JP2003139935A - 平面表示装置用多色画素構成物 - Google Patents
平面表示装置用多色画素構成物Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】形成されたバンク表面のみを選択的に撥インク
性をもたせるために、バンク表面に特別な処理を行うこ
となく、製造工程を複雑にすることなく、バンク表面を
色別画素表示物の液滴が濡れにくくし、画素内に均一に
平坦な色別画素表示物の層が形成された平面表示装置用
多色画素構成物を提供する。 【解決手段】バンク材層が樹脂を材料とし、画素インキ
材をはじくために、バンク材層の下にあらかじめ撥イン
ク材層を塗布形成し、前記バンク材層がレーザー描画タ
イプの熱転写方式により形成された画素仕切り堰（バン
ク）内に、色別の画素表示物がインクジェット法により
塗布形成され、画素表示物の高さがバンクの高さとほぼ
同一とし、画素表示物に使用されるインクが、ＵＶ光、
又は電子線（ＥＢ）により硬化する平面表示装置用多色
画素構成物提供。
性をもたせるために、バンク表面に特別な処理を行うこ
となく、製造工程を複雑にすることなく、バンク表面を
色別画素表示物の液滴が濡れにくくし、画素内に均一に
平坦な色別画素表示物の層が形成された平面表示装置用
多色画素構成物を提供する。 【解決手段】バンク材層が樹脂を材料とし、画素インキ
材をはじくために、バンク材層の下にあらかじめ撥イン
ク材層を塗布形成し、前記バンク材層がレーザー描画タ
イプの熱転写方式により形成された画素仕切り堰（バン
ク）内に、色別の画素表示物がインクジェット法により
塗布形成され、画素表示物の高さがバンクの高さとほぼ
同一とし、画素表示物に使用されるインクが、ＵＶ光、
又は電子線（ＥＢ）により硬化する平面表示装置用多色
画素構成物提供。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶ディスプレイ
（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、有機Ｅ
Ｌディスプレイ（ＯＥＬＤ）等の平面多色表示装置用部
材の中で、カラーフィルタや色別発光体等の画素分割さ
れた多色画素構成物、特にインクジェット方式を用いて
製造された平面表示装置用多色画素構成物に関する。
（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、有機Ｅ
Ｌディスプレイ（ＯＥＬＤ）等の平面多色表示装置用部
材の中で、カラーフィルタや色別発光体等の画素分割さ
れた多色画素構成物、特にインクジェット方式を用いて
製造された平面表示装置用多色画素構成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】平面表示装置用多色画素構成物の中で最
も一般的に使われているカラーフィルタ（以下ＣＦと称
す）を例として述べる。ＣＦの製造方法として、従来よ
り顔料分散法、染色法、印刷法、電着法等各種の方法が
実現されており、とりわけ顔料分散法は高品質のＣＦの
大量生産方法として最も多用されている。
も一般的に使われているカラーフィルタ（以下ＣＦと称
す）を例として述べる。ＣＦの製造方法として、従来よ
り顔料分散法、染色法、印刷法、電着法等各種の方法が
実現されており、とりわけ顔料分散法は高品質のＣＦの
大量生産方法として最も多用されている。
【０００３】顔料分散法は遮光性のブラックマトリック
スパターン（以下ＢＭパターンと称す）をクロム等の金
属または金属と金属酸化物の積層薄膜をフォトエッチン
グプロセスによってパターン形成した後、その開口部に
赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）、の色選択を必要に応じ
て行うための各色パターンをフォトリソプロセスによっ
てパターン形成するものが最も一般的である。
スパターン（以下ＢＭパターンと称す）をクロム等の金
属または金属と金属酸化物の積層薄膜をフォトエッチン
グプロセスによってパターン形成した後、その開口部に
赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）、の色選択を必要に応じ
て行うための各色パターンをフォトリソプロセスによっ
てパターン形成するものが最も一般的である。
【０００４】近年、カラー液晶ディスプレイ等の平面表
示装置の需要が増加しており、更なる普及を目指してコ
スト削減が強く望まれている。特に、主要部品となるＣ
Ｆについては新たな構造、工程による低コストの製造方
法が求められている。
示装置の需要が増加しており、更なる普及を目指してコ
