JP2006175308A - パターン形成方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、カラーフィルタ及びカラーフィルタの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 パターン形成領域を撥液化した後に、そのパターン形成領域内に液滴を吐出して形成したパターンの形状の均一性を向上したパターン形成方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、カラーフィルタの製造方法及びカラーフィルタを提供する。
【解決手段】 正孔輸送層形成液からなる微小液滴を着弾面に吐出する前に、有機ＥＬ層形成領域に微小液滴を撥液する撥液層を形成し、同撥液層を形成した後に、有機ＥＬ層形成領域をオゾンの雰囲気に晒して、同有機ＥＬ層形成領域に紫外光を照射する親液処理を行うようにした。そして、微小液滴の撥液膜表面に対する接触角（隔壁接触角θ２４）と微小液滴の着弾面に対する接触角（着弾面接触角θ２０）の差分が、所定の値を保つように、上記親液化処理を行うようにした。
【選択図】 図１０

Description

本発明は、パターン形成方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、カラーフィルタ及びカラーフィルタの製造方法に関する。

従来、発光素子を備えるディスプレイには、有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）を備える電気光学装置としての有機エレクロトルミネッセンスディスプレイ（有機ＥＬディスプレイ）が知られている。

有機ＥＬ素子は、一般的に、その有機ＥＬ層の構成材料によって製造方法が大別される。すなわち、低分子有機材料を有機ＥＬ層の構成材料とする場合には、同低分子有機材料を蒸着して有機ＥＬ層を形成する、いわゆる気相プロセスが利用されている。一方、高分子有機材料を有機ＥＬ層の構成材料とする場合には、同高分子有機材料を有機溶媒等に溶解した溶液を塗布して乾燥する、いわゆる液相プロセスが利用されている。

なかでも、その液相プロセスにおけるインクジェット法は、前記溶液を微小な液滴（微小液滴）として吐出するため、他の液相プロセス（例えば、スピンコート等）に比べて、有機ＥＬ層の形成位置や膜厚等をより高い精度で制御することができる。しかも、インクジェット法は、有機ＥＬ層（パターン）を形成する領域（パターン形成領域）にのみ前記液滴を吐出するため、原材料である高分子有機材料の使用量を低減することができる。

ところが、インクジェット法では、パターンを形成する材料（パターン形成材料）と、そのパターン形成材料を溶解した溶媒等からなる溶液を吐出してパターンを形成する。従って、パターン形成領域内には、前記溶媒等の容量によって、パターン形成材料（パターン）よりも大きいサイズの液滴（パターン形成液滴）が形成されるようになる。そのため、パターン形成領域を囲う隔壁がパターン形成液滴に対する親液性を有すると、同パターン形成液滴の一部を他のパターン形成領域に漏らす虞がある。

そこで、インクジェット法では、従来より、こうしたパターン形成液滴の漏れを回避する提案がなされている（例えば、特許文献１）。特許文献１では、パターン形成領域をフッ素系プラズマに晒すことによって、前記隔壁を撥液化し、パターン形成液滴の漏れを防止している。
特開２００２−３３４７８２ 号広報

しかしながら、特許文献１では、パターン形成領域全体にフッ素系プラズマを晒すため以下の問題を生じる。
すなわち、こうしたフッ素系プラズマ処理では、隔壁に加え、パターン形成領域内であって微小液滴の着弾する面（着弾面）も撥液化されるようになる。着弾面が撥液化されると、同着断面に対する液滴の濡れ性が低くなり（液滴の着弾面に対する接触角が大きくなり）、吐出した液滴が、パターン形成領域の一部に偏倚するようになる。その結果、各微小液滴間の境界等がパターンに形成され、同パターンの形状の均一性（例えば、パターン形成領域内の膜厚均一性やパターン形成領域間の膜厚均一性）を損なう問題となる。

本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、その目的は、パターン形成
領域を撥液化した後に、そのパターン形成領域内に液滴を吐出して形成したパターンの形状の均一性を向上したパターン形成方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、カラーフィルタの製造方法及びカラーフィルタを提供することである。

本発明のパターン形成方法は、基板のパターン形成面上に形成した隔壁によって囲まれるパターン形成領域に、パターン形成材料を含む液滴を撥液する撥液性を付与した後に前記液滴を吐出することによってパターンを形成するようにしたパターン形成方法において、前記撥液性を付与した後に、前記液滴の前記隔壁に対する接触角と前記液滴の前記パターン形成面に対する接触角の差が、所定の値を保つように前記パターン形成領域を所定の時間だけ活性酸素に晒すようにした。

本発明のパターン形成方法によれば、液滴のパターン形成領域と隔壁の接触角の差を保ちつつ、かつパターン形成面の接触角を下げる事により、パターン形成面の液滴に対する親液性を向上することができる。従って、パターン形成領域からの液滴の漏れを回避して、パターン形成面に対する液滴の濡れ性を向上することができる。ひいては、パターンの形状を均一にすることができ、パターンの生産性を向上することができる。

このパターン形成方法において、前記液滴の前記隔壁に対する接触角が維持される時間だけ、前記パターン形成領域を前記活性酸素に晒すようにした。
このパターン形成方法によれば、隔壁の液滴に対する撥液性を確実に保持することができ、パターン形成面の液滴に対する濡れ性を向上することができる。

このパターン形成方法において、前記液滴の前記パターン形成面に対する接触角が、前記パターン形成面上に前記液滴を濡れ広げるための予め定めた角度になるまで、前記パターン形成領域を前記活性酸素に晒すようにした。

このパターン形成方法によれば、液滴のパターン形成面に対する接触角を、液滴を濡れ広げるための予め定めた角度にすることができる。従って、液滴の濡れ不足によるパターン形状のバラツキを確実に抑制することができる。

このパターン形成方法において、前記パターン形成領域をオゾン雰囲気内に配置することによって、前記パターン形成領域を前記活性酸素に晒すようにした。
このパターン形成方法によれば、パターン形成領域をオゾン雰囲気下に配置する分だけ、パターンの形状を均一にすることができる。

このパターン形成方法において、前記パターン形成領域をオゾン雰囲気内に配置するときに、前記パターン形成領域に紫外光を照射するようにした。
このパターン形成方法によれば、パターン形成領域に紫外光を照射する分だけ、より多くの活性酸素をパターン形成面に供給することができ、パターンの形状を均一にすることができる。

