JP2009048830A - 有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法、エレクトロルミネッセンス装置、および電子機器 - Google Patents
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Abstract
【課題】ダミー画素を設けなくても、各画素電極上に形成した有機機能層の膜厚ムラを防止可能な有機EL装置の製造方法、有機EL装置、および電子機器を提供すること。
【解決手段】有機EL装置100の有機EL素子10の有機機能層を液滴吐出法で形成する際、基板20b上の中央領域のように、液状組成物からの溶媒の蒸発速度が遅い領域には、画素電極11を内側に1つ備えた狭い第1機能層形成領域41を配置し、基板20b上の外周領域のように、液状組成物からの溶媒の蒸発速度が速い領域には、画素電極11を内側に2つ備えた広い第2機能層形成領域42を配置する。このため、第1機能層形成領域41には少ない量の液状組成物12e、12fが塗布され、第2機能層形成領域42には多い量の液状組成物12e、12fが塗布されるため、第1機能層形成領域41と第2機能層形成領域42との間で液状組成物12e、12fの乾燥速度が同等である。
【選択図】図3
【解決手段】有機EL装置100の有機EL素子10の有機機能層を液滴吐出法で形成する際、基板20b上の中央領域のように、液状組成物からの溶媒の蒸発速度が遅い領域には、画素電極11を内側に1つ備えた狭い第1機能層形成領域41を配置し、基板20b上の外周領域のように、液状組成物からの溶媒の蒸発速度が速い領域には、画素電極11を内側に2つ備えた広い第2機能層形成領域42を配置する。このため、第1機能層形成領域41には少ない量の液状組成物12e、12fが塗布され、第2機能層形成領域42には多い量の液状組成物12e、12fが塗布されるため、第1機能層形成領域41と第2機能層形成領域42との間で液状組成物12e、12fの乾燥速度が同等である。
【選択図】図3
Description
本発明は、発光層を含む有機機能層を塗布法を用いて形成する有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法、エレクトロルミネッセンス装置、および電子機器に関するものである。
携帯電話機、パーソナルコンピュータやPDA(Personal Digital Assistants)などの電子機器の表示装置や、デジタル複写機やプリンタなどの電子機器における露光用ヘッドとして、有機エレクトロルミネッセンス(以下、EL(Electroluminescence)という)装置が注目されている。かかる有機EL装置を製造するにあたっては、複数の画素電極と、複数の画素電極上の各々に発光層を含む有機機能層を形成するための複数の機能層形成領域を区画する隔壁とを基板上に形成した後、隔壁で囲まれた複数の機能層形成領域内の各々に液状組成物を塗布することにより有機機能層を形成する方法が採用されている。
しかしながら、液状組成物を塗布する方法を採用すると、基板上の端部では溶媒分子分圧が低いため、液状組成物が速く乾き始めるのに対して、基板上の中央側では溶媒分子分圧が高いため、液状組成物が乾き始めるのが遅いなど、基板上の位置によって液状組成物の乾燥速度に差がある。かかる乾燥速度の差は、画素内および画素間で有機機能層の膜厚ムラを引き起こし、輝度ムラ、発光色ムラ等の原因となるため、好ましくない。
そこで、基板上の端部に画素として利用しないダミー画素領域を設け、有機機能層に膜厚ムラが発生しない中央側のみを発光領域として用いた有機EL装置を製造することが提案されている(特許文献1参照)。
特開2002−222695号公報
しかしながら、特許文献1に記載の構成を採用すると、基板上でダミー画素が占有していた領域が無駄になるので、画素数の割には、有機EL装置が大型化してしまう。それ故、有機EL装置を表示装置として用いた場合には、ダミー画素が小型化への妨げとなるという問題点がある。
以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、ダミー画素を設けなくても、各画素電極上に形成した有機機能層の膜厚ムラを防止することのできる有機EL装置の製造方法、かかる製造方法で製造した有機EL装置、および当該有機EL装置を備えた電子機器を提供することにある。
上記課題を解決するために、本発明では、複数の画素電極と、該複数の画素電極上の各々に発光層を含む有機機能層を形成するための複数の機能層形成領域を区画する隔壁とを基板上に形成した後、前記隔壁で囲まれた前記複数の機能層形成領域内の各々に液状組成物を塗布することにより前記有機機能層を形成する有機EL装置の製造方法において、前記複数の機能層形成領域は、所定数の前記画素電極を内側に備える第1機能層形成領域と、当該第1機能層形成領域に比して内側に備える前記画素電極の数が多い第2機能層形成領域とを含んでいることを特徴とする。
本発明では、基板上の中央領域のように、液状組成物からの溶媒の蒸発速度が遅い領域には、画素電極を内側に少なく備えた狭い第1機能層形成領域を配置し、基板上の外周領域(端部)のように、液状組成物からの溶媒の蒸発速度が速い領域には、画素電極を内側に多数備えた広い第2機能層形成領域を配置してあるため、第1機能層形成領域には少ない量の液状組成物が塗布され、第2機能層形成領域には多い量の液状組成物が塗布される。このため、液状組成物からの溶媒の蒸発速度が遅い第1機能層形成領域と、液状組成物からの溶媒の蒸発速度が速い第2機能層形成領域とでは、同一条件で乾燥させても、周辺の蒸気密度や蒸発潜熱に起因する蒸発速度の差が相殺される。その結果、溶媒の蒸発速度を同等にできるので、液状組成物が乾燥し終えるタイミングが等しい。それ故、画素電極上の有機機能層においては、ダミー画素を形成しなくても、画素内および画素間での膜厚ムラの発生を防止することができる。