スト削減が強く望まれている。特に、主要部品となるＣ
Ｆについては新たな構造、工程による低コストの製造方
法が求められている。
【０００５】低コストのＣＦとして提案されている一つ
の方法は、遮光性のＢＭパターンを感光性の樹脂材料で
形成することにより、クロム等の金属または金属と金属
酸化物の積層薄膜を不要とするものである。
の方法は、遮光性のＢＭパターンを感光性の樹脂材料で
形成することにより、クロム等の金属または金属と金属
酸化物の積層薄膜を不要とするものである。
【０００６】しかしながら、工程の主要な部分を占める
赤（Ｒ）緑（Ｇ）青（Ｂ）の着色層の形成において、色
材塗布、露光、現像、熱硬化の一連の工程を各色毎に繰
り返すことは低コスト化の大きな障害になっていた。
赤（Ｒ）緑（Ｇ）青（Ｂ）の着色層の形成において、色
材塗布、露光、現像、熱硬化の一連の工程を各色毎に繰
り返すことは低コスト化の大きな障害になっていた。
【０００７】しかも設備とその設置スペース、工程内で
用いる水、色材等の資源の消費においても近年の基板サ
イズの大型化に伴ってますます大きな負担が加わるよう
になった。
用いる水、色材等の資源の消費においても近年の基板サ
イズの大型化に伴ってますます大きな負担が加わるよう
になった。
【０００８】これらの問題を解決する低コストのＣＦの
製造方法として、特開昭５９−７５２０５号公報には着
色層をインクジェット法で形成することが提案されてい
る。
製造方法として、特開昭５９−７５２０５号公報には着
色層をインクジェット法で形成することが提案されてい
る。
【０００９】インクジェット法で着色層を形成する場合
の着色液滴径は数十μｍ程度の大きさであり、ＣＦの画
素との関係は、着色液滴径の数十μｍ程度に対しＣＦの
一画素の大きさは短辺数十μｍ、長辺数百μｍ程度であ
る。
の着色液滴径は数十μｍ程度の大きさであり、ＣＦの画
素との関係は、着色液滴径の数十μｍ程度に対しＣＦの
一画素の大きさは短辺数十μｍ、長辺数百μｍ程度であ
る。
【００１０】このため、あらかじめ、基板上に遮光性の
ＢＭパターンをインクジェット法で飛来する着色液滴の
堰の役割を果たす凸部として形成しておき、画素の区画
内に特定の色の着色液滴を広げることにより、均一な着
色層が形成された画素を得ることができる。
ＢＭパターンをインクジェット法で飛来する着色液滴の
堰の役割を果たす凸部として形成しておき、画素の区画
内に特定の色の着色液滴を広げることにより、均一な着
色層が形成された画素を得ることができる。
【００１１】このインクジェット法では、インクジェッ
ト法で使用されるインクの性質は適用するインクジェッ
トヘッドの種類により異なるが、一般に粘度は数十ｍＰ
ａ．ｓ以下であり、それに伴って、固形分比や着色顔料
成分比の制約も発生する。
ト法で使用されるインクの性質は適用するインクジェッ
トヘッドの種類により異なるが、一般に粘度は数十ｍＰ
ａ．ｓ以下であり、それに伴って、固形分比や着色顔料
成分比の制約も発生する。
【００１２】一方、ＣＦとして要求される特性である膜
厚と色特性（分光透過率特性）を満足させるためには、
熱硬化処理前の着色層の厚さを着色液滴の堰の役割を兼
ねたＢＭパターンの厚さより厚くすることも必要にな
る。
厚と色特性（分光透過率特性）を満足させるためには、
熱硬化処理前の着色層の厚さを着色液滴の堰の役割を兼
ねたＢＭパターンの厚さより厚くすることも必要にな
る。
【００１３】このため着色液滴が画素内の基板表面には
濡れやすいが、堰の役割を兼ねたＢＭパターン表面には
濡れにくいようにすることによって、熱硬化処理前に堰
を越えることなく高く盛り上げる工夫をしてみた。
濡れやすいが、堰の役割を兼ねたＢＭパターン表面には
濡れにくいようにすることによって、熱硬化処理前に堰
を越えることなく高く盛り上げる工夫をしてみた。
【００１４】しかし、ＢＭパターン表面を着色液滴が濡
れにくくするには、ＢＭパターン表面のみを選択的に撥
インク性をもたせるための特別な処理が必要となる。
れにくくするには、ＢＭパターン表面のみを選択的に撥
インク性をもたせるための特別な処理が必要となる。
【００１５】これは、ＣＦの製造工程を複雑にする結果
になり、ＢＭパターンの堰構造の中にインクジェット法
で各色の着色液滴を射出して画素を形成するという本来
の短縮工程の良さが失われることになる。このため、製
造工程を複雑にすることなくＢＭパターン表面のみを着
色液滴が濡れにくくする方法が望まれていた。
になり、ＢＭパターンの堰構造の中にインクジェット法
で各色の着色液滴を射出して画素を形成するという本来
の短縮工程の良さが失われることになる。このため、製
造工程を複雑にすることなくＢＭパターン表面のみを着
色液滴が濡れにくくする方法が望まれていた。