このパターン形成方法において、前記パターン形成領域を酸素プラズマ内に配置することによって、前記パターン形成領域を前記活性酸素に晒すようにした。
このパターン形成方法によれば、パターン形成領域を酸素プラズマ内に配置する分だけ、パターンの形状を均一にすることができる。

このパターン形成方法において、前記撥液性を付与する前に、あらかじめパターン形成領域が親液化される処理を行うようにした。
このパターン形成方法によれば、あらかじめパターン形成領域を親液化する分だけ、パ
ターン形成面の液滴に対する親液性を向上することができる。

このパターン形成方法において、前記液滴を濡れ広げるために、前記パターン形成領域の前記液滴の接触角は30°以下である。
このパターン形成方法によれば、パターン形成領域の液滴の接触角を３０°以下にすることができ、パターン形成領域内に液滴を確実に濡れ広げることができる。

本発明の電気光学装置の製造方法は、透明基板上のパターン形成領域に発光素子を形成するようにした電気光学装置の製造方法において、前記発光素子を上記するパターン形成方法によって形成するようにした。

本発明の電気光学装置の製造方法によれば、均一な形状の発光素子を有するため、電気光学装置の生産性を向上することができる。
本発明の電気光学装置は、上記する電気光学装置の製造方法によって形成した発光素子を備えた。

本発明の電気光学装置によれば、均一な形状の発光素子を有するため、その生産性を向上することができる。
本発明のカラーフィルタの製造方法は、透明基板上のパターン形成領域にカラーフィルタ層を形成するようにしたカラーフィルタの製造方法において、前記カラーフィルタ層を上記するパターン形成方法によって形成するようにした。

本発明のカラーフィルタの製造方法によれば、均一な形状のカラーフィルタ層を有するため、カラーフィルタの生産性を向上することができる。
本発明のカラーフィルタは、上記するカラーフィルタの製造方法によって形成したカラーフィルタ層を備えた。

本発明のカラーフィルタによれば、均一な形状のカラーフィルタを有するため、その生産性を向上することができる。

以下、本発明を具体化した一実施形態を図１〜図１２に従って説明する。図１は、電気光学装置としての有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ（有機ＥＬディスプレイ）を示す概略平面図である。

図１に示すように、有機ＥＬディスプレイ１０には基板としての透明基板１１が備えられている。透明基板１１は、四角形状に形成される無アルカリガラス基板であって、その表面（素子形成面１１ａ）には、四角形状の素子形成領域１２が形成されている。その素子形成領域１２には、上下方向（列方向）に延びる複数のデータ線Ｌｙが所定の間隔をおいて形成されている。各データ線Ｌｙは、それぞれ透明基板１１の下側に配設されるデータ線駆動回路Ｄｒ１に電気的に接続されている。データ線駆動回路Ｄｒ１は、図示しない外部装置から供給される表示データに基づいてデータ信号を生成し、そのデータ信号を対応するデータ線Ｌｙに所定のタイミングで出力するようになっている。

また、素子形成領域１２には、列方向に延びる複数の電源線Ｌｖが所定の間隔をおいて各データ線Ｌｙに併設されている。各電源線Ｌｖは、それぞれ素子形成領域１２の下側に形成される共通電源線Ｌｖｃに電気的に接続され、図示しない電源電圧生成回路の生成する駆動電源を各電源線Ｌｖに供給するようになっている。

さらにまた、素子形成領域１２には、データ線Ｌｙ及び電源線Ｌｖと直交する方向（行
方向）に延びる複数の走査線Ｌｘが所定の間隔をおいて形成されている。各走査線Ｌｘは、それぞれ透明基板１１の左側に形成される走査線駆動回路Ｄｒ２に電気的に接続されている。走査線駆動回路Ｄｒ２は、図示しない制御回路から供給される走査制御信号に基づいて、複数の走査線Ｌｘの中から所定の走査線Ｌｘを所定のタイミングで選択駆動し、その走査線Ｌｘに走査信号を出力するようになっている。

これらデータ線Ｌｙと走査線Ｌｘの交差する位置には、対応するデータ線Ｌｙ、電源線Ｌｖ及び走査線Ｌｘに接続されることによってマトリックス状に配列される複数の画素１３が形成されている。その画素１３内には、それぞれ制御素子形成領域１４と発光素子形成領域１５が区画形成されている。そして、素子形成領域１２の上側を四角形状の封止基板１６（図１における２点鎖線）で覆うことによって、画素１３が保護されるようになっている。

尚、本実施形態における各画素１３は、それぞれ対応する色の光を発光する画素であって、赤色の光を発光する赤色画素又は緑色の光を発光する緑色画素又は青色を発光する青色画素である。そして、これら各画素１３によって、透明基板１１の裏面（表示面１１ｂ）側にフルカラーの画像を表示するようになっている。

次に、上記する画素１３について以下に説明する。図２は、制御素子形成領域１４及び発光素子形成領域１５のレイアウトを示す概略平面図である。図３及び図４は、それぞれ図２の一点鎖線Ａ−Ａ及びＢ−Ｂに沿った制御素子形成領域１４を示す概略断面図であって、図５は、図２の一点鎖線Ｃ−Ｃに沿った発光素子形成領域１５を示す概略断面図である。

まず、制御素子形成領域１４の構成について以下に説明する。図２に示すように、各画素１３の下側には、それぞれ制御素子形成領域１４が形成され、その制御素子形成領域１４には、それぞれ第１トランジスタ（スイッチング用トランジスタ）Ｔ１、第２トランジスタ（駆動用トランジスタ）Ｔ２及び保持キャパシタＣｓが形成されている。

図３に示すように、スイッチング用トランジスタＴ１は、その最下層に第１チャンネル膜Ｂ１を備えている。第１チャンネル膜Ｂ１は、素子形成面１１ａ上に形成される島状のｐ型ポリシリコン膜であって、その中央位置には第１チャンネル領域Ｃ１が形成されている。その第１チャンネル領域Ｃ１を挟む左右両側には、活性化したｎ型領域（第１ソース領域Ｓ１及び第１ドレイン領域Ｄ１）が形成されている。つまり、スイッチング用トランジスタＴ１は、いわゆるポリシリコン型ＴＦＴである。