本発明において、前記複数の機能層形成領域内の各々に前記液状組成物を塗布するにあたっては、インクジェット法、ジェットディスペンサ法、あるいはディスペンサ法など、ノズル開口から液滴を吐出する液滴吐出法を用いることが好ましい。このような方法によれば、微小な領域に液状組成物を選択的に塗布することができる。
本発明においては、前記第1機能層形成領域は、内側に前記画素電極を1つ備え、前記第2機能層形成領域は、内側に前記画素電極を複数、備えている構成を採用することができる。かかる方法で製造した有機EL装置においては、前記第1機能層形成領域は、内側に前記画素電極を1つ備え、前記第2機能層形成領域は、内側に前記画素電極を複数、備えている。
本発明において、前記機能層形成領域は、前記第1機能層形成領域に比して前記基板上の端部に配置されていることが好ましい。基板上の端部では溶媒分子分圧が低いため、液状組成物が速く乾き始めるのに対して、基板上の中央側では溶媒分子分圧が高いため、液状組成物が乾き始めるのが遅い傾向にあるが、基板の中央側に、画素電極を内側に少なく備えた狭い第1機能層形成領域を配置し、基板上の外周領域(端部)に、画素電極を内側に多数備えた広い第2機能層形成領域を配置すると、液状組成物からの溶媒の蒸発速度が遅い第1機能層形成領域と、液状組成物からの溶媒の蒸発速度が速い第2機能層形成領域とでは、同一条件で乾燥させても、溶媒の蒸発速度を同等にできる。それ故、画素電極上のいずれの有機機能層においても、膜厚ムラが発生することを防止することができる。
本発明は、前記基板から有機EL装置用の素子基板を1枚製造する場合に適用できる他、前記基板を分割して、当該基板から有機EL装置用の素子基板を複数枚、製造する場合にも適用することができる。
本発明に係る製造方法を適用して得た有機EL装置は、複数の画素電極と、画素電極上に発光層を含む有機機能層が形成される複数の機能層形成領域を区画する隔壁とを基板上に備え、前記隔壁で囲まれた前記複数の機能層形成領域内に前記有機機能層が形成されており、前記複数の機能層形成領域は、所定数の前記画素電極を内側に備える第1機能層形成領域と、当該第1機能層形成領域に比して内側に備える前記画素電極の数が多い第2機能層形成領域とを含んでいることを特徴とする。
本発明に係る製造方法を適用して得た有機EL装置は、前記第2機能層形成領域は、前記第1機能層形成領域に比して前記基板上の端部に配置されている構成を有することになる。
本発明を適用した有機EL装置は、当該有機EL装置を表示部として備えた携帯電話機、パーソナルコンピュータやPDAなどの電子機器に用いられる他、当該有機EL装置を露光ヘッドとして備えたデジタル複写機やプリンタなどの電子機器、当該有機EL装置を面光源して備えた電子機器に用いることができる。
図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。なお、以下の説明に用いた各図では、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を相違させてある。
[実施の形態1]
(有機EL表示装置の全体構成)
図1および図2は、本発明を適用した有機EL装置の平面図、およびこの有機EL装置の電気的構成を示すブロック図である。
(有機EL表示装置の全体構成)
図1および図2は、本発明を適用した有機EL装置の平面図、およびこの有機EL装置の電気的構成を示すブロック図である。
図1および図2において、本形態の有機EL装置100は、発光層に駆動電流が流れることによって発光するEL素子を薄膜トランジスタで駆動制御する有機EL装置であり、このタイプのEL装置を表示装置として用いた場合、発光素子が自己発光するため、バックライトを必要とせず、また、視野角依存性が少ないなどの利点がある。ここに示す有機EL装置100では、素子基板20上の略中央領域には、複数の画素10aがマトリクス状に配列された矩形の発光領域110と、この発光領域110を外周側で囲む矩形枠状の非発光領域120とを有しており、非発光領域120には、相対向する領域に一対の走査線駆動回路54が形成され、他の相対向する領域にデータ線駆動回路51および検査回路58が形成されている。
発光領域110では、複数の走査線63と、この走査線63の延設方向に対して交差する方向に延設された複数のデータ線64と、これらのデータ線64に並列する複数の共通給電線65とが形成され、データ線64と走査線63との交差点に対応して画素10aが構成されている、データ線64に対しては、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン、アナログスイッチを備えるデータ線駆動回路51が構成されている。走査線63に対しては、シフトレジスタおよびレベルシフタを備える走査線駆動回路54が構成されている。画素10aの各々には、走査線63を介して走査信号がゲート電極に供給される画素スイッチング用の薄膜トランジスタ6と、この薄膜トランジスタ6を介してデータ線64から供給される画像信号を保持する保持容量33と、この保持容量33によって保持された画像信号がゲート電極に供給される電流制御用の薄膜トランジスタ7と、薄膜トランジスタ7を介して共通給電線65に電気的に接続したときに共通給電線65から駆動電流が流れ込む有機EL素子10とが構成されている。本形態のEL装置100をカラー表示用として構成した場合、各画素10aは、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)に対応することになり、本形態では、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)のうち、同色に対応する画素10aが縦方向に直線状に配列されたストライプ配列が採用されている。