【００１６】以上はＢＭパターンを画素仕切り堰（以下
バンクと称す）として基板上に形成し、画素の区画内に
着色液滴をインクジェット法により均一に注入、充満さ
せて作られるＣＦの例について述べたが、他の平面表示
装置用多色画素構成物も類似の方法で形成することがで
き、上記と同様の不具合も生じる。
バンクと称す）として基板上に形成し、画素の区画内に
着色液滴をインクジェット法により均一に注入、充満さ
せて作られるＣＦの例について述べたが、他の平面表示
装置用多色画素構成物も類似の方法で形成することがで
き、上記と同様の不具合も生じる。
【００１７】従って、製造工程を複雑にすることなくバ
ンク表面のみを色別画素表示物が濡れにくくする方法が
望まれていた。この場合、バンクは遮光物に限定され
ず、光透過物も含み、色別画素表示物は外光の透過吸収
に起因する着色物に限定されず、電界発光物も含む。
ンク表面のみを色別画素表示物が濡れにくくする方法が
望まれていた。この場合、バンクは遮光物に限定され
ず、光透過物も含み、色別画素表示物は外光の透過吸収
に起因する着色物に限定されず、電界発光物も含む。
【００１８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記要望を
適えるためになされたものであり、形成されたバンク表
面のみを選択的に撥インク性をもたせるために、バンク
表面に特別な処理を行うことなく、即ち、平面表示装置
用多色画素構成物の製造工程を複雑にすることなく、バ
ンク表面を色別画素表示物の液滴が濡れにくくし、画素
内に均一に平坦な色別画素表示物の層が形成された平面
表示装置用多色画素構成物を提供することを課題とす
る。
適えるためになされたものであり、形成されたバンク表
面のみを選択的に撥インク性をもたせるために、バンク
表面に特別な処理を行うことなく、即ち、平面表示装置
用多色画素構成物の製造工程を複雑にすることなく、バ
ンク表面を色別画素表示物の液滴が濡れにくくし、画素
内に均一に平坦な色別画素表示物の層が形成された平面
表示装置用多色画素構成物を提供することを課題とす
る。
【００１９】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項に係る発
明は、基板上に画素を分割するバンクのパターンが形成
され、次いで各画素内に色別画素表示物が形成された平
面表示装置用多色画素構成物において、バンクが樹脂を
材料として転写プロセスにより形成され、各画素内に形
成された色別画素表示物がインクジェット法により形成
されたことを特徴とする平面表示装置用多色画素構成物
である。
明は、基板上に画素を分割するバンクのパターンが形成
され、次いで各画素内に色別画素表示物が形成された平
面表示装置用多色画素構成物において、バンクが樹脂を
材料として転写プロセスにより形成され、各画素内に形
成された色別画素表示物がインクジェット法により形成
されたことを特徴とする平面表示装置用多色画素構成物
である。
【００２０】また、本発明の請求項２に係る発明は、上
記発明による平面表示装置用多色画素構成物において、
前記インクジェット法により形成される色別の画素表示
物の乾燥硬化前の高さがバンクの高さ以上で画素仕切り
堰（バンク）の高さの３倍まで、又は画素仕切り堰（バ
ンク）の高さの２倍までとし、前記色別画素表示物の乾
燥硬化後の高さが、バンクの高さとほぼ同一とすること
を特徴とする請求項１記載の平面表示装置用多色画素構
成物である。
記発明による平面表示装置用多色画素構成物において、
前記インクジェット法により形成される色別の画素表示
物の乾燥硬化前の高さがバンクの高さ以上で画素仕切り
堰（バンク）の高さの３倍まで、又は画素仕切り堰（バ
ンク）の高さの２倍までとし、前記色別画素表示物の乾
燥硬化後の高さが、バンクの高さとほぼ同一とすること
を特徴とする請求項１記載の平面表示装置用多色画素構
成物である。
【００２１】また、本発明の請求項３に係る発明は、上
記発明による平面表示装置用多色画素構成物において、
前記インクジェット法により形成される色別の画素表示
物に使用されるインクが、主としてＵＶ光、又は電子線
（ＥＢ）により硬化されるインクであることを特徴とす
る請求項１、又は請求項２記載の平面表示装置用多色画
素構成物である。
記発明による平面表示装置用多色画素構成物において、
前記インクジェット法により形成される色別の画素表示
物に使用されるインクが、主としてＵＶ光、又は電子線
（ＥＢ）により硬化されるインクであることを特徴とす
る請求項１、又は請求項２記載の平面表示装置用多色画
素構成物である。
【００２２】また、本発明の請求項４に係る発明は、上