第１チャンネル領域Ｃ１の上側には、素子形成面１１ａ側から順に、ゲート絶縁膜Ｇｏｘ及び第１ゲート電極Ｇ１が形成されている。ゲート絶縁膜Ｇｏｘは、シリコン酸化膜等の光透過性を有する絶縁膜であって、第１チャンネル領域Ｃ１の上側及び素子形成面１１ａの略全面に堆積されている。第１ゲート電極Ｇ１は、タンタルやアルミニウム等の低抵抗金属膜であって、第１チャンネル領域Ｃ１と相対向する位置に形成され、図２に示すように、走査線Ｌｘと電気的に接続されている。その第１ゲート電極Ｇ１は、図３に示すように、ゲート絶縁膜Ｇｏｘの上側に堆積される第１層間絶縁膜ＩＬ１によって電気的に絶縁されている。

そして、走査線駆動回路Ｄｒ２が走査線Ｌｘを介して第１ゲート電極Ｇ１に走査信号を入力すると、スイッチング用トランジスタＴ１は、その走査信号に基づいたオン状態となる。

第１ソース領域Ｓ１には、前記第１層間絶縁膜ＩＬ１及びゲート絶縁膜Ｇｏｘを貫通す
るデータ線Ｌｙが電気的に接続されている。また、第１ドレイン領域Ｄ１には、第１層間絶縁膜ＩＬ１及びゲート絶縁膜Ｇｏｘを貫通する第１ドレイン電極Ｄｐ１が電気的に接続されている。これらデータ線Ｌｙ及び第１ドレイン電極Ｄｐ１は、図３に示すように、第１層間絶縁膜ＩＬ１の上側に堆積される第２層間絶縁膜ＩＬ２によって電気的に絶縁されている。

そして、走査線駆動回路Ｄｒ２が、走査線Ｌｘを線順次走査に基づき１本ずつ順次選択すると、画素１３のスイッチング用トランジスタＴ１が順次、選択期間中だけオン状態になる。スイッチング用トランジスタＴ１がオン状態となると、データ線駆動回路Ｄｒ１から出力されるデータ信号が、データ線Ｌｙ及びスイッチング用トランジスタＴ１（チャンネル膜Ｂ１）を介して第１ドレイン電極Ｄｐ１に出力される。

図４に示すように、駆動用トランジスタＴ２は、第２チャンネル領域Ｃ２、第２ソース領域Ｓ２及び第２ドレイン領域Ｄ２を有したチャンネル膜Ｂ２を備えるポリシリコン型ＴＦＴである。その第２チャンネル膜Ｂ２の上側には、ゲート絶縁膜Ｇｏｘを介して第２ゲート電極Ｇ２が形成されている。第２ゲート電極Ｇ２は、タンタルやアルミニウム等の低抵抗金属膜であって、図２に示すように、スイッチング用トランジスタＴ１の第１ドレイン電極Ｄｐ１及び保持キャパシタＣｓの下部電極Ｃｐ１と電気的に接続されている。これら第２ゲート電極Ｇ２及び下部電極Ｃｐ１は、図４に示すように、ゲート絶縁膜Ｇｏｘの上側に堆積される前記第１層間絶縁膜ＩＬ１によって電気的に絶縁されている。

第２ソース領域Ｓ２は、この第１層間絶縁膜ＩＬ１を貫通する保持キャパシタＣｓの上部電極Ｃｐ２に電気的に接続されている。その上部電極Ｃｐ２は、図２に示すように、対応する電源線Ｌｖに電気的に接続されている。つまり、駆動用トランジスタＴ２の第２ゲート電極Ｇ２と第２ソース領域Ｓ２間との間には、図２及び図４に示すように、第１層間絶縁膜ＩＬ１を容量膜とする保持キャパシタＣｓが接続されている。第２ドレイン領域Ｄ２は、第１層間絶縁膜ＩＬ１を貫通する第２ドレイン電極Ｄｐ２に電気的に接続されている。これら第２ドレイン電極Ｄｐ２及び上部電極Ｃｐ２は、第１層間絶縁膜ＩＬ１の上側に堆積される第２層間絶縁膜ＩＬ２によって電気的に絶縁されている。

そして、データ線駆動回路Ｄｒ１から出力されるデータ信号がスイッチング用トランジスタＴ１を介して第１ドレイン領域Ｄ１に出力されると、保持キャパシタＣｓが、出力されたデータ信号に相対する電荷を蓄積する。続いて、スイッチング用トランジスタＴ１がオフ状態になると、保持キャパシタＣｓに蓄積される電荷に相対した駆動電流が、駆動用トランジスタＴ２（チャンネル膜Ｂ２）を介して第２ドレイン領域Ｄ２に出力される。

次に、発光素子形成領域１５の構成について以下に説明する。
図２に示すように、各画素１３の上側には、それぞれ四角形状の発光素子形成領域１５が形成されている。

図５に示すように、その発光素子形成領域１５であって前記第２層間絶縁膜ＩＬ２の上側には、陽極２０が形成されている。陽極２０は、ＩＴＯ薄膜等からなる光透過性を有する透明導電膜である。その陽極２０の一端は、図４に示すように、第２層間絶縁膜ＩＬ２を貫通して第２ドレイン領域Ｄ２に電気的に接続されている。

その陽極２０の上側には、各陽極２０を互いに絶縁するシリコン酸化膜等からなる第３層間絶縁膜ＩＬ３が堆積され、その第３層間絶縁膜ＩＬ３には、陽極２０の略中央位置を上側に開口する四角形状の貫通孔２１が形成されている。この貫通孔２１が形成されることによって、陽極２０上面であって貫通孔２１と相対向する位置に、微小液滴２５ｂ（図１１参照）の着弾するパターン形成面としての着弾面２０ａが区画形成されている。

この着弾面２０ａ及び前記貫通孔２１の内表面には、後述する親液化工程（図６におけるステップ１３）によって、微小液滴２５ｂ（図１１参照）に対する親液性を有した親液層Ｌａが形成されるようになっている。尚、本実施形態における親液化工程は、微小液滴２５ｂを撥液する撥液基を水酸基等の親液基に置換して、親液層Ｌａを形成する工程であって、本実施形態における親液性は、微小液滴２５ｂの接触角を２０°以下にする性質する性質であるが、この値に限定されるものではない。

前記貫通孔２１を有する第３層間絶縁膜ＩＬ３の上側には、撥液膜２２が形成されている。撥液膜２２は、所定の波長からなる露光光Ｌｐｒ（図７参照）を露光すると、露光された部分のみがアルカリ性溶液等の現像液に可溶となる、いわゆるポジ型の感光性材料で形成され、例えばアクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリシラザン系樹脂等の有機高分子材料によって形成されている。その撥液膜２２には、貫通孔２１と相対向する位置を上側に向かってテーパ状に開口する収容孔２３が形成されている。この収容孔２３の内周面によって隔壁２４が形成されている。