(画素10aの構成)
図3(a)、(b)は各々、本発明の実施の形態1に係る有機EL装置の発光領域の平面構成を模式的に示す断面図、およびそのA−A′断面図である。なお、本形態は、1枚の基板から有機EL装置用の素子基板を1枚製造する例である。
図3(a)、(b)は各々、本発明の実施の形態1に係る有機EL装置の発光領域の平面構成を模式的に示す断面図、およびそのA−A′断面図である。なお、本形態は、1枚の基板から有機EL装置用の素子基板を1枚製造する例である。
本形態の有機EL装置100において、素子基板20上の発光領域110では、図3(a)に示すように、複数の画素10aがマトリクス状に配置されている。かかる素子基板20は、例えば、図3(b)に示すように、基体たる基板20bの上に、図2に示す薄膜トランジスタ7、シリコン酸化膜などからなる層間絶縁膜16、アクリル樹脂などからなる平坦化膜17は、ITO膜などの透光性導電膜からなる画素電極11、シリコン酸化膜などからなる画素分離用絶縁膜18、アクリル樹脂やポリイミド樹脂などからなる隔壁4がこの順に形成されたものとして表される。ここで、隔壁4は、後述するように、有機機能層12を塗布法で形成する際、機能層形成領域40を区画するものであり、かかる隔壁4で囲まれた機能層形成領域40には、正孔注入層12aおよび発光層12bを含む有機機能層12が形成されている。また、有機機能層12および隔壁4の上層側には、発光領域110の前面にわたって、カルシウム層やアルミニウム膜などからなる陰極層15が形成されており、画素電極11、有機機能層12および陰極層15によって、複数の画素10aの各々には、有機EL素子10が形成されている。ここで、有機EL装置100が、有機EL素子10で発光した光を陰極層15の側から出射するトップエミッション型である場合には、基板20bは不透明であってもよく、アルミナ等のセラミックス、ステンレス等の金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施した基板、樹脂製基板などを用いることができる。これに対して、有機EL装置100が、有機EL素子10で発光した光を基板20b側から出射するボトムエミッション型である場合には、基板20bとしてはガラスなどの透光性基板が用いられる。なお、陰極層15の表面側には、有機機能層12や陰極層15が水分や酸素により劣化しないように、シリコン窒化膜などからなる封止膜が形成された構成や、接着層を介して封止基板を貼った構成が採用される。
このように構成した有機EL装置100において、本形態では、複数の機能層形成領域40には、所定数の画素電極11を内側に備える第1機能層形成領域41と、第1機能層形成領域41に比して内側に備える画素電極11の数が多い第2機能層形成領域42とが含まれている。本形態において、第1機能層形成領域41は、素子基板20上の発光領域110の中央側に配置され、第2機能層形成領域42は、素子基板20上の発光領域110の外周側(端部)に配置されている。ここで、第2機能層形成領域42に含まれる画素電極11は、いずれも赤色(R)、緑色(G)、青色(B)のうち、同一の色に対応する画素10aである。
図3(a)、(b)には、第1機能層形成領域41が内側に前記画素電極11を1つ備え、第2機能層形成領域42が内側に画素電極11を2つ備えている構成を例示してあり、図3(a)には、発光領域110の全周に沿って、第2機能層形成領域42が1列に配置された構成を図示してある。
(EL装置の製造方法)
図4を参照して、インクジェット方式による本発明の有機EL装置100の製造方法を説明する。図4は、本発明を適用した有機EL装置100の製造工程のうち、有機機能層12を形成する方法を示す工程断面図である。
図4を参照して、インクジェット方式による本発明の有機EL装置100の製造方法を説明する。図4は、本発明を適用した有機EL装置100の製造工程のうち、有機機能層12を形成する方法を示す工程断面図である。
本形態で採用したインクジェット法(液滴吐出法)とは、インクジェットヘッドから、画素10aを形成する有機物からなる正孔注入層形成材料、および発光層形成材料を溶媒に溶解または分散させた液状組成物を吐出し、画素電極11上に正孔注入層12aおよび発光層12bをパターニング塗布し、形成する方法である。このため、本形態の有機EL装置では、吐出した液滴を精度よくパターニング塗布することを目的に、バンクと称せられる隔壁4を設け、塗布領域(機能層形成領域40)を区画してある。
インクジェット法によれば、微小な領域に液状組成物の液滴を選択的に塗布することができる。また、液滴吐出法としては、インクジェット法の他、ジェットディスペンサ法、あるいはディスペンサ法などを採用してもよい。