記発明による平面表示装置用多色画素構成物において、
前記転写プロセスがレーザー描画タイプの熱転写方式で
あることを特徴とする請求項１、又は２、又は３に記載
の平面表示装置用多色画素構成物ある。
記発明による平面表示装置用多色画素構成物において、
前記転写プロセスがレーザー描画タイプの熱転写方式で
あることを特徴とする請求項１、又は２、又は３に記載
の平面表示装置用多色画素構成物ある。
【００２３】また、本発明の請求項５に係る発明は、上
記発明による平面表示装置用多色画素構成物において、
前記転写プロセスに用いる転写用媒体として、転写フィ
ルムに塗布される画素仕切り堰（バンク）材層の下にあ
らかじめ撥インク材層を塗布形成した転写用媒体を用い
ることを特徴とする請求項１、又は２、又は３、又は４
に記載の平面表示装置用多色画素構成物である。
記発明による平面表示装置用多色画素構成物において、
前記転写プロセスに用いる転写用媒体として、転写フィ
ルムに塗布される画素仕切り堰（バンク）材層の下にあ
らかじめ撥インク材層を塗布形成した転写用媒体を用い
ることを特徴とする請求項１、又は２、又は３、又は４
に記載の平面表示装置用多色画素構成物である。
【００２４】本発明の請求項６に係る発明は、画素仕切
り堰材層が色別の画素インキ材をはじくものであること
を特徴とする請求項１、又は２、又は３、又は４に記載
の平面表示装置用多色画素構成物。である。
り堰材層が色別の画素インキ材をはじくものであること
を特徴とする請求項１、又は２、又は３、又は４に記載
の平面表示装置用多色画素構成物。である。
【００２５】また、本発明の請求項７に係る発明は、上
記発明による平面表示装置用多色画素構成物において、
前記基板がフレキシブルなフィルムであることを特徴と
する請求項１、又は２、又は３、又は４、又は５、又６
に記載の平面表示装置用多色画素構成物である。
記発明による平面表示装置用多色画素構成物において、
前記基板がフレキシブルなフィルムであることを特徴と
する請求項１、又は２、又は３、又は４、又は５、又６
に記載の平面表示装置用多色画素構成物である。
【００２６】
【発明の実施の形態】以下に本発明による平面表示装置
用多色画素構成物を、その一実施形態に基づいて説明す
る。
用多色画素構成物を、その一実施形態に基づいて説明す
る。
【００２７】本発明による平面表示装置用多色画素構成
物は、基板１上に画素を分割し画素内で色別の画素表示
物のインクジェット液滴に対する堰としての機能を有す
るバンクパターンを樹脂を材料とする転写プロセスによ
りあらかじめ形成し、各画素内に色別の画素表示物の液
滴を選択的にインクジェット法でバンク高さの１〜３
倍、望ましくは１〜２倍の高さに射出充満させ、乾燥硬
化後にバンク高さとほぼ同一の高さに平坦に製造され
る。
物は、基板１上に画素を分割し画素内で色別の画素表示
物のインクジェット液滴に対する堰としての機能を有す
るバンクパターンを樹脂を材料とする転写プロセスによ
りあらかじめ形成し、各画素内に色別の画素表示物の液
滴を選択的にインクジェット法でバンク高さの１〜３
倍、望ましくは１〜２倍の高さに射出充満させ、乾燥硬
化後にバンク高さとほぼ同一の高さに平坦に製造され
る。
【００２８】図１（イ）、（ロ）は、本発明による多色
画素構成物の乾燥硬化前と、乾燥硬化後を模式的に示す
断面図であり、（イ）は、樹脂を材料としたバンクパタ
ーンを堰として各画素内に赤（Ｒ）緑（Ｇ）青（Ｂ）等
の各画素表示物の液滴を選択的にインクジェット法で射
出充満させた直後の状態（乾燥硬化前）を示す。（ロ）
は、赤（Ｒ）緑（Ｇ）青（Ｂ）等の全画素表示物層の形
成後に乾燥硬化して、バンクパターン、赤（Ｒ）緑
（Ｇ）青（Ｂ）等の各画素表示物層の高さをほぼ同じに
揃えた状態を示す。例えば乾燥硬化後の画素の高さはバ
ンクパターンの高さより＋０％〜＋１０％の範囲に管理
する。
画素構成物の乾燥硬化前と、乾燥硬化後を模式的に示す
断面図であり、（イ）は、樹脂を材料としたバンクパタ
ーンを堰として各画素内に赤（Ｒ）緑（Ｇ）青（Ｂ）等
の各画素表示物の液滴を選択的にインクジェット法で射
出充満させた直後の状態（乾燥硬化前）を示す。（ロ）
は、赤（Ｒ）緑（Ｇ）青（Ｂ）等の全画素表示物層の形
成後に乾燥硬化して、バンクパターン、赤（Ｒ）緑
（Ｇ）青（Ｂ）等の各画素表示物層の高さをほぼ同じに
揃えた状態を示す。例えば乾燥硬化後の画素の高さはバ
ンクパターンの高さより＋０％〜＋１０％の範囲に管理
する。
【００２９】ここで、（イ）から（ロ）への膜厚変化は
第一次近似で、各色インクの固形分比に比例する膜厚ま
で減少する。従って、乾燥硬化前の状態（イ）における
バンクパターンを含めた各色の膜厚は減少分を見込んだ