この撥液膜２２の表面（隔壁２４の表面）には、後述する撥液化工程（図６におけるステップ１２）によって、微小液滴２５ｂ及び正孔輸送層液滴２５Ｄ（図１１参照）に対する撥液性を有した撥液層Ｌｂが形成されるようになっている。尚、本実施形態における撥液化工程は、有機ＥＬ層形成領域Ｓ内表面（隔壁２４の表面）に、フルオロ基やフルオロカーボン基等の微小液滴２５ｂを撥液する撥液基を導入する工程であって、本実施形態における撥液性は、微小液滴２５ｂの接触角を５０°以上にする性質であるが、この値に限定されるものではない。

図５に示すように、これら着弾面２０ａ及び貫通孔２１（親液層Ｌａ）、並びに収容孔２３（撥液層Ｌｂ）によってパターン形成領域としての有機ＥＬ層形成領域Ｓが構成されている。

そして、本出願人は、図１０に示すように、有機ＥＬ層形成領域Ｓ内の各部位に対する微小液滴２５ｂの接触角が、撥液化工程（ステップＳ１２）後に施す親液化工程（ステップＳ１３）の処理時間Ｔに対して、それぞれ異なる依存性を示すことを見出した。

すなわち、撥液化工程（ステップＳ１２）において、有機高分子材料で形成される隔壁２４（撥液膜２２）は、シリコン酸化物やＩＴＯ等の無機酸化物で形成される貫通孔２１及び着弾面２０ａよりも、フルオロ基やフルオロカーボン基等の撥液基との結合を強固にする。そのため、後述する撥液化工程（ステップＳ１２）において、隔壁２４（撥液膜２２）は、貫通孔２１及び着弾面２０ａよりも強固な撥液層Ｌｂを形成する。

そして、親液化工程（ステップＳ１３）では、撥液基との強固な結合によって、その酸化を遅延させる分だけ、隔壁２４（撥液膜２２）の撥液層Ｌｂは、貫通孔２１及び着弾面２０ａの撥液層Ｌｂよりも長時間にわたり撥液性を維持する。

つまり、図１０に示すように、親液化工程の処理時間Ｔに対して、微小液滴２５ｂの隔壁２４に対する接触角（隔壁接触角θ２４）が、着弾面２０ａ及び貫通孔２１に対する接触角（着弾面接触角θ２０及び接触貫通孔角θ２０）よりも、その角度を長時間維持することを見出した。

収容孔２３内であって着弾面２０ａの上側には、パターン形成材料としての正孔輸送層形成材料２５ｓ（図１１参照）からなる正孔輸送層２５が形成されている。
尚、本実施形態における正孔輸送層形成材料２５ｓは、例えばベンジジン誘導体、スチ
リルアミン誘導体、トリフェニルメタン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、及びヒドラゾン誘導体等の低分子化合物、又はこれらの構造を一部に含む高分子化合物や、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリビニルカルバゾール、α−ナフチルフェニルジアミン、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との混合物（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）（Ｂａｙｔｒｏｎ Ｐ、バイエル社商標）等の高分子化合物である。

その正孔輸送層２５の上側には、発光層形成材料２７ｓ（図１２参照）からなる発光層２７が積層されている。尚、本実施形態における発光層２７は、それぞれ対応する色の発光層形成材料２７ｓ（赤色の光を発光する赤色発光層形成材料、緑色の光を発光する緑色発光層形成材料及び青色を発光する青色発光層形成材料）で形成されている。

そして、これら正孔輸送層２５と発光層２７によってパターンとしての有機エレクトロルミネッセンス層（有機ＥＬ層）３０が形成されている。
有機ＥＬ層３０上側であって撥液膜２２（隔壁２４）の上側には、アルミニウム等の光反射性を有する金属膜からなる背面電極としての陰極３１が形成されている。陰極３１は、素子形成面１１ａ側全面を覆うように形成され、各画素１３が共有することによって各発光素子形成領域１５に共通する電位を供給するようになっている。

すなわち、これら陽極２０、有機ＥＬ層３０及び陰極３１によって、発光素子としての有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）が構成される。
そして、データ信号に応じた駆動電流が第２ドレイン領域Ｄ２を介して陽極２０に供給されると、有機ＥＬ層３０は、その駆動電流に応じた輝度で発光する。この際、有機ＥＬ層３０から陰極３１側（図４における上側）に向かって発光された光は、同陰極３１によって反射される。そのため、有機ＥＬ層３０から発光された光は、その殆どが、陽極２０、第２層間絶縁膜ＩＬ２、第１層間絶縁膜ＩＬ１、ゲート絶縁膜Ｇｏｘ、素子形成面１１ａ及び透明基板１１を透過して透明基板１１の裏面（表示面１１ｂ）側から外方に向かって出射する。すなわち、データ信号に基づく画像が有機ＥＬディスプレイ１０の表示面１１ｂに表示される。

陰極３１の上側には、エポキシ樹脂等からなる接着層３２が形成され、その接着層３２を介して素子形成領域１２を覆う封止基板１６が貼着されている。封止基板１６は、無アルカリガラス基板であって、画素１３及び各種配線Ｌｘ，Ｌｙ，Ｌｖの酸化等を防止するようになっている。

次に、上記する有機ＥＬディスプレイ１０の製造方法について以下に説明する。図６は、有機ＥＬディスプレイ１０の製造方法を説明するフローチャートであって、図７〜図１２は、同有機ＥＬディスプレイ１０の製造方法を説明する説明図である。

図６に示すように、はじめに透明基板１１の素子形成面１１ａに各種配線Ｌｘ，Ｌｙ，Ｌｖ，Ｌｖｃ及び各トランジスタＴ１，Ｔ２を形成し、隔壁２４を形成する隔壁形成工程を行う（ステップＳ１１）。図７は、有機ＥＬ層前工程を説明する説明図である。