インクジェットヘッドを用いて有機EL装置100を製造するには、まず、図4(a)に示すように、基板20b上に、薄膜トランジスタ7、シリコン酸化膜などからなる層間絶縁膜16、アクリル樹脂などからなる平坦化膜17、ITO膜などの透光性導電膜からなる画素電極11、シリコン酸化膜などからなる画素分離用絶縁膜18などを形成した後、アクリル樹脂やポリイミド樹脂などからなる隔壁4を1〜2μmの厚さに形成する。かかる隔壁4を形成するには、スピンコート法により感光性のアクリル樹脂を基板の全面に塗布した後、露光、現像する。その結果、隔壁4によって、複数の機能層形成領域40が区画される。ここで、機能層形成領域40は、円形、楕円、四角など、いずれの形状でも構わないが、液状組成物には表面張力があるため、本形態では、角部が丸みを帯びているように、機能層形成領域40が楕円の平面形状を有するように隔壁4を形成してある。なお、隔壁4の材料は、耐熱性、撥液性、耐溶剤性などに優れたものであれば、特に限定されるものではない。また、隔壁4については、アクリル樹脂やポリイミド樹脂などでパターン形成した後、O2プラズマ処理を行ない、しかる後に、CF4プラズマ処理を行なって、表面を撥液化することが好ましい。なお、画素分離用絶縁膜18はシリコン酸化膜などにより構成されており、液状組成物に対して親液性を有しているので、液状組成物を機能層形成領域40全体に拡がることを促進する。かかる画素分離用絶縁膜18は、CVD法などでシリコン酸化膜を形成した後、フォトリソグラフィ技術を用いてパターニングすることにより形成することができる。
本形態では、隔壁4により機能層形成領域40を形成する際、図3(a)および図4(a)に示すように、基板20b上の中央領域には、内側に画素電極11を1つ備えた第1機能層形成領域41を形成し、かかる第1機能層形成領域41の周りを囲むように、内側に画素電極11を2つ備えた第2機能層形成領域42を形成する。なお、画素分離用絶縁膜18は、第1機能層形成領域41および第2機能層形成領域42のいずれにおいても、内側に画素電極11を1つ備えるように形成する。
次に、図4(b)に示すように、インクジェットヘッドから、正孔注入層形成材料を含む液状組成物12eを複数の機能層形成領域40(第1機能層形成領域41および第2機能層形成領域42)の内側に吐出し、機能層形成領域40(第1機能層形成領域41および第2機能層形成領域42)に正孔注入層形成用の液状組成物12eを塗布する。次に、真空および/または熱処理、あるいは窒素ガスなどのフローにより、溶媒を除去し、図4(c)に示すように、正孔注入層12aを形成する。
このような正孔注入層形成用の液状組成物12eとしては、ポリオレフィン誘導体である3、4−ポリエチレンジオシチオフェン/ポリスチレンスルホン酸(PEDOT/PSS)や、ポリマー前駆体がポリテトラヒドロチオフェニルフェニレンであるポリフェニレンビニレン、1、1−ビス−(4−N、N−ジトリルアミノフェニル)シクロヘキサン等の正孔注入・輸送層形成材料を極性溶媒に溶解させた組成物を用いることができる。極性溶媒としては、例えば、イソプロピルアルコール、ノルマルブタノール、γ−ブチロラクトン、N−メチルピロリドン、1、3−ジメチル−2−イミダゾリジノンおよびその誘導体、カルビト−ルアセテート、ブチルカルビト−ルアセテート等のグリコールエーテル類等を挙げることができる。なお、正孔注入形成材料は、赤(R)、緑(G)、青(B)の各画素10aで同じ材料を用いても良く、各画素10aで組成を変えても良い。
本形態では、極性溶媒として、ジエチエングリコールの50%水溶液を用い、正孔注入層形成用の液状組成物12eを塗布した後は、真空乾燥を行ない、液状組成物12eを乾燥させ、正孔注入層12aを形成する。その際、基板20b上の中央領域のように、液状組成物12eからの溶媒の蒸発速度が遅い領域には、画素電極11を内側に1つ備えた狭い第1機能層形成領域41を配置し、基板20b上の外周領域(端部)のように、液状組成物12eからの溶媒の蒸発速度が速い領域には、画素電極11を内側に2つ備えた広い第2機能層形成領域42を配置してあるため、第1機能層形成領域41には少ない量の液状組成物12eが塗布され、第2機能層形成領域42には多い量の液状組成物12eが塗布される。このため、液状組成物12eからの溶媒の蒸発速度が遅い第1機能層形成領域41と、液状組成物12eからの溶媒の蒸発速度が速い第2機能層形成領域42とでは、同一条件で乾燥させても、周辺の蒸気密度や蒸発潜熱に起因する蒸発速度の差が相殺される。すなわち、第2機能層形成領域42の周辺では、蒸気密度が薄いという点で蒸発速度が速いが、液状組成物12eの量が多い分、蒸発潜熱に起因する温度低下が大きいので、第1機能層形成領域41と第2機能層形成領域42と蒸発速度の差が相殺される。
次に、図4(d)に示すように、インクジェットヘッドから、発光層形成材料を含む液状組成物12fを複数の機能層形成領域40(第1機能層形成領域41および第2機能層形成領域42)の内側に吐出し、機能層形成領域40(第1機能層形成領域41および第2機能層形成領域42)に発光層形成用の液状組成物12fを塗布する。次に、真空および/または熱処理、あるいは窒素ガスなどのフローにより、溶媒を除去し、図4(e)に示すように、発光層12bを形成する。
ここで、発光層12bとして、赤色、緑色、青色の各色に対応する層を形成するには、これらの色に発光するポリフルオレン系材料を用いて、赤色発光層用の液状組成物、緑色発光層用の液状組成物、青色発光層用の液状組成物を調製し、これらの液状組成物12fを所定色に対応する機能層形成領域40に全て塗布した後、液状組成物12fを乾燥させ、各色用の発光層12bを形成する。