膜厚を形成する必要がある。バンクパターン２ａは、バ
ンク層９と撥インク層１０とで構成されている。
第一次近似で、各色インクの固形分比に比例する膜厚ま
で減少する。従って、乾燥硬化前の状態（イ）における
バンクパターンを含めた各色の膜厚は減少分を見込んだ
膜厚を形成する必要がある。バンクパターン２ａは、バ
ンク層９と撥インク層１０とで構成されている。
【００３０】インクジェット法により、図１（イ）の状
態を作るにあたり、乾燥硬化前の画素表示物層の厚さを
液滴の堰の役割を果たすバンクパターン２ａの厚さより
厚くすることが必要になる。このため画素表示物の液滴
が画素内の基板１表面に濡れやすいが、バンクパターン
２ａ表面には濡れにくいようにすることによって、乾燥
硬化前にバンクを越えることなく高く盛り上げることが
できる。
態を作るにあたり、乾燥硬化前の画素表示物層の厚さを
液滴の堰の役割を果たすバンクパターン２ａの厚さより
厚くすることが必要になる。このため画素表示物の液滴
が画素内の基板１表面に濡れやすいが、バンクパターン
２ａ表面には濡れにくいようにすることによって、乾燥
硬化前にバンクを越えることなく高く盛り上げることが
できる。
【００３１】本発明における多色画素構成物のバンクパ
ターン２ａは、バンク層９と撥インク層１０とで構成さ
れ、撥インク層１０を上層としてあるので、画素表示物
の液滴がバンクパターン２ａ上に這い上がること無く、
従って隣り合う異なるる色の画素表示物同士が混じり合
うことが無くなる。
ターン２ａは、バンク層９と撥インク層１０とで構成さ
れ、撥インク層１０を上層としてあるので、画素表示物
の液滴がバンクパターン２ａ上に這い上がること無く、
従って隣り合う異なるる色の画素表示物同士が混じり合
うことが無くなる。
【００３２】しかし、乾燥硬化前に隣接する画素表示物
同士が接触することをより確実に避けるには、バンクパ
ターンの撥インク層１０の効果を考慮しても画素表示物
の液滴はバンク高さの３倍以内、望ましくは２倍以内に
盛り量を抑えた方が良い。
同士が接触することをより確実に避けるには、バンクパ
ターンの撥インク層１０の効果を考慮しても画素表示物
の液滴はバンク高さの３倍以内、望ましくは２倍以内に
盛り量を抑えた方が良い。
【００３３】図２は、図１に示す撥インク層１０を上層
として有するバンクパターン２ａを基板１上に形成する
手段として用いる、レーザー描画タイプの熱転写方式の
転写用媒体の説明図である。図２（イ）は、撥インク層
８を必要としない一般的な場合の転写用媒体の断面構造
を模式的に表したものである。この転写用媒体を用いて
基板上にレーザー描画熱転写する場合、基板１上にバン
ク材層７の面で密着された転写用媒体の支持体フィルム
４の側から描画のためのレーザー光を選択的に照射し、
光／熱吸収層５の加熱された領域の局部的な温度上昇に
より、分解等の物質変化の作用で剥離層６を介してバン
ク材層７の該当領域のみを基板側に転写する。
として有するバンクパターン２ａを基板１上に形成する
手段として用いる、レーザー描画タイプの熱転写方式の
転写用媒体の説明図である。図２（イ）は、撥インク層
８を必要としない一般的な場合の転写用媒体の断面構造
を模式的に表したものである。この転写用媒体を用いて
基板上にレーザー描画熱転写する場合、基板１上にバン
ク材層７の面で密着された転写用媒体の支持体フィルム
４の側から描画のためのレーザー光を選択的に照射し、
光／熱吸収層５の加熱された領域の局部的な温度上昇に
より、分解等の物質変化の作用で剥離層６を介してバン
ク材層７の該当領域のみを基板側に転写する。
【００３４】図２（ロ）は、撥インク層１を設ける場合
の転写用媒体の断面構造を模式的に表したものである。
剥離層６とバンク材層７との間に撥インク材層８をあら
かじめ形成した転写用媒体を用意しておき、上記と同様
の手段でレーザー描画熱転写すると、選択照射された領
域のバンク材層７と撥インク材層８とが同時に基板１側
に転写し、図１（イ）のバンク層９と撥インク層１０を
形成する。
の転写用媒体の断面構造を模式的に表したものである。
剥離層６とバンク材層７との間に撥インク材層８をあら
かじめ形成した転写用媒体を用意しておき、上記と同様
の手段でレーザー描画熱転写すると、選択照射された領
域のバンク材層７と撥インク材層８とが同時に基板１側
に転写し、図１（イ）のバンク層９と撥インク層１０を
形成する。
【００３５】撥インク層１０を構成する材料としては、
例えば、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素樹脂や
シリコンゴム等を含むものがあるが、各色の画素表示物
の構成材料により最適化すれば良い。