すなわち、有機ＥＬ層前工程では、まず素子形成面１１ａの全面にエキシマレーザ等によって結晶化したポリシリコン膜を形成し、そのポリシリコン膜をパターニングして各チャンネル膜Ｂ１，Ｂ２を形成する。次に、各チャンネル膜Ｂ１，Ｂ２及び素子形成面１１ａの上側全面に、シリコン酸化膜等からなるゲート絶縁膜Ｇｏｘを形成し、そのゲート絶縁膜Ｇｏｘの上側全面にタンタル等の低抵抗金属膜を堆積する。そして、その低抵抗金属膜をパターニングして、各ゲート電極Ｇ１，Ｇ２、保持キャパシタＣｓの下部電極Ｃｐ１及び走査線Ｌｘを形成する。

各ゲート電極Ｇ１，Ｇ２を形成すると、同ゲート電極Ｇ１，Ｇ２をマスクにしたイオンドーピング法によって、それぞれ各チャンネル膜Ｂ１，Ｂ２にｎ型不純物領域を形成する。これによって、各チャンネル領域Ｃ１，Ｃ２、各ソース領域Ｓ１，Ｓ２及び各ドレイン領域Ｄ１，Ｄ２を形成する。各チャンネル膜Ｂ１，Ｂ２にそれぞれ各ソース領域Ｓ１，Ｓ２及び各ドレイン領域Ｄ１，Ｄ２を形成すると、各ゲート電極Ｇ１，Ｇ２、下部電極Ｃｐ１、走査線Ｌｘ及びゲート絶縁膜Ｇｏｘの上側全面にシリコン酸化膜等からなる第１層間絶縁膜ＩＬ１を堆積する。

第１層間絶縁膜ＩＬ１を堆積すると、その第１層間絶縁膜ＩＬ１であって各ソース領域Ｓ１，Ｓ２及び各ドレイン領域Ｄ１，Ｄ２と相対する位置に一対のコンタクトホールをパターニングする。次に、同コンタクトホール内及び第１層間絶縁膜ＩＬ１の上側全面にアルミニウム等の金属膜を堆積し、その金属膜をパターニングすることによって各ソース領域Ｓ１，Ｓ２に対応するデータ線Ｌｙと保持キャパシタＣｓの上部電極Ｃｐ２をそれぞれ形成する。同時に、各ドレイン領域Ｄ１，Ｄ２に対応する各ドレイン電極Ｄｐ１，Ｄｐ２を形成する。そして、データ線Ｌｙ、上部電極Ｃｐ２、各ドレイン領域Ｄ１，Ｄ２及び第１層間絶縁膜ＩＬ１の上側全面にシリコン酸化膜等からなる第２層間絶縁膜ＩＬ２を堆積する。これによって、スイッチング用トランジスタＴ１及び駆動用トランジスタＴ２を形成する。

第２層間絶縁膜ＩＬ２を堆積すると、その第２層間絶縁膜ＩＬ２であって第２ドレイン領域Ｄ２と相対向する位置にビアホールを形成する。次に、そのビアホール内及び第２層間絶縁膜ＩＬ２の上側全面に、スパッタ法等によって、ＩＴＯからなる透明導電膜を堆積し、その透明導電膜をパターニングすることによって第２ドレイン領域Ｄ２と接続する陽極２０を形成する。陽極２０を形成すると、その陽極２０及び第２層間絶縁膜ＩＬ２の上側全面にシリコン酸化膜等からなる第３層間絶縁膜ＩＬ３を堆積する。

第３層間絶縁膜ＩＬ３を堆積すると、図７に示すように、第３層間絶縁膜ＩＬ３の上側全面に、感光性ポリイミド樹脂等を塗布して撥液膜２２を形成する。続いて、撥液膜２２上にマスクＭｋを配設し、撥液膜２２の陽極２０と相対向する位置に、所定の波長からなる露光光Ｌｐｒを露光して現像する。これによって、撥液膜２２に、収容孔２３をパターニングして隔壁２４を形成する。

隔壁２４を形成すると、収容孔２３を有した撥液膜２２をマスクにして、第３層間絶縁膜ＩＬ３をパターニングし、陽極２０の上側に、収容孔２３と連通する貫通孔２１を形成する。これによって、前記隔壁２４、貫通孔２１及び着弾面２０ａによって囲まれる有機ＥＬ層形成領域Ｓを形成し、素子形成面１１ａに各トランジスタＴ１，Ｔ２及び隔壁２４を形成する隔壁形成工程を終了する。

図６に示すように、隔壁形成工程を終了すると（ステップＳ１１）、有機ＥＬ層形成領域Ｓに撥液層Ｌｂを形成する撥液化工程を行う（ステップＳ１２）。図８は、撥液化工程を説明する説明図である。

すなわち、撥液化工程では、図８に示すよう、透明基板１１の素子形成面１１ａ全面（有機ＥＬ層形成領域Ｓ）を、フッ素系のプラズマＰｓ（例えば、ＣＦ４等のパーフルオロカーボンプラズマ）に晒す。これによって、有機ＥＬ層形成領域Ｓ内表面及び撥液膜２２上面に、フルオロ基やフルオロカーボン基を有して、微小液滴２５ｂ（図１１参照）を撥液する撥液層Ｌｂを形成する。

そして、上記したように、有機高分子材料で形成される隔壁２４（撥液膜２２）は、シリコン酸化物やＩＴＯ等の無機酸化物で形成される貫通孔２１及び着弾面２０ａよりも、
フルオロ基やフルオロカーボン基等の撥液基との結合を強固にする。そのため、この撥液化工程（ステップＳ１２）において、隔壁２４（撥液膜２２）は、貫通孔２１及び着弾面２０ａよりも強固な撥液層Ｌｂを形成する。

図６に示すように、撥液化工程を終了すると（ステップＳ１２）、着弾面２０ａ及び貫通孔２１の内表面に親液層Ｌａを形成する親液化工程を行う（ステップＳ１３）。図９及び図１０は、親液化工程を説明する説明図である。

すなわち、親液化工程では、図９に示すように、透明基板１１の素子形成面１１ａ上（有機ＥＬ層形成領域Ｓ内）をオゾン３３の雰囲気に晒して、同素子形成面１１ａに紫外光ランプ３４の出射する紫外光Ｌｕｖを照射する。