このような発光層形成用の液状組成物12fとしては、ポリフルオレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリチオフェン誘導体、またはこれらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素、例えばルブレン、ペリレン、9、10−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン6、キナクリドン等をドープした発光層形成材料を非極性溶媒に配合したものを用いる。発光層形成材料としては、二重結合のπ電子がポリマー鎖上で非極在化しているπ共役系高分子材料が、導電性高分子でもあることから発光性能に優れるため、好適に用いられる。特に、その分子内にフルオレン骨格を有する化合物、すなわちポリフルオレン系化合物がより好適に用いられる。また、このような材料以外にも、例えば特開平11−40358号公報に示される有機EL素子用組成物、すなわち共役系高分子有機化合物の前駆体と、発光特性を変化させるための少なくとも1種の蛍光色素とを含んでなる有機EL素子用組成物も、発光層形成材料として使用可能である。また、非極性溶媒としては、正孔注入層12aに対して不溶なものが好ましく、例えば、シクロへキシルベンゼン、ジハイドロベンゾフラン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン等を用いることができる。
本形態では、非極性溶媒としてシクロへキシルベンゼンのみを用い、発光層形成用の液状組成物12fを塗布した後は、真空乾燥を行ない、液状組成物を乾燥させ、発光層12bを形成する。その際、基板20b上の中央領域のように、液状組成物12fからの溶媒の蒸発速度が遅い領域には、画素電極11を内側に1つ備えた狭い第1機能層形成領域41を配置し、基板20b上の外周領域(端部)のように、液状組成物12fからの溶媒の蒸発速度が速い領域には、画素電極11を内側に2つ備えた広い第2機能層形成領域42を配置してあるため、第1機能層形成領域41には少ない量の液状組成物12fが塗布され、第2機能層形成領域42には多い量の液状組成物12fが塗布される。このため、液状組成物12eからの溶媒の蒸発速度が遅い第1機能層形成領域41と、液状組成物12eからの溶媒の蒸発速度が速い第2機能層形成領域42とでは、同一条件で乾燥させても、周辺の蒸気密度や蒸発潜熱に起因する蒸発速度の差が相殺される。すなわち、第2機能層形成領域42の周辺では、蒸気密度が薄いという点で蒸発速度が速いが、液状組成物12fの量が多い分、蒸発潜熱に起因する温度低下が大きいので、第1機能層形成領域41と第2機能層形成領域42と蒸発速度の差が相殺される。
このようにして、正孔注入層12aおよび発光層12bからなる有機機能層12を形成した後、図3(b)に示す陰極層15を形成する。例えば、陰極層15として、フッ化リチウム層、カルシウム層、およびアルミニウム層の積層膜を真空加熱蒸着などにより形成した後、封止を行う。
(本形態の主な効果)
以上説明したように、本形態の有機EL装置100の製造方法では、基板20b上の中央領域のように、液状組成物12e、12fからの溶媒の蒸発速度が遅い領域には、画素電極11を内側に1つ備えた狭い第1機能層形成領域41を配置し、基板20b上の外周領域(端部)のように、液状組成物12e、12fからの溶媒の蒸発速度が速い領域には、画素電極11を内側に2つ備えた広い第2機能層形成領域42を配置してある。このため、第1機能層形成領域41には少ない量の液状組成物12e、12fが塗布され、第2機能層形成領域42には多い量の液状組成物12e、12fが塗布されるため、液状組成物12e、12fからの溶媒の蒸発速度が遅い第1機能層形成領域41と、液状組成物からの溶媒の蒸発速度が速い第2機能層形成領域42とでも、溶媒の蒸発速度が同等であり、液状組成物12e、12fが乾燥し終えるタイミングが等しい。このため、いずれの機能層形成領域40においても、画素電極11上に形成した有機機能層12(正孔注入層12aおよび発光層12b)に画素10a内および画素10a間での膜厚ムラが発生しない。それ故、本形態の有機EL装置100を携帯電話機、パーソナルコンピュータやPDAなどの電子機器の直視型表示装置として用いた場合、発光領域110の全体にわたって、各画素10aでの輝度を同等とすることができるので、輝度ムラや発光色ムラなどの発生を防止することができる。また、発光領域110の全体にわたって各画素での輝度を同等とするにあたってダミー画素を設ける必要がないので、小型化にも適している。
以上説明したように、本形態の有機EL装置100の製造方法では、基板20b上の中央領域のように、液状組成物12e、12fからの溶媒の蒸発速度が遅い領域には、画素電極11を内側に1つ備えた狭い第1機能層形成領域41を配置し、基板20b上の外周領域(端部)のように、液状組成物12e、12fからの溶媒の蒸発速度が速い領域には、画素電極11を内側に2つ備えた広い第2機能層形成領域42を配置してある。このため、第1機能層形成領域41には少ない量の液状組成物12e、12fが塗布され、第2機能層形成領域42には多い量の液状組成物12e、12fが塗布されるため、液状組成物12e、12fからの溶媒の蒸発速度が遅い第1機能層形成領域41と、液状組成物からの溶媒の蒸発速度が速い第2機能層形成領域42とでも、溶媒の蒸発速度が同等であり、液状組成物12e、12fが乾燥し終えるタイミングが等しい。このため、いずれの機能層形成領域40においても、画素電極11上に形成した有機機能層12(正孔注入層12aおよび発光層12b)に画素10a内および画素10a間での膜厚ムラが発生しない。それ故、本形態の有機EL装置100を携帯電話機、パーソナルコンピュータやPDAなどの電子機器の直視型表示装置として用いた場合、発光領域110の全体にわたって、各画素10aでの輝度を同等とすることができるので、輝度ムラや発光色ムラなどの発生を防止することができる。また、発光領域110の全体にわたって各画素での輝度を同等とするにあたってダミー画素を設ける必要がないので、小型化にも適している。
[実施の形態2]