例えば、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素樹脂や
シリコンゴム等を含むものがあるが、各色の画素表示物
の構成材料により最適化すれば良い。
【００３６】さらに、インクはＵＶ光による硬化タイプ
であることが望ましい。これは図１を用いて説明したと
おり、乾燥硬化後の膜厚の減少割合が小さいことが求め
られるためである。即ち、膜厚減少が大きいタイプでは
堰を形成するバンクパターンに対して相対的に厚くイン
クを盛る必要が生じ、安定な生産を損なう恐れがある。
また、他の理由からもＵＶ硬化タイプのインクが望まし
い。即ち、各色の画素表示物は専用のヘッドからインク
を射出するが、生産性からも品質保証面からも各色はで
きるだけ時間を空けないで形成したい。しかるに堰を形
成するバンクパターンからある程度の高さに盛り上がる
異なる色の画素表示物が硬化不充分な状態で接近して存
在することは、撥インク性のバンクパターン上であって
も品質トラブルの原因になる。ＵＶ硬化性を有するイン
クであれば、短時間のＵＶ光照射により乾燥硬化がある
程度進み、他の色との接近を恐れる必要が無くなる。熱
による乾燥硬化のみに頼る場合は単色のウェット状態が
長引くことによるゴミ付着の確率も高くなる。尚、上記
と同様の理由により、電子線（ＥＢ）硬化タイプのイン
クを用いることの効果も容易に考えられる。
であることが望ましい。これは図１を用いて説明したと
おり、乾燥硬化後の膜厚の減少割合が小さいことが求め
られるためである。即ち、膜厚減少が大きいタイプでは
堰を形成するバンクパターンに対して相対的に厚くイン
クを盛る必要が生じ、安定な生産を損なう恐れがある。
また、他の理由からもＵＶ硬化タイプのインクが望まし
い。即ち、各色の画素表示物は専用のヘッドからインク
を射出するが、生産性からも品質保証面からも各色はで
きるだけ時間を空けないで形成したい。しかるに堰を形
成するバンクパターンからある程度の高さに盛り上がる
異なる色の画素表示物が硬化不充分な状態で接近して存
在することは、撥インク性のバンクパターン上であって
も品質トラブルの原因になる。ＵＶ硬化性を有するイン
クであれば、短時間のＵＶ光照射により乾燥硬化がある
程度進み、他の色との接近を恐れる必要が無くなる。熱
による乾燥硬化のみに頼る場合は単色のウェット状態が
長引くことによるゴミ付着の確率も高くなる。尚、上記
と同様の理由により、電子線（ＥＢ）硬化タイプのイン
クを用いることの効果も容易に考えられる。
【００３７】さらに、平面表示装置用多色画素構成物の
基板１としては、透明性と剛性を兼ね備えたガラス基板
１を用いることが多いが、平面表示装置の求められる特
性により、金属等の非透明性の基板１であっても、また
プラスチック等の柔軟な基板１であっても適用できる。
特に、基板１がフレキシブルなフィルム状のものであれ
ば、製造工程の全体にわたって、ロールフィルムの巻き
取り方式を適用できる。転写プロセスを前提とする本発
明においては特にフィルム状の形態を適用することが生
産性を高める上で最適となる。
基板１としては、透明性と剛性を兼ね備えたガラス基板
１を用いることが多いが、平面表示装置の求められる特
性により、金属等の非透明性の基板１であっても、また
プラスチック等の柔軟な基板１であっても適用できる。
特に、基板１がフレキシブルなフィルム状のものであれ
ば、製造工程の全体にわたって、ロールフィルムの巻き
取り方式を適用できる。転写プロセスを前提とする本発
明においては特にフィルム状の形態を適用することが生
産性を高める上で最適となる。
【００３８】
【発明の効果】本発明は、平面表示装置用多色画素構成
物の画素を仕切るバンクパターンが樹脂を材料とし、バ
ンク材層の下に、あらかじめ撥インク材層を塗布形成し
た転写用媒体を転写プロセスにより形成され、各バンク
パターン内に規則的に配置される複数色の画素表示物が
インクジェット法により形成された平面表示装置用多色
画素構成物であるので、バンクパターン表面に特別な処
理を行うことなく、バンクパターン表面を画素表示物の
液滴が濡れにくくし、画素内に均一に平坦な画素表示物
層が形成された平面表示装置用多色画素構成物となる。
これにより、インクジェット法が本来持っている種々の
利点、即ち、フォトマスクが不要、工程短縮されるドラ
イプロセスであること、設備の設置スペースも大幅に削
減されること、工程内で消耗する色材や、水の資源節約
が実現する。しかも、高品質の平面表示装置用多色画素
構成物が得られ、また、ＵＶ又はＥＢ硬化タイプのイン
クを使うことにより、連続して色形成できる生産性の高
い平面表示装置用多色画素構成物となる。
物の画素を仕切るバンクパターンが樹脂を材料とし、バ
