画素13の下側には、それぞれ四角形状の発光素子形成領域が形成されている。その発光素子形成領域15であって第2層間絶縁膜IL2の上側には、図5に示すように、その最下層である透明電極としての陽極20が形成されている。
。陰極23は、素子形成面11a側全面を覆うように形成され、各画素13が共有することによって各発光素子形成領域15に共通する電位を供給するようになっている。
そして、データ信号に応じた駆動電流が第2ドレイン領域D2を介して陽極20に供給されると、有機EL層21は、その駆動電流に応じた輝度で発光する。この際、有機EL層21から陰極23側(図4における上側)に向かって発光された光は、同陰極23によって反射される。そのため、有機EL層21から発光された光は、その殆どが、陽極20、第2層間絶縁膜IL2、第1層間絶縁膜IL1、ゲート絶縁膜Gox、素子形成面11a及び透明基板11を透過して透明基板11の裏面(表示面11b)側から外方に向かって出射する。すなわち、データ信号に基づく画像が有機ELディスプレイ10の表示面11bに表示される。
(有機ELディスプレイ10の製造方法)
次に、有機ELディスプレイ10の製造方法について以下に説明する。図6は、有機ELディスプレイ10の製造方法を説明するフローチャートであって、図7〜図9は、同有機ELディスプレイ10の製造方法を説明する説明図である。
1層間絶縁膜IL1の上側全面にシリコン酸化膜等からなる第2層間絶縁膜IL2を堆積する。これによって、スイッチング用トランジスタT1及び駆動用トランジスタT2を形成する。
まず、正孔輸送層形成材料27sを溶解した正孔輸送層形成材料溶液27を吐出するための液滴吐出装置の構成について以下に説明する。
ベンゼン環にアルキル又はアルコキシ置換基を有する高分子化合物や、ポリビニレンスチレン誘導体のビニレン基にシアノ基を有する高分子化合物等である。また、緑色発光材料には、例えばアルキル、又はアルコキシ又はアリール誘導体置換基をベンゼン環に導入したポリビニレンスチレン誘導体等である。青色発光材料には、例えばポリフルオレン誘導体(ジアルキルフルオレンとアントラセンの共重合体やジアルキルフルオレンとチオフェンの共重合体等)である。
次に、上記のように構成した本実施形態の効果を以下に記載する。
その結果、素子形成面11a内における有機EL層21の形状の均一性を確実に向上することができる。
・上記実施形態では、赤外線ランプ35の出射する赤外光IRを透明基板11の表示面11b側から照射するようにした。これに限らず、赤外光IRを透明基板11の素子形成面11a側から照射するようにしてもよく、光熱変換層22に赤外光IRを照射するものであればよい。
・上記実施形態では、赤外光IRの出射源を赤外線ランプ35によって具体化したが、図10に示すように、同出射源を赤外線レーザ40に変更してもよい。これによれば、光熱変換層22にのみ赤外光IRを照射することができ、パターン形状の均一性をさらに向上することができる。
・上記実施形態では、光熱変換層22に収容孔22hを形成し、液滴27Dを同収容孔22h内に収容するようにした。これに限らず、図11に示すように、光熱変換層22の上側に液滴27Dを収容するための隔壁層41を形成し、その隔壁層41によって液滴27Dを収容するようにしてもよい。
・上記実施形態では、赤外線吸収材料22aを各種有機系材料で形成するようにしたが、これに限らず、例えばアルミニウムの酸化物や硫化物、クロム等からなる無機材料によって形成してもよく、赤外光を吸収して熱に変換する材料であればよい。
・上記実施形態では、正孔輸送層形成材料27s及び発光層形成材料を有機高分子材料に具体化したが、これに限らず、公知の低分子材料によって構成してもよい。さらには、発光層21bの上層にフッ化リチウムとカルシウムの積層膜等からなる電子注入層を設ける構成にしてもよい。
・上記実施形態では、制御素子形成領域14にスイッチング用トランジスタT1及び駆動用トランジスタT2を備える構成にしたが、これに限定されるものでなく、所望の素子設計によって、例えば1つのトランジスタや多数のトランジスタ、あるいは多数のキャパシタからなる構成にしてもよい。
・上記実施形態では、基板ステージ34に透明基板11を載置して赤外光を照射するようにした。これに加えて、基板ステージ34に透明基板11の温度を検出する温度センサを設け、同温度センサの検出する温度に基づいて、赤外光の発光強度を制御するようにしてもよい。すなわち、赤外光の発光強度を制御して、透明基板11の温度を所定の温度(例えば、液滴を乾燥させるための上限温度)に維持するようにしてもよい。
・上記実施形態では、有機EL層21をインクジェット法によって形成する構成にした。これに限らず、有機EL層21の形成方法は、例えば、スピンコート法等であってもよく、液体を乾燥して硬化させることによって有機EL層21を形成する方法であればよい。・上記実施形態では、圧電素子30によって微小液滴27bを吐出するようにしたが、これに限らず、例えば供給室28に抵抗加熱素子を設け、その抵抗加熱素子の加熱によって形成される気泡の破裂によって微小液滴27bを吐出するようにしてもよい。
・上記実施形態では、発光素子形成領域15の外周に光熱変換層22を形成し、正孔輸送層形成材料溶液27及び発光層形成材料溶液を乾燥して硬化するようにした。これに限らす、例えば、各色のカラーフィルタを備えるパターン形成基板(カラーフィルタ基板)に光熱変換層22を形成する構成にしてもよい。すなわち、パターンを各色のカラーフィルタに具体化し、同カラーフィルタを形成するカラーフィルタ形成領域(パターン形成領域)の外周に光熱変換層22を形成するようにしてもよい。そして、同光熱変換層22が、カラーフィルタを形成するカラーフィルタ形成材料溶液を乾燥して硬化する構成にしてもよい。これによれば、カラーフィルタ基板上に形成する各色のカラーフィルタ形状の均一性を向上することができる。