図5は、本発明の実施の形態2に係る有機EL装置の製造方法を示す平面図である。図6(a)、(b)は、本発明の実施の形態2に係る有機EL装置の製造方法で得られた有機EL装置のうち、特徴的な2種類の有機EL装置の構成を示す説明図である。本形態は、1枚の大型基板から有機EL装置用の素子基板を複数枚製造する例である。なお、本形態は基本的な構成が実施の形態1と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの詳細な説明は省略する。
図5は、本発明の実施の形態2に係る有機EL装置の製造方法を示す平面図である。図6(a)、(b)は、本発明の実施の形態2に係る有機EL装置の製造方法で得られた有機EL装置のうち、特徴的な2種類の有機EL装置の構成を示す説明図である。本形態は、1枚の大型基板から有機EL装置用の素子基板を複数枚製造する例である。なお、本形態は基本的な構成が実施の形態1と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの詳細な説明は省略する。
本形態では、実施の形態1で説明した有機EL装置100を形成するにあたって、図5に示す大型の基板20cの状態で有機EL素子10などを形成した後、図5に一点鎖線で示す切断予定線L1に沿って大型の基板20bを切断し、複数枚の有機EL装置100を製造する。
このような方法を採用した場合も、有機EL装置100は、図3(b)を参照して説明したように、素子基板20の基体たる基板20bの上に、薄膜トランジスタ7、シリコン酸化膜などからなる層間絶縁膜16、アクリル樹脂などからなる平坦化膜17、ITO膜などの透光性導電膜からなる画素電極11、シリコン酸化膜などからなる画素分離用絶縁膜18、アクリル樹脂やポリイミド樹脂などからなる隔壁4がこの順に形成されたものとして表される。ここで、隔壁4は、有機機能層12を塗布法で形成する際、機能層形成領域40を区画するものであり、かかる隔壁4で囲まれた機能層形成領域40には、発光層12bを含む有機機能層12が形成されている。
このような構成の有機EL装置100を製造する際、本形態では、図5に示すように、大型の基板20c上において、右下がりの斜線を付した中央領域については、図3(a)、(b)を参照して説明した第1機能層形成領域41を設け、かかる第1機能層形成領域41では、内側に1つの画素電極11が配置されている。また、大型の基板20c上において、右下がりの斜線を付した外周側領域(端部)については、図3(a)、(b)を参照して説明した第2機能層形成領域42を設け、かかる第2機能層形成領域42では、内側に2つの画素電極11が配置されている。
このように構成した大型の基板20cに対して、図4を参照して説明した方法と同様な方法で有機機能層12を形成すると、大型の基板20c上の中央領域のように、液状組成物からの溶媒の蒸発速度が遅い領域には、画素電極11を内側に1つ備えた狭い第1機能層形成領域41が配置され、大型の基板上の外周領域(端部)のように、液状組成物からの溶媒の蒸発速度が速い領域には、画素電極11を内側に複数、備えた広い第2機能層形成領域42が配置されており、第1機能層形成領域41には少ない量の液状組成物が塗布され、第2機能層形成領域42には多い量の液状組成物が塗布される。このため、液状組成物からの溶媒の蒸発速度が遅い第1機能層形成領域41と、液状組成物からの溶媒の蒸発速度が速い第2機能層形成領域42とでは、溶媒の蒸発速度が同等であるため、いずれの機能層形成領域40においても、画素電極11上に形成した有機機能層12(正孔注入層12aおよび発光層12b)に膜厚ムラが発生しない。それ故、本形態の有機EL装置100を表示装置として用いた場合、発光領域110の全体にわたって、各画素10aでの輝度を同等とすることができるので、輝度ムラや発光色ムラなどの発生を防止することができるなど、実施の形態1と同様な効果を奏する。
ここで、第2機能層形成領域42は、大型の基板20c上の外周側(端部)に配置されているため、大型の基板20cの各角部分から切り出した有機EL装置100では、図6(a)に示すように、素子基板20上の発光領域110の2辺に沿って、2つの画素電極11を内側に備えた第2機能層形成領域42に形成され、その他の領域では、1つの画素電極11を内側に備えた第1機能層形成領域41に形成された構成を有することになる。また、大型の基板20cの外周側(端部)のうち、大型の基板20cの各角部分以外から切り出した有機EL装置100では、図6(b)に示すように、素子基板20上の発光領域110の1辺に沿って、2つの画素電極11を内側に備えた第2機能層形成領域42に形成され、その他の領域では、1つの画素電極11を内側に備えた第1機能層形成領域41に形成された構成を有することになる。大型の基板20cの中央領域から切り出した有機EL装置100では、全ての領域において、1つの画素電極11を内側に備えた第1機能層形成領域41に形成された構成を有することになる。これらいずれの有機EL装置100でも、画素電極11上に形成した有機機能層12(正孔注入層12aおよび発光層12b)に膜厚ムラが発生しないので、同等の発光特性を備えていることになる。
[実施の形態3]
図7は、本発明の実施の形態3に係る有機EL装置が用いられた記録装置(ページプリンタ/電子機器)の要部を示す斜視図である。図8は、本発明の実施の形態3に係る有機EL装置およびその製造方法を示す平面図である。本形態も、実施の形態2と同様、1枚の大型基板から有機EL装置用の素子基板を複数枚製造する例である。なお、本形態は基本的な構成が実施の形態1、2と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの詳細な説明は省略する。