ンク材層の下に、あらかじめ撥インク材層を塗布形成し
た転写用媒体を転写プロセスにより形成され、各バンク
パターン内に規則的に配置される複数色の画素表示物が
インクジェット法により形成された平面表示装置用多色
画素構成物であるので、バンクパターン表面に特別な処
理を行うことなく、バンクパターン表面を画素表示物の
液滴が濡れにくくし、画素内に均一に平坦な画素表示物
層が形成された平面表示装置用多色画素構成物となる。
これにより、インクジェット法が本来持っている種々の
利点、即ち、フォトマスクが不要、工程短縮されるドラ
イプロセスであること、設備の設置スペースも大幅に削
減されること、工程内で消耗する色材や、水の資源節約
が実現する。しかも、高品質の平面表示装置用多色画素
構成物が得られ、また、ＵＶ又はＥＢ硬化タイプのイン
クを使うことにより、連続して色形成できる生産性の高
い平面表示装置用多色画素構成物となる。
【図１】画素形成の工程を示す一事例の側断面図で、
（ィ）は、バンクパターンを堰として色別画素表示物の
液滴をインクジェット法で射出充満させた直後の状態
（乾燥硬化前）を模式的に示す断面図であり、（ロ）
は、乾燥硬化後、バンクパターン及び各色画素表示物層
の高さをほぼ同じに揃えた状態を模式的に示す断面図で
ある。
（ィ）は、バンクパターンを堰として色別画素表示物の
液滴をインクジェット法で射出充満させた直後の状態
（乾燥硬化前）を模式的に示す断面図であり、（ロ）
は、乾燥硬化後、バンクパターン及び各色画素表示物層
の高さをほぼ同じに揃えた状態を模式的に示す断面図で
ある。
【図２】一般的な場合の転写用媒体を模式的に表した側
断面図であり、（イ）は、撥インク層を必要としない転
写用媒体であり、（ロ）は、本発明の撥インク層を設け
る場合の転写用媒体を表したものである。
断面図であり、（イ）は、撥インク層を必要としない転
写用媒体であり、（ロ）は、本発明の撥インク層を設け
る場合の転写用媒体を表したものである。
１…基板
２ａ…乾燥硬化前のバンクパターン
２ｂ…乾燥硬化後のバンクパターン
３ａ…乾燥硬化前の画素表示物層
３ｂ…乾燥硬化後の画素表示物層
４…支持体フィルム
５…光／熱吸収層
６…剥離層
７…バンク材層
８…撥インク材層
９…バンク層
１０…撥インク層
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｇ０９Ｆ 9/35 Ｂ４１Ｊ 3/04 １０１Ｚ
Ｆターム(参考） 2C056 EA09 FB01 FB02 FB04 FB08
FD07
2H048 BA02 BA11 BA64 BB02 BB06
BB41 BB42
2H091 FA02Y FC01 FC12 FD04
FD17 LA12 LA15
5C094 AA43 AA55 BA29 BA43 CA19
CA24 ED03 FB01
Claims (7)
- 【請求項１】基板上に画素を分割する仕切り堰（バン
ク）が形成され、次いで各画素の仕切り堰内に色別の画
素表示物が形成された平面表示装置用多色画素構成物に
おいて、画素仕切り堰（バンク）が樹脂を材料とし転写
プロセスにより形成されたパターンであって、各画素の
仕切り堰内に形成された色別の画素表示物がインクジェ
ット法により形成されたことを特徴とする平面表示装置
用多色画素構成物。 - 【請求項２】前記インクジェット法により形成される色
別の画素表示物の乾燥硬化前の高さが画素仕切り堰（バ
ンク）の高さ以上で画素仕切り堰（バンク）の高さの３
倍まで、又は画素仕切り堰（バンク）の高さの２倍まで
とし、色別の画素表示物の乾燥硬化後の高さが画素仕切
り堰（バンク）の高さとほぼ同一とすることを特徴とす
る請求項１記載の平面表示装置用多色画素構成物。 - 【請求項３】前記インクジェット法により形成される色
別の画素表示物に使用されるインクが、主としてＵＶ
光、又は電子線（ＥＢ）により硬化されるインクである
ことを特徴とする請求項１、又は請求項２記載の平面表
示装置用多色画素構成物。 - 【請求項４】前記転写プロセスがレーザー描画タイプの
熱転写方式であることを特徴とする請求項１、又は２、
又は３に記載の平面表示装置用多色画素構成物。 - 【請求項５】前記転写プロセスに用いる転写用媒体とし
て、転写フィルムに塗布される画素仕切り堰（バンク）
材層の下にあらかじめ撥インク材層を塗布形成した転写
用媒体を用いることを特徴とする請求項１、又は２、又
は３、又は４に記載の平面表示装置用多色画素構成物。 - 【請求項６】画素仕切り堰材層が色別の画素インキ材を
はじくものであることを特徴とする請求項１、又は２、
又は３、又は４に記載の平面表示装置用多色画素構成
物。 - 【請求項７】前記基板がフレキシブルなフィルムである