尚、本実施形態では、この親液処理の処理時間Ｔを、図１０に示す着弾面接触角θ２０、貫通孔接触角θ２１及び隔壁接触角θ２４に基づいて、設定時間Ｐ２に設定する。
すなわち、図１０において、着弾面接触角θ２０（貫通孔接触角θ２１）が、微小液滴２５ｂを着弾面２０ａ全面に濡れ広げるために必要な接触角（規定接触角θｓ）以下となる時間であって、かつ隔壁接触角θ２４が親液処理前の角度を維持する時間にしている。つまり、着弾面２０ａ表面及び貫通孔２１内表面に親液層Ｌａが形成され、収容孔２３内容面及び撥液膜２２上面に撥液層Ｌｂが形成される時間にしている。しかも、隔壁接触角θ２４に対する着弾面接触角θ２０の差分が最大値（最大角差θｍ）を保つ時間、すなわち隔壁２４及び撥液膜２２表面の撥液性の低下を抑制することができる状態で、着弾面２０ａの微小液滴２５ｂに対する濡れ性を最も向上することができる時間に設定している。尚、本実施形態では、規定接触角θｓを２０°とするが、これに限られるものではない。

そして、素子形成面１１ａへの紫外光Ｌｕｖの照射を開始すると、着弾面２０ａ及び貫通孔２１の内表面は、活性化した酸素（活性酸素）によって、その撥液層Ｌｂが親水性の化学吸着水（例えば、水酸基等）や物理吸着水に置換され、図１０に示すように、着弾面接触角θ２０及び貫通孔接触角θ２１を急激に減少させる。すなわち、着弾面２０ａ及び貫通孔２１内表面には、図９に示すように、微小液滴２５ｂに対する親液性を有した親液層Ｌａが形成され、その微小液滴２５ｂに対する濡れ性を向上するようになる。

続いて、処理時間Ｔが規定時間Ｐ１を経過すると、着弾面接触角θ２０及び貫通孔接触角θ２１は、規定接触角θｓ以下となって、やがて安定する。
一方、隔壁２４（撥液膜２２表面）は、着弾面２０ａ及び貫通孔２１内表面よりも強固な撥液層Ｌｂを形成する分だけ、図１０に示すように、着弾面接触角θ２０（貫通孔接触角θ２１）よりも、その隔壁接触角θ２４を長時間維持する。すなわち、上記親液処理による撥液層Ｌｂの消失を遅延させる。

そのため、上記する親液処理の処理時間Ｔが経過するに連れて、隔壁接触角θ２４に対する着弾面接触角θ２０（貫通孔接触角θ２１）の差分が、親液処理前の値（初期角差θｉ：本実施形態では約３０°）よりも大きくなる。

そして、処理時間Ｔが設定時間Ｐ２になると、有機ＥＬ層形成領域Ｓ内は、前記接触角の差分が最大となり、隔壁２４及び撥液膜２２表面の撥液性の低下が抑制される状態の中で、着弾面２０ａの濡れ性が最も向上する状態となる。つまり、着弾面２０ａ及び貫通孔２１内表面のみが親液化されるようになる。

図６に示すように、上記親液処理によって着弾面２０ａ及び貫通孔２１内表面のみを親液化すると、（ステップ１３）、収容孔２３内に正孔輸送層形成材料２５ｓからなる正孔輸送層液滴２５Ｄを形成して正孔輸送層２５を形成する正孔輸送層形成工程を行う（ステ
ップＳ１４）。図１１は、その正孔輸送層形成工程を説明する説明図である。

まず、正孔輸送層液滴２５Ｄを形成するための液滴吐出装置の構成について以下に説明する。
図１０に示すように、本実施形成における液滴吐出装置を構成する液体吐出ヘッド３５には、ノズルプレート３６が備えられている。そのノズルプレート３６の下面（ノズル形成面３６ａ）には、液体を吐出する多数のノズル３６ｎが上方に向かって形成されている。各ノズル３６ｎの上側には、図示しない液体収容タンクに連通して液体をノズル３６ｎ内に供給可能にする液体供給室３７が形成されている。各液体供給室３７の上側には、上下方向に往復振動して液体供給室３７内の容積を拡大縮小する図示しない振動板と、上下方向に伸縮して同振動板を振動させる図示しない圧電素子が配設されている。

そして、液滴吐出装置に搬送される透明基板１１は、図１１に示すように、素子形成面１１ａをノズル形成面３６ａと平行にして、かつ各着弾面２０ａの中心位置をそれぞれノズル３６ｎの直下に配置して位置決めされる。

ここで、前記液体供給室３７内に、正孔輸送層形成材料２５ｓを下層溶媒に溶解して生成した正孔輸送層形成液２５Ｌを供給する。尚、本実施形態における下層溶媒は、親水性の液体であって、例えば、Ｎ−メチルピロリドンや１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等である。

そして、液体吐出ヘッド３５に正孔輸送層液滴２５Ｄを形成するための駆動信号を入力すると、同駆動信号に基づいて圧電素子が伸縮して液体供給室３７の容積が拡大縮小する。このとき、液体供給室３７の容積が縮小すると、縮小した容積に相対する量の正孔輸送層形成液２５Ｌが、各ノズル３６ｎから微小液滴２５ｂとして吐出される。吐出された微小液滴２５ｂは、それぞれ有機ＥＬ層形成領域Ｓ内の着弾面２０ａに着弾する。続いて、液体供給室３７の容積が拡大すると、拡大した容積分の正孔輸送層形成液２５Ｌが、図示しない液体収容タンクから液体供給室３７内に供給される。

つまり、液体吐出ヘッド３５は、こうした液体供給室３７の拡大縮小によって、所定の容量の正孔輸送層形成液２５Ｌを着弾面２０ａに向かって吐出する。尚、この際、液体吐出ヘッド３５は、正孔輸送層液滴２５Ｄに含まれる正孔輸送層形成材料２５ｓが所望する膜厚を形成する分だけ微小液滴２５ｂを吐出する。

そして、着弾面２０ａに着弾した微小液滴２５ｂは、上記する親液処理によって、着弾面接触角θ２０（貫通孔接触角θ２１）が規定接触角θｓ以下になる分だけ、着弾面２０ａ（貫通孔２１内）全体に均一に濡れ広がる。均一に濡れ広がる微小液滴２５ｂは、やがて、図１１の２点鎖線に示すように、その表面張力と収容孔２３の撥液層Ｌｂによって、半球面状の表面を呈する正孔輸送層液滴２５Ｄを形成し、漏れることなく収容孔２３（有機ＥＬ層形成領域Ｓ）内に収容される。