図7は、本発明の実施の形態3に係る有機EL装置が用いられた記録装置(ページプリンタ/電子機器)の要部を示す斜視図である。図8は、本発明の実施の形態3に係る有機EL装置およびその製造方法を示す平面図である。本形態も、実施の形態2と同様、1枚の大型基板から有機EL装置用の素子基板を複数枚製造する例である。なお、本形態は基本的な構成が実施の形態1、2と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの詳細な説明は省略する。
図7に示す記録装置200は、光源205およびロッドレンズアレイ207(正立等倍結像光学系)を備えた露光ヘッド209と、光源205から出射された光がロッドレンズアレイ207を介して結像される感光体ドラム203とを有している。ここで、光源205には、本発明を適用した有機EL装置100が用いられ、光源205では、白色光を出射する複数の有機EL素子10(画素10a)が長手方向に2列で配列されている。
このように構成した露光ヘッド209に用いられる有機EL装置100を製造する場合には、図8に示すように、大型の基板20cに対して、有機EL素子10を形成するための機能層形成領域40を複数、形成する。ここで、図8には、一点鎖線によって切断予定線L2が示されており、大型の基板20cの状態で有機EL素子10などを形成した後、大型の基板20cを切断予定線に沿って短冊状に切断し、切断された短冊の1つ1つが露光ヘッド用の有機EL装置100(素子基板20)として用いられる。このため、大型の基板20cにおいては、切断予定線L2で区画された短冊状の領域の各々に対して、有機EL素子10を形成するための機能層形成領域40が複数、各領域の長手方向に配列されることになる。
かかる有機EL装置100も、その断面構成は、図3(b)に示すように、素子基板20の基体たる基板の上に、薄膜トランジスタ7、シリコン酸化膜などからなる層間絶縁膜16、アクリル樹脂などからなる平坦化膜17、ITO膜などの透光性導電膜からなる画素電極11、シリコン酸化膜などからなる画素分離用絶縁膜18、アクリル樹脂やポリイミド樹脂などからなる隔壁4がこの順に形成されたものとして表される。
ここで、隔壁4は、有機機能層12を塗布法で形成する際、機能層形成領域40を区画するものであり、かかる隔壁4で囲まれた機能層形成領域40には、正孔注入層12aおよび発光層12bを含む有機機能層12が形成されている。また、有機機能層12および隔壁4の上層側には、発光領域110の前面にわたって、カルシウム層やアルミニウム膜などからなる陰極層15が形成されており、画素電極11、有機機能層12および陰極層15によって、複数の画素10aの各々には、有機EL素子10が形成されている。
このような構成の有機EL装置100を製造する際も、本形態では、図8に示すうに、大型の基板20c上において、複数の機能層形成領域40には、所定数の画素電極11を内側に備える第1機能層形成領域41と、第1機能層形成領域41に比して内側に備える画素電極11の数が多い第2機能層形成領域42とが含まれており、第1機能層形成領域41は、大型の基板20cの中央側に配置され、第2機能層形成領域42は、大型の基板20c上の外周側(端部)に配置されている。
このため、大型の基板20cに対して、図4を参照して説明した方法と同様な方法で有機機能層12を形成すると、大型の基板20c上の中央領域のように、液状組成物からの溶媒の蒸発速度が遅い領域には、画素電極11を内側に1つ備えた狭い第1機能層形成領域41が配置され、大型の基板上の外周領域(端部)のように、液状組成物からの溶媒の蒸発速度が速い領域には、画素電極11を内側に複数、備えた広い第2機能層形成領域42が配置されており、第1機能層形成領域41には少ない量の液状組成物が塗布され、第2機能層形成領域42には多い量の液状組成物が塗布される。このため、液状組成物からの溶媒の蒸発速度が遅い第1機能層形成領域41と、液状組成物からの溶媒の蒸発速度が速い第2機能層形成領域42とでは、溶媒の蒸発速度が同等であるため、いずれの機能層形成領域40においても、画素電極11上に形成した有機機能層12(正孔注入層12aおよび発光層12b)に膜厚ムラが発生しない。それ故、本形態の有機EL装置100を表示装置として用いた場合、発光領域110の全体にわたって、各画素10aでの輝度を同等とすることができるので、輝度ムラや発光色ムラなどの発生を防止することができるなど、実施の形態1と同様な効果を奏する。
ここで、第2機能層形成領域42は、大型の基板20c上の外周側(端部)に配置されているため、大型の基板20cの上下の端部から露光ヘッド用の有機EL装置100として切り出される領域では、第2機能層形成領域42に、有機EL装置1枚分に形成される全ての機能層形成領域40が含まれている。これに対して、大型の基板20cの左右の端部では、第2機能層形成領域42が露光ヘッド用の有機EL装置として切り出される複数の領域に跨っている。このため、本形態に係る方法で製造した有機EL装置100のうち、大型の基板20cの上下の端部から切り出された有機EL装置100では、全ての画素10aが第2機能層形成領域42に形成された構成を有している。これに対して、大型の基板20cの上下の端部以外から切り出された有機EL装置200では、長手方向の両端部で複数の画素10a(画素電極11)が第2機能層形成領域42に形成され、長手方向の中央部分では、画素10a(画素電極11)が1つずつ第1機能層形成領域41に形成された構成を有することになる。これらいずれの有機EL装置100でも、画素電極11上に形成した有機機能層12(正孔注入層12aおよび発光層12b)に膜厚ムラが発生しないので、同等の発光特性を備えていることになる。
[他の実施の形態]
上記実施の形態1,2,3のいずれにおいても基板上の中央領域と外周領域との間での有機機能層12(正孔注入層12aおよび発光層12b)の膜厚ムラを解消したが、基板上の中央領域と外周領域との間に限らず、乾燥装置内での温度分布などに起因して発生する膜厚ムラを解消するのに本発明を適用してもよい。