ことを特徴とする請求項１、又は２、又は３、又は４、
又は５、又６に記載の平面表示装置用多色画素構成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001337764A JP2003139935A (ja) | 2001-11-02 | 2001-11-02 | 平面表示装置用多色画素構成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001337764A JP2003139935A (ja) | 2001-11-02 | 2001-11-02 | 平面表示装置用多色画素構成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003139935A true JP2003139935A (ja) | 2003-05-14 |
Family
ID=19152356
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001337764A Pending JP2003139935A (ja) | 2001-11-02 | 2001-11-02 | 平面表示装置用多色画素構成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003139935A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100674763B1 (ko) * | 2004-12-03 | 2007-01-25 | 세이코 엡슨 가부시키가이샤 | 패턴 형성 기판, 전기 광학 장치, 패턴 형성 기판의 제조방법 및 전기 광학 장치의 제조 방법 |
| JP2007256313A (ja) * | 2006-03-20 | 2007-10-04 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタの製造方法 |
| US7622385B2 (en) * | 2004-10-27 | 2009-11-24 | Seiko Epson Corporation | Wiring pattern forming method, film pattern forming method, semiconductor device, electro-optical device, and electronic equipment |
-
2001
- 2001-11-02 JP JP2001337764A patent/JP2003139935A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7622385B2 (en) * | 2004-10-27 | 2009-11-24 | Seiko Epson Corporation | Wiring pattern forming method, film pattern forming method, semiconductor device, electro-optical device, and electronic equipment |
| KR100674763B1 (ko) * | 2004-12-03 | 2007-01-25 | 세이코 엡슨 가부시키가이샤 | 패턴 형성 기판, 전기 광학 장치, 패턴 형성 기판의 제조방법 및 전기 광학 장치의 제조 방법 |
| JP2007256313A (ja) * | 2006-03-20 | 2007-10-04 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタの製造方法 |
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| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040916 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070124 |
|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070911 |
|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071109 |
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| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080520 |