正孔輸送層液滴２５Ｄを形成すると、続いて、透明基板１１（正孔輸送層液滴２５）を所定の減圧下に配置して同正孔輸送層液滴２５Ｄの下層溶媒を蒸発させ、正孔輸送層形成材料２５ｓを硬化する。硬化する正孔輸送層形成材料２５ｓは、正孔輸送層液滴２５Ｄが着弾面２０ａに均一に濡れ広がる分だけ、その形状（例えば、有機ＥＬ層形成領域Ｓ内の膜厚分布や有機ＥＬ層形成領域Ｓ間の膜厚分布等）を均一にした正孔輸送層２５を形成する。

図６に示すように、正孔輸送層２５を形成すると（ステップＳ１４）、各発光層２７を形成する発光層形成工程を行う（ステップＳ１５）。図１１は、発光層形成工程を説明す
る説明図である。

すなわち、発光層形成工程では、図１１に示すように、正孔輸送層形成工程と同じく、各色の発光層形成材料２７ｓを含有する発光層形成液２７Ｌの微小液滴２７ｂを、各ノズル３６ｎから対応する正孔輸送層２５上に吐出する。そして、吐出した微小液滴２７ｂによって、収容孔２３（有機ＥＬ層形成領域Ｓ）内に発光層液滴２７Ｄを形成し、同発光層液滴２７Ｄを乾燥することによって発光層２７を形成する。

この際、正孔輸送層２５上に吐出される微小液滴２７ｂは、上記する親液処理によって正孔輸送層２５の形状が均一に形成される分だけ均一に濡れ広がり、発光層２７の形状を均一にする、すなわち有機ＥＬ層３０の形状を均一にする。

図６に示すように、発光層２７（有機ＥＬ層３０）を形成すると（ステップＳ１５）、発光層２７（有機ＥＬ層３０）及び撥液膜２２上に陰極３１を形成し、画素１３を封止する有機ＥＬ層後工程を行う（ステップ１６）。すなわち、有機ＥＬ層３０及び撥液膜２２の上側全面にアルミニウム等の金属膜からなる陰極３１を堆積し、陽極２０、有機ＥＬ層３０及び陰極３１からなる有機ＥＬ素子を形成する。有機ＥＬ素子を形成すると、陰極３１（画素１３）の上側全面にエポキシ樹脂等を塗布して接着層３２を形成し、その接着層３２を介して封止基板１６を透明基板１１に貼着する。

これによって、有機ＥＬ層３０の膜厚分布を素子形成面１１ａ内で均一にした有機ＥＬディスプレイ１０を製造することができる。
次に、上記のように構成した本実施形態の効果を以下に記載する。

（１）上記実施形態によれば、正孔輸送層形成液２５Ｌからなる微小液滴２５ｂを着弾面２０ａに吐出する前に、有機ＥＬ層形成領域Ｓ内表面及び撥液膜２２上面に撥液層Ｌｂを形成した。また、撥液層Ｌｂを形成した後に、素子形成面１１ａ上をオゾン３３の雰囲気に晒して、同素子形成面１１ａに紫外光Ｌｕｖを照射する親液処理を行うようにした。

そして、隔壁接触角θ２４に対する着弾面接触角θ２０（貫通孔接触角θ２１）の差分が、親液処理前の値（初期角差θｉ）よりも大きくなるように上記親液処理を行うようにした。

従って、有機ＥＬ層形成領域Ｓ内において、隔壁２４及び撥液膜２２上面を親液性にすることなく、着弾面２０ａ及び貫通孔２１内表面のみに親液層Ｌａを形成することができる。その結果、着弾面２０ａに着弾した微小液滴２５ｂを着弾面２０ａ及び貫通孔２１内表面全面に濡れ広げることができ、かつ同微小液滴２５ｂによって形成する正孔輸送層液滴２５Ｄ及び発光層液滴２７Ｄを収容孔２３（有機ＥＬ層形成領域Ｓ）内に収容することができる。ひいては、有機ＥＬ層３０の形状を均一にすることができ、有機ＥＬディスプレイ１０の生産性を向上することができる。

（２）上記実施形態では、親液処理の処理時間Ｔを設定時間Ｐ２に設定した。すなわち、着弾面接触角θ２０（貫通孔接触角θ２１）を規定接触角θｓ以下にして、かつ隔壁接触角θ２４を親液処理前の角度に維持する時間（設定時間Ｐ２）だけ、上記親液処理を行うようにした。

従って、隔壁２４及び撥液膜２２上面に撥液層Ｌｂを保持させることができ、かつ、有機ＥＬ層形成領域Ｓ内において、着弾面２０ａ及び貫通孔２１内表面にのみ親液層Ｌａを形成することができる。ひいては、有機ＥＬ層３０の形状を、さらに均一にすることができ、有機ＥＬディスプレイ１０の生産性を向上することができる。

（３）上記実施形態によれば、設定時間Ｐ２を、隔壁接触角θ２４に対する着弾面接触角θ２０の差分が最大角差θｍとなる時間にした。従って、着弾面２０ａの微小液滴２５ｂに対する濡れ性を最も向上することができ、しかも隔壁２４及び撥液膜２２上面の撥液性の低下を抑制することができる。ひいては、有機ＥＬ層３０の形状を、さらに均一にすることができ、有機ＥＬディスプレイ１０の生産性を向上することができる。

尚、上記実施形態は以下のように変更してもよい。
・上記実施形態では、設定時間Ｐ２を、隔壁接触角θ２４に対する着弾面接触角θ２０の差分が最大角差θｍとなる時間にした。これに限らず、例えば図１０に示すように、設定時Ｔ２よりも長い時間であって、隔壁接触角θ２４に対する着弾面接触角θ２０の差分が再び初期角差θｉとなる時間（撥液層消失時間Ｐ３）よりも短い時間であってもよい。

あるいは、着弾面接触角θ２０が規定接触角θｓに到達する時間（規定時間Ｐ１）であってもよい。
・上記実施形態では、隔壁形成工程（ステップＳ１１）の後に、撥液化工程（ステップＳ１２）を行う構成にしたが、これに限らず、例えば隔壁形成工程と撥液化工程との間に、予め素子形成面１１ａを酸素プラズマに晒して有機ＥＬ層形成領域Ｓ内を親液化するようにしてもよい。