・上記実施形態では、電気光学装置を有機ELディスプレイ10として具体化したが、これに限らず、例えば液晶パネルに装着されるバックライト等であってもよく、あるいは平面状の電子放出素子を備え、同素子から放出された電子による蛍光物質の発光を利用した電界効果型ディスプレイ(FEDやSED等)であってもよい。
、27D…液滴、IR…赤外光。
Claims (21)
- パターン形成材料を含む液滴を乾燥して形成した複数のパターンを備えるパターン形成基板において、
各パターンに対応して形成したパターン形成領域の外周に、赤外光を熱に変換する光熱変換部を備えたことを特徴とするパターン形成基板。 - 請求項1に記載のパターン形成基板において、
前記光熱変換部は、赤外線吸収色素を含むことを特徴とするパターン形成基板。 - 請求項1又は2に記載のパターン形成基板において、
前記光熱変換部は、前記液滴をパターン形成領域に収容する隔壁を備えたことを特徴とするパターン形成基板。 - 請求項1〜3のいずれか1つに記載のパターン形成基板において、
前記パターン形成材料は、発光素子形成材料であって、前記パターンは、発光素子であることを特徴とするパターン形成基板。 - 請求項1〜3のいずれか1つに記載のパターン形成基板において、
前記パターン形成材料は、カラーフィルタ形成材料であって、前記パターンは、カラーフィルタであることを特徴とするパターン形成基板。 - 請求項5に記載のパターン形成基板において、
前記光熱変換部は、前記カラーフィルタの外周を遮光する遮光膜であることを特徴とするパターン形成基板。 - 請求項1〜3のいずれか1つに記載のパターン形成基板において、
前記パターン形成基板は、配線形成材料であって、前記パターンは、配線パターンであることを特徴とするパターン形成基板。 - 発光素子形成材料を含む液滴を乾燥して形成した複数の発光素子を備える電気光学装置において、
各発光素子に対応して形成した発光素子形成領域の外周に、赤外光を熱に変換する光熱変換部を備えたことを特徴とする電気光学装置。 - 請求項8に記載の電気光学装置において、
前記光熱変換部は、赤外線吸収色素を含むことを特徴とする電気光学装置。 - 請求項8又は9に記載の電気光学装置において、
前記光熱変換部は、前記液滴を前記発光素子形成領域に収容する隔壁を備えたことを特徴とする電気光学装置。 - 請求項8〜10のいずれか1つに記載の電気光学装置において、
前記光熱変換部は、前記発光素子の外周を遮光する遮光膜であることを特徴とする電気光学装置。 - 請求項8〜11のいずれか1つに記載の電気光学装置において、
前記発光素子は、透明電極と背面電極との間に発光層を備えるエレクトロルミネッセンス素子であることを特徴とする電気光学装置。 - 請求項12に記載の電気光学装置において、
前記発光素子は、有機材料からなる前記発光層を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子であることを特徴とする電気光学装置。 - パターン形成材料を含む液滴を乾燥することによって複数のパターンを形成するようにしたパターン形成基板の製造方法において、
各パターンに対応するパターン形成領域の外周に赤外光を熱に変換する光熱変換部を形成し、前記パターン形成領域内に前記液滴を形成して前記パターン形成基板に赤外光を照射し、前記光熱変換部の変換した熱によって前記液滴を乾燥するようにしたことを特徴とするパターン形成基板の製造方法。 - 請求項14に記載のパターン形成基板の製造方法において、
液滴吐出装置によって前記液滴を吐出するようにしたことを特徴とするパターン形成基板の製造方法。 - 請求項14又は15に記載のパターン形成基板の製造方法において、
前記パターン形成領域に液滴を形成した後に、前記パターン形成基板に赤外光を照射するようにしたことを特徴とするパターン形成基板の製造方法。 - 請求項14又は15に記載のパターン形成基板の製造方法において、
前記パターン形成領域に液滴を形成しながら前記パターン形成領域の前記光熱変換部に赤外光を照射するようにしたことを特徴とするパターン形成基板の製造方法。 - 発光素子形成材料を含む液滴を乾燥することによって複数の発光素子を発光素子形成基板に形成するようにした電気光学装置の製造方法において、
各発光素子に対応する発光素子形成領域の外周に赤外光を熱に変換する光熱変換部を形成し、前記発光素子形成領域内に前記液滴を形成して前記発光素子形成基板に赤外光を照射し、前記光熱変換部の変換した熱によって前記液滴を乾燥するようにしたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。 - 請求項18に記載の電気光学装置の製造方法において、
液滴吐出装置によって前記液滴を吐出するようにしたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。 - 請求項18又は19に記載の電気光学装置の製造方法において、
前記発光素子形成領域に液滴を形成した後に、前記発光素子形成基板に赤外光を照射するようにしたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。 - 請求項18又は19に記載の電気光学装置の製造方法において、
前記発光素子形成領域に液滴を形成しながら前記発光素子形成基板に赤外光を照射するようにしたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
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