上記実施の形態1,2,3のいずれにおいても基板上の中央領域と外周領域との間での有機機能層12(正孔注入層12aおよび発光層12b)の膜厚ムラを解消したが、基板上の中央領域と外周領域との間に限らず、乾燥装置内での温度分布などに起因して発生する膜厚ムラを解消するのに本発明を適用してもよい。
4・・隔壁、10・・有機EL素子、10a・・画素、11・・画素電極、12・・有機機能層、12a・・正孔注入層、12b・・発光層、20・・素子基板、40・・機能層形成領域、41・・第1機能層形成領域、42・・第2機能層形成領域、100・・有機EL装置、110・・発光領域
Claims (11)
- 複数の画素電極と、該複数の画素電極上の各々に発光層を含む有機機能層を形成するための複数の機能層形成領域を区画する隔壁とを基板上に形成した後、前記隔壁で囲まれた前記複数の機能層形成領域内の各々に液状組成物を塗布することにより前記有機機能層を形成する有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法において、
前記複数の機能層形成領域は、所定数の前記画素電極を内側に備える第1機能層形成領域と、当該第1機能層形成領域に比して内側に備える前記画素電極の数が多い第2機能層形成領域とを含んでいることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。 - 前記複数の機能層形成領域内の各々に前記液状組成物を塗布するにあたっては、ノズル開口から液滴を吐出する液滴吐出法を用いることを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
- 前記第1機能層形成領域は、内側に前記画素電極を1つ備え、
前記第2機能層形成領域は、内側に前記画素電極を複数、備えていることを特徴とする請求項1または2に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。 - 前記第2機能層形成領域は、前記第1機能層形成領域に比して前記基板上の端部に配置されていることを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
- 前記基板から有機エレクトロルミネッセンス装置用の素子基板を1枚製造することを特徴とする請求項1乃至4の何れか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
- 前記基板を分割して、有機エレクトロルミネッセンス装置用の素子基板を複数枚、製造することを特徴とする請求項1乃至4の何れか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
- 請求項1乃至6の何れか一項に記載の方法により製造されたことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置。
- 複数の画素電極と、画素電極上に発光層を含む有機機能層が形成される複数の機能層形成領域を区画する隔壁とを基板上に備え、前記隔壁で囲まれた前記複数の機能層形成領域内に前記有機機能層が形成された有機エレクトロルミネッセンス装置において、
前記複数の機能層形成領域は、所定数の前記画素電極を内側に備える第1機能層形成領域と、当該第1機能層形成領域に比して内側に備える前記画素電極の数が多い第2機能層形成領域とを含んでいることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置。 - 前記第1機能層形成領域は、内側に前記画素電極を1つ備え、
前記第2機能層形成領域は、内側に前記画素電極を複数、備えていることを特徴とする請求項8に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。 - 前記第2機能層形成領域は、前記第1機能層形成領域に比して前記基板上の端部に配置されていることを特徴とする請求項8または9に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
- 請求項7乃至10の何れか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置を備えていることを特徴とする電子機器。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005209542A (ja) * | 2004-01-23 | 2005-08-04 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20150021169A (ko) * | 2013-08-19 | 2015-03-02 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기전계발광표시장치와 이의 제조방법 |
KR102058706B1 (ko) * | 2013-08-19 | 2019-12-24 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기전계발광표시장치와 이의 제조방법 |
CN110335888A (zh) * | 2019-04-24 | 2019-10-15 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 显示面板以及显示装置 |
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