これによれば、着弾面２０ａを予め親液化する分だけ、親液化工程（ステップＳ１３）前の着弾面接触角θ２０を低くすることができ、初期角差θｉを大きくすることができる。
・上記実施形態では、素子形成面１１ａをオゾン３３の雰囲気に晒して、紫外光Ｌｕｖを照射するようにしたが、これに限らず、例えばオゾン３３の雰囲気に晒すだけであってもよい。さらには、素子形成面１１ａを酸素プラズマに晒して活性酸素を供給するようにしてもよい。
・上記実施形態では、有機ＥＬ素子をボトムエミッション型で構成したが、これに限らず、有機ＥＬ素子をトップエミッション型で構成してもよい。また、着弾面２０ａ上に正孔輸送層２５を形成すようにしたが、これに限らず、発光層を形成するようにしてもよい。・上記実施形態では、正孔輸送層形成材料２５ｓ及び発光層形成材料を有機高分子材料に具体化したが、これに限らず、公知の有機低分子材料あるいは無機材料によって構成してもよい。さらには、発光層２７の上層にフッ化リチウムとカルシウムの積層膜等からなる電子注入層を設ける構成にしてもよい。
・上記実施形態では、制御素子形成領域１４にスイッチング用トランジスタＴ１及び駆動用トランジスタＴ２を備える構成にしたが、これに限定されるものでなく、所望の素子設計によって、例えば１つのトランジスタや多数のトランジスタ、あるいは多数のキャパシタからなる構成にしてもよい。
・上記実施形態では、有機ＥＬ層３０をインクジェット法によって形成する構成にした。これに限らず、有機ＥＬ層３０の形成方法は、例えば、スピンコート法等であってもよく、液体を乾燥して硬化させることによって有機ＥＬ層３０を形成する方法であればよい。・上記実施形態では、圧電素子によって微小液滴２５ｂを吐出するようにしたが、これに限らず、例えば液体供給室３７に抵抗加熱素子を設け、その抵抗加熱素子の加熱によって形成される気泡の破裂によって微小液滴２５ｂを吐出するようにしてもよい。
・上記実施形態では、パターンを有機ＥＬ層３０に具体化したが、これに限らす、例えば各色のカラーフィルタ層で構成してもよく、透明基板１１をカラーフィルタとして構成してもよい。
・上記実施形態では、電気光学装置を有機ＥＬディスプレイ１０として具体化したが、これに限らず、例えば液晶パネルに装着されるバックライト等であってもよく、あるいは平面状の電子放出素子を備え、同素子から放出された電子による蛍光物質の発光を利用した
電界効果型ディスプレイ（ＦＥＤやＳＥＤ等）であってもよい。

本発明を具体化した有機ＥＬディスプレイを示す概略平面図。 同じく、画素を示す概略平面図。 同じく、制御素子形成領域を示す概略断面図。 同じく、制御素子形成領域を示す概略断面図。 同じく、発光素子形成領域を示す概略断面図。 同じく、電気光学装置の製造工程を説明するフローチャート。 同じく、電気光学装置の製造工程を説明する説明図。 同じく、電気光学装置の製造工程を説明する説明図。 同じく、電気光学装置の製造工程を説明する説明図。 同じく、電気光学装置の製造工程を説明する説明図。 同じく、電気光学装置の製造工程を説明する説明図。 同じく、電気光学装置の製造工程を説明する説明図。

符号の説明

１０…電気光学装置としての有機ＥＬディスプレイ、１１…基板としての透明基板、１５…発光素子形成領域、２０ａ…パターン形成面としての着弾面、２４…隔壁、２５…パターンを構成する正孔輸送層、２５Ｄ…正孔輸送層液滴、２５ｓ…パターン形成材料としての正孔輸送層形成材料、３０…パターンとしての有機エレクトロルミネッセンス層、３３…オゾン、Ｌｕｖ…紫外光、Ｐ２…設定時間、θｓ…予め定めた角度としての規定接触角。

Claims (12)

1. 基板のパターン形成面上に形成した隔壁によって囲まれるパターン形成領域に、パターン形成材料を含む液滴を撥液する撥液性を付与した後に前記液滴を吐出することによってパターンを形成するようにしたパターン形成方法において、
   前記撥液性を付与した後に、前記液滴の前記隔壁に対する接触角と前記液滴の前記パターン形成面に対する接触角の差が、所定の値を保つように前記パターン形成領域を所定の時間だけ活性酸素に晒すようにしたことを特徴とするパターン形成方法。
2. 請求項１に記載するパターン形成方法において、
   前記液滴の前記隔壁に対する接触角が維持される時間だけ、前記パターン形成領域を前記活性酸素に晒すようにしたことを特徴とするパターン形成方法。
3. 請求項１又は２に記載するパターン形成方法において、
   前記液滴の前記パターン形成面に対する接触角が、前記パターン形成面上に前記液滴を濡れ広げるための予め定めた角度になるまで、前記パターン形成領域を前記活性酸素に晒すようにしたことを特徴とするパターン形成方法。
4. 請求項１〜３のいずれか１つに記載するパターン形成方法において、
   前記パターン形成領域をオゾン雰囲気内に配置することによって、前記パターン形成領域を前記活性酸素に晒すようにしたことを特徴とするパターン形成方法。
5. 請求項４に記載するパターン形成方法において、
   前記パターン形成領域をオゾン雰囲気内に配置するときに、前記パターン形成領域に紫外光を照射するようにしたことを特徴とするパターン形成方法。
6. 請求項１〜３のいずれか１つに記載するパターン形成方法において、
   前記パターン形成領域を酸素プラズマ内に配置することによって、前記パターン形成領域を前記活性酸素に晒すようにしたことを特徴とするパターン形成方法。
7. 請求項１〜６のいずれか一つに記載するパターン形成方法において、
   前記撥液性を付与する前に、あらかじめパターン形成領域が親液化される処理を行う事を特徴とするパターン形成方法。
8. 請求項３において、前記液滴を濡れ広げるために、前記パターン形成領域の前記液滴の接触角は30°以下である事を特徴とするパターン形成方法。
9. 透明基板上のパターン形成領域に発光素子を形成するようにした電気光学装置の製造方法において、
   前記発光素子を請求項１〜８のいずれか１つに記載するパターン形成方法によって形成するようにした電気光学装置の製造方法。
10. 請求項９に記載する電気光学装置の製造方法によって形成した発光素子を備えた電気光学装置。
11. 透明基板上のパターン形成領域にカラーフィルタ層を形成するようにしたカラーフィルタの製造方法において、
    前記カラーフィルタ層を請求項１〜８のいずれか１つに記載するパターン形成方法によって形成するようにしたカラーフィルタの製造方法。
12. 請求項１１に記載するカラーフィルタの製造方法によって形成したカラーフィルタ層を備えたカラーフィルタ。